JPH06139634A - 光磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH06139634A JPH06139634A JP29003492A JP29003492A JPH06139634A JP H06139634 A JPH06139634 A JP H06139634A JP 29003492 A JP29003492 A JP 29003492A JP 29003492 A JP29003492 A JP 29003492A JP H06139634 A JPH06139634 A JP H06139634A
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- optical recording
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の問題である磁気ヘッドとの接触による
摩耗または吸着、樹脂層表面の突起状欠陥、有機保護層
の厚みムラなどによるトラブルを解決した光磁気記録媒
体の製造方法を提供する。 【構成】 透明基板上に記録層、有機樹脂層を形成した
光磁気記録媒体において、記録層が形成されている面
に、フィラーを分散した樹脂を、微少凹凸をつけた板で
密着せしめ、前記樹脂を硬化後、前記板を剥離する、ま
たは樹脂を均一にコートして前記樹脂上に微細凹凸を有
するフレキシブルな型を重ね、前記樹脂を硬化させた後
に前記型を剥離することにより有機保護層を形成するこ
とを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
摩耗または吸着、樹脂層表面の突起状欠陥、有機保護層
の厚みムラなどによるトラブルを解決した光磁気記録媒
体の製造方法を提供する。 【構成】 透明基板上に記録層、有機樹脂層を形成した
光磁気記録媒体において、記録層が形成されている面
に、フィラーを分散した樹脂を、微少凹凸をつけた板で
密着せしめ、前記樹脂を硬化後、前記板を剥離する、ま
たは樹脂を均一にコートして前記樹脂上に微細凹凸を有
するフレキシブルな型を重ね、前記樹脂を硬化させた後
に前記型を剥離することにより有機保護層を形成するこ
とを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザーと磁気ヘッド
を用いて磁界変調記録を行う光磁気記録媒体の製造方法
に関する。
を用いて磁界変調記録を行う光磁気記録媒体の製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、書き換え可能を特徴とする光磁気
ディスクが上市され、コンピューターのコード情報や画
像などのデーターファイルとして応用されつつある。し
かしながら、これらの製品は、永久磁石を用いた光変調
方式を採用している為に、情報の重ね書きが困難であ
り、あらかじめ消去を行ってから記録を行うという２つ
の過程が必要で、書き込み処理に時間がかかりすぎると
いう問題があった。
ディスクが上市され、コンピューターのコード情報や画
像などのデーターファイルとして応用されつつある。し
かしながら、これらの製品は、永久磁石を用いた光変調
方式を採用している為に、情報の重ね書きが困難であ
り、あらかじめ消去を行ってから記録を行うという２つ
の過程が必要で、書き込み処理に時間がかかりすぎると
いう問題があった。
【０００３】そこで、余分な消去過程の不用なオーバー
ライトを実現する手段として、磁界変調記録方式が検討
されている。この磁界変調記録方式は、ディスク媒体を
はさんでレーザーと対向する位置に浮上式の磁気ヘッド
を設けてバイアス磁界の向きを高速でスイッチングさせ
ると同時に、レーザー照射することによりオーバーライ
トを実現する方法であり、光磁気記録媒体のパフォーマ
ンスをより向上させる有効な手段である。
ライトを実現する手段として、磁界変調記録方式が検討
されている。この磁界変調記録方式は、ディスク媒体を
はさんでレーザーと対向する位置に浮上式の磁気ヘッド
を設けてバイアス磁界の向きを高速でスイッチングさせ
ると同時に、レーザー照射することによりオーバーライ
トを実現する方法であり、光磁気記録媒体のパフォーマ
ンスをより向上させる有効な手段である。
【０００４】しかしながら、ディスク媒体停止時に磁気
ヘッドを媒体面上に接触させ、回転開始時にヘッドを浮
上させるＣＳＳ（Contact Start, Stop の略）方式を採
用する場合、ディスク媒体の有機保護層と磁気ヘッドが
フラットな面同志で接触すると吸着してしまい、ヘッド
にダメージを与えたり、又、有機保護層の摩耗が進行
し、ヘッドクラッシュをきたすという問題点がある。
ヘッドを媒体面上に接触させ、回転開始時にヘッドを浮
上させるＣＳＳ（Contact Start, Stop の略）方式を採
用する場合、ディスク媒体の有機保護層と磁気ヘッドが
フラットな面同志で接触すると吸着してしまい、ヘッド
にダメージを与えたり、又、有機保護層の摩耗が進行
し、ヘッドクラッシュをきたすという問題点がある。
【０００５】上述した問題点を防ぐ方法としては、有機
樹脂に金属や合金などのフィラーを分散させて、媒体上
にスピンコートして有機保護層を形成する方法が提案さ
れている（特開平２−１５４３４７）。
樹脂に金属や合金などのフィラーを分散させて、媒体上
にスピンコートして有機保護層を形成する方法が提案さ
れている（特開平２−１５４３４７）。
【０００６】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、従
来提案されているフィラーを分散させた樹脂を使ってス
ピンコートにより有機保護層を形成する方法では、以下
に述べる様な問題がある事が確認された。
来提案されているフィラーを分散させた樹脂を使ってス
ピンコートにより有機保護層を形成する方法では、以下
に述べる様な問題がある事が確認された。
【０００７】（１）スピンコートした後、有機樹脂層に
紫外線を照射して硬化させても、樹脂層表面は酸素によ
る硬化阻害を受け半硬化状態の為、使っているうちに浮
上ヘッドのスライダー部分に半硬化物が移着してしま
い、ヘッドが浮上しにくくなり、時々スライダー部分を
クリーニングしないと使えないという問題が発生した。 （２）記録層成膜後、膜面上に付着した異物が除去され
ぬまま、樹脂をスピンコートすると、図10に示すように
樹脂層表面が異物にならって突起状に出っ張り、程度の
悪い物はスライダーの浮上量よりも出っ張る為、ヘッド
クラッシュの原因となっていた。
紫外線を照射して硬化させても、樹脂層表面は酸素によ
る硬化阻害を受け半硬化状態の為、使っているうちに浮
上ヘッドのスライダー部分に半硬化物が移着してしま
い、ヘッドが浮上しにくくなり、時々スライダー部分を
クリーニングしないと使えないという問題が発生した。 （２）記録層成膜後、膜面上に付着した異物が除去され
ぬまま、樹脂をスピンコートすると、図10に示すように
樹脂層表面が異物にならって突起状に出っ張り、程度の
悪い物はスライダーの浮上量よりも出っ張る為、ヘッド
クラッシュの原因となっていた。
【０００８】（３）充分に表面を粗すことが難しく通常
環境では問題とならないが、高湿環境下ではヘッドの吸
着が発生する。
環境では問題とならないが、高湿環境下ではヘッドの吸
着が発生する。
【０００９】本発明は、上記従来の技術の有する問題に
鑑みてなされたもので、媒体と磁気ヘッドとの接触によ
る摩耗または吸着、異物混入などによる樹脂層表面の突
起状欠陥を生じない光磁気記録媒体の製造方法を提供す
ることを目的とする。
鑑みてなされたもので、媒体と磁気ヘッドとの接触によ
る摩耗または吸着、異物混入などによる樹脂層表面の突
起状欠陥を生じない光磁気記録媒体の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、第１に基板上
の記録層が形成されている面にフィラーを分散した樹脂
を表面に均一で微小な凹凸を付けた板で押しつけて密着
し、前記記録樹脂を硬化させた後に前記板を剥離するこ
とを特徴としている。
の記録層が形成されている面にフィラーを分散した樹脂
を表面に均一で微小な凹凸を付けた板で押しつけて密着
し、前記記録樹脂を硬化させた後に前記板を剥離するこ
とを特徴としている。
【００１１】フィラーとしては、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ
3 ）、窒化アルミ（ＡｌＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、
シリカ（ＳｉＯ2 ）、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化ケイ素
（Ｓｉ 3 Ｎ4 ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）、酸化
クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）などが
あげられる。含有率は５ｗｔ％以上５０ｗｔ％以下であ
れば良く、これ以下だと硬さが不充分であり、５０ｗｔ
％以上だと保護層の密着性が低下する。
3 ）、窒化アルミ（ＡｌＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、
シリカ（ＳｉＯ2 ）、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化ケイ素
（Ｓｉ 3 Ｎ4 ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）、酸化
クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）などが
あげられる。含有率は５ｗｔ％以上５０ｗｔ％以下であ
れば良く、これ以下だと硬さが不充分であり、５０ｗｔ
％以上だと保護層の密着性が低下する。
【００１２】又、凹凸を施した板の表面粗さは、中心線
平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ〜０．５μｍの範囲であ
れば良く、これ以下だとスライダーとの吸着が発生しや
すく、これ以上だと浮上ヘッドの浮上が安定しない。
尚、板の表面を粗す方法としては、ベルト研削法、バレ
ル法、ブラスト法、バフ法、ブラシ法、化学エッチング
法などが使用できるが、均一に凹凸を付けるということ
でブラスト法と化学エッチング法がすぐれている。
平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ〜０．５μｍの範囲であ
れば良く、これ以下だとスライダーとの吸着が発生しや
すく、これ以上だと浮上ヘッドの浮上が安定しない。
尚、板の表面を粗す方法としては、ベルト研削法、バレ
ル法、ブラスト法、バフ法、ブラシ法、化学エッチング
法などが使用できるが、均一に凹凸を付けるということ
でブラスト法と化学エッチング法がすぐれている。
【００１３】又、有機樹脂層に使用する樹脂は、エポキ
シ、ウレタン、シリコーン、アクリル系等の一般的な物
が使用可能であるが、熱硬化タイプに比べると紫外線硬
化樹脂のほうが、加熱の必要もなく、短時間で硬化する
為すぐれている。
シ、ウレタン、シリコーン、アクリル系等の一般的な物
が使用可能であるが、熱硬化タイプに比べると紫外線硬
化樹脂のほうが、加熱の必要もなく、短時間で硬化する
為すぐれている。
【００１４】第２に、 i)少なくとも記録層が形成されている基板上に有機樹脂
を均一にコートする ii) 該有機樹脂上に表面に微細な凹凸が形成されている
フレキシブルな型を気泡が混入しないように重ね合わせ
る iii)有機樹脂を硬化させる iv) 該フレキシブルな型を記録媒体から剥離する方法を
特徴とし、フレキシブルな型を使用している為、第１の
方法よりも保護層の厚さムラが減少する。特にフレキシ
ブルな型を重ね合わせた後、有機樹脂のレベリング工程
を導入した場合には、保護膜の厚さムラがさらに減少す
る。
を均一にコートする ii) 該有機樹脂上に表面に微細な凹凸が形成されている
フレキシブルな型を気泡が混入しないように重ね合わせ
る iii)有機樹脂を硬化させる iv) 該フレキシブルな型を記録媒体から剥離する方法を
特徴とし、フレキシブルな型を使用している為、第１の
方法よりも保護層の厚さムラが減少する。特にフレキシ
ブルな型を重ね合わせた後、有機樹脂のレベリング工程
を導入した場合には、保護膜の厚さムラがさらに減少す
る。
【００１５】本発明に使用できるフレキシブルな型とし
ては、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、
ポリエチレン、ナイロン、ポリスチレンなどのフィルム
の表面に微細な凹凸を付けた物が使用できる。又、これ
らのフィルムのうち２軸延伸法により形成された物は、
樹脂を硬化させる時に熱がかかる様な場合には特にすぐ
れている。又、フィルムの厚さは特にこだわらないが、
扱いやすさ、コストの関係より３０〜１００μｍの範囲
の物であれば良い。又、型の表面粗さは、中心線平均粗
さ（Ｒａ）が０．１〜０．５μｍの範囲であれば良く、
これ以下だとスライダーとの吸着が発生しやすく、これ
以上だと浮上ヘッドの浮上量が安定しない。
ては、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、
ポリエチレン、ナイロン、ポリスチレンなどのフィルム
の表面に微細な凹凸を付けた物が使用できる。又、これ
らのフィルムのうち２軸延伸法により形成された物は、
樹脂を硬化させる時に熱がかかる様な場合には特にすぐ
れている。又、フィルムの厚さは特にこだわらないが、
扱いやすさ、コストの関係より３０〜１００μｍの範囲
の物であれば良い。又、型の表面粗さは、中心線平均粗
さ（Ｒａ）が０．１〜０．５μｍの範囲であれば良く、
これ以下だとスライダーとの吸着が発生しやすく、これ
以上だと浮上ヘッドの浮上量が安定しない。
【００１６】尚、本発明に使用できる有機樹脂は、紫外
線硬化、加熱硬化、室温硬化など、各タイプのコート剤
が使用できるが、加熱硬化タイプは加熱時の熱により媒
体が反る心配がある。又室温硬化タイプは硬化するのに
時間がかかり不便である。それに比べ紫外線硬化タイプ
であれば、短時間で熱もかからず硬化できる為、型に使
用しているフィルムが変形する心配もなく、すぐれてい
る。
線硬化、加熱硬化、室温硬化など、各タイプのコート剤
が使用できるが、加熱硬化タイプは加熱時の熱により媒
体が反る心配がある。又室温硬化タイプは硬化するのに
時間がかかり不便である。それに比べ紫外線硬化タイプ
であれば、短時間で熱もかからず硬化できる為、型に使
用しているフィルムが変形する心配もなく、すぐれてい
る。
【００１７】又、媒体上に有機樹脂を均一にコートする
方法としては、スピンコート、スプレーコート、ロール
コート等、樹脂を均一にコートできる物であれば良い
が、ディスク等の場合、中心穴がある為、スプレーやロ
ールコートではマスクの必要性が出てくる。よってスピ
ンコートが最もすぐれている。
方法としては、スピンコート、スプレーコート、ロール
コート等、樹脂を均一にコートできる物であれば良い
が、ディスク等の場合、中心穴がある為、スプレーやロ
ールコートではマスクの必要性が出てくる。よってスピ
ンコートが最もすぐれている。
【００１８】又、レベリング工程を導入する場合には、
樹脂の粘度やフレキシブルな型の剛性によっても左右さ
れるが、３０〜１２０秒が良い。これ以上短いとレベリ
ングの効果が少なく、これ以上長くても効果に差が見ら
れない。
樹脂の粘度やフレキシブルな型の剛性によっても左右さ
れるが、３０〜１２０秒が良い。これ以上短いとレベリ
ングの効果が少なく、これ以上長くても効果に差が見ら
れない。
【００１９】第３に、 i)少なくとも記録層が形成されている基板上に、有機樹
脂を均一にコートする ii) コートしたサンプルのおかれている雰囲気を負圧に
する iii)負圧状態のまま、該有機樹脂上に表面に微細な凹凸
が形成されているフレキシブルな型を重ね合わせる IV)有機樹脂を硬化させる V)該フレキシブルな型を光磁気記録媒体から剥離する ことを特徴とする方式により第２の方法の気泡の混入に
よる歩留りを改善したものである。
脂を均一にコートする ii) コートしたサンプルのおかれている雰囲気を負圧に
する iii)負圧状態のまま、該有機樹脂上に表面に微細な凹凸
が形成されているフレキシブルな型を重ね合わせる IV)有機樹脂を硬化させる V)該フレキシブルな型を光磁気記録媒体から剥離する ことを特徴とする方式により第２の方法の気泡の混入に
よる歩留りを改善したものである。
【００２０】本発明に利用できる、負圧の範囲としては
基本的には９．８×１０4 Ｐａ未満であれば良いが特に
すぐれているのは７×１０4 Ｐａ以下である。これ以上
では気泡混入効果がうすい。
基本的には９．８×１０4 Ｐａ未満であれば良いが特に
すぐれているのは７×１０4 Ｐａ以下である。これ以上
では気泡混入効果がうすい。
【００２１】使用するフレキシブルな型、型の表面粗
さ、有機樹脂のタイプは、前記第２の場合と同様であ
る。
さ、有機樹脂のタイプは、前記第２の場合と同様であ
る。
【００２２】
【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
る。
る。
【００２３】実施例１ 図１は本発明の実施例における光磁気記録媒体の製造方
法を示したものである。図１−ａ）は直径８６ｍｍのポ
リカーボネート基板１上にスパッタ装置を用いてＳｉ3
Ｎ4 の下地層２、ＴｂＦｅＣｏの記録層３、Ｓｉ3 Ｎ4
の干渉層４、Ａｌの反射層５を順次形成した状態であ
る。次にｂ）はウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂
６にＡｌ2 Ｏ3 のフィラー（住友化学工業（株）製ＡＫ
Ｐ−１０）７を２０ｗｔ％分散させた液を同心円状に供
給し、１．２ｍｍ厚のガラス板の表面をブラスト処理に
より中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍに粗した板８
を押しつけようとしている状態である。ｃ）はガラス板
８を樹脂６に気泡が入らない様に押しつけて密着させ、
紫外線２０により樹脂６を硬化させている状態である。
次にｄ）は樹脂６が硬化後、ガラス板８を剥離させ、有
機保護層１０を形成した状態で本発明による製造方法に
より作成された光磁気記録媒体である。
法を示したものである。図１−ａ）は直径８６ｍｍのポ
リカーボネート基板１上にスパッタ装置を用いてＳｉ3
Ｎ4 の下地層２、ＴｂＦｅＣｏの記録層３、Ｓｉ3 Ｎ4
の干渉層４、Ａｌの反射層５を順次形成した状態であ
る。次にｂ）はウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂
６にＡｌ2 Ｏ3 のフィラー（住友化学工業（株）製ＡＫ
Ｐ−１０）７を２０ｗｔ％分散させた液を同心円状に供
給し、１．２ｍｍ厚のガラス板の表面をブラスト処理に
より中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍに粗した板８
を押しつけようとしている状態である。ｃ）はガラス板
８を樹脂６に気泡が入らない様に押しつけて密着させ、
紫外線２０により樹脂６を硬化させている状態である。
次にｄ）は樹脂６が硬化後、ガラス板８を剥離させ、有
機保護層１０を形成した状態で本発明による製造方法に
より作成された光磁気記録媒体である。
【００２４】比較例 図６〜図８までに従来の光磁気記録媒体を比較例として
示す。
示す。
【００２５】比較例１ 図６はＡｌ2 Ｏ3 のフィラー７が入っていない樹脂６を
使用して有機保護層１６ａを形成した以外は実施例１と
同様に作成した光磁気記録媒体である。
使用して有機保護層１６ａを形成した以外は実施例１と
同様に作成した光磁気記録媒体である。
【００２６】比較例２ 図７は有機保護層１６ｂをスピンナーにより形成した以
外は実施例１と同様に作成した光磁気記録媒体である。
外は実施例１と同様に作成した光磁気記録媒体である。
【００２７】比較例３ 図８はガラス板８の代わりに表面のフラットなガラス板
８’を使用した以外は実施例１と同様に作成した光磁気
記録媒体である。
８’を使用した以外は実施例１と同様に作成した光磁気
記録媒体である。
【００２８】この様に作成した光磁気記録媒体４種（図
１−ｄ）、図６、図７、図８）を使ってＣＳＳ試験、
スライダーとの吸着性、異物による有機保護層表面
の突起状欠陥の数（図１０参照）について評価を行った
結果を表１に示す。
１−ｄ）、図６、図７、図８）を使ってＣＳＳ試験、
スライダーとの吸着性、異物による有機保護層表面
の突起状欠陥の数（図１０参照）について評価を行った
結果を表１に示す。
【００２９】
【表１】 表１の結果からわかる様に、有機保護膜にＡｌ2 Ｏ3 が
分散されていない比較例１のサンプルは、ヘッドとの接
触による摩耗がはげしく、ヘッドクラッシュの発生が心
配される。又、有機保護膜をスピンコートにより作成し
た比較例２は、酸素による硬化阻害を受ける為、表面付
近が半硬化状態であり、浮上ヘッドとの接触によりスラ
イダー部に半硬化物が移着する。又、図１０に示すよう
に、異物１８があると保護層１６の厚さよりも薄い異物
１８でも、本発明（図５参照）に比べてコート層表面に
突起１９が発生しやすいことがわかる。この突起がヘッ
ドの浮上量よりも高いとヘッドクラッシュの原因とな
る。次にフラットな板を押しつけて硬化させた比較例３
は、有機保護層表面がフラットな為、スライダーのフラ
ット面との接触により吸着を起こす問題が発生した。そ
れに比べ本発明による実施例のサンプルは、従来の製造
方法により作成した光磁気ディスクの問題点をすべて解
決でき、問題のないことがわかる。
分散されていない比較例１のサンプルは、ヘッドとの接
触による摩耗がはげしく、ヘッドクラッシュの発生が心
配される。又、有機保護膜をスピンコートにより作成し
た比較例２は、酸素による硬化阻害を受ける為、表面付
近が半硬化状態であり、浮上ヘッドとの接触によりスラ
イダー部に半硬化物が移着する。又、図１０に示すよう
に、異物１８があると保護層１６の厚さよりも薄い異物
１８でも、本発明（図５参照）に比べてコート層表面に
突起１９が発生しやすいことがわかる。この突起がヘッ
ドの浮上量よりも高いとヘッドクラッシュの原因とな
る。次にフラットな板を押しつけて硬化させた比較例３
は、有機保護層表面がフラットな為、スライダーのフラ
ット面との接触により吸着を起こす問題が発生した。そ
れに比べ本発明による実施例のサンプルは、従来の製造
方法により作成した光磁気ディスクの問題点をすべて解
決でき、問題のないことがわかる。
【００３０】実施例２ 図２は本発明の第２の方法による実施例における光磁気
記録媒体の製造方法を示したものである。図２−ａ）は
直径８６ｍｍのポリカーボネート基板１上にスパッタ装
置を用いてＳｉ3 Ｎ4 の下引き層２、ＴｂＦｅＣｏの記
録層３、Ｓｉ3Ｎ4 の干渉層４、Ａｌの反射層５を順次
形成した状態である。
記録媒体の製造方法を示したものである。図２−ａ）は
直径８６ｍｍのポリカーボネート基板１上にスパッタ装
置を用いてＳｉ3 Ｎ4 の下引き層２、ＴｂＦｅＣｏの記
録層３、Ｓｉ3Ｎ4 の干渉層４、Ａｌの反射層５を順次
形成した状態である。
【００３１】次に図２−ｂ）はウレタンアクリレート系
の紫外線硬化樹脂６をスピンナーにより約１０μｍの厚
さにコートした状態である。次に図２−ｃ）は１００μ
ｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム表面を荒し
たフレキシブルな型９を樹脂層６に気泡が入らない様に
重ね合せた状態である。次に図２−ｄ）は表面にフィル
ムを載せた状態のまま、紫外線硬化用の紫外線２０を当
て樹脂層６を硬化させている状態である。次に図２−
ｅ）は樹脂層６硬化後に型９を剥離して、媒体表面に微
細な凹凸の付いた有機保護層１０を形成した状態であ
る。
の紫外線硬化樹脂６をスピンナーにより約１０μｍの厚
さにコートした状態である。次に図２−ｃ）は１００μ
ｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム表面を荒し
たフレキシブルな型９を樹脂層６に気泡が入らない様に
重ね合せた状態である。次に図２−ｄ）は表面にフィル
ムを載せた状態のまま、紫外線硬化用の紫外線２０を当
て樹脂層６を硬化させている状態である。次に図２−
ｅ）は樹脂層６硬化後に型９を剥離して、媒体表面に微
細な凹凸の付いた有機保護層１０を形成した状態であ
る。
【００３２】実施例３ 図２−ｃ）とｄ）の間に樹脂層のレベリングの為に６０
ｓｅｃ間静置した以外は実施例２と同様にサンプルを作
成した。
ｓｅｃ間静置した以外は実施例２と同様にサンプルを作
成した。
【００３３】実施例４ 型９の代わりにフィルムの両面に凹凸をほどこしたフレ
キシブルな型９’を使用した以外は実施例２と同様にサ
ンプルを作成した。
キシブルな型９’を使用した以外は実施例２と同様にサ
ンプルを作成した。
【００３４】比較例４ 実施例２の図２−ａ）の状態から紫外線硬化樹脂６を同
芯円状に供給し、ガラス板の片面に実施例と同様の凹凸
を施したガラス型１７を重ね、媒体面全体に樹脂６が拡
がった後紫外線を照射して樹脂を硬化させた後、ガラス
型１７を剥離して媒体を作成した（図９参照）。
芯円状に供給し、ガラス板の片面に実施例と同様の凹凸
を施したガラス型１７を重ね、媒体面全体に樹脂６が拡
がった後紫外線を照射して樹脂を硬化させた後、ガラス
型１７を剥離して媒体を作成した（図９参照）。
【００３５】比較例５ 実施例２の図２−ａ）の状態から紫外線硬化樹脂６にア
ルミナの微粒子（フィラー）７を２０ｗｔ％分散させた
物をスピンナーで１０μｍの厚さにコートし紫外線を照
射して樹脂６を硬化させることにより媒体を作成した
（図８参照）。
ルミナの微粒子（フィラー）７を２０ｗｔ％分散させた
物をスピンナーで１０μｍの厚さにコートし紫外線を照
射して樹脂６を硬化させることにより媒体を作成した
（図８参照）。
【００３６】以上のように作成した媒体の有機保護層の
厚さムラ、及びスライダーとの吸着性に関して評価した
結果を表２に示す。
厚さムラ、及びスライダーとの吸着性に関して評価した
結果を表２に示す。
【００３７】
【表２】 実施例５ 図３および図４は本発明の第３の方法による実施例にお
ける光磁気記録媒体の製造方法を示したものである。図
３−ａ）は直径８６ｍｍのポリカーボネート基板１上に
スパッタ装置を用いてＳｉ3 Ｎ4 の下引き層２、ＴｂＦ
ｅＣｏの記録層３、Ｓｉ3 Ｎ4 の干渉層４、Ａｌの反射
層５を順次形成した状態である。
ける光磁気記録媒体の製造方法を示したものである。図
３−ａ）は直径８６ｍｍのポリカーボネート基板１上に
スパッタ装置を用いてＳｉ3 Ｎ4 の下引き層２、ＴｂＦ
ｅＣｏの記録層３、Ｓｉ3 Ｎ4 の干渉層４、Ａｌの反射
層５を順次形成した状態である。
【００３８】次に図３−ｂ）はウレタンアクリレート系
の紫外線硬化樹脂６をスピンナーにより約１０μｍの厚
さにコートした状態である。次に図３−ｃ）はコートサ
ンプル（樹脂をコートした記録媒体）１１を耐圧容器１
２に入れ、容器内の圧力を真空ポンプにて７×１０4 Ｐ
ａまで下げている状態である。ここで１５は表面を粗し
たポリエチレンテレフタレートフィルムの型、１３はフ
ィルムを巻いているロール、１４はカッターである。図
３−ｄ）は耐圧容器１２内の圧力が所定の値まで下がっ
た後、ロール１３を少しずつゆるめて樹脂コート済の媒
体１１にフィルム１５を重ね合せている状態である。図
４−ｅ）は媒体１１全面にフィルム１５が重なった後、
カッター１４によりフィルム１５を切断している状態で
ある。図４−ｆ）は耐圧容器から取り出した媒体に紫外
線ランプ１２により紫外線２０を照射し、樹脂を硬化さ
せている状態である。図４−ｇ）はフィルム１５を剥離
し表面に微小な凹凸の付いた有機保護層１０を形成した
状態である。
の紫外線硬化樹脂６をスピンナーにより約１０μｍの厚
さにコートした状態である。次に図３−ｃ）はコートサ
ンプル（樹脂をコートした記録媒体）１１を耐圧容器１
２に入れ、容器内の圧力を真空ポンプにて７×１０4 Ｐ
ａまで下げている状態である。ここで１５は表面を粗し
たポリエチレンテレフタレートフィルムの型、１３はフ
ィルムを巻いているロール、１４はカッターである。図
３−ｄ）は耐圧容器１２内の圧力が所定の値まで下がっ
た後、ロール１３を少しずつゆるめて樹脂コート済の媒
体１１にフィルム１５を重ね合せている状態である。図
４−ｅ）は媒体１１全面にフィルム１５が重なった後、
カッター１４によりフィルム１５を切断している状態で
ある。図４−ｆ）は耐圧容器から取り出した媒体に紫外
線ランプ１２により紫外線２０を照射し、樹脂を硬化さ
せている状態である。図４−ｇ）はフィルム１５を剥離
し表面に微小な凹凸の付いた有機保護層１０を形成した
状態である。
【００３９】実施例６ 耐圧容器内の圧力を５×１０4 Ｐａまで下げた以外は実
施例５と同様にサンプルを作成した。
施例５と同様にサンプルを作成した。
【００４０】実施例７ 耐圧容器内の圧力を９×１０4 Ｐａまで下げた以外は実
施例５と同様にサンプルを作成した。
施例５と同様にサンプルを作成した。
【００４１】比較例６ 槽内の雰囲気を負圧にすることなくフレキシブルな型を
重ね合せた以外は実施例と同様にサンプルを作成した。
重ね合せた以外は実施例と同様にサンプルを作成した。
【００４２】以上の方法で各１００枚づつサンプルを作
成し、有機保護層への気泡混入の有無を評価した結果を
表３に示す。
成し、有機保護層への気泡混入の有無を評価した結果を
表３に示す。
【００４３】
【表３】
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば以
下のことを解消、防止する効果を奏する。
下のことを解消、防止する効果を奏する。
【００４５】浮上ヘッドとの接触による摩耗や吸着、有
機保護層の厚さムラをなくし、これによって生じるトラ
ブル、有機保護層への気泡混入。
機保護層の厚さムラをなくし、これによって生じるトラ
ブル、有機保護層への気泡混入。
【００４６】以上に加えて、特に第１の手段によれば浮
上ヘッドのスライダー部分への半硬化物の移着によって
発生するヘッドが浮上し難くなるトラブルを排除、第２
の手段では有機保護層の厚さムラや、第３の手段では気
泡混入排除に格段の効果がある。
上ヘッドのスライダー部分への半硬化物の移着によって
発生するヘッドが浮上し難くなるトラブルを排除、第２
の手段では有機保護層の厚さムラや、第３の手段では気
泡混入排除に格段の効果がある。
【図１】本発明の光磁気記録媒体の製造方法を示した断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の光磁気記録媒体の製造方法を示した断
面図である。
面図である。
【図３】本発明の光磁気記録媒体の製造方法を示した断
面図である。
面図である。
【図４】本発明の光磁気記録媒体の製造方法を示した断
面図である。
面図である。
【図５】本発明の製造方法により作成した光磁気記録媒
体の部分断面図である。
体の部分断面図である。
【図６】従来の製造方法により作成した光磁気記録媒体
の断面図である。
の断面図である。
【図７】従来の製造方法により作成した光磁気記録媒体
の断面図である。
の断面図である。
【図８】従来の製造方法により作成した光磁気記録媒体
の断面図である。
の断面図である。
【図９】従来の光磁気媒体の断面図である。
【図１０】スピンコート法により作成した光磁気記録媒
体の部分断面図である。
体の部分断面図である。
１ 基板 ２ 下地層 ３ 記録層 ４ 干渉層 ５ 反射層 ６ 紫外線硬化樹脂 ７ フィラー ８ 微少凹凸を施した板 ９ フレキシブルな型 １０ 本発明の有機保護層 １１ 樹脂をコートした記録媒体 １２ 耐圧容器 １３ ロール １４ カッター １５ 微少な凹凸のついたフィルム １６，１６ａ，１６ｂ，１６ｃ 従来の有機保護層 １７ ガラス製の型 １８ 異物 １９ 突起 ２０ 紫外線
Claims (10)
- 【請求項１】 光学的に透明な基板上に、少なくとも記
録層及び有機保護層を形成した光磁気記録媒体におい
て、基板上の記録層が形成されている面に、フィラーを
分散した樹脂を、表面に均一で微小な凹凸を付けた板で
押しつけて密着し、樹脂を硬化させた後、前記板を剥離
することにより有機保護層を形成したことを特徴とする
光磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の樹脂が紫外線硬化樹脂で
あることを特徴とする請求項１に記載の光磁気記録媒体
の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の板の中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）が０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることを特徴
とする請求項１に記載の光磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１記載の板の凹凸をブラスト法に
より形成したことを特徴とする請求項１に記載の光磁気
記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】 請求項１記載の板の凹凸を化学エッチン
グ法により形成したことを特徴とする請求項１に記載の
光磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】 光学的に透明な基板上に、少なくとも記
録層、及び有機保護層を形成した光磁気記録媒体におい
て、以下に示す方法により該有機保護層の表面に微細な
凹凸を形成したことを特徴とする光磁気記録媒体の製造
方法。 ｉ）少なくとも記録層が形成されている基板上に有機樹
脂を均一にコートする。 ii）該有機樹脂上に表面に微細な凹凸が形成されている
フレキシブルな型を重ね合わせる。 iii） 有機樹脂を硬化させる。 iv）該フレキシブルな型を光磁気記録媒体から剥離す
る。 - 【請求項７】 請求項６記載の型を重ね合わせた後、前
記有機樹脂のレベリング工程を導入したことを特徴とす
る請求項６に記載の光磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】 請求項６記載の有機樹脂が紫外線硬化樹
脂であることを特徴とする請求項６に記載の光磁気記録
媒体の製造方法。 - 【請求項９】 請求項６記載の少くとも記録層が形成さ
れている基板上に有機樹脂を均一にコートしたのち、雰
囲気を負圧状態にしてからフレキシブルな型を重ね合わ
せることを特徴とする請求項６に記載の光磁気記録媒体
の製造方法。 - 【請求項１０】 請求項９記載の負圧雰囲気の圧力を７
×１０4 Ｐａ以下にしたことを特徴とする請求項９に記
載の光磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29003492A JPH06139634A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29003492A JPH06139634A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06139634A true JPH06139634A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=17750932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29003492A Pending JPH06139634A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06139634A (ja) |
-
1992
- 1992-10-28 JP JP29003492A patent/JPH06139634A/ja active Pending
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