JPH06131422A - 解析モデル作成システム - Google Patents
解析モデル作成システムInfo
- Publication number
- JPH06131422A JPH06131422A JP4276840A JP27684092A JPH06131422A JP H06131422 A JPH06131422 A JP H06131422A JP 4276840 A JP4276840 A JP 4276840A JP 27684092 A JP27684092 A JP 27684092A JP H06131422 A JPH06131422 A JP H06131422A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mesh division
- value
- analysis model
- mesh
- variable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 3次元形状の作成のための寸法と位置情報
と、メッシュ分割のためにのメッシュ分割値と、そして
解析条件の入力に基づいて解析モデルを作成する解析モ
デル作成システムにおいて、メッシュ分割値の入力作業
を簡単化することをである。 【構成】 図形要素のデータを格納する図形要素用テー
ブル20に対してポインタ40によってリンクしたテー
ブル30にメッシュ分割値を変数として格納可能とし、
メッシュ分割設計をパラメトリック設計化した構造を実
現している。
と、メッシュ分割のためにのメッシュ分割値と、そして
解析条件の入力に基づいて解析モデルを作成する解析モ
デル作成システムにおいて、メッシュ分割値の入力作業
を簡単化することをである。 【構成】 図形要素のデータを格納する図形要素用テー
ブル20に対してポインタ40によってリンクしたテー
ブル30にメッシュ分割値を変数として格納可能とし、
メッシュ分割設計をパラメトリック設計化した構造を実
現している。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、3次元形状の作成のた
めの寸法と位置情報と、メッシュ分割のためのメッシュ
分割値と、そして解析条件の入力に基づいて解析モデル
を作成する解析モデル作成システムに関する。
めの寸法と位置情報と、メッシュ分割のためのメッシュ
分割値と、そして解析条件の入力に基づいて解析モデル
を作成する解析モデル作成システムに関する。
【従来の技術】従来のこの種の解析モデル作成システム
は、2次元形状を入力する2次元CAD機能、2次元デ
ータより3次元形状を作成する3次元CAD機能、2次
元形状又は3次元形状を構成する辺や円弧などの各図形
要素に対して適当なメッシュ分割値を割り当てるメッシ
ュ分割機能、荷重条件や拘束条件など解析条件設定機能
を備えている。このようなモデル作成システムで作成さ
れた解析モデルは解析プログラムにかけられて、例えば
構造体に所定の荷重がかかった場合の変形量などの解析
結果を得るために用いられる。
は、2次元形状を入力する2次元CAD機能、2次元デ
ータより3次元形状を作成する3次元CAD機能、2次
元形状又は3次元形状を構成する辺や円弧などの各図形
要素に対して適当なメッシュ分割値を割り当てるメッシ
ュ分割機能、荷重条件や拘束条件など解析条件設定機能
を備えている。このようなモデル作成システムで作成さ
れた解析モデルは解析プログラムにかけられて、例えば
構造体に所定の荷重がかかった場合の変形量などの解析
結果を得るために用いられる。
【0002】この種のシステムを用いての解析モデルの
作成作業において、メッシュの分割値を適切に設定する
ことは難しく、種々なメッシュの分割を試行錯誤的に行
う必要があった。その場合、メッシュ分割される図形要
素の属性値としてメッシュ分割値が格納される構成であ
るため、適当と思われる分割値が入力されると、その値
と連係された形でCADデータが以後の処理に送られて
解析モデルが作成され、その後解析を行い、その結果に
応じて再度メッシュ分割を再入力するといった手順が繰
り返されるのである。
作成作業において、メッシュの分割値を適切に設定する
ことは難しく、種々なメッシュの分割を試行錯誤的に行
う必要があった。その場合、メッシュ分割される図形要
素の属性値としてメッシュ分割値が格納される構成であ
るため、適当と思われる分割値が入力されると、その値
と連係された形でCADデータが以後の処理に送られて
解析モデルが作成され、その後解析を行い、その結果に
応じて再度メッシュ分割を再入力するといった手順が繰
り返されるのである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述したメッシュ分割
値の入力作業は、メッシュ分割値を入力しなければなら
ない図形要素が多くなる複雑な形状の場合、その入力作
業だけで多くの労力が必要とされ、解析作業の効率を著
しく低減させていた。
値の入力作業は、メッシュ分割値を入力しなければなら
ない図形要素が多くなる複雑な形状の場合、その入力作
業だけで多くの労力が必要とされ、解析作業の効率を著
しく低減させていた。
【0004】本発明の課題は、上記の解析モデル作成シ
ステムにおいて、メッシュ分割値の入力作業を簡単化す
ることである。
ステムにおいて、メッシュ分割値の入力作業を簡単化す
ることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明による解析モデル作成システムでは、メッシ
ュ分割値が変数つまりパラメータとして入力可能で、こ
の変数に所定の定数が設定された段階で所定の解析モデ
ルが作成される。つまり、図形要素のデータを格納する
図形要素用テーブルにリンクされたテーブルにメッシュ
分割値を変数として格納可能とし、メッシュ分割設計を
パラメトリック設計化した構造を実現している。
め、本発明による解析モデル作成システムでは、メッシ
ュ分割値が変数つまりパラメータとして入力可能で、こ
の変数に所定の定数が設定された段階で所定の解析モデ
ルが作成される。つまり、図形要素のデータを格納する
図形要素用テーブルにリンクされたテーブルにメッシュ
分割値を変数として格納可能とし、メッシュ分割設計を
パラメトリック設計化した構造を実現している。
【0006】
【作用】このような構成によれば、各図形要素に対する
メッシュ分割値をパラメータとして入力しておくと、こ
のパラメータに入る値を変更することにより自由にメッ
シュ分割の区画を変形することができる。そして、特定
の図形要素に対しては変数として前設定された変数の式
の形で設定しておくことにより、前設定された変数の値
が入力されることにより、その式の形で表されたメッシ
ュ分割値は自動的に設定されることも可能となる。
メッシュ分割値をパラメータとして入力しておくと、こ
のパラメータに入る値を変更することにより自由にメッ
シュ分割の区画を変形することができる。そして、特定
の図形要素に対しては変数として前設定された変数の式
の形で設定しておくことにより、前設定された変数の値
が入力されることにより、その式の形で表されたメッシ
ュ分割値は自動的に設定されることも可能となる。
【0007】
【発明の効果】このように、メッシュ分割設計にパラメ
トリック設計の概念を導入したことによりメッシュ分割
値の入力作業が簡単化された。
トリック設計の概念を導入したことによりメッシュ分割
値の入力作業が簡単化された。
【0008】〔さらに別な特徴と利点〕さらに本発明の
好適な実施例によれば、メッシュ分割されるべき辺の寸
法が修正された場合、その修正値に応じて対応するメッ
シュ分割値が補正されるものがある。この構成によれ
ば、ある図形要素の寸法が最初100mmで、それに対
応するメッシュ分割値が6に設定されていたモデルにお
いて、その図形要素の寸法を150mmに修正されると
自動的にそれに対応するメッシュ分割値が9に補正され
る。このことにより、さらにメッシュ分割値の入力作業
が簡単化される。本発明のさらに別な特徴と効果は以下
の図面を用いた実施例の説明により明らかとなるだろ
う。
好適な実施例によれば、メッシュ分割されるべき辺の寸
法が修正された場合、その修正値に応じて対応するメッ
シュ分割値が補正されるものがある。この構成によれ
ば、ある図形要素の寸法が最初100mmで、それに対
応するメッシュ分割値が6に設定されていたモデルにお
いて、その図形要素の寸法を150mmに修正されると
自動的にそれに対応するメッシュ分割値が9に補正され
る。このことにより、さらにメッシュ分割値の入力作業
が簡単化される。本発明のさらに別な特徴と効果は以下
の図面を用いた実施例の説明により明らかとなるだろ
う。
【0009】
【実施例】図1に、本発明による解析モデル作成システ
ムの概略ブロック図が示されている。このシステム10
0は、入力部110と2次元CADデータ処理部120
と2次元ー3次元変換部130と3次元CADデータ処
理部140と解析モデル形成部150とを備えており、
このシステム100で作成された解析モデルは解析装置
200に送られ、種々の解析が行われる。
ムの概略ブロック図が示されている。このシステム10
0は、入力部110と2次元CADデータ処理部120
と2次元ー3次元変換部130と3次元CADデータ処
理部140と解析モデル形成部150とを備えており、
このシステム100で作成された解析モデルは解析装置
200に送られ、種々の解析が行われる。
【0010】2次元CADデータ処理部120は、基本
的には通常の2次元CAD装置に類似した機能を有して
おり、入力部110から入力された図形要素の位置情報
や寸法を所定の様式で格納するとともにメッシュ分割の
ための分割値をパラメータおよびその値の形で対応する
図形要素に連係させて格納することができる。2次元ー
3次元変換部130は2次元CADデータ処理部120
からのデータを3次元図形を作り出すためのデータに変
換するものであり、この変換されたデータに基づいて3
次元CADデータ処理部140で生成された3次元図形
は解析モデル形成部150に送られる。この解析モデル
形成部150には、さらに入力部110から荷重条件や
拘束条件、さらには物性値が送られ、これらのデータに
基づいて最終的なメッシュ分割された解析モデルが作成
される。
的には通常の2次元CAD装置に類似した機能を有して
おり、入力部110から入力された図形要素の位置情報
や寸法を所定の様式で格納するとともにメッシュ分割の
ための分割値をパラメータおよびその値の形で対応する
図形要素に連係させて格納することができる。2次元ー
3次元変換部130は2次元CADデータ処理部120
からのデータを3次元図形を作り出すためのデータに変
換するものであり、この変換されたデータに基づいて3
次元CADデータ処理部140で生成された3次元図形
は解析モデル形成部150に送られる。この解析モデル
形成部150には、さらに入力部110から荷重条件や
拘束条件、さらには物性値が送られ、これらのデータに
基づいて最終的なメッシュ分割された解析モデルが作成
される。
【0011】ここで、簡単な例を挙げて、本発明の特徴
であるメッシュ分割値のパラメトリックス設定を説明す
る;入力部110を通じてある図形を構成する図形要素
の位置データと寸法とともに、各図形要素に対応するメ
ッシュ分割データがこのシステム100の2次元CAD
データ処理部120で処理され、それぞれがリンクされ
る。例えば、図2に示すような6つの図形要素1、2、
3、4、5、6からなる図形の入力に続いて、各図形要
素に対するメッシュ分割値が変数として、つまりパラメ
トリックに入力された場合、図3で示すように、各図形
要素は図形データとして位置情報や寸法などの属性値ご
とに図形情報テーブル20に格納される。更に、その図
形要素に対するメッシュ分割値の変数はメッシュ分割用
テーブル30に格納され、図形情報テーブル20とはポ
インタ40によってリンクされている。図3では、直線
である図形要素1に関しては直線の始点、終点の座標値
等のデータや場合によっては与えられる他の要素に対す
る平行や垂直を定義した関係データからなる位置情報と
その長さ、ここでは、”20”が格納され、ポインタ
値:P1によってメッシュ分割値用テーブルに格納され
た対応するメッシュ分割値変数”m1”とリンクされて
いる。このメッシュ分割変数としては例えば任意の変数
からなる式を入力することが可能であり、例えば図形要
素5にはそのメッシュ分割変数として”m3−m1”が
設定されている。
であるメッシュ分割値のパラメトリックス設定を説明す
る;入力部110を通じてある図形を構成する図形要素
の位置データと寸法とともに、各図形要素に対応するメ
ッシュ分割データがこのシステム100の2次元CAD
データ処理部120で処理され、それぞれがリンクされ
る。例えば、図2に示すような6つの図形要素1、2、
3、4、5、6からなる図形の入力に続いて、各図形要
素に対するメッシュ分割値が変数として、つまりパラメ
トリックに入力された場合、図3で示すように、各図形
要素は図形データとして位置情報や寸法などの属性値ご
とに図形情報テーブル20に格納される。更に、その図
形要素に対するメッシュ分割値の変数はメッシュ分割用
テーブル30に格納され、図形情報テーブル20とはポ
インタ40によってリンクされている。図3では、直線
である図形要素1に関しては直線の始点、終点の座標値
等のデータや場合によっては与えられる他の要素に対す
る平行や垂直を定義した関係データからなる位置情報と
その長さ、ここでは、”20”が格納され、ポインタ
値:P1によってメッシュ分割値用テーブルに格納され
た対応するメッシュ分割値変数”m1”とリンクされて
いる。このメッシュ分割変数としては例えば任意の変数
からなる式を入力することが可能であり、例えば図形要
素5にはそのメッシュ分割変数として”m3−m1”が
設定されている。
【0012】このメッシュ分割用テーブル30には、さ
らにメッシュ分割変数の値を格納するエリアが用意され
ており、入力部100を通じて入力された値がこの中に
格納される。その際、図形要素5のようにメッシュ分割
変数として変数の式で表されている場合、その変数の値
が入力されると、ここでは”m1”と”m3”の値が入
力されると自動的にその値である”2”が設定される。
らにメッシュ分割変数の値を格納するエリアが用意され
ており、入力部100を通じて入力された値がこの中に
格納される。その際、図形要素5のようにメッシュ分割
変数として変数の式で表されている場合、その変数の値
が入力されると、ここでは”m1”と”m3”の値が入
力されると自動的にその値である”2”が設定される。
【0013】このように、メッシュ分割値がパラメータ
として格納することができるため、このパラメータを変
更することで、メッシュ区画を変形することができる。
として格納することができるため、このパラメータを変
更することで、メッシュ区画を変形することができる。
【0014】〔別実施例〕図4には、図形情報用テーブ
ル20とメッシュ分割用テーブル30に加えて補正用テ
ーブル50が用意されたものが示されている。この補正
用テーブル50は、基準寸法と補正係数:kを格納する
エリアを備えており、図形情報用テーブル20とメッシ
ュ分割用テーブル30とはポインタ40によってリンク
されている。ここでいう基準寸法とは、図形要素の寸法
を修正する場合修正前の寸法のことであり、補正係数は
修正された値と修正前の値の比である。
ル20とメッシュ分割用テーブル30に加えて補正用テ
ーブル50が用意されたものが示されている。この補正
用テーブル50は、基準寸法と補正係数:kを格納する
エリアを備えており、図形情報用テーブル20とメッシ
ュ分割用テーブル30とはポインタ40によってリンク
されている。ここでいう基準寸法とは、図形要素の寸法
を修正する場合修正前の寸法のことであり、補正係数は
修正された値と修正前の値の比である。
【0015】例えば、図2で示した図形を図5に示す図
形に変形する場合、図形要素1と図形要素3の寸法が修
正される。その際、図形要素1に対応する補正用テーブ
ルの基準寸法のエリアには修正前の寸法である”20”
が格納されており、図形情報用テーブル20の寸法が”
20”から”40”に修正された段階で、補正係数:k
のエリアには図形情報用テーブル20の寸法と補正用テ
ーブルの基準寸法の比である”2”が入る。そして、分
割変数:m1の値は2倍されて4となる。さらに、次の
修正に備えて、補正用テーブルの基準寸法のエリアに
は”40”が入る。同様に図形要素3の寸法も”40”
から”60”に修正されるとこれに対応する各テーブル
の値も自動的に変更される。ここで、もし図形がパラメ
トリック設計されていると、つまり図形要素1と2は平
行で図形要素2と直角に交わると定義されていると、図
形要素1の寸法を修正することにより自動的に図形要素
3の寸法も修正され、さらに上述したようにメッシュ分
割値も変更される。
形に変形する場合、図形要素1と図形要素3の寸法が修
正される。その際、図形要素1に対応する補正用テーブ
ルの基準寸法のエリアには修正前の寸法である”20”
が格納されており、図形情報用テーブル20の寸法が”
20”から”40”に修正された段階で、補正係数:k
のエリアには図形情報用テーブル20の寸法と補正用テ
ーブルの基準寸法の比である”2”が入る。そして、分
割変数:m1の値は2倍されて4となる。さらに、次の
修正に備えて、補正用テーブルの基準寸法のエリアに
は”40”が入る。同様に図形要素3の寸法も”40”
から”60”に修正されるとこれに対応する各テーブル
の値も自動的に変更される。ここで、もし図形がパラメ
トリック設計されていると、つまり図形要素1と2は平
行で図形要素2と直角に交わると定義されていると、図
形要素1の寸法を修正することにより自動的に図形要素
3の寸法も修正され、さらに上述したようにメッシュ分
割値も変更される。
【図1】本発明による解析モデル作成システムの概略構
成を示すブロック図
成を示すブロック図
【図2】入力される図形の一例を示す図
【図3】図形情報用テーブルとメッシュ分割用テーブル
の説明図
の説明図
【図4】別実施例における図形情報用テーブルとメッシ
ュ分割用テーブルと補正用テーブルの説明図
ュ分割用テーブルと補正用テーブルの説明図
【図5】修正される図形の一例を示す図
100 解析モデル作成システム 110 入力部 120 2次元CADデータ処理部 130 2次元ー3次元変換部 140 3次元CADデータ処理部 150 解析モデル形成部 20 図形情報用テーブル 30 メッシュ分割用テーブル 50 補正用テーブル
Claims (2)
- 【請求項1】 3次元形状の作成のための寸法と位置情
報と、メッシュ分割のためにのメッシュ分割値と、そし
て解析条件の入力に基づいて解析モデルを作成する解析
モデル作成システムにおいて、 前記メッシュ分割値が変数として入力可能で、この変数
に所定の定数が設定された段階で所定の解析モデルが作
成されることを特徴とする解析モデル作成システムシス
テム。 - 【請求項2】 メッシュ分割されるべき辺の寸法が修正
された場合、その修正値に応じて対応するメッシュ分割
値が補正されることを特徴とする請求項1に記載の解析
モデル作成システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4276840A JPH06131422A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 解析モデル作成システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4276840A JPH06131422A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 解析モデル作成システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06131422A true JPH06131422A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17575140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4276840A Pending JPH06131422A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | 解析モデル作成システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06131422A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7129005B2 (en) | 2003-05-13 | 2006-10-31 | Avestor Limited Partnership | Polyimide matrix electrolyte and improved batteries therefrom |
| US7198870B2 (en) | 2003-05-13 | 2007-04-03 | Solicore, Inc. | Polyimide matrix electrolyte |
| US7390336B2 (en) | 2003-07-29 | 2008-06-24 | Solicore, Inc. | Polyimide-based lithium metal battery |
| US8088243B2 (en) | 2003-05-13 | 2012-01-03 | Solicore, Inc. | Method of forming a card with embedded IC and electrochemical cell |
| US9224516B2 (en) | 2004-07-22 | 2015-12-29 | Solicore, Inc. | Battery tab and packaging frame design |
| CN110069472A (zh) * | 2019-03-13 | 2019-07-30 | 广州明珞汽车装备有限公司 | 一种基于库的快速设计方法及系统 |
-
1992
- 1992-10-15 JP JP4276840A patent/JPH06131422A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7129005B2 (en) | 2003-05-13 | 2006-10-31 | Avestor Limited Partnership | Polyimide matrix electrolyte and improved batteries therefrom |
| US7198870B2 (en) | 2003-05-13 | 2007-04-03 | Solicore, Inc. | Polyimide matrix electrolyte |
| US8088243B2 (en) | 2003-05-13 | 2012-01-03 | Solicore, Inc. | Method of forming a card with embedded IC and electrochemical cell |
| US7390336B2 (en) | 2003-07-29 | 2008-06-24 | Solicore, Inc. | Polyimide-based lithium metal battery |
| US7824808B2 (en) | 2003-07-29 | 2010-11-02 | Solicore, Inc. | Polyimide-based lithium metal battery |
| US9224516B2 (en) | 2004-07-22 | 2015-12-29 | Solicore, Inc. | Battery tab and packaging frame design |
| CN110069472A (zh) * | 2019-03-13 | 2019-07-30 | 广州明珞汽车装备有限公司 | 一种基于库的快速设计方法及系统 |
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