JPH061313B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH061313B2 JPH061313B2 JP2219685A JP2219685A JPH061313B2 JP H061313 B2 JPH061313 B2 JP H061313B2 JP 2219685 A JP2219685 A JP 2219685A JP 2219685 A JP2219685 A JP 2219685A JP H061313 B2 JPH061313 B2 JP H061313B2
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- tft
- bus bar
- crystal display
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D86/00—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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Description
【発明の詳細な説明】 <技術分野> 本発明は、薄膜トランジスタ(以下TFTと称す)等の
スイッチング素子を内蔵したアクティブ・マトリックス
型液晶表示装置に関し、特に分割露光方式により表示装
置のセル基板に大面積のTFTを形成する場合に上記ス
イッチング素子の各電極を連結するバスバーの断線や接
続不良等を解消することを企図した液晶表示装置用TF
Tアレイ搭載基板の構造に関するものである。
スイッチング素子を内蔵したアクティブ・マトリックス
型液晶表示装置に関し、特に分割露光方式により表示装
置のセル基板に大面積のTFTを形成する場合に上記ス
イッチング素子の各電極を連結するバスバーの断線や接
続不良等を解消することを企図した液晶表示装置用TF
Tアレイ搭載基板の構造に関するものである。
<従来技術> 従来の一般的なTFTを搭載した表示装置用セル基板の
構造及びその形成方法について、第4図(A)(B)とともに
説明する。第4図(A)はTFT構造を示す要部断面図、
第4図(B)は同平面図である。表示セルの基板を兼備す
る絶縁基板1上にゲート電極2、ゲート絶縁膜3、半導
体層4を順次堆積し、半導体層4にソース電極5及びド
レイン電極6を形成することによりTFTが作製され、
ドレイン電極6には表示用絵素電極7が連結される。
構造及びその形成方法について、第4図(A)(B)とともに
説明する。第4図(A)はTFT構造を示す要部断面図、
第4図(B)は同平面図である。表示セルの基板を兼備す
る絶縁基板1上にゲート電極2、ゲート絶縁膜3、半導
体層4を順次堆積し、半導体層4にソース電極5及びド
レイン電極6を形成することによりTFTが作製され、
ドレイン電極6には表示用絵素電極7が連結される。
上記構造を有するTFTをマトリックス状に正規配列し
たケル基板を用いて液晶表示セルを形成し、TFTを駆
動回路に接続してX−Yマトリックス型液晶表示装置の
スイッチング素子として動作させ、各絵素電極7の給電
制御用に使用する場合、マトリックス表示における表示
特性が良好で絵素毎のコントラストが均一な液晶表示装
置を得るためには個々のTFTの特性が良好でかつ相互
に均一であるようにTFTアレイ聞板を作製することが
要求される。一方、大面積にわたって高解像度で明るい
パターンの表示画面を得るためには、表示面全域に小さ
なTFTを数多く形成する必要があり、大面積の薄膜を
高精度にパターン化するためのフォトリソグラフィー技
術が必要となる。しかしながら、面積が大きくなるほど
レジストをパターン化するためのフォトマスク及びマス
クアライナーの精度が悪化し、薄膜の高精度なパターン
化は困難となる。薄膜のパターン化精度が悪くなると、
ゲート電極とソース及びドレイン電極の重なり状態がば
らつくことになり、ゲート電極とソース電極及びゲート
電極とトレイン電極間の容量が不均一となる。また位置
ずれがはなはだしい場合にはゲート電極とソース電極ま
たはドレイン電極のオフセットが起り、TFTの特性が
悪化する。このため、TFTの形成された広い面積の表
示領域を精度良くパターン化するために、表示領域のT
FTを複数に群割し、各群単位で順次パターンを形成す
る分割露光方式が提唱されている。しかしながら分割露
光の場合には、形成された各群におけるパターン間相互
の接合境界での位置ずれによって、各パターン間で導通
が必要なゲート電極やソース電極をX−Y方向に連結す
る線(バスバー)が接合部で正確に合致せず、バスバー
に線幅の狭小化や断線が生じる。
たケル基板を用いて液晶表示セルを形成し、TFTを駆
動回路に接続してX−Yマトリックス型液晶表示装置の
スイッチング素子として動作させ、各絵素電極7の給電
制御用に使用する場合、マトリックス表示における表示
特性が良好で絵素毎のコントラストが均一な液晶表示装
置を得るためには個々のTFTの特性が良好でかつ相互
に均一であるようにTFTアレイ聞板を作製することが
要求される。一方、大面積にわたって高解像度で明るい
パターンの表示画面を得るためには、表示面全域に小さ
なTFTを数多く形成する必要があり、大面積の薄膜を
高精度にパターン化するためのフォトリソグラフィー技
術が必要となる。しかしながら、面積が大きくなるほど
レジストをパターン化するためのフォトマスク及びマス
クアライナーの精度が悪化し、薄膜の高精度なパターン
化は困難となる。薄膜のパターン化精度が悪くなると、
ゲート電極とソース及びドレイン電極の重なり状態がば
らつくことになり、ゲート電極とソース電極及びゲート
電極とトレイン電極間の容量が不均一となる。また位置
ずれがはなはだしい場合にはゲート電極とソース電極ま
たはドレイン電極のオフセットが起り、TFTの特性が
悪化する。このため、TFTの形成された広い面積の表
示領域を精度良くパターン化するために、表示領域のT
FTを複数に群割し、各群単位で順次パターンを形成す
る分割露光方式が提唱されている。しかしながら分割露
光の場合には、形成された各群におけるパターン間相互
の接合境界での位置ずれによって、各パターン間で導通
が必要なゲート電極やソース電極をX−Y方向に連結す
る線(バスバー)が接合部で正確に合致せず、バスバー
に線幅の狭小化や断線が生じる。
各TFT素子のゲート電極及びソース電極に信号を供給
するバスバーはTFTの配列間隙に沿ってX−Y方向に
配列され、同一行・同一列のゲート電極・ソース電極を
共通接続するため、直線的な帯状に成形する必要があ
る。しかしながら、例えばポジ型レジストを用いて分割
露光方式によりTFTのゲート電極又はソース電極のバ
スバーをパターン成形した場合、第5図(A)に示す如く
分割露光を境界領域でバスバーが完全に合致せず接合ず
れを生じ易い。従ってこの部分でバスバーの線幅が狭く
なり、接合ずれが大きくなるとバスバーが断線された結
果となる。尚、実際の分割露光においては分割境界部は
重なり合って双方の露光時に2度露光される結果となる
ため分割境界領域でのバスバーの接合ずれは第5図(B)
に示すような重なり部Wをもった形状となる。
するバスバーはTFTの配列間隙に沿ってX−Y方向に
配列され、同一行・同一列のゲート電極・ソース電極を
共通接続するため、直線的な帯状に成形する必要があ
る。しかしながら、例えばポジ型レジストを用いて分割
露光方式によりTFTのゲート電極又はソース電極のバ
スバーをパターン成形した場合、第5図(A)に示す如く
分割露光を境界領域でバスバーが完全に合致せず接合ず
れを生じ易い。従ってこの部分でバスバーの線幅が狭く
なり、接合ずれが大きくなるとバスバーが断線された結
果となる。尚、実際の分割露光においては分割境界部は
重なり合って双方の露光時に2度露光される結果となる
ため分割境界領域でのバスバーの接合ずれは第5図(B)
に示すような重なり部Wをもった形状となる。
<発明の目的> 本発明は上述の問題点に鑑み、技術的手段を駆使するこ
とにより、分割露光により形成されたTFTアレイ等の
バスバー間の接合不良を防止し、信頼性の高いTFTア
レイ基板用いた液晶表示装置を提供することを目的とす
るものである。
とにより、分割露光により形成されたTFTアレイ等の
バスバー間の接合不良を防止し、信頼性の高いTFTア
レイ基板用いた液晶表示装置を提供することを目的とす
るものである。
<実施例> 以下、本発明を実施例に従って図面を参照しながら詳説
する。
する。
第1図は本発明の1実施例の説明に供するTFTアレイ
搭載基板の要部平面図である。ガラス、セラミック等の
絶縁基板上に正規配列されたTFTアレイが形成されて
おり、また絶縁基板上にはTFTのドレイン電極6に連
結された絵素電極7がX−Yマトリックス状に配置さ
れ、マトリックス表示の際の絵素を構成する。TFTの
ゲート電極2はX方向に配列されたゲート電極用バスバ
ー21によって同一行のゲート電極2が共通接続されて
おり、またTFTのソース電極5はY方向に配列された
ソース電極用バスバー51によって同一列のソース電極
5が共通接続されている。分割露光時に群割されるTF
Tパターンの分割境界線に位置するゲート電極用バスバ
ー21には微小な膨出部22が形成されており、またソ
ース電極用バスバー51にも同様に微小な膨出部52が
形成されている。これら膨出部22,52は分割露光に
よるパターン形成の際、各分割領域で形成されたバスバ
ー21,51の接合部における連結パッドとなる。バス
バー21,51の接合部の詳細を第2図に示す。分割露
光の際、バスバー21,51のパターン形成位置が各分
割領域でずれた場合であっても膨出部22,52が分割
境界の重なり部Wで重なり合って連結パッドを構成し、
これによって接合ずれに起因するバスバー21,51の
線幅の狭小化を防止することができる。バスバー21,
51の膨出部22,52はバスバーパターンを形成する
露光用マスクを成形することによってバスバーパターン
と同時に形成される。膨出部22,52の寸法はバスバ
ーパターンの分割露光時の接合位置合せ精度に応じて適
宜決定する。分割露光における分割境界はTFTを切断
しない位置に設定することが望ましい。従って、膨出部
22,52はTFTより離れた位置に設けられ、膨出部
22,52と接触しないように絵素電極7には縁部に切
欠が形成されている。この切欠は絵素電極7の全面積に
比べて非常に小さいので表示パターンに影響を与えるこ
とはない。
搭載基板の要部平面図である。ガラス、セラミック等の
絶縁基板上に正規配列されたTFTアレイが形成されて
おり、また絶縁基板上にはTFTのドレイン電極6に連
結された絵素電極7がX−Yマトリックス状に配置さ
れ、マトリックス表示の際の絵素を構成する。TFTの
ゲート電極2はX方向に配列されたゲート電極用バスバ
ー21によって同一行のゲート電極2が共通接続されて
おり、またTFTのソース電極5はY方向に配列された
ソース電極用バスバー51によって同一列のソース電極
5が共通接続されている。分割露光時に群割されるTF
Tパターンの分割境界線に位置するゲート電極用バスバ
ー21には微小な膨出部22が形成されており、またソ
ース電極用バスバー51にも同様に微小な膨出部52が
形成されている。これら膨出部22,52は分割露光に
よるパターン形成の際、各分割領域で形成されたバスバ
ー21,51の接合部における連結パッドとなる。バス
バー21,51の接合部の詳細を第2図に示す。分割露
光の際、バスバー21,51のパターン形成位置が各分
割領域でずれた場合であっても膨出部22,52が分割
境界の重なり部Wで重なり合って連結パッドを構成し、
これによって接合ずれに起因するバスバー21,51の
線幅の狭小化を防止することができる。バスバー21,
51の膨出部22,52はバスバーパターンを形成する
露光用マスクを成形することによってバスバーパターン
と同時に形成される。膨出部22,52の寸法はバスバ
ーパターンの分割露光時の接合位置合せ精度に応じて適
宜決定する。分割露光における分割境界はTFTを切断
しない位置に設定することが望ましい。従って、膨出部
22,52はTFTより離れた位置に設けられ、膨出部
22,52と接触しないように絵素電極7には縁部に切
欠が形成されている。この切欠は絵素電極7の全面積に
比べて非常に小さいので表示パターンに影響を与えるこ
とはない。
第3図は上記TFTアレイ搭載基板を用いた透過型マト
リックス液晶表示装置の1実施例を示す断面図である。
ガラス又は透明プラスチック等から成る光透過性絶縁基
板1上にAl等から成るゲート電極2,Si3N4からな
るゲート絶縁膜3、アモルファスシリコンから成る半導
体層4が順次積層され、半導体層4上にはAl等から成
るソース電極5とドレイン電極6が左右方向より重畳さ
れ、TFTが構成されている。またドレイン電極6には
透明導電膜(I.T.O)から成る絵素電極7が連結されて
いる。TFT及び絵素電極7は第1図に示す如く絶縁基
板1上にマトリックス状に配置され、TFTのゲート電
極2とソース電極5は膨出部22,52を有するバスバ
ー21,51によりX−Y方向に共通接続されている。
更にこれらの上に液晶との接触による劣化を防止するた
めSi3N4から成る保護膜8と液晶分子の配向を決定す
るラビング処理されたSiO2から成る配向層10が重畳し
て堆積され、半導体層4直上の保護膜8と配向層10の
界面には半導体層4への高照射によるTFT特性の変動
を防止するためAl等から成る光シールド層9が介挿さ
れている。一方、絶縁基板1とともに液晶表示表示セル
のセル基板を構成する他方の光透過性絶縁基板11には
その内面に透明導電膜から成る対向電12とSiO2から成
る配向層13が積層され、両配向層10,13間にはツ
イステッドネマティック型液晶14が封入されている。
ゲート電極2のバスバー21とソース電極5のバスバー
51は外部駆動回路に接続されてTFTのスイッチング
動作が制御され、また対向電極12も外部駆動回路に接
続されてTFTに連結された絵素電極7との間で液晶14
に電界を印加する。以上により本実施例の液晶表示装置
が構成される。
リックス液晶表示装置の1実施例を示す断面図である。
ガラス又は透明プラスチック等から成る光透過性絶縁基
板1上にAl等から成るゲート電極2,Si3N4からな
るゲート絶縁膜3、アモルファスシリコンから成る半導
体層4が順次積層され、半導体層4上にはAl等から成
るソース電極5とドレイン電極6が左右方向より重畳さ
れ、TFTが構成されている。またドレイン電極6には
透明導電膜(I.T.O)から成る絵素電極7が連結されて
いる。TFT及び絵素電極7は第1図に示す如く絶縁基
板1上にマトリックス状に配置され、TFTのゲート電
極2とソース電極5は膨出部22,52を有するバスバ
ー21,51によりX−Y方向に共通接続されている。
更にこれらの上に液晶との接触による劣化を防止するた
めSi3N4から成る保護膜8と液晶分子の配向を決定す
るラビング処理されたSiO2から成る配向層10が重畳し
て堆積され、半導体層4直上の保護膜8と配向層10の
界面には半導体層4への高照射によるTFT特性の変動
を防止するためAl等から成る光シールド層9が介挿さ
れている。一方、絶縁基板1とともに液晶表示表示セル
のセル基板を構成する他方の光透過性絶縁基板11には
その内面に透明導電膜から成る対向電12とSiO2から成
る配向層13が積層され、両配向層10,13間にはツ
イステッドネマティック型液晶14が封入されている。
ゲート電極2のバスバー21とソース電極5のバスバー
51は外部駆動回路に接続されてTFTのスイッチング
動作が制御され、また対向電極12も外部駆動回路に接
続されてTFTに連結された絵素電極7との間で液晶14
に電界を印加する。以上により本実施例の液晶表示装置
が構成される。
TFTに動作信号を供給するバスバーは接合部が連結パ
ッドにより接合されているため線幅の狭小化による動作
信号の不通や断線等がなく、全てTFTに確実に必要と
する動作信号を供給することができる。従って大面積に
わたってTFTの動作特性が均一化され、表示品位の良
好な表示パターンが得られる。
ッドにより接合されているため線幅の狭小化による動作
信号の不通や断線等がなく、全てTFTに確実に必要と
する動作信号を供給することができる。従って大面積に
わたってTFTの動作特性が均一化され、表示品位の良
好な表示パターンが得られる。
尚、上記実施例はTFTのバスバーに膨出部を形成して
連結パッドとする場合について説明したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、MOS・FETやMIM等の回
路素子を多数配列した場合のバスバーにも適用すること
ができる。
連結パッドとする場合について説明したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、MOS・FETやMIM等の回
路素子を多数配列した場合のバスバーにも適用すること
ができる。
<発明の効果> 以上詳説した如く本発明によれば液晶表示装置のセル基
板に多数配置された表示駆動用回路素子に確実に動作信
号を供給することができ、広い表示画面の全てにわたっ
てコントラスト等の均一な信頼性の高い表示パターンを
得ることができる。
板に多数配置された表示駆動用回路素子に確実に動作信
号を供給することができ、広い表示画面の全てにわたっ
てコントラスト等の均一な信頼性の高い表示パターンを
得ることができる。
第1図は本発明の1実施例の説明に供するTFTアレイ搭
載基板の要部平面図である。第2図は第1図に示すバス
バーの接合部の詳細図である。第3図は第1図のTFT
アレイ搭載基板を用いて作製した液晶表示装置の1実施
例を示す要部断面構成図である。 第4図は従来のTFTアレイ搭載基板の要部断面図及び
要部平面図である。第5図は従来のバスバーの接合部を
示す詳細図である。 1,11…絶縁基板 2…ゲート電極 3…ゲート絶縁膜
4…半導体層 5…ソース電極 6…ドレイン電極
7…絵素電極 14…液晶 21,51…バスバー 22,52
…膨出部
載基板の要部平面図である。第2図は第1図に示すバス
バーの接合部の詳細図である。第3図は第1図のTFT
アレイ搭載基板を用いて作製した液晶表示装置の1実施
例を示す要部断面構成図である。 第4図は従来のTFTアレイ搭載基板の要部断面図及び
要部平面図である。第5図は従来のバスバーの接合部を
示す詳細図である。 1,11…絶縁基板 2…ゲート電極 3…ゲート絶縁膜
4…半導体層 5…ソース電極 6…ドレイン電極
7…絵素電極 14…液晶 21,51…バスバー 22,52
…膨出部
Claims (1)
- 【請求項1】少なくとも一方のセル基板に複数の表示駆
動用回路素子を配置して成る液晶表示装置において、前
記回路素子を相互に接続するバスバーの分割露光境界に
対応する接合位置にバスバー形状を膨出成形した連結パ
ッドを形成したことを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2219685A JPH061313B2 (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 液晶表示装置 |
| DE19863603332 DE3603332A1 (de) | 1985-02-06 | 1986-02-04 | Fluessigkristall-anzeigeeinrichtung |
| GB08602986A GB2172732B (en) | 1985-02-06 | 1986-02-06 | Liquid crystal matrix display |
| US07/395,187 US5026143A (en) | 1985-02-06 | 1989-08-17 | Active type liquid crystal matrix display having signal electrodes with expanded sections at group exposure boundaries |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2219685A JPH061313B2 (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180275A JPS61180275A (ja) | 1986-08-12 |
| JPH061313B2 true JPH061313B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=12076042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2219685A Expired - Fee Related JPH061313B2 (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 液晶表示装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5026143A (ja) |
| JP (1) | JPH061313B2 (ja) |
| DE (1) | DE3603332A1 (ja) |
| GB (1) | GB2172732B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102515215A (zh) * | 2011-10-09 | 2012-06-27 | 上海大学 | 有狭窄孔径分布虫孔状介孔γ-Al2O3的制备方法 |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02223926A (ja) * | 1989-02-27 | 1990-09-06 | Hitachi Ltd | アクテイブマトリツクス基板 |
| DE4090273C1 (de) * | 1989-03-01 | 1996-09-26 | Mitsubishi Electric Corp | Dünnfilmtransistor |
| JPH0371326U (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-18 | ||
| JPH0827466B2 (ja) * | 1990-03-09 | 1996-03-21 | 株式会社日立製作所 | 表示装置 |
| US6556257B2 (en) * | 1991-09-05 | 2003-04-29 | Sony Corporation | Liquid crystal display device |
| US5285300A (en) * | 1991-10-07 | 1994-02-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device |
| US6005651A (en) * | 1992-08-04 | 1999-12-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Display panel and projection display system with use of display panel |
| KR100502797B1 (ko) * | 1997-12-01 | 2005-10-19 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법 |
| KR100502794B1 (ko) * | 1997-12-06 | 2005-10-14 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치의 패널 제조 방법 |
| AU4167199A (en) | 1998-06-17 | 2000-01-05 | Nikon Corporation | Method for producing mask |
| US6356320B1 (en) * | 1999-11-03 | 2002-03-12 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | LCD with TFT array having wave-shaped resistance pattern to correct stitching defect |
| JP4300396B2 (ja) * | 2002-09-20 | 2009-07-22 | 富士ゼロックス株式会社 | 表示素子の製造方法及び表示素子 |
| KR100878241B1 (ko) * | 2002-09-27 | 2009-01-13 | 삼성전자주식회사 | 다중 도메인 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 |
| JP4365594B2 (ja) * | 2003-01-27 | 2009-11-18 | シャープ株式会社 | パターン形成方法、薄膜トランジスタ基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び露光マスク |
| KR101068285B1 (ko) * | 2004-09-13 | 2011-09-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 노광 마스크 패턴 및 노광 방법 |
| JP5652717B2 (ja) * | 2011-03-11 | 2015-01-14 | 大日本印刷株式会社 | 積層パターン基板の製造方法およびタッチパネルセンサの製造方法 |
| JP6497056B2 (ja) * | 2014-12-12 | 2019-04-10 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3861783A (en) * | 1973-06-28 | 1975-01-21 | Hughes Aircraft Co | Liquid crystal display featuring self-adjusting mosaic panel |
| US4176917A (en) * | 1976-06-14 | 1979-12-04 | Omron Tateisi Electronics Co. | Liquid crystal display device |
| US4103297A (en) * | 1976-12-20 | 1978-07-25 | Hughes Aircraft Company | Light-insensitive matrix addressed liquid crystal display system |
| US4112333A (en) * | 1977-03-23 | 1978-09-05 | Westinghouse Electric Corp. | Display panel with integral memory capability for each display element and addressing system |
| US4242698A (en) * | 1977-11-02 | 1980-12-30 | Texas Instruments Incorporated | Maximum density interconnections for large scale integrated circuits |
| JPS54124677A (en) * | 1978-03-20 | 1979-09-27 | Nec Corp | Semiconductor device |
| JPS57112050A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-12 | Fujitsu Ltd | Design of wiring |
| GB2122809B (en) * | 1982-06-01 | 1985-10-02 | Standard Telephones Cables Ltd | Integrated circuit interconnection bus structure |
| JPS59119850A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-11 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JPS6047441A (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-14 | Fujitsu Ltd | 半導体集積回路 |
| JPS6097325A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-05-31 | Sharp Corp | 表示装置 |
| JPS60106180A (ja) * | 1983-11-15 | 1985-06-11 | Citizen Watch Co Ltd | MiMダイオ−ド |
| JPS60136509A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-20 | Japan Atom Energy Res Inst | サンドイッチ構造をもつ徐放性複合体の製造方法 |
| JPS60167361A (ja) * | 1984-02-09 | 1985-08-30 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
| US4660935A (en) * | 1984-02-21 | 1987-04-28 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal display device having electrodes shaped to compensate for positioning error |
| JPS61123868A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-06-11 | キヤノン株式会社 | パネル基板の位置合せ保証方法 |
| US4630355A (en) * | 1985-03-08 | 1986-12-23 | Energy Conversion Devices, Inc. | Electric circuits having repairable circuit lines and method of making the same |
| JPH0727141B2 (ja) * | 1985-06-18 | 1995-03-29 | シチズン時計株式会社 | 液晶セルの電極構造 |
| US4762398A (en) * | 1987-01-26 | 1988-08-09 | Hosiden Electronics Co., Ltd. | Pixel transistor free of parasitic capacitance fluctuations from misalignment |
-
1985
- 1985-02-06 JP JP2219685A patent/JPH061313B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-02-04 DE DE19863603332 patent/DE3603332A1/de active Granted
- 1986-02-06 GB GB08602986A patent/GB2172732B/en not_active Expired
-
1989
- 1989-08-17 US US07/395,187 patent/US5026143A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102515215A (zh) * | 2011-10-09 | 2012-06-27 | 上海大学 | 有狭窄孔径分布虫孔状介孔γ-Al2O3的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US5026143A (en) | 1991-06-25 |
| DE3603332A1 (de) | 1986-08-14 |
| GB2172732A (en) | 1986-09-24 |
| JPS61180275A (ja) | 1986-08-12 |
| GB2172732B (en) | 1988-06-29 |
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