JPH0614455B2 - 流体冷却式熱レセプタを有するx線管 - Google Patents
流体冷却式熱レセプタを有するx線管Info
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- JPH0614455B2 JPH0614455B2 JP1191607A JP19160789A JPH0614455B2 JP H0614455 B2 JPH0614455 B2 JP H0614455B2 JP 1191607 A JP1191607 A JP 1191607A JP 19160789 A JP19160789 A JP 19160789A JP H0614455 B2 JPH0614455 B2 JP H0614455B2
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
- H01J35/105—Cooling of rotating anodes, e.g. heat emitting layers or structures
- H01J35/106—Active cooling, e.g. fluid flow, heat pipes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [発明の背景] この発明は、コンピュータ支援断層撮影(CAT)、血
管造影写真、X線映画撮影に用いる高出力X線管に関
し、特に、このようなX線管のターゲット構造体の冷却
に関する。
管造影写真、X線映画撮影に用いる高出力X線管に関
し、特に、このようなX線管のターゲット構造体の冷却
に関する。
X線管は、ガラスまたは金属のエンベロープの中に陰極
電極と陽極電極を形成するターゲット構造とを真空に近
い状態で封入した構造を有する。陰極を加熱して電子を
生成し、電極に高電圧を印加してそれらの電子をターゲ
ット材料に向けてとばす。電子がターゲットにぶつかる
と、X線と熱が発生する。X線はエンベロープの窓を通
過してその有用な機能を果たし、一方熱はエンベロープ
の壁を通して放散する。
電極と陽極電極を形成するターゲット構造とを真空に近
い状態で封入した構造を有する。陰極を加熱して電子を
生成し、電極に高電圧を印加してそれらの電子をターゲ
ット材料に向けてとばす。電子がターゲットにぶつかる
と、X線と熱が発生する。X線はエンベロープの窓を通
過してその有用な機能を果たし、一方熱はエンベロープ
の壁を通して放散する。
X線管の出力が大きくなると、熱を効率よく放散するの
に必要な手段が一層重要になる。ターゲットはタングス
テンのような、高温で作動可能な材料から作製し、その
装着構造は、代表的には、熱を周囲のエンベロープに放
射する高放射率材料で被覆する。金属エンベロープを用
いる特定の工業的用途では、エンベロープの内面も、タ
ーゲットから放射された熱を吸収する高放射率材料で被
覆する。放熱フィンまたは冷却液体を運ぶマニホルドを
エンベロープの外面に形成して熱を除去することができ
る。
に必要な手段が一層重要になる。ターゲットはタングス
テンのような、高温で作動可能な材料から作製し、その
装着構造は、代表的には、熱を周囲のエンベロープに放
射する高放射率材料で被覆する。金属エンベロープを用
いる特定の工業的用途では、エンベロープの内面も、タ
ーゲットから放射された熱を吸収する高放射率材料で被
覆する。放熱フィンまたは冷却液体を運ぶマニホルドを
エンベロープの外面に形成して熱を除去することができ
る。
このような放射および対流伝熱手段は、ターゲット構造
体を冷却するが、大出力のX線パルスが必要なとき、直
接電子ビームの通路にあるターゲット材料の温度を十分
に低く維持できない。米国特許第3869634号、同
第4187442号、同第4272696号、同第43
93511号および同第4569070号に記載されて
いるように、この問題の解決手段として、ディスク上に
ターゲットを形成し、このディスクを回転させ、電子が
衝突するターゲット材料の位置を連続的に変えてゆく方
法が知られている。たとえば、タングステン・ターゲッ
ト材料をディスクの周面にバンドまたは集束トラックと
して堆積して、ディスクを3000〜10000rpmの
速度で回転させる。このように回転することでターゲッ
ト材料の局部加熱を軽減できるが、このターゲット構造
はモータ駆動の高速回転ディスクを含むことになるの
で、ターゲット構造の冷却が複雑になる。その上、出力
レベルを増大できることから、生成する熱の量が著しく
増大する。
体を冷却するが、大出力のX線パルスが必要なとき、直
接電子ビームの通路にあるターゲット材料の温度を十分
に低く維持できない。米国特許第3869634号、同
第4187442号、同第4272696号、同第43
93511号および同第4569070号に記載されて
いるように、この問題の解決手段として、ディスク上に
ターゲットを形成し、このディスクを回転させ、電子が
衝突するターゲット材料の位置を連続的に変えてゆく方
法が知られている。たとえば、タングステン・ターゲッ
ト材料をディスクの周面にバンドまたは集束トラックと
して堆積して、ディスクを3000〜10000rpmの
速度で回転させる。このように回転することでターゲッ
ト材料の局部加熱を軽減できるが、このターゲット構造
はモータ駆動の高速回転ディスクを含むことになるの
で、ターゲット構造の冷却が複雑になる。その上、出力
レベルを増大できることから、生成する熱の量が著しく
増大する。
[発明の要旨] この発明は、回転型のX線ターゲットの冷却に関し、特
に回転するターゲットからの熱の除去に関する。さらに
具体的には、この発明のX線管は、電子を放出する陰
極、および電子のターゲットとなりX線を生成する回転
陽極を収容したエンベロープを備える。第1の高放射率
表面が回転陽極に形成され、レセプタがエンベロープに
装着され、このレセプタは回転陽極の第1の高放射率表
面にごく近接して配向された第2の高放射率表面を有す
る。セレプタは冷却流体を受入れる流体マニホルドを含
み、冷却流体がレセプタを通って流れることにより、第
2の高放射率表面から伝達された熱を除去する。
に回転するターゲットからの熱の除去に関する。さらに
具体的には、この発明のX線管は、電子を放出する陰
極、および電子のターゲットとなりX線を生成する回転
陽極を収容したエンベロープを備える。第1の高放射率
表面が回転陽極に形成され、レセプタがエンベロープに
装着され、このレセプタは回転陽極の第1の高放射率表
面にごく近接して配向された第2の高放射率表面を有す
る。セレプタは冷却流体を受入れる流体マニホルドを含
み、冷却流体がレセプタを通って流れることにより、第
2の高放射率表面から伝達された熱を除去する。
この発明の主目的は、回転するX線ターゲットを冷却す
ることにある。ターゲットは回転陽極表面の小部分を形
成するだけである。陽極表面の残りの部分は第1の高放
射率表面で被覆したエネルギーの放射を増強する。この
ような表面から放射されるエネルギーの量は、回転陽極
にごく近接して位置する不動のレセプタに形成した第2
の高放射率表面を冷却することにより、さらに増加す
る。
ることにある。ターゲットは回転陽極表面の小部分を形
成するだけである。陽極表面の残りの部分は第1の高放
射率表面で被覆したエネルギーの放射を増強する。この
ような表面から放射されるエネルギーの量は、回転陽極
にごく近接して位置する不動のレセプタに形成した第2
の高放射率表面を冷却することにより、さらに増加す
る。
この発明の別の目的は、X線管の出力を増加することに
ある。回転陽極から熱を除去する速度を増すことによ
り、X線および関連する熱の生成速度を増加することが
できる。回転陽極に環状フィンを形成して、その放熱表
面の面積を増加することにより、また不動のレセプタに
対応するフィンを形成して、陽極にごく近接して位置す
る高放射率冷却表面を増加することにより、出力を最大
にし得る。
ある。回転陽極から熱を除去する速度を増すことによ
り、X線および関連する熱の生成速度を増加することが
できる。回転陽極に環状フィンを形成して、その放熱表
面の面積を増加することにより、また不動のレセプタに
対応するフィンを形成して、陽極にごく近接して位置す
る高放射率冷却表面を増加することにより、出力を最大
にし得る。
この発明の他の目的は、信頼性が高く、製作が経済的な
X線管の回転陽極冷却装置を提供することにある。X線
ターゲットをディスク形の陽極の前面上に形成し、環状
フィンをその裏面上に、陽極を支持し回転するステムの
まわりに形成する。レセプタをステムのまわりに配置
し、そのフィンを前向きに延在させ、陽極のフィンと相
互に入り組む形にする。冷却流体を不動のレセプタ中に
ポンプ等により送給して熱を除去する。
X線管の回転陽極冷却装置を提供することにある。X線
ターゲットをディスク形の陽極の前面上に形成し、環状
フィンをその裏面上に、陽極を支持し回転するステムの
まわりに形成する。レセプタをステムのまわりに配置
し、そのフィンを前向きに延在させ、陽極のフィンと相
互に入り組む形にする。冷却流体を不動のレセプタ中に
ポンプ等により送給して熱を除去する。
この発明のさらに別の目的は、陽極ディスクの設計と製
作に複雑で不確かな変更をもちこむことなく、回転陽極
をさらに効果的に冷却することにある。回転陽極の製作
は、陽極の回転速度が速く、作動温度が高いので、きわ
めて複雑かつ困難である。この発明は、この製作技術に
なんら変更を要しない。
作に複雑で不確かな変更をもちこむことなく、回転陽極
をさらに効果的に冷却することにある。回転陽極の製作
は、陽極の回転速度が速く、作動温度が高いので、きわ
めて複雑かつ困難である。この発明は、この製作技術に
なんら変更を要しない。
この発明の上述の目的および他の目的ならびに利点は以
下の説明から明らかになるであろう。以下の説明は、添
付の図面を参照しながら進める。図面は、この発明の好
適な実施例を例示するためのものである。このような実
施例は、必ずしもこの発明の全ての範囲を表わすもので
はなく、発明の範囲については特許請求の範囲の記載か
ら解釈すべきである。
下の説明から明らかになるであろう。以下の説明は、添
付の図面を参照しながら進める。図面は、この発明の好
適な実施例を例示するためのものである。このような実
施例は、必ずしもこの発明の全ての範囲を表わすもので
はなく、発明の範囲については特許請求の範囲の記載か
ら解釈すべきである。
[発明の詳しい説明] 第1図は、この発明を適用したX線管を一部切除して示
す側面図である。まず、第1図の回転陽極型X線管の従
来通りの構成について説明する。このX線管は、ホウケ
イ酸ガラス製のエンベロープ10を含む。陰極構造体1
1が管の右端に封止され、この陰極構造体11につなが
る電気導線(図示せず)がガラスエンベロープ10を貫
通して高電圧源および陰極加熱電流源に接続される。陰
極構造体11は、集束カップ12を有し、集束カップ1
2内にはX線ターゲット13に誘引される電子ビームを
生成する作用をなす電子放出フィラメント14が設けら
れている。X線ターゲット13は、ディスク形陽極15
の前面のトラックに、タングステンまたはモリブデンの
ような原子番号の多い物質の層として形成されている。
陰極15のデイスクは耐火材料、たとえばタングステ
ン、モリブデンまたはグラファイトから形成できるが、
モリブデンはグラファイトより熱伝導が良好であり、タ
ングステンより軽量であるので、モリブデンが好適であ
る。陽極15は高電圧源(図示せず)に接続され、フィ
ラメント14が発する電子は陽極15に誘引され、ここ
で電子がX線ターゲット13に衝突する。その結果、X
線が下方にガラスエンベロープ10を通りすぎる(矢印
16で示される)ビームとして発生する。
す側面図である。まず、第1図の回転陽極型X線管の従
来通りの構成について説明する。このX線管は、ホウケ
イ酸ガラス製のエンベロープ10を含む。陰極構造体1
1が管の右端に封止され、この陰極構造体11につなが
る電気導線(図示せず)がガラスエンベロープ10を貫
通して高電圧源および陰極加熱電流源に接続される。陰
極構造体11は、集束カップ12を有し、集束カップ1
2内にはX線ターゲット13に誘引される電子ビームを
生成する作用をなす電子放出フィラメント14が設けら
れている。X線ターゲット13は、ディスク形陽極15
の前面のトラックに、タングステンまたはモリブデンの
ような原子番号の多い物質の層として形成されている。
陰極15のデイスクは耐火材料、たとえばタングステ
ン、モリブデンまたはグラファイトから形成できるが、
モリブデンはグラファイトより熱伝導が良好であり、タ
ングステンより軽量であるので、モリブデンが好適であ
る。陽極15は高電圧源(図示せず)に接続され、フィ
ラメント14が発する電子は陽極15に誘引され、ここ
で電子がX線ターゲット13に衝突する。その結果、X
線が下方にガラスエンベロープ10を通りすぎる(矢印
16で示される)ビームとして発生する。
X線を発生する際、この衝突電子は多量の熱を発生す
る。そのため、陽極15は、誘導モータ19により中心
軸(回転軸)18のまわりを回転するステム17に装着
されている。ターゲット13は米国特許第457318
5号に記載されているように、陽極15の周面にトラッ
クとして形成されている。陽極15を10000rpmの
ような高速で回転させることにより、ターゲット13を
連続的に回転させて電子ビームの衝突する位置を変え、
これにより1回転を終えてビーム位置に再び戻る前にタ
ーゲット材料が冷却するようにする。その結果、ターゲ
ット13の各セグメントの温度は、電子ビームが当って
いるときの2000℃〜3000℃の高温と、陽極15
の内部(バルク)温度である1200℃〜1400℃の
低温との間で変動する。
る。そのため、陽極15は、誘導モータ19により中心
軸(回転軸)18のまわりを回転するステム17に装着
されている。ターゲット13は米国特許第457318
5号に記載されているように、陽極15の周面にトラッ
クとして形成されている。陽極15を10000rpmの
ような高速で回転させることにより、ターゲット13を
連続的に回転させて電子ビームの衝突する位置を変え、
これにより1回転を終えてビーム位置に再び戻る前にタ
ーゲット材料が冷却するようにする。その結果、ターゲ
ット13の各セグメントの温度は、電子ビームが当って
いるときの2000℃〜3000℃の高温と、陽極15
の内部(バルク)温度である1200℃〜1400℃の
低温との間で変動する。
回転陽極について種々の構成が提案されている。米国特
許第4052640号、同第4109058号、同第4
119879号、同第4132916号、同第4195
247号、同第4298816号、同第RE31560
号、同第4574388号、同第4597095号、同
第4641334号、同第4645121号、同第46
89810号および同第4715055号に開示されて
いるようなこれらの技術の多くは、ターゲット材料が高
回転速度、高温およびそれに伴なう応力に耐えるよう
に、ターゲット材料を陽極基板に取付けることに関する
ものである。米国特許第4276493号および同第4
481655号に開示されているような他の作製技術
は、陽極15からステム17を通って誘導モータの軸受
に伝導される熱を最小限に抑えるように陽極15をステ
ム17に取付けることに関するものである。どのような
技術を採用するにしろ、陽極15すなわちディスクは代
表的には直径3〜5インチ、重量2〜5ポンドであり、
その全表面がエネルギー放射体となる。周知の完全に確
立された技術を用いて陽極15を作製できることは、こ
の発明の重要な利点である。
許第4052640号、同第4109058号、同第4
119879号、同第4132916号、同第4195
247号、同第4298816号、同第RE31560
号、同第4574388号、同第4597095号、同
第4641334号、同第4645121号、同第46
89810号および同第4715055号に開示されて
いるようなこれらの技術の多くは、ターゲット材料が高
回転速度、高温およびそれに伴なう応力に耐えるよう
に、ターゲット材料を陽極基板に取付けることに関する
ものである。米国特許第4276493号および同第4
481655号に開示されているような他の作製技術
は、陽極15からステム17を通って誘導モータの軸受
に伝導される熱を最小限に抑えるように陽極15をステ
ム17に取付けることに関するものである。どのような
技術を採用するにしろ、陽極15すなわちディスクは代
表的には直径3〜5インチ、重量2〜5ポンドであり、
その全表面がエネルギー放射体となる。周知の完全に確
立された技術を用いて陽極15を作製できることは、こ
の発明の重要な利点である。
前述したように、X線管は左端で細くなり、誘導モータ
19のロータを収容するネック部20を有する。このモ
ータ19の固定子巻線21はネック部20のまわりに巻
かれ、ロータ22はネック部20内に収容されている。
米国特許第4147442号に記載されているように、
ステム17はロータ22の右端に固着され、一方ロータ
は左端から延在する不動のシャフト23によりネック部
20内に支持されている。シャフト23はネック部20
の端部に装着され、ロータ22内に延在し、2組の玉軸
受(図示せず)によりロータに回転自在に支持されてい
る。ステム17およびロータ22の部品に使用する材料
は、良好な導電性を維持しながら、熱が陽極15からロ
ータ軸受に流れるのを阻止するように選択する。陽極1
5への電力供給リードはネック部20の左端から延在す
る端子24に接続され、シャフト23、ロータ22およ
びステム17を通して導電性であることが必要である。
19のロータを収容するネック部20を有する。このモ
ータ19の固定子巻線21はネック部20のまわりに巻
かれ、ロータ22はネック部20内に収容されている。
米国特許第4147442号に記載されているように、
ステム17はロータ22の右端に固着され、一方ロータ
は左端から延在する不動のシャフト23によりネック部
20内に支持されている。シャフト23はネック部20
の端部に装着され、ロータ22内に延在し、2組の玉軸
受(図示せず)によりロータに回転自在に支持されてい
る。ステム17およびロータ22の部品に使用する材料
は、良好な導電性を維持しながら、熱が陽極15からロ
ータ軸受に流れるのを阻止するように選択する。陽極1
5への電力供給リードはネック部20の左端から延在す
る端子24に接続され、シャフト23、ロータ22およ
びステム17を通して導電性であることが必要である。
陰極11および陽極15を収容する主空所を画成するエ
ンベロープ10はガラス製である。同様に、エンベロー
プ10のネック部20は電気絶縁性ガラスで形成する。
これらの2つのガラス部分10および20は、回転陽極
15のすぐ後にかつネック部20の前端のまわりに配置
されたレセプタ50により接合されている。レセプタ5
0は銅製であって、ガラスのエンベロープ10に、適当
な封止金属を介して、レセプタの円形外面にろう付けさ
れたステンレス鋼の環状外側リング51により取付けら
れている。同様に、ステンレス鋼の環状内側リング52
がレセプタ50の円形内面にろう付けされ、適当な封止
金属によりガラスのネック部20に取付けられている。
レセプタ50、ガラスのネック部20およびガラスのエ
ンベロープ部分10が完全なエンベロープを形成し、X
線管内をほぼ真空に維持することが可能になる。これか
ら詳述するように、レセプタ50は、X線管の使用中に
陽極で発生する熱の大部分を除去する作用もなす。
ンベロープ10はガラス製である。同様に、エンベロー
プ10のネック部20は電気絶縁性ガラスで形成する。
これらの2つのガラス部分10および20は、回転陽極
15のすぐ後にかつネック部20の前端のまわりに配置
されたレセプタ50により接合されている。レセプタ5
0は銅製であって、ガラスのエンベロープ10に、適当
な封止金属を介して、レセプタの円形外面にろう付けさ
れたステンレス鋼の環状外側リング51により取付けら
れている。同様に、ステンレス鋼の環状内側リング52
がレセプタ50の円形内面にろう付けされ、適当な封止
金属によりガラスのネック部20に取付けられている。
レセプタ50、ガラスのネック部20およびガラスのエ
ンベロープ部分10が完全なエンベロープを形成し、X
線管内をほぼ真空に維持することが可能になる。これか
ら詳述するように、レセプタ50は、X線管の使用中に
陽極で発生する熱の大部分を除去する作用もなす。
特に第1〜3図を参照して説明すると、銅のレセプタ5
0は、その前面の輪郭が1組の同心のフィン53を構成
するように成形され、これらの同心のフィン53は陽極
15の裏面に形成された対応する1組の同心のフィン5
4と相互に入り組む形になっている。その結果、陽極1
5の裏面に大きな表面積が得られ、この表面積がレセプ
タ50の広い前面にごく近接して配置される。陽極のフ
ィン54とレセプタのフィン53との間の隙間は、両者
間に接触が起こらず、熱膨張および妥当な製造公差を許
容するのに十分なものとする。しかし、この隙間を最小
に抑えて、高熱の回転陽極15から低温の不動のレセプ
タ50への放射による熱伝達を最大にする。
0は、その前面の輪郭が1組の同心のフィン53を構成
するように成形され、これらの同心のフィン53は陽極
15の裏面に形成された対応する1組の同心のフィン5
4と相互に入り組む形になっている。その結果、陽極1
5の裏面に大きな表面積が得られ、この表面積がレセプ
タ50の広い前面にごく近接して配置される。陽極のフ
ィン54とレセプタのフィン53との間の隙間は、両者
間に接触が起こらず、熱膨張および妥当な製造公差を許
容するのに十分なものとする。しかし、この隙間を最小
に抑えて、高熱の回転陽極15から低温の不動のレセプ
タ50への放射による熱伝達を最大にする。
陽極15とレセプタ50との間の放射エネルギーの伝達
をさらに増加するために、相互に入り組む形のフィン5
3および54の表面に熱放射率の高い材料を被覆する。
この層を第2図に56で示す。レセプタのフィン53上
の高放射率層56は二酸化チタン(TiO2)からなり、陽
極のフィン54上の被膜は公知の好適な組成および製造
方法、例えば米国特許第4132916号および同第4
600659号に記載されているものを用いる。これら
の米国特許に記載の被膜は、陽極15に発生する高温に
耐え、しかも0.80〜0.94の範囲の高い熱放射率
(エミッタンス)を有する。
をさらに増加するために、相互に入り組む形のフィン5
3および54の表面に熱放射率の高い材料を被覆する。
この層を第2図に56で示す。レセプタのフィン53上
の高放射率層56は二酸化チタン(TiO2)からなり、陽
極のフィン54上の被膜は公知の好適な組成および製造
方法、例えば米国特許第4132916号および同第4
600659号に記載されているものを用いる。これら
の米国特許に記載の被膜は、陽極15に発生する高温に
耐え、しかも0.80〜0.94の範囲の高い熱放射率
(エミッタンス)を有する。
回転陽極15からレセプタ50への熱の伝達をさらに増
加するために、レセプタ50を冷却液体で比較的低温ま
で冷却する。このため、入口マニホルド57が環状内側
リング52に形成され、出口マニホルド58が環状外側
リング51に形成されている。マニホルド57および5
8は、レセプタ50の内周および外周全体に延在する流
体用空所であり、多数の半径方向のチャンネル59と連
通している。入口マニホルド57は、2〜4個の等間隔
に配置された入口ポート60およびここに連結された管
61を介して冷却流体供給源に連結されている。同様
に、出口マニホルド58には2〜4個の等間隔に配置さ
れた出口ポート62が設けられ、ここを通して冷却流体
が管63を介して冷却流体供給源に戻る。冷却流体は入
口マニホルド57に約80psiの圧力で入り、そこから
多数のチャンネル59を通って半径方向外向きに出口マ
ニホルド58へ流れる。チャンネル59を流れる際に、
冷却流体が強制対流によりレセプタ50から熱を吸収す
るにつれ、その温度が上昇する。図示の好適な実施例で
は、陽極15の内部温度は1200℃〜1400℃に上
昇するが、レセプタの温度は300℃以下に維持され
る。
加するために、レセプタ50を冷却液体で比較的低温ま
で冷却する。このため、入口マニホルド57が環状内側
リング52に形成され、出口マニホルド58が環状外側
リング51に形成されている。マニホルド57および5
8は、レセプタ50の内周および外周全体に延在する流
体用空所であり、多数の半径方向のチャンネル59と連
通している。入口マニホルド57は、2〜4個の等間隔
に配置された入口ポート60およびここに連結された管
61を介して冷却流体供給源に連結されている。同様
に、出口マニホルド58には2〜4個の等間隔に配置さ
れた出口ポート62が設けられ、ここを通して冷却流体
が管63を介して冷却流体供給源に戻る。冷却流体は入
口マニホルド57に約80psiの圧力で入り、そこから
多数のチャンネル59を通って半径方向外向きに出口マ
ニホルド58へ流れる。チャンネル59を流れる際に、
冷却流体が強制対流によりレセプタ50から熱を吸収す
るにつれ、その温度が上昇する。図示の好適な実施例で
は、陽極15の内部温度は1200℃〜1400℃に上
昇するが、レセプタの温度は300℃以下に維持され
る。
第1〜3図に示すこの発明の好適な実施例から多数の変
更が可能である。そのような変更例の1つとして、レセ
プタ50に形成する流体チャンネルを変更した例を第4
図および第5図に示す。具体的には、多数の別々の半径
方向に向けたチャンネル59の代りに、変更したレセプ
タ50では、1つの室65が2つのマニホルド57およ
び58をレセプタ50の全周にわたって連結する。多数
の銅製ピン66が室65を横切って延在し、半径方向に
流れる冷却流体をさえぎり、レセプタ50から熱を効率
よく運ぶ。ピンの数と位置は冷却を均一かつ効率的にす
るように調節することができる。
更が可能である。そのような変更例の1つとして、レセ
プタ50に形成する流体チャンネルを変更した例を第4
図および第5図に示す。具体的には、多数の別々の半径
方向に向けたチャンネル59の代りに、変更したレセプ
タ50では、1つの室65が2つのマニホルド57およ
び58をレセプタ50の全周にわたって連結する。多数
の銅製ピン66が室65を横切って延在し、半径方向に
流れる冷却流体をさえぎり、レセプタ50から熱を効率
よく運ぶ。ピンの数と位置は冷却を均一かつ効率的にす
るように調節することができる。
そのほか、この発明の要旨を逸脱せぬ範囲内で多くの変
更が可能である。たとえば、フィン53および54にテ
ーパを付けてその作製が容易になるようにしているが、
他の形状に形成することもできる。考慮すべき重要な点
は、フィンによって、熱を陽極15からレセプタ50へ
放射できる表面積を大きくし、またフィンの表面同士を
ごく近接して配置することによって、陽極のフィン54
の高熱表面が確実にレセプタのフィン53の低温表面に
対してのみ放射するようにすることである。また、好適
実施例では冷却流体がレセプタ50を通過する間は液体
のままであるようにするが、流体がレセプタ50を通過
する間に核沸騰を生じるようにすることも可能である。
更が可能である。たとえば、フィン53および54にテ
ーパを付けてその作製が容易になるようにしているが、
他の形状に形成することもできる。考慮すべき重要な点
は、フィンによって、熱を陽極15からレセプタ50へ
放射できる表面積を大きくし、またフィンの表面同士を
ごく近接して配置することによって、陽極のフィン54
の高熱表面が確実にレセプタのフィン53の低温表面に
対してのみ放射するようにすることである。また、好適
実施例では冷却流体がレセプタ50を通過する間は液体
のままであるようにするが、流体がレセプタ50を通過
する間に核沸騰を生じるようにすることも可能である。
好適な実施例では、レセプタ50を陽極15の高電圧で
動作させて、レセプタ50を周囲から電気絶縁する。こ
のため、電気絶縁の目的で、絶縁耐力の高い冷却流体を
用いる必要がある。冷却流体は、また冷却効率をよくす
るために良好な対流熱伝達特性をも有していなければな
らない。3M社(Minnesota Mining and Manufacturin
g,Inc.)から商標名「フロリナート」 (Flourinert)に
て販売されている液体のような電子用冷却材は、これら
の特性をもち、比較的不活性であるので、これを本発明
の目的に用いることができる。
動作させて、レセプタ50を周囲から電気絶縁する。こ
のため、電気絶縁の目的で、絶縁耐力の高い冷却流体を
用いる必要がある。冷却流体は、また冷却効率をよくす
るために良好な対流熱伝達特性をも有していなければな
らない。3M社(Minnesota Mining and Manufacturin
g,Inc.)から商標名「フロリナート」 (Flourinert)に
て販売されている液体のような電子用冷却材は、これら
の特性をもち、比較的不活性であるので、これを本発明
の目的に用いることができる。
別の実施例では、陽極15およびレセプタ50をアース
電位で動作させることも可能である。このような場合、
電気絶縁は不要であり、冷却材としては水が好適であ
る。
電位で動作させることも可能である。このような場合、
電気絶縁は不要であり、冷却材としては水が好適であ
る。
第1図はこの発明を適用したX線管を一部切除して示す
側面図、第2図は第1図のX線管の一部を構成するレセ
プタ部分の断面図、第3図は第2図のレセプタの一部を
示す正面図、第4図はレセプタの別の例を示す第2図と
同様の断面図、そして第5図は第4図のレセプタの一部
を5−5線方向に見た断面図である。 [主な符号の説明] 10:エンベロープ、11:陰極構造体、 13:X線ターゲット、14:フィラメント、 15:陽極(ディスク)、17:ステム、 19:誘導モータ、20:ネック部、 22:ロータ、50:レセプタ、 51:環状内側リング、52:環状外側リング、 53,54:フィン、56:高放射率層、 57:入口マニホルド、58:出口マニボド、 59:チャンネル、60,62:ポート、 65:室、66:ピン。
側面図、第2図は第1図のX線管の一部を構成するレセ
プタ部分の断面図、第3図は第2図のレセプタの一部を
示す正面図、第4図はレセプタの別の例を示す第2図と
同様の断面図、そして第5図は第4図のレセプタの一部
を5−5線方向に見た断面図である。 [主な符号の説明] 10:エンベロープ、11:陰極構造体、 13:X線ターゲット、14:フィラメント、 15:陽極(ディスク)、17:ステム、 19:誘導モータ、20:ネック部、 22:ロータ、50:レセプタ、 51:環状内側リング、52:環状外側リング、 53,54:フィン、56:高放射率層、 57:入口マニホルド、58:出口マニボド、 59:チャンネル、60,62:ポート、 65:室、66:ピン。
Claims (1)
- 【請求項1】電子を放出する陰極、および電子が衝突し
てX線を生成するターゲット表面を有する回転陽極を収
容したエンベロープを備えるX線管において、 前記回転陽極の外面上に形成され、該陽極からのエネル
ギーの放射を増強する高放射率陽極表面と、 前記エンベロープに装着され、前記回転陽極の外面上の
前記高放射率陽極表面に対向してそれにごく近接して配
置された放射受け面を有する不動のレセプタと、 前記レセプタ内に形成され、前記レセプタから熱を除去
する冷却流体が通る流体室とを備え、 前記レセプタが、冷却流体の流路内に前記流体室を横切
って延在している複数個の熱伝導材料製のピンを含むこ
とを特徴とするX線管。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US227,280 | 1988-08-02 | ||
| US07/227,280 US4943989A (en) | 1988-08-02 | 1988-08-02 | X-ray tube with liquid cooled heat receptor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0286035A JPH0286035A (ja) | 1990-03-27 |
| JPH0614455B2 true JPH0614455B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=22852493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1191607A Expired - Fee Related JPH0614455B2 (ja) | 1988-08-02 | 1989-07-26 | 流体冷却式熱レセプタを有するx線管 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4943989A (ja) |
| EP (1) | EP0353966B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0614455B2 (ja) |
| CA (1) | CA1304117C (ja) |
| DE (1) | DE68918026T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| FR2675628B1 (fr) * | 1991-04-17 | 1996-09-13 | Gen Electric Cgr | Ensemble anodique a forte dissipation thermique pour tube a rayons x et tube ainsi obtenu. |
| US5173931A (en) * | 1991-11-04 | 1992-12-22 | Norman Pond | High-intensity x-ray source with variable cooling |
| US6115454A (en) * | 1997-08-06 | 2000-09-05 | Varian Medical Systems, Inc. | High-performance X-ray generating apparatus with improved cooling system |
| DE19929655B4 (de) * | 1998-07-09 | 2012-02-16 | Siemens Ag | Röntgenstrahler |
| DE19854484C1 (de) * | 1998-11-25 | 2000-05-04 | Siemens Ag | Röntgenröhre |
| US6749337B1 (en) | 2000-01-26 | 2004-06-15 | Varian Medical Systems, Inc. | X-ray tube and method of manufacture |
| US6456692B1 (en) * | 2000-09-28 | 2002-09-24 | Varian Medical Systems, Inc. | High emissive coatings on x-ray tube components |
| AU2001296611A1 (en) * | 2000-10-23 | 2002-05-06 | Varian Medical Systems, Inc. | X-ray tube and method of manufacture |
| US6477231B2 (en) * | 2000-12-29 | 2002-11-05 | General Electric Company | Thermal energy transfer device and x-ray tubes and x-ray systems incorporating same |
| US6603834B1 (en) * | 2001-09-18 | 2003-08-05 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | X-ray tube anode cold plate |
| US6904957B1 (en) * | 2002-08-30 | 2005-06-14 | Southeastern Univ. Research Assn. | Cooled particle accelerator target |
| DE10319547B4 (de) * | 2003-04-30 | 2012-02-16 | Siemens Ag | Drehanoden-Röntgenröhre |
| US6993116B1 (en) * | 2003-10-17 | 2006-01-31 | Siemens Aktiengesellschaft | Metallic vacuum housing for an X-ray tube |
| JP4465522B2 (ja) * | 2004-07-05 | 2010-05-19 | 株式会社日立メディコ | X線管 |
| FR2879810B1 (fr) * | 2004-12-21 | 2007-02-16 | Gen Electric | Tube a rayons x bien refroidi |
| DE102005034687B3 (de) * | 2005-07-25 | 2007-01-04 | Siemens Ag | Drehkolbenstrahler |
| JP4832080B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2011-12-07 | 株式会社日立メディコ | X線管及びx線撮影装置 |
| FR2895831B1 (fr) * | 2006-01-03 | 2009-06-12 | Alcatel Sa | Source compacte a faisceau de rayons x de tres grande brillance |
| JP5468911B2 (ja) * | 2010-01-05 | 2014-04-09 | 株式会社日立メディコ | X線管装置及びそれを用いたx線ct装置 |
| US8249219B2 (en) | 2010-06-17 | 2012-08-21 | Varian Medical Systems, Inc. | X-ray tube rotating anode |
| JP5942247B2 (ja) * | 2011-12-27 | 2016-06-29 | 株式会社日立製作所 | 回転陽極x線管装置 |
| JP6558908B2 (ja) * | 2015-02-09 | 2019-08-14 | 株式会社大阪真空機器製作所 | X線発生装置用ターゲットマウントおよびこれを備えたx線発生装置 |
| JP2017037774A (ja) * | 2015-08-10 | 2017-02-16 | 東芝電子管デバイス株式会社 | X線管、x線管装置、及びx線管装置の製造方法 |
| WO2018144630A1 (en) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | Rapiscan Systems, Inc. | High-power x-ray sources and methods of operation |
| CN107260191A (zh) * | 2017-06-06 | 2017-10-20 | 珠海瑞能真空电子有限公司 | 一种用于ct球管的嵌入式水冷套靶盘结构及其制作工艺 |
| US11562875B2 (en) * | 2018-05-23 | 2023-01-24 | Dedicated2Imaging, Llc | Hybrid air and liquid X-ray cooling system comprising a hybrid heat-transfer device including a plurality of fin elements, a liquid channel including a cooling liquid, and a circulation pump |
| WO2020067075A1 (ja) * | 2018-09-26 | 2020-04-02 | 株式会社 東芝 | 回転陽極x線管用ターゲット、x線管、およびx線検査装置 |
Family Cites Families (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2009538C3 (de) * | 1970-02-28 | 1975-01-09 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Röntgenröhren-Drehanodenteller, der durch radiale Trennfugen in Sektoren unterteilt ist |
| DE2646454C2 (de) * | 1976-10-14 | 1985-01-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Röntgenröhren-Drehanode |
| US4132916A (en) * | 1977-02-16 | 1979-01-02 | General Electric Company | High thermal emittance coating for X-ray targets |
| USRE31560E (en) * | 1977-04-18 | 1984-04-17 | General Electric Company | Graphite disc assembly for a rotating x-ray anode tube |
| US4165472A (en) * | 1978-05-12 | 1979-08-21 | Rockwell International Corporation | Rotating anode x-ray source and cooling technique therefor |
| US4187442A (en) * | 1978-09-05 | 1980-02-05 | General Electric Company | Rotating anode X-ray tube with improved thermal capacity |
| US4335327A (en) * | 1978-12-04 | 1982-06-15 | The Machlett Laboratories, Incorporated | X-Ray tube target having pyrolytic amorphous carbon coating |
| NL7903389A (nl) * | 1979-05-01 | 1980-11-04 | Philips Nv | Werkwijze voor het verbeteren van de warmte-afstra- lingseigenschappen van een roentgendraaianode en zo ver-kregen draaianode. |
| US4276493A (en) * | 1979-09-10 | 1981-06-30 | General Electric Company | Attachment means for a graphite x-ray tube target |
| US4298816A (en) * | 1980-01-02 | 1981-11-03 | General Electric Company | Molybdenum substrate for high power density tungsten focal track X-ray targets |
| US4369517A (en) * | 1980-02-20 | 1983-01-18 | Litton Industrial Products, Inc. | X-Ray tube housing assembly with liquid coolant manifold |
| US4622687A (en) * | 1981-04-02 | 1986-11-11 | Arthur H. Iversen | Liquid cooled anode x-ray tubes |
| US4393511A (en) * | 1981-12-30 | 1983-07-12 | General Electric Company | Outer rotation bearing for x-ray tube |
| US4481655A (en) * | 1982-04-01 | 1984-11-06 | General Electric Company | X-Ray target attachment |
| JPS594161U (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-11 | 株式会社島津製作所 | X線管 |
| JPS603843A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-10 | Hitachi Ltd | X線管 |
| US4625324A (en) * | 1983-09-19 | 1986-11-25 | Technicare Corporation | High vacuum rotating anode x-ray tube |
| US4597095A (en) * | 1984-04-25 | 1986-06-24 | General Electric Company | Composite structure for rotating anode of an X-ray tube |
| US4574388A (en) * | 1984-05-24 | 1986-03-04 | General Electric Company | Core for molybdenum alloy x-ray anode substrate |
| US4607380A (en) * | 1984-06-25 | 1986-08-19 | General Electric Company | High intensity microfocus X-ray source for industrial computerized tomography and digital fluoroscopy |
| US4573185A (en) * | 1984-06-27 | 1986-02-25 | General Electric Company | X-Ray tube with low off-focal spot radiation |
| US4600659A (en) * | 1984-08-24 | 1986-07-15 | General Electric Company | Emissive coating on alloy x-ray tube target |
| US4688239A (en) * | 1984-09-24 | 1987-08-18 | The B. F. Goodrich Company | Heat dissipation means for X-ray generating tubes |
| USH312H (en) * | 1985-02-01 | 1987-07-07 | Parker Todd S | Rotating anode x-ray tube |
| US4645121A (en) * | 1985-02-15 | 1987-02-24 | General Electric Company | Composite rotary anode for X-ray tube and process for preparing the composite |
| US4715055A (en) * | 1985-02-15 | 1987-12-22 | General Electric Company | Composite rotary anode for X-ray tube and process for preparing the composite |
| US4631742A (en) * | 1985-02-25 | 1986-12-23 | General Electric Company | Electronic control of rotating anode microfocus x-ray tubes for anode life extension |
| JPS62106463U (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-07 | ||
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1988
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-
1989
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