JPH06136495A - 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法Info
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- JPH06136495A JPH06136495A JP29042092A JP29042092A JPH06136495A JP H06136495 A JPH06136495 A JP H06136495A JP 29042092 A JP29042092 A JP 29042092A JP 29042092 A JP29042092 A JP 29042092A JP H06136495 A JPH06136495 A JP H06136495A
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- etching
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Abstract
(57)【要約】
【構成】アルミニウム箔の表面層を除去したのち、アル
ミニウム箔の表面にレーザーあるいはプラズマを照射す
ることにより、厚さ５〜５０オングストロームの酸化皮
膜を形成する。その後酸化皮膜の合計厚さが７０オング
ストロームを超えない範囲で高温加熱する。 【効果】全体に厚さの均一な酸化皮膜を形成できるとと
もに、処理時間を短縮できる。
ミニウム箔の表面にレーザーあるいはプラズマを照射す
ることにより、厚さ５〜５０オングストロームの酸化皮
膜を形成する。その後酸化皮膜の合計厚さが７０オング
ストロームを超えない範囲で高温加熱する。 【効果】全体に厚さの均一な酸化皮膜を形成できるとと
もに、処理時間を短縮できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電解コンデンサ電極
用アルミニウム材料の製造方法に関する。
用アルミニウム材料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウム電解コンデンサ用電極材と
して一般に用いられるアルミニウム箔には、その実効面
積を拡大して単位面積当りの静電容量を増大するため、
一般に電気化学的あるいは化学的エッチング処理が施さ
れる。しかし、箔を単にエッチング処理するのみでは十
分な静電容量を得られなかった。
して一般に用いられるアルミニウム箔には、その実効面
積を拡大して単位面積当りの静電容量を増大するため、
一般に電気化学的あるいは化学的エッチング処理が施さ
れる。しかし、箔を単にエッチング処理するのみでは十
分な静電容量を得られなかった。
【０００３】そこで、本出願人は、エッチング適性に優
れ多数のエッチングピットを形成しえて、拡面率ひいて
は静電容量の大きな電解コンデンサ電極材を確実にかつ
安定して提供し得るアルミニウム材料の製造方法とし
て、特開平３−１２２２６０号に開示されている方法を
提供した。この方法は、アルミニウム箔の表面層を除去
した後、除去後の表面に厚さ５〜５０オングストローム
の酸化皮膜を形成する工程と、その後酸化皮膜の合計厚
さが７０オングストロームを超えない範囲で高温加熱す
る工程を実施するものである。この方法によれば、箔の
表面層除去により表面不均一層が除去され、その後の酸
化膜形成工程で皮膜欠陥からなる多数のエッチング核を
有する酸化皮膜を形成でき、ひいてはエッチング適性を
向上せしめ得て高静電容量の実現が可能となる。
れ多数のエッチングピットを形成しえて、拡面率ひいて
は静電容量の大きな電解コンデンサ電極材を確実にかつ
安定して提供し得るアルミニウム材料の製造方法とし
て、特開平３−１２２２６０号に開示されている方法を
提供した。この方法は、アルミニウム箔の表面層を除去
した後、除去後の表面に厚さ５〜５０オングストローム
の酸化皮膜を形成する工程と、その後酸化皮膜の合計厚
さが７０オングストロームを超えない範囲で高温加熱す
る工程を実施するものである。この方法によれば、箔の
表面層除去により表面不均一層が除去され、その後の酸
化膜形成工程で皮膜欠陥からなる多数のエッチング核を
有する酸化皮膜を形成でき、ひいてはエッチング適性を
向上せしめ得て高静電容量の実現が可能となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の方法
では、表面層除去後のアルミニウム箔表面の酸化皮膜の
形成を、水分または酸素を含む大気中あるいはＡｒ等の
不活性ガス雰囲気中で加熱することにより行っていたた
め、形成される酸化皮膜の厚さが不均一であり、ひいて
は静電容量の増大に限界があるとか品質にバラツキを生
じるという欠点があった。また、均一厚さの酸化皮膜を
形成するためには、雰囲気の厳格な制御が必要であると
いう欠点があった。しかも、処理時間がかかり、ひいて
は生産効率の向上を妨げる一因となっていた。
では、表面層除去後のアルミニウム箔表面の酸化皮膜の
形成を、水分または酸素を含む大気中あるいはＡｒ等の
不活性ガス雰囲気中で加熱することにより行っていたた
め、形成される酸化皮膜の厚さが不均一であり、ひいて
は静電容量の増大に限界があるとか品質にバラツキを生
じるという欠点があった。また、均一厚さの酸化皮膜を
形成するためには、雰囲気の厳格な制御が必要であると
いう欠点があった。しかも、処理時間がかかり、ひいて
は生産効率の向上を妨げる一因となっていた。
【０００５】この発明は、かかる技術的背景に鑑みてな
されたものであって、酸化皮膜形成工程において、雰囲
気の厳格な制御を要することなく厚さの均一な酸化皮膜
を形成することができ、処理時間も短く、しかもエッチ
ング性能にすぐれ高静電容量を確実に得ることのできる
電解コンデンサ用アルミニウム材料の製作提供を目的と
する。
されたものであって、酸化皮膜形成工程において、雰囲
気の厳格な制御を要することなく厚さの均一な酸化皮膜
を形成することができ、処理時間も短く、しかもエッチ
ング性能にすぐれ高静電容量を確実に得ることのできる
電解コンデンサ用アルミニウム材料の製作提供を目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、酸化皮膜の形成をレーザーあるいはプ
ラズマの照射によりその熱エネルギーを利用して行おう
というものである。
に、この発明は、酸化皮膜の形成をレーザーあるいはプ
ラズマの照射によりその熱エネルギーを利用して行おう
というものである。
【０００７】即ち、この発明は、アルミニウム箔の表面
層を除去する工程と、除去したアルミニウム箔の表面に
レーザーを照射することにより、厚さ５〜５０オングス
トロームの酸化皮膜を形成する工程と、その後酸化皮膜
の合計厚さが７０オングストロームを超えない範囲で高
温加熱する工程とを実施することを特徴とする電解コン
デンサ電極用アルミニウム材料の製造方法を要旨とす
る。
層を除去する工程と、除去したアルミニウム箔の表面に
レーザーを照射することにより、厚さ５〜５０オングス
トロームの酸化皮膜を形成する工程と、その後酸化皮膜
の合計厚さが７０オングストロームを超えない範囲で高
温加熱する工程とを実施することを特徴とする電解コン
デンサ電極用アルミニウム材料の製造方法を要旨とす
る。
【０００８】この発明に用いるアルミニウム箔は、純度
９９．９９％の高純度のものが望ましいが、これに限定
されることはなく、電解コンデンサ用に使用される範囲
内の純度のものであれば良い。
９９．９９％の高純度のものが望ましいが、これに限定
されることはなく、電解コンデンサ用に使用される範囲
内の純度のものであれば良い。
【０００９】箔圧延後のアルミニウム箔表面層の除去処
理は、箔表面の不均一層を除去することを目的として実
施する。即ち、箔圧延後のアルミニウム箔表面には、油
分、圧延で形成された不均質な酸化膜が存在する。又、
アルミニウム箔表面近傍には圧延変質層や圧延時のロー
ルコーティング等による汚染層が不均一に存在する。こ
れらが酸化皮膜の不均一性をもたらす原因となる。従っ
て、均一な酸化皮膜の形成を促進すべく、上記不均一層
の除去を行うものである。しかし、必ずしもアルミニウ
ム箔の表面を所定深さに除去しなければならないもので
はなく、脱脂レベル換言すれば純水の接触角が３０°以
下程度のレベル（純粋スプレーＯＫレベル）に油を除去
するものであっても良い。もちろん、不均一層を完全に
除去した方が望ましいが、この場合は、除去厚さを５オ
ングストローム以上に亘って行うのが良く、特に好まし
くは２０オングストローム以上とするのが良い。上限は
特にないが５００オングストローム程度で表面層除去の
効果が飽和するため、それを超える除去は無益である。
除去処理の具体的手段は特に限定するものではない。所
定深さに亘って除去する場合には、アルカリエッチン
グ、酸エッチング等の湿式法によっても良いし、エキシ
マレーザー（ＫｒＦ、ＡｒＦ、ＸｅＣｌ）等のレーザー
加工、電子ビーム加工、イオンビーム加工、反応性ガス
エッチング、プラズマエッチング等の乾式法によっても
良いが、乾式法による方が表面層の除去厚さを均一にな
しうるとともに、処理時間も短縮し得る点で好ましい。
また、表面層の除去処理を脱脂レベルにとどめる場合に
は、例えばＮｄ：ＹＡＧレーザー、ＣＯ2 レーザー、エ
キシマレーザー（ＫｒＦ、ＡｒＦ、ＸｅＣｌ）等を用
い、これらのレーザー光を照射すれば良い。
理は、箔表面の不均一層を除去することを目的として実
施する。即ち、箔圧延後のアルミニウム箔表面には、油
分、圧延で形成された不均質な酸化膜が存在する。又、
アルミニウム箔表面近傍には圧延変質層や圧延時のロー
ルコーティング等による汚染層が不均一に存在する。こ
れらが酸化皮膜の不均一性をもたらす原因となる。従っ
て、均一な酸化皮膜の形成を促進すべく、上記不均一層
の除去を行うものである。しかし、必ずしもアルミニウ
ム箔の表面を所定深さに除去しなければならないもので
はなく、脱脂レベル換言すれば純水の接触角が３０°以
下程度のレベル（純粋スプレーＯＫレベル）に油を除去
するものであっても良い。もちろん、不均一層を完全に
除去した方が望ましいが、この場合は、除去厚さを５オ
ングストローム以上に亘って行うのが良く、特に好まし
くは２０オングストローム以上とするのが良い。上限は
特にないが５００オングストローム程度で表面層除去の
効果が飽和するため、それを超える除去は無益である。
除去処理の具体的手段は特に限定するものではない。所
定深さに亘って除去する場合には、アルカリエッチン
グ、酸エッチング等の湿式法によっても良いし、エキシ
マレーザー（ＫｒＦ、ＡｒＦ、ＸｅＣｌ）等のレーザー
加工、電子ビーム加工、イオンビーム加工、反応性ガス
エッチング、プラズマエッチング等の乾式法によっても
良いが、乾式法による方が表面層の除去厚さを均一にな
しうるとともに、処理時間も短縮し得る点で好ましい。
また、表面層の除去処理を脱脂レベルにとどめる場合に
は、例えばＮｄ：ＹＡＧレーザー、ＣＯ2 レーザー、エ
キシマレーザー（ＫｒＦ、ＡｒＦ、ＸｅＣｌ）等を用
い、これらのレーザー光を照射すれば良い。
【００１０】表面層除去後のアルミニウム箔の新たな表
面に酸化皮膜を形成させるためのレーザーの種類やプラ
スマの形成法は、特に限定されることはなく、レーザー
としてはＮｄ：ＹＡＧレーザー、ＣＯ2 レーザーを用い
れば良い。一方、プラズマの形成は直流プラズマ、高周
波プラズマ等どんな方法でもかまわない。雰囲気はレー
ザーの場合大気中で行えば良い。また、プラズマを用い
る場合、雰囲気中の酸素（Ｏ2 ）量は０．１％以上、水
分（Ｈ2 Ｏ）量は０．０１ｋｇ／ｋｇ以上確保するのが
望ましい。かかるレーザーやプラズマの照射による熱エ
ネルギーにより、アルミニウム箔の表面には、皮膜欠陥
を有する均一厚さの酸化皮膜が短時間で形成され、この
皮膜欠陥がエッチング処理時においてエッチング核とな
る。しかし、酸化皮膜の厚さが５オングストローム未満
ではエッチング核形成の効果が少なく、逆に５０オング
ストロームを超えると一旦形成されたエッチング核が減
少してしまう。従って、酸化皮膜の厚さは５〜５０オン
グストロームに規定されなければならない。特に好まし
くは５〜４５オングストロームであり、さらには１５〜
４５オングストロームとするのが良い。また、レーザー
等照射時の熱エネルギーにより、アルミニウム箔の温度
は上昇するが、酸化皮膜の成長を促進させるために、ア
ルミニウム箔の温度は４０〜２００℃の範囲に保持する
のが良い。
面に酸化皮膜を形成させるためのレーザーの種類やプラ
スマの形成法は、特に限定されることはなく、レーザー
としてはＮｄ：ＹＡＧレーザー、ＣＯ2 レーザーを用い
れば良い。一方、プラズマの形成は直流プラズマ、高周
波プラズマ等どんな方法でもかまわない。雰囲気はレー
ザーの場合大気中で行えば良い。また、プラズマを用い
る場合、雰囲気中の酸素（Ｏ2 ）量は０．１％以上、水
分（Ｈ2 Ｏ）量は０．０１ｋｇ／ｋｇ以上確保するのが
望ましい。かかるレーザーやプラズマの照射による熱エ
ネルギーにより、アルミニウム箔の表面には、皮膜欠陥
を有する均一厚さの酸化皮膜が短時間で形成され、この
皮膜欠陥がエッチング処理時においてエッチング核とな
る。しかし、酸化皮膜の厚さが５オングストローム未満
ではエッチング核形成の効果が少なく、逆に５０オング
ストロームを超えると一旦形成されたエッチング核が減
少してしまう。従って、酸化皮膜の厚さは５〜５０オン
グストロームに規定されなければならない。特に好まし
くは５〜４５オングストロームであり、さらには１５〜
４５オングストロームとするのが良い。また、レーザー
等照射時の熱エネルギーにより、アルミニウム箔の温度
は上昇するが、酸化皮膜の成長を促進させるために、ア
ルミニウム箔の温度は４０〜２００℃の範囲に保持する
のが良い。
【００１１】厚さ５〜５０オングストロームの初期酸化
皮膜を形成したのち実施する高温加熱（焼鈍工程）は、
アルミニウム箔の組織を立方体方位を多く有する集合組
織にしてエッチング特性を向上させることを主目的とす
るものである。而して、この高温加熱処理において、初
期酸化皮膜上にさらに形成される酸化皮膜の厚さが厚過
ぎると、初期酸化皮膜の欠陥部分が消去され、エッチン
グの際に十分なエッチングピットを形成することができ
ない。このため、高温加熱処理は初期酸化皮膜を含む酸
化皮膜の合計厚さが７０オングストローム以下となる範
囲で行う必要がある。好適には５０オングストローム以
下に規制するのが良い。酸化皮膜の合計厚さを７０オン
グストローム以下とするためには水分、酸素を可及的除
去した雰囲気で加熱するのが望ましく、具体的にはＡｒ
ガス等の不活性ガス中あるいは１０-3Ｔｏｒｒ程度以下
の真空中で加熱するのが良い。また加熱温度は４６０℃
程度以上、加熱時間は１〜５時間程度が望ましい。
皮膜を形成したのち実施する高温加熱（焼鈍工程）は、
アルミニウム箔の組織を立方体方位を多く有する集合組
織にしてエッチング特性を向上させることを主目的とす
るものである。而して、この高温加熱処理において、初
期酸化皮膜上にさらに形成される酸化皮膜の厚さが厚過
ぎると、初期酸化皮膜の欠陥部分が消去され、エッチン
グの際に十分なエッチングピットを形成することができ
ない。このため、高温加熱処理は初期酸化皮膜を含む酸
化皮膜の合計厚さが７０オングストローム以下となる範
囲で行う必要がある。好適には５０オングストローム以
下に規制するのが良い。酸化皮膜の合計厚さを７０オン
グストローム以下とするためには水分、酸素を可及的除
去した雰囲気で加熱するのが望ましく、具体的にはＡｒ
ガス等の不活性ガス中あるいは１０-3Ｔｏｒｒ程度以下
の真空中で加熱するのが良い。また加熱温度は４６０℃
程度以上、加熱時間は１〜５時間程度が望ましい。
【００１２】上記により製作したアルミニウム材料は、
その後電気化学的あるいは化学的エッチング処理したの
ち、電解コンデンサ用電極材として使用する。
その後電気化学的あるいは化学的エッチング処理したの
ち、電解コンデンサ用電極材として使用する。
【００１３】なおこの発明に用いるアルミニウム箔は、
その製造工程についてはこれを限定するものではなく、
圧延工程の途中において中間焼鈍されたものであっても
良い。
その製造工程についてはこれを限定するものではなく、
圧延工程の途中において中間焼鈍されたものであっても
良い。
【００１４】
【作用】レーザーあるいはプラズマを照射し、その熱エ
ネルギーを利用して表面層除去後のアルミニウム箔の新
たな表面に酸化皮膜を形成するから、従来の雰囲気加熱
による場合に較べて均一厚さの酸化皮膜が短時間で形成
される。
ネルギーを利用して表面層除去後のアルミニウム箔の新
たな表面に酸化皮膜を形成するから、従来の雰囲気加熱
による場合に較べて均一厚さの酸化皮膜が短時間で形成
される。
【００１５】また、表面層の除去処理を乾式法にて行う
場合には、表面層の除去厚さも均一になるから、酸化皮
膜の厚さのバラツキが益々抑制されるとともに、処理時
間がさらに短縮される。
場合には、表面層の除去厚さも均一になるから、酸化皮
膜の厚さのバラツキが益々抑制されるとともに、処理時
間がさらに短縮される。
【００１６】
【実施例】Ａｌ純度９９．９９％、厚さ１００μｍのア
ルミニウム箔を複数枚用意した。そして、表１に示す条
件で、アルミニウム箔の表面層除去処理と酸化皮膜形成
工程を実施した。そのときの表面層の除去厚さ、アルミ
ニウム箔の温度、酸化皮膜の厚さ等は表２のとおりであ
った。なお酸化皮膜の厚さは以下の条件に従うハンター
ホール法により測定した。
ルミニウム箔を複数枚用意した。そして、表１に示す条
件で、アルミニウム箔の表面層除去処理と酸化皮膜形成
工程を実施した。そのときの表面層の除去厚さ、アルミ
ニウム箔の温度、酸化皮膜の厚さ等は表２のとおりであ
った。なお酸化皮膜の厚さは以下の条件に従うハンター
ホール法により測定した。
【００１７】次に上記各アルミニウム箔につき、１０-4
Ｔｏｒｒ真空中で５２０℃×１時間の高温加熱処理を実
施したのち、箔表面の酸化皮膜の合計厚さを前記と同じ
くハンターホール法により測定したところ、第２表に示
すとおりであった。
Ｔｏｒｒ真空中で５２０℃×１時間の高温加熱処理を実
施したのち、箔表面の酸化皮膜の合計厚さを前記と同じ
くハンターホール法により測定したところ、第２表に示
すとおりであった。
【００１８】上記により得た各アルミニウム材料を、３
％塩酸水溶液（８５℃）中で電流密度を直流１０Ａ／ｄ
ｍ2 とし、３分間電解エッチング処理したのち、さらに
同じ液で１０分間化学エッチング処理した。そして、そ
の後５％硼酸浴中で３５０Ｖに化成処理したのち、各材
料の静電容量を測定した。その結果を併せて表２に示
す。
％塩酸水溶液（８５℃）中で電流密度を直流１０Ａ／ｄ
ｍ2 とし、３分間電解エッチング処理したのち、さらに
同じ液で１０分間化学エッチング処理した。そして、そ
の後５％硼酸浴中で３５０Ｖに化成処理したのち、各材
料の静電容量を測定した。その結果を併せて表２に示
す。
【００１９】
【表１】
【表２】 本発明によれば、酸化皮膜の厚さが全体においてほぼ均
一化されているものと推測され、このため多数のエッチ
ングピットを形成しえ密度の大きいエッチング状態とな
っているため、大きな静電容量を有するものであった。
一化されているものと推測され、このため多数のエッチ
ングピットを形成しえ密度の大きいエッチング状態とな
っているため、大きな静電容量を有するものであった。
【００２０】
【発明の効果】この発明は上述の次第で、アルミニウム
箔の表面層を除去したのち、アルミニウム箔の表面にレ
ーザーあるいはプラズマを照射することにより、厚さ５
〜５０オングストロームの酸化皮膜を形成するから、従
来の雰囲気加熱による場合に較べて、雰囲気条件に大き
く左右されることなく、均一厚さの酸化皮膜を短時間で
形成することができる。このため、生産時間の短縮、生
産効率の向上を図ることができるのみならず、その後に
酸化皮膜の合計厚さが７０オングストロームを超えない
範囲で高温加熱することとも相俟って、エッチング性能
に優れ多数のエッチングピットを形成しえて拡面率ひい
ては静電容量の大きな電解コンデンサ電極材を確実にか
つ安定して提供することができる。
箔の表面層を除去したのち、アルミニウム箔の表面にレ
ーザーあるいはプラズマを照射することにより、厚さ５
〜５０オングストロームの酸化皮膜を形成するから、従
来の雰囲気加熱による場合に較べて、雰囲気条件に大き
く左右されることなく、均一厚さの酸化皮膜を短時間で
形成することができる。このため、生産時間の短縮、生
産効率の向上を図ることができるのみならず、その後に
酸化皮膜の合計厚さが７０オングストロームを超えない
範囲で高温加熱することとも相俟って、エッチング性能
に優れ多数のエッチングピットを形成しえて拡面率ひい
ては静電容量の大きな電解コンデンサ電極材を確実にか
つ安定して提供することができる。
【００２１】また、表面層の除去処理をレーザー加工等
の乾式法により行った場合には、酸化皮膜の厚さのバラ
ツキを益々抑制できるとともに、処理時間をさらに短縮
できる。
の乾式法により行った場合には、酸化皮膜の厚さのバラ
ツキを益々抑制できるとともに、処理時間をさらに短縮
できる。
フロントページの続き (72)発明者 榎本 正敏 大阪府堺市海山町６丁224番地 昭和アル ミニウム株式会社内 (72)発明者 礒山 永三 大阪府堺市海山町６丁224番地 昭和アル ミニウム株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 アルミニウム箔の表面層を除去する工程
と、 除去したアルミニウム箔の表面にレーザーあるいはプラ
ズマを照射することにより、厚さ５〜５０オングストロ
ームの酸化皮膜を形成する工程と、 その後酸化皮膜の合計厚さが７０オングストロームを超
えない範囲で高温加熱する工程とを実施することを特徴
とする電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方
法。 - 【請求項２】 アルミニウム箔の表面層の除去を、レー
ザー加工等の乾式法により行う請求項１に記載の電解コ
ンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29042092A JPH06136495A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29042092A JPH06136495A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06136495A true JPH06136495A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=17755803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29042092A Pending JPH06136495A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 電解コンデンサ電極用アルミニウム材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06136495A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007043424A1 (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-19 | Koganei Corporation | 変位検出器を備えた流体圧駆動機器 |
| JP2008045190A (ja) * | 2006-08-21 | 2008-02-28 | Showa Denko Kk | 弁作用金属材料の酸化皮膜形成方法 |
| CN113782711A (zh) * | 2020-05-08 | 2021-12-10 | 德国安海公司 | 用于锂离子蓄电池的电极的承载膜的无接触处理 |
| CN116426850A (zh) * | 2023-03-17 | 2023-07-14 | 广西广投正润新材料科技有限公司 | 一种基于微波等离子体烧结制备高立方织构占有率电子铝箔的方法 |
-
1992
- 1992-10-28 JP JP29042092A patent/JPH06136495A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007043424A1 (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-19 | Koganei Corporation | 変位検出器を備えた流体圧駆動機器 |
| JP2007107574A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Koganei Corp | 変位検出器を備えた流体圧駆動機器 |
| JP2008045190A (ja) * | 2006-08-21 | 2008-02-28 | Showa Denko Kk | 弁作用金属材料の酸化皮膜形成方法 |
| CN113782711A (zh) * | 2020-05-08 | 2021-12-10 | 德国安海公司 | 用于锂离子蓄电池的电极的承载膜的无接触处理 |
| CN116426850A (zh) * | 2023-03-17 | 2023-07-14 | 广西广投正润新材料科技有限公司 | 一种基于微波等离子体烧结制备高立方织构占有率电子铝箔的方法 |
| CN116426850B (zh) * | 2023-03-17 | 2023-10-27 | 广西广投正润新材料科技有限公司 | 一种基于微波等离子体烧结制备高立方织构占有率电子铝箔的方法 |
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