JPH06145123A - アミド誘導体及びその製造中間体、並びに該アミド誘導体を含有する皮膚外用剤 - Google Patents
アミド誘導体及びその製造中間体、並びに該アミド誘導体を含有する皮膚外用剤Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 次の一般式（１）
（式中、Ｒ１は炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖の飽
和又は不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ２は水素原子又は
炭素数１〜３１の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは不
飽和の炭化水素基を示し、Ｒ３及びＲ４は炭素数１〜１
２の酸素原子を含んでいてもよい炭化水素基を示し、
ａ，ｂ，ｃ及びｄはそれぞれ０〜３の数を示すが、ｂと
ｄの双方が０となる場合を除く）で表わされるアミド誘
導体及びその製造中間体、並びに該アミド誘導体を含有
する皮膚外用剤。 【効果】 肌荒れ、予防、治療効果に優れる。
和又は不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ２は水素原子又は
炭素数１〜３１の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは不
飽和の炭化水素基を示し、Ｒ３及びＲ４は炭素数１〜１
２の酸素原子を含んでいてもよい炭化水素基を示し、
ａ，ｂ，ｃ及びｄはそれぞれ０〜３の数を示すが、ｂと
ｄの双方が０となる場合を除く）で表わされるアミド誘
導体及びその製造中間体、並びに該アミド誘導体を含有
する皮膚外用剤。 【効果】 肌荒れ、予防、治療効果に優れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は角質層の水分保持力を高
め、肌荒れ改善効果に優れるアミド誘導体、この製造中
間体及び該アミド誘導体を含有する皮膚外用剤に関す
る。
め、肌荒れ改善効果に優れるアミド誘導体、この製造中
間体及び該アミド誘導体を含有する皮膚外用剤に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、肌に潤いを与え、肌を柔軟にする
には、角質層の水分が重要であることが知られている。
そして当該水分の保持は、角質層に含まれている水溶性
成分、即ち、遊離アミノ酸、有機酸、尿素又は無機イオ
ンによるものとされている。
には、角質層の水分が重要であることが知られている。
そして当該水分の保持は、角質層に含まれている水溶性
成分、即ち、遊離アミノ酸、有機酸、尿素又は無機イオ
ンによるものとされている。
【０００３】かかる観点から、これらの物質を単独であ
るいは組み合わせて薬用皮膚外用剤あるいは化粧料に配
合することにより肌荒れ改善又は予防が図られている。
るいは組み合わせて薬用皮膚外用剤あるいは化粧料に配
合することにより肌荒れ改善又は予防が図られている。
【０００４】また、上記物質以外にも、水と親和性が高
い多くの保湿性物質が開発され、肌荒れ改善の目的で使
用されている。
い多くの保湿性物質が開発され、肌荒れ改善の目的で使
用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
保湿性物質を皮膚に適用した場合、その作用は皮膚角質
層上にあって水分を角質に供給するというもので、しか
もその効果は一時的であり、根本的に角質層自体の水分
保持能力を改善し、肌荒れを本質的に予防、治療するも
のとは言えないものであった。従って本発明の目的は、
角質層の水分保持能力を根本的に改善し、肌荒れを予
防、治療する新規な物質を提供することにある。
保湿性物質を皮膚に適用した場合、その作用は皮膚角質
層上にあって水分を角質に供給するというもので、しか
もその効果は一時的であり、根本的に角質層自体の水分
保持能力を改善し、肌荒れを本質的に予防、治療するも
のとは言えないものであった。従って本発明の目的は、
角質層の水分保持能力を根本的に改善し、肌荒れを予
防、治療する新規な物質を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】斯かる実情において、本
発明者らは、上記条件を満たす新規な物質を得るべく鋭
意研究を行った結果、下記一般式（１）で表わされるア
ミド誘導体が肌荒れを根本的に予防、治療することを見
い出し、更にこのものを有利に製造し得る中間体を見い
出し本発明を完成した。
発明者らは、上記条件を満たす新規な物質を得るべく鋭
意研究を行った結果、下記一般式（１）で表わされるア
ミド誘導体が肌荒れを根本的に予防、治療することを見
い出し、更にこのものを有利に製造し得る中間体を見い
出し本発明を完成した。
【０００７】すなわち、本発明は次の一般式（１）
【０００８】
【化３】
【０００９】（式中、Ｒ1 は炭素数１０〜２６の直鎖又
は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ2 は
水素原子又は炭素数１〜３１の直鎖若しくは分岐鎖の飽
和若しくは不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ3 及びＲ4 は
炭素数１〜１２の酸素原子を含んでいてもよい炭化水素
基を示し、ａ、ｂ、ｃ及びｄはそれぞれ０〜３の数を示
すが、ｂとｄの双方が０となる場合を除く）で表わされ
るアミド誘導体及びこれを含有する皮膚外用剤を提供す
るものである。
は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ2 は
水素原子又は炭素数１〜３１の直鎖若しくは分岐鎖の飽
和若しくは不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ3 及びＲ4 は
炭素数１〜１２の酸素原子を含んでいてもよい炭化水素
基を示し、ａ、ｂ、ｃ及びｄはそれぞれ０〜３の数を示
すが、ｂとｄの双方が０となる場合を除く）で表わされ
るアミド誘導体及びこれを含有する皮膚外用剤を提供す
るものである。
【００１０】また、本発明は上記アミド誘導体（１）の
製造中間体として有用な次の一般式（２）
製造中間体として有用な次の一般式（２）
【００１１】
【化４】
【００１２】（式中、Ｒ5 は水素原子又はベンジル基を
示し、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、ａ、ｂ、ｃ及びｄは前記と同
じものを示す）で表わされるアミン誘導体を提供するも
のである。
示し、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｒ4 、ａ、ｂ、ｃ及びｄは前記と同
じものを示す）で表わされるアミン誘導体を提供するも
のである。
【００１３】上記一般式（１）及び（２）中、Ｒ1 で示
される炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不
飽和の炭化水素基としては、炭素数１０〜２６の直鎖又
は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、特に
炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ま
しい。Ｒ1 の具体例としては、デシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エ
イコシル基、テトラエイコシル基等が挙げられる。Ｒ2
で示される炭素数１〜３１の直鎖又は分岐鎖の飽和又は
不飽和の炭化水素基としては、炭素数１〜３１の直鎖又
は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、特に
炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ま
しい。Ｒ2 の具体例としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ペンチル基、ヘプチル基、ノニル基、モノデ
シル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル
基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。Ｒ3
及びＲ4 で示される炭素数１〜１２の酸素原子を含んで
いてもよい炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖
又は分岐鎖のアルキル基；２，３−ジヒドロキシプロピ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ビス（２−ヒドロ
キシエチル）−３−ヒドロキシプロピル基、２，３，
４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル基、糖残基等が
挙げられる。
される炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不
飽和の炭化水素基としては、炭素数１０〜２６の直鎖又
は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、特に
炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ま
しい。Ｒ1 の具体例としては、デシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エ
イコシル基、テトラエイコシル基等が挙げられる。Ｒ2
で示される炭素数１〜３１の直鎖又は分岐鎖の飽和又は
不飽和の炭化水素基としては、炭素数１〜３１の直鎖又
は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、特に
炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が好ま
しい。Ｒ2 の具体例としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ペンチル基、ヘプチル基、ノニル基、モノデ
シル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル
基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。Ｒ3
及びＲ4 で示される炭素数１〜１２の酸素原子を含んで
いてもよい炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖
又は分岐鎖のアルキル基；２，３−ジヒドロキシプロピ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ビス（２−ヒドロ
キシエチル）−３−ヒドロキシプロピル基、２，３，
４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル基、糖残基等が
挙げられる。
【００１４】本発明のアミド誘導体は、例えば次の式に
従って製造することができる。
従って製造することができる。
【００１５】
【化５】
【００１６】（式中、Bnはベンジル基を示し、Ｒ1 、Ｒ
2 、Ｒ3 、Ｒ4 、ａ、ｂ、ｃ及びｄは前記と同じものを
示す）
2 、Ｒ3 、Ｒ4 、ａ、ｂ、ｃ及びｄは前記と同じものを
示す）
【００１７】すなわち、ベンジルアミン誘導体（３）と
グリシジルエーテルを反応せしめ、得られたベンジルア
ミン誘導体（２Ａ）を水素化分解して脱ベンジル化し、
アミン誘導体（２Ｂ）としたのち、二級アミノ基のみを
アシル化することにより、本発明のアミド誘導体（１）
を得ることができる。
グリシジルエーテルを反応せしめ、得られたベンジルア
ミン誘導体（２Ａ）を水素化分解して脱ベンジル化し、
アミン誘導体（２Ｂ）としたのち、二級アミノ基のみを
アシル化することにより、本発明のアミド誘導体（１）
を得ることができる。
【００１８】ベンジルアミン誘導体（３）とグリシジル
エーテル（４）との反応は、この両者を無溶媒又はメタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール
等の低級アルコール溶媒中にて２５〜１５０℃で数１０
分〜２４時間攪拌することにより行われる。ここで原料
となるベンジルアミン誘導体（３）としては、Ｎ−ベン
ジル−３−ヒドロキシエチル−２−ヒドロキシプロピル
アミン、Ｎ−ベンジル−３−〔２−ビス（２−ヒドロキ
シエチル）−３−ヒドロキシプロピル〕−２−ヒドロキ
シプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−（２，３−ジヒ
ドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシプロピルアミ
ン、Ｎ−ベンジル−Ｎ−〔３−〔２，３−（ジメチルメ
チレンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシプロピ
ル〕アミン、Ｎ−ベンジル−３−Ｄ−グルコピラノシル
オキシ−２−ヒドロキシプロピルアミン、Ｎ−ベンシル
−３−Ｄ−ガラクトピラノシルオキシ−２−ヒドロキシ
プロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−（２，３，４，
５，６−ペンタヒドロキシヘキシロキシ）−２−ヒドロ
キシプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−４−α−Ｄ−グル
コピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロキ
シヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−４−β−Ｄ−グルコ
ピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロキシ
ヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−４−α−Ｄ−ガラクト
ピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロキシ
ヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−６−α−Ｄ−グルコピ
ラノシルオキシ−２，３，４，５−テトラヒドロキシヘ
キシルアミン、Ｎ−ベンジル−６−α−Ｄ−ガラクトピ
ラノシルオキシ−２，３，４，５−テトラヒドロキシヘ
キシルアミン等が挙げられる。なお、ベンジルアミン誘
導体としてＮ−ベンジル−Ｎ−〔３−〔２，３−（ジメ
チルメチレンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシ
プロピル〕アミンのような水酸基の保護基を有する化合
物を用いた場合は、反応後、酸処理により当該水酸基の
保護基を脱離すればよい。
エーテル（４）との反応は、この両者を無溶媒又はメタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール
等の低級アルコール溶媒中にて２５〜１５０℃で数１０
分〜２４時間攪拌することにより行われる。ここで原料
となるベンジルアミン誘導体（３）としては、Ｎ−ベン
ジル−３−ヒドロキシエチル−２−ヒドロキシプロピル
アミン、Ｎ−ベンジル−３−〔２−ビス（２−ヒドロキ
シエチル）−３−ヒドロキシプロピル〕−２−ヒドロキ
シプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−（２，３−ジヒ
ドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシプロピルアミ
ン、Ｎ−ベンジル−Ｎ−〔３−〔２，３−（ジメチルメ
チレンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシプロピ
ル〕アミン、Ｎ−ベンジル−３−Ｄ−グルコピラノシル
オキシ−２−ヒドロキシプロピルアミン、Ｎ−ベンシル
−３−Ｄ−ガラクトピラノシルオキシ−２−ヒドロキシ
プロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−（２，３，４，
５，６−ペンタヒドロキシヘキシロキシ）−２−ヒドロ
キシプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−４−α−Ｄ−グル
コピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロキ
シヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−４−β−Ｄ−グルコ
ピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロキシ
ヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−４−α−Ｄ−ガラクト
ピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロキシ
ヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−６−α−Ｄ−グルコピ
ラノシルオキシ−２，３，４，５−テトラヒドロキシヘ
キシルアミン、Ｎ−ベンジル−６−α−Ｄ−ガラクトピ
ラノシルオキシ−２，３，４，５−テトラヒドロキシヘ
キシルアミン等が挙げられる。なお、ベンジルアミン誘
導体としてＮ−ベンジル−Ｎ−〔３−〔２，３−（ジメ
チルメチレンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシ
プロピル〕アミンのような水酸基の保護基を有する化合
物を用いた場合は、反応後、酸処理により当該水酸基の
保護基を脱離すればよい。
【００１９】得られた化合物（２Ａ）は、脱ベンジル化
し、化合物（２Ｂ）とする。化合物（２Ａ）の脱ベンジ
ル化は、活性炭パラジウム、パラジウム黒等の触媒の存
在下、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メタノール、
エタノール、酢酸等の溶媒中、常圧〜１５０気圧下で数
時間〜数日間水素化分解させることにより行われる。
し、化合物（２Ｂ）とする。化合物（２Ａ）の脱ベンジ
ル化は、活性炭パラジウム、パラジウム黒等の触媒の存
在下、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メタノール、
エタノール、酢酸等の溶媒中、常圧〜１５０気圧下で数
時間〜数日間水素化分解させることにより行われる。
【００２０】上記の如くして得られた化合物（２Ａ）及
び（２Ｂ）は新規な化合物であり、目的物たるアミド誘
導体（１）を効率よく得るために重要な製造中間体であ
る。因みにグリシジルエーテルと一級アミン誘導体から
直接アミン誘導体（２Ｂ）の如き化合物を得るには、次
の様な反応が考えられる。
び（２Ｂ）は新規な化合物であり、目的物たるアミド誘
導体（１）を効率よく得るために重要な製造中間体であ
る。因みにグリシジルエーテルと一級アミン誘導体から
直接アミン誘導体（２Ｂ）の如き化合物を得るには、次
の様な反応が考えられる。
【００２１】
【化６】
【００２２】（式中、Ｒ6 は炭化水素基を示し、Ｘは含
酸素炭化水素基を示す） しかしながら、この場合には一級アミンを過剰に用いる
必要があり、更に当該一級アミンは高い沸点を有するも
のが多いため、反応後の除去が困難であるという欠点を
有する。
酸素炭化水素基を示す） しかしながら、この場合には一級アミンを過剰に用いる
必要があり、更に当該一級アミンは高い沸点を有するも
のが多いため、反応後の除去が困難であるという欠点を
有する。
【００２３】得られた化合物（２Ｂ）はアシル化するこ
とにより目的とするアミド誘導体（１）とすることがで
きる。化合物（２Ｂ）のアミノ基をアシル化するには、
例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウ
ムメトキシド、ｔ−ブトキシカリウム等の塩基触媒の存
在下で脂肪酸低級アルキルエステルを作用させ、生成す
る低級アルコールを留去しつつ反応させるか又は、無水
パルミチン酸、無水ステアリン酸、無水イソステアリン
酸等の脂肪酸無水物をテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、クロロホルム等の溶媒中で反応させることにより行
われる。
とにより目的とするアミド誘導体（１）とすることがで
きる。化合物（２Ｂ）のアミノ基をアシル化するには、
例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウ
ムメトキシド、ｔ−ブトキシカリウム等の塩基触媒の存
在下で脂肪酸低級アルキルエステルを作用させ、生成す
る低級アルコールを留去しつつ反応させるか又は、無水
パルミチン酸、無水ステアリン酸、無水イソステアリン
酸等の脂肪酸無水物をテトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、クロロホルム等の溶媒中で反応させることにより行
われる。
【００２４】このようにして製造されたアミド誘導体
（１）は本発明の皮膚外用剤の必須成分として用いられ
る。
（１）は本発明の皮膚外用剤の必須成分として用いられ
る。
【００２５】アミド誘導体（１）を本発明の皮膚外用剤
として用いる場合の配合量は、特に制限されないが、通
常、乳化型の皮膚外用剤の場合には全組成の０．００１
〜５０重量％（以下、単に％で示す）が好ましく、スク
ワラン等の液状炭化水素を基剤とする油性の皮膚外用剤
の場合には０．０１〜５０％が好ましい。本発明の皮膚
外用剤は、従来の皮膚外用剤の基剤に前記一般式（１）
で表わされるアミド誘導体を含有させてなるものである
が、薬用皮膚外用剤と化粧料に大別される。
として用いる場合の配合量は、特に制限されないが、通
常、乳化型の皮膚外用剤の場合には全組成の０．００１
〜５０重量％（以下、単に％で示す）が好ましく、スク
ワラン等の液状炭化水素を基剤とする油性の皮膚外用剤
の場合には０．０１〜５０％が好ましい。本発明の皮膚
外用剤は、従来の皮膚外用剤の基剤に前記一般式（１）
で表わされるアミド誘導体を含有させてなるものである
が、薬用皮膚外用剤と化粧料に大別される。
【００２６】薬用皮膚外用剤としては、例えば薬効成分
を含有する各種軟膏剤を挙げることができる。軟膏剤と
しては、油性基剤をベースにするもの、油／水、水／油
型の乳化基剤をベースにするもののいずれであってもよ
い。上記油性基剤としては、特に制限はなく、例えば、
植物油、動物油、合成油、脂肪酸及び天然又は合成のグ
リセライド等が挙げられる。また、上記薬効成分として
は、特に制限はなく、例えば鎮痛消炎剤、鎮痒剤、殺菌
消毒剤、収斂剤、皮膚軟化剤、ホルモン剤等を必要に応
じて適時使用することができる。
を含有する各種軟膏剤を挙げることができる。軟膏剤と
しては、油性基剤をベースにするもの、油／水、水／油
型の乳化基剤をベースにするもののいずれであってもよ
い。上記油性基剤としては、特に制限はなく、例えば、
植物油、動物油、合成油、脂肪酸及び天然又は合成のグ
リセライド等が挙げられる。また、上記薬効成分として
は、特に制限はなく、例えば鎮痛消炎剤、鎮痒剤、殺菌
消毒剤、収斂剤、皮膚軟化剤、ホルモン剤等を必要に応
じて適時使用することができる。
【００２７】また、化粧料として使用する場合は、必須
成分である本発明のアミド誘導体の他に、化粧料成分と
して一般に使用されている油分、保湿剤、紫外線吸収
剤、アルコール類、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、増
粘剤、色素、香料等を任意に組み合わせて配合すること
ができる。化粧料としては、種々の形態、例えば、油／
水、水／油型乳化化粧料、クリーム、化粧乳液、化粧
水、油性化粧料、口紅、ファンデーション、皮膚洗浄
剤、ヘアートニック、整髪剤、養毛剤、育毛剤等の皮膚
化粧料とすることができる。
成分である本発明のアミド誘導体の他に、化粧料成分と
して一般に使用されている油分、保湿剤、紫外線吸収
剤、アルコール類、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、増
粘剤、色素、香料等を任意に組み合わせて配合すること
ができる。化粧料としては、種々の形態、例えば、油／
水、水／油型乳化化粧料、クリーム、化粧乳液、化粧
水、油性化粧料、口紅、ファンデーション、皮膚洗浄
剤、ヘアートニック、整髪剤、養毛剤、育毛剤等の皮膚
化粧料とすることができる。
【００２８】
【発明の効果】本発明のアミド誘導体（１）を含む皮膚
外用剤は、角質層の水分保持力を高め、肌荒れ改善効果
に優れる。また本発明の製造中間体（２）を用いれば、
アミド誘導体（１）を有利に製造することができる。
外用剤は、角質層の水分保持力を高め、肌荒れ改善効果
に優れる。また本発明の製造中間体（２）を用いれば、
アミド誘導体（１）を有利に製造することができる。
【００２９】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３０】実施例１ Ｎ−（３−ヘキサデシロキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル）−Ｎ−〔３−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）
−２−ヒドロキシプロピル〕ヘキサデカナミド（１ａ）
の合成： （１）Ｎ−ベンジル−Ｎ−〔３−〔２，３−（ジメチル
メチレンジオキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル〕アミン（３ａ）（前記一般式（３）において、R4=
（２，３−ジメチルメチレンジオキシ）プロピル，ａ＝
ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の合成
ル）−Ｎ−〔３−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）
−２−ヒドロキシプロピル〕ヘキサデカナミド（１ａ）
の合成： （１）Ｎ−ベンジル−Ｎ−〔３−〔２，３−（ジメチル
メチレンジオキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル〕アミン（３ａ）（前記一般式（３）において、R4=
（２，３−ジメチルメチレンジオキシ）プロピル，ａ＝
ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の合成
【００３１】滴下漏斗、温度計、還流冷却管を備えた５
００mlの３口フラスコにベンジルアミン１７４ml（１．
５９mol ）、エタノール４８．０mlを入れ、窒素雰囲気
下で８０℃に加熱攪拌しつつ、これに２，２−ジメチル
−１，３−ジオキソラン−４−メチルグリシジルエーテ
ル２０．３ｇ（０．１１mol ）を２時間かけて滴下し、
滴下終了後、更に同条件下、１時間加熱攪拌した。減圧
濃縮後、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精
製することにより、表記化合物（３ａ）２０．４ｇ（収
率６４％）を得た。
００mlの３口フラスコにベンジルアミン１７４ml（１．
５９mol ）、エタノール４８．０mlを入れ、窒素雰囲気
下で８０℃に加熱攪拌しつつ、これに２，２−ジメチル
−１，３−ジオキソラン−４−メチルグリシジルエーテ
ル２０．３ｇ（０．１１mol ）を２時間かけて滴下し、
滴下終了後、更に同条件下、１時間加熱攪拌した。減圧
濃縮後、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精
製することにより、表記化合物（３ａ）２０．４ｇ（収
率６４％）を得た。
【００３２】
【表１】 淡黄色油状物 IR(NaCl,cm-1): 3324,2932,2900,2876,1374,1258,1214,
1140,1128,1118,1104,1082,1054,842,7001 H-NMR(CDCl3,δ) 1.36(s,3H) 1.43(s,3H) 2.57-2.76(m,3H) 3.41-4.06(m,10H) 4.20-4.31(m,1H) 7.18-7.40(m,5H)
1140,1128,1118,1104,1082,1054,842,7001 H-NMR(CDCl3,δ) 1.36(s,3H) 1.43(s,3H) 2.57-2.76(m,3H) 3.41-4.06(m,10H) 4.20-4.31(m,1H) 7.18-7.40(m,5H)
【００３３】（２）Ｎ−（３−ヘキサデシロキシ−２−
ヒドロキシプロピル）−Ｎ−〔３−（２，３−ジヒドロ
キシプロポキシ）−２−ヒドロキシプロピル〕ベンジル
アミン（２Ａａ）（前記一般式（２Ａ）においてR1=C16
H33,R4=CH2CH(OH)CH2OH ，ａ＝ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の
合成
ヒドロキシプロピル）−Ｎ−〔３−（２，３−ジヒドロ
キシプロポキシ）−２−ヒドロキシプロピル〕ベンジル
アミン（２Ａａ）（前記一般式（２Ａ）においてR1=C16
H33,R4=CH2CH(OH)CH2OH ，ａ＝ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の
合成
【００３４】滴下漏斗、温度計、還流冷却管を備えた５
００mlの３口フラスコに上記（１）で得た（３ａ）２
２．１ｇ（７４．９mmol）、エタノール６．６２ｇを入
れ、窒素雰囲気下で８０℃に加熱攪拌しつつ、これにヘ
キサデシルグリシジルエーテル３３．６ｇ（０．１１mo
l ）を４時間かけて滴下した。
００mlの３口フラスコに上記（１）で得た（３ａ）２
２．１ｇ（７４．９mmol）、エタノール６．６２ｇを入
れ、窒素雰囲気下で８０℃に加熱攪拌しつつ、これにヘ
キサデシルグリシジルエーテル３３．６ｇ（０．１１mo
l ）を４時間かけて滴下した。
【００３５】滴下終了後、更に同条件下３０分間加熱攪
拌した。減圧濃縮後、得られた残渣を還流冷却管を備え
た２００mlのナスフラスコに移し、イソプロピルアルコ
ール１５．４ｇ、水３８．４ｇ及び硫酸５．１４ｇを窒
素雰囲気下、攪拌しながら２時間加熱還流した。次いで
水酸化ナトリウム水溶液で中和後、減圧濃縮し、エタノ
ールを加え、不溶物を濾別後、再び減圧濃縮した。得ら
れた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで
精製することにより、表記化合物（２Ａａ）３４．８ｇ
（収率８４％）を得た。
拌した。減圧濃縮後、得られた残渣を還流冷却管を備え
た２００mlのナスフラスコに移し、イソプロピルアルコ
ール１５．４ｇ、水３８．４ｇ及び硫酸５．１４ｇを窒
素雰囲気下、攪拌しながら２時間加熱還流した。次いで
水酸化ナトリウム水溶液で中和後、減圧濃縮し、エタノ
ールを加え、不溶物を濾別後、再び減圧濃縮した。得ら
れた残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで
精製することにより、表記化合物（２Ａａ）３４．８ｇ
（収率８４％）を得た。
【００３６】
【表２】 淡黄色油状物 IR(NaCl,cm-1): 3380,2928,2856,1466,1458,1128,1118,
1076,1054,1046,7001 H-NMR(CDCl3,δ) 0.88(t,J=6.40Hz,3H) 1.16-1.60(m,28H) 2.53-2.69(m,4H) 3.32-4.23(m,19H) 7.20-7.40(m,5H)
1076,1054,1046,7001 H-NMR(CDCl3,δ) 0.88(t,J=6.40Hz,3H) 1.16-1.60(m,28H) 2.53-2.69(m,4H) 3.32-4.23(m,19H) 7.20-7.40(m,5H)
【００３７】（３）Ｎ−（３−ヘキサデシロキシ−２−
ヒドロキシプロピル）−３−（２，３−ジヒドロキシプ
ロポキシ）−２−ヒドロキシプロピルアミン（２Ｂａ）
（前記一般式（２Ｂ）において、R1=C16H33,R4=-CH2CH
(OH)CH2OH, ａ＝ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の合成 ３００mlのオートクレーブに上記（２）で得た（２Ａ
ａ）２１．４ｇ（３８．６mmol）、パラジウム黒１．０
７ｇ、メタノール２００mlを入れ、水素圧１００kg／cm
2 ５０℃で３６時間水素化分解した。触媒を濾別後、放
冷し、生成する結晶（２Ｂａ）１１．１ｇ（収率６２
％）を得た。
ヒドロキシプロピル）−３−（２，３−ジヒドロキシプ
ロポキシ）−２−ヒドロキシプロピルアミン（２Ｂａ）
（前記一般式（２Ｂ）において、R1=C16H33,R4=-CH2CH
(OH)CH2OH, ａ＝ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の合成 ３００mlのオートクレーブに上記（２）で得た（２Ａ
ａ）２１．４ｇ（３８．６mmol）、パラジウム黒１．０
７ｇ、メタノール２００mlを入れ、水素圧１００kg／cm
2 ５０℃で３６時間水素化分解した。触媒を濾別後、放
冷し、生成する結晶（２Ｂａ）１１．１ｇ（収率６２
％）を得た。
【００３８】
【表３】 無色固体 融点 111.8-113.0 ℃ IR(KBr,cm-1): 3440,2924,2856,1470,11241 H-NMR(CDCl3,δ) 0.86(t,J=6.40Hz,3H) 1.20-1.41(m,28H) 2.48-2.57(m,4H) 3.23-3.60(m,15H) 3.67-3.90(m,3H)
【００３９】（４）Ｎ−（３−ヘキサデシロキシ−２−
ヒドロキシプロピル）−Ｎ−〔３−（２，３−ジヒドロ
キシプロポキシ）−２−ヒドロキシプロピル〕ヘキサデ
カナミド（１ａ）（前記一般式（１）R1=C16H33,R2=C15
H31,R4=-CH2CH(OH)CH2OH，ａ＝ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の
合成 滴下漏斗、温度計、ジーンースタークを備えた３００ml
の３口フラスコに上記（３）で得た（２Ｂａ）１５．０
ｇ（３２．３mmol）、ベンゼン１５０ml及びナトリウム
メトキシドの２８％メタノール溶液０．３１ｇを入れ、
８０℃に加熱攪拌した。メタノールを留去しながら、パ
ルミチン酸メチル９．１７ｇ（３３．９mmol）をベンゼ
ン２５mlに溶かした溶液を１．５時間かけて滴下した。
滴下終了後、同条件下、２時間加熱攪拌した。減圧濃縮
後、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製す
ることにより、表記化合物（１ａ）１８．０ｇ（収率７
８％）を得た。
ヒドロキシプロピル）−Ｎ−〔３−（２，３−ジヒドロ
キシプロポキシ）−２−ヒドロキシプロピル〕ヘキサデ
カナミド（１ａ）（前記一般式（１）R1=C16H33,R2=C15
H31,R4=-CH2CH(OH)CH2OH，ａ＝ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の
合成 滴下漏斗、温度計、ジーンースタークを備えた３００ml
の３口フラスコに上記（３）で得た（２Ｂａ）１５．０
ｇ（３２．３mmol）、ベンゼン１５０ml及びナトリウム
メトキシドの２８％メタノール溶液０．３１ｇを入れ、
８０℃に加熱攪拌した。メタノールを留去しながら、パ
ルミチン酸メチル９．１７ｇ（３３．９mmol）をベンゼ
ン２５mlに溶かした溶液を１．５時間かけて滴下した。
滴下終了後、同条件下、２時間加熱攪拌した。減圧濃縮
後、シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製す
ることにより、表記化合物（１ａ）１８．０ｇ（収率７
８％）を得た。
【００４０】
【表４】 無色固体 m.p. 78.2-79.0 IR(KBr,cm-1): 3420,2924,2852,1624,1468,11141 H-NMR(CDCl3,δ) 0.85-0.95(m,6H) 1.25-1.70(m,54H) 2.35-2.50(m,2H) 3.20-3.70(m,18H) 3.80-4.20(m,3H)
【００４１】実施例２ Ｎ−（３−ヘキサデシロキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル）−Ｎ−（３−Ｄ−グルコピラノシルオキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル）ヘキサデカナミド（１ｂ）の合成：
ル）−Ｎ−（３−Ｄ−グルコピラノシルオキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル）ヘキサデカナミド（１ｂ）の合成：
【００４２】
【化７】
【００４３】滴下漏斗、還流冷却管を備えた３口フラス
コにＮ−（３−ヘキサデシロキシ−２−ヒドロキシプロ
ピル）ベンジルアミン３４．９ｇ（８８．７mmol）及び
エタノール７．１１ｇを入れ、窒素雰囲気下、８０℃に
加熱攪拌しつつ、更に、２，３−エポキシプロピル Ｄ
−グルコピラノシド１５．４ｇ（６５．２mmol）のエタ
ノール溶液４５mlを３時間かけて滴下した。滴下終了
後、同条件下で３時間加熱攪拌した。減圧濃縮後シリカ
ゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製することによ
り、表記化合物（２Ａｂ）３５．６ｇ（収率８０％）を
得た。
コにＮ−（３−ヘキサデシロキシ−２−ヒドロキシプロ
ピル）ベンジルアミン３４．９ｇ（８８．７mmol）及び
エタノール７．１１ｇを入れ、窒素雰囲気下、８０℃に
加熱攪拌しつつ、更に、２，３−エポキシプロピル Ｄ
−グルコピラノシド１５．４ｇ（６５．２mmol）のエタ
ノール溶液４５mlを３時間かけて滴下した。滴下終了
後、同条件下で３時間加熱攪拌した。減圧濃縮後シリカ
ゲルフラッシュクロマトグラフィーで精製することによ
り、表記化合物（２Ａｂ）３５．６ｇ（収率８０％）を
得た。
【００４４】
【表５】 淡黄色油状物 IR(NaCl,cm-1): 3400,2920,2860,1458,1368,1296,1260,
1106,1074,740,6981 H-NMR(CDCl3,δ) 0.89(t,J=6.42Hz,3H) 1.15-1.67(m,28H) 2.37-2.74(m,4H) 3.20-4.94(m,23H) 7.20-7.60(m,5H)
1106,1074,740,6981 H-NMR(CDCl3,δ) 0.89(t,J=6.42Hz,3H) 1.15-1.67(m,28H) 2.37-2.74(m,4H) 3.20-4.94(m,23H) 7.20-7.60(m,5H)
【００４５】
【化８】
【００４６】５００mlのオートクレーブに上記（１）で
得た（２Ａｂ）２４．６ｇ（４０．９mmol）、パラジウ
ム黒２４９mg、メタノール２４０mlを入れ、水素圧１０
０kg／cm2 ５０℃で７２時間攪拌した。触媒を熱時濾別
後、減圧濃縮した。残渣をメタノールから再結晶して表
記化合物（２Ｂｂ）１４．７ｇ（収率６５％）を得た。
得た（２Ａｂ）２４．６ｇ（４０．９mmol）、パラジウ
ム黒２４９mg、メタノール２４０mlを入れ、水素圧１０
０kg／cm2 ５０℃で７２時間攪拌した。触媒を熱時濾別
後、減圧濃縮した。残渣をメタノールから再結晶して表
記化合物（２Ｂｂ）１４．７ｇ（収率６５％）を得た。
【００４７】
【表６】 無色固体 IR(KBr,cm-1): 3368,2920,2852,1470,1120,1070,10321 H-NMR(CDCl3,δ) 0.85-1.70(m,31H) 2.40-5.00(m,26H)
【００４８】
【化９】
【００４９】滴下漏斗、ジーンースタークを備えた５０
０mlの３口フラスコに、上記（２）で得た（２Ｂｂ）１
６．１ｇ（２９．２mmol）、ベンゼン２４０ml及びナト
リウムメトキシドの２８％メタノール溶液１．６０ｇを
入れ、８０℃に加熱攪拌した。メタノールを留去しなが
らパルミチン酸メチル８．７０ｇ（３２．２mmol）のベ
ンゼン溶液１５mlを１時間かけて滴下した。滴下終了
後、同条件下で４．５時間攪拌したのち、減圧濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより、表記化合物（１
ｂ）１２．０ｇ（収率５２％）を得た。
０mlの３口フラスコに、上記（２）で得た（２Ｂｂ）１
６．１ｇ（２９．２mmol）、ベンゼン２４０ml及びナト
リウムメトキシドの２８％メタノール溶液１．６０ｇを
入れ、８０℃に加熱攪拌した。メタノールを留去しなが
らパルミチン酸メチル８．７０ｇ（３２．２mmol）のベ
ンゼン溶液１５mlを１時間かけて滴下した。滴下終了
後、同条件下で４．５時間攪拌したのち、減圧濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマ
トグラフィーで精製することにより、表記化合物（１
ｂ）１２．０ｇ（収率５２％）を得た。
【００５０】
【表７】 無色固体 IR(KBr,cm-1): 3428,2924,2856,1624,1470,1112,1076,1
0381 H-NMR(CDCl3,δ) 0.88(t,J=6.40Hz,6H) 1.26-1.69(m,54H) 2.26-2.47(m,2H) 2.93-5.57(m,25H)
0381 H-NMR(CDCl3,δ) 0.88(t,J=6.40Hz,6H) 1.26-1.69(m,54H) 2.26-2.47(m,2H) 2.93-5.57(m,25H)
【００５１】実施例３ １−〔Ｎ−（３−ヘキサデシロキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル）−ヘキサデカノイルアミノ〕−１−デオキシ−
３−Ｏ−α−Ｄ−グルコピラノシル−Ｄ−グルシトール
（１ｃ）の合成：
ロピル）−ヘキサデカノイルアミノ〕−１−デオキシ−
３−Ｏ−α−Ｄ−グルコピラノシル−Ｄ−グルシトール
（１ｃ）の合成：
【００５２】
【化１０】
【００５３】還流冷却管を備えた１ｌのナスフラスコに
１−アミノ−３−ヘキサデシロキシ−２−プロパノール
２２．７ｇ（７２mmol）、マルトース２３．５ｇ（６９
mmol）、メタノール３５０ｇを入れ、窒素雰囲気下、室
温で２０時間攪拌したのち８０℃で１時間加熱攪拌し
た。得られた溶液を９７０mlのオートクレーブに移し、
パラジウムカーボン２．２６ｇを加え、水素圧１００kg
／cm2 、５０℃で１６時間水素化分解した。触媒を熱時
濾別後、放冷し、生成する結晶を得た。これを再びメタ
ノールから再結晶を行い、表記化合物（２Ｂｃ）１５．
２ｇ（収率３３％）を得た。
１−アミノ−３−ヘキサデシロキシ−２−プロパノール
２２．７ｇ（７２mmol）、マルトース２３．５ｇ（６９
mmol）、メタノール３５０ｇを入れ、窒素雰囲気下、室
温で２０時間攪拌したのち８０℃で１時間加熱攪拌し
た。得られた溶液を９７０mlのオートクレーブに移し、
パラジウムカーボン２．２６ｇを加え、水素圧１００kg
／cm2 、５０℃で１６時間水素化分解した。触媒を熱時
濾別後、放冷し、生成する結晶を得た。これを再びメタ
ノールから再結晶を行い、表記化合物（２Ｂｃ）１５．
２ｇ（収率３３％）を得た。
【００５４】
【表８】 無色固体 IR(KBr,cm-1): 3396(br),2920,2852,1466,10281 H-NMR(CDCl3-D2O,δ) 0.88(t,J=6.48Hz,3H) 1.12-2.10(m,28H) 2.40-2.85(m,4H) 3.25-4.30(m,19H) 5.07(br,1H)
【００５５】
【化１１】
【００５６】５００mlのナスフラスコに、上記（１）で
得た化合物５．００ｇ（７７mmol）、無水パルミチン酸
４．１２ｇ（８３mmol）、クロロホルム１００mlを入
れ、窒素雰囲気下、８０℃で３０分間加熱攪拌した。減
圧濃縮後、メタノールから再結晶を行い、表記化合物
（１ｃ）１．５２ｇ（収率２２％）を得た。
得た化合物５．００ｇ（７７mmol）、無水パルミチン酸
４．１２ｇ（８３mmol）、クロロホルム１００mlを入
れ、窒素雰囲気下、８０℃で３０分間加熱攪拌した。減
圧濃縮後、メタノールから再結晶を行い、表記化合物
（１ｃ）１．５２ｇ（収率２２％）を得た。
【００５７】
【表９】 無色固体 IR(KBr,cm-1): 3400(br),2920,1618,1466,1078,10341 H-NMR(CDCl3-D2O) 0.88(t,J=6.04Hz,6H) 1.12-1.75(m,54H) 2.30-2.55(m,2H) 3.15-4.18(m,21H) 5.02(d,J=3.86Hz,1H)
【００５８】実施例４ 下記の表１１に示すアミド誘導体（１ａ）〜（１ｃ）と
ワセリンとをアミド誘導体／ワセリン＝１／３の割合で
混合し、それぞれについて下記の方法により皮膚コンダ
クタンス及び肌荒れについて評価した。その結果を表１
２に示す。
ワセリンとをアミド誘導体／ワセリン＝１／３の割合で
混合し、それぞれについて下記の方法により皮膚コンダ
クタンス及び肌荒れについて評価した。その結果を表１
２に示す。
【００５９】（試験方法）冬期に頬部に肌荒れを起こし
ている２０〜５０才の女性１０名を被験者とし、左右の
頬の異なる皮膚外用剤を２週間塗布する。２週間の塗布
が終了した翌日に次の試験を行った。
ている２０〜５０才の女性１０名を被験者とし、左右の
頬の異なる皮膚外用剤を２週間塗布する。２週間の塗布
が終了した翌日に次の試験を行った。
【００６０】（１）皮膚コンダクタンス ３７℃の温水にて洗顔後、温度２０℃、湿度４０％の部
屋で２０分間安静にしたのち、角質層の水分含有量を皮
膚コンダクタンスメーター（ＩＢＳ社製）にて測定し
た。コンダクタンス値は値が小さいほど皮膚は肌荒れ
し、５以下ではひどい肌荒れである。一方この値が２０
以上であれば肌荒れは殆ど認められない。
屋で２０分間安静にしたのち、角質層の水分含有量を皮
膚コンダクタンスメーター（ＩＢＳ社製）にて測定し
た。コンダクタンス値は値が小さいほど皮膚は肌荒れ
し、５以下ではひどい肌荒れである。一方この値が２０
以上であれば肌荒れは殆ど認められない。
【００６１】（２）肌荒れスコア 肌荒れを肉眼で観察し、下記表１０に示す基準により判
定した。スコアは平均値で示した。
定した。スコアは平均値で示した。
【００６２】
【表１０】
【００６３】
【表１１】
【００６４】
【表１２】
【００６５】実施例５ 実施例４で用いたアミド誘導体１ａ〜１ｃを用いて、下
記表１３に示す組成の皮膚外用剤（乳化化粧料）を製造
し、その肌荒れ改善効果を実施例４と同様の方法により
評価した。結果を表１４に示す。
記表１３に示す組成の皮膚外用剤（乳化化粧料）を製造
し、その肌荒れ改善効果を実施例４と同様の方法により
評価した。結果を表１４に示す。
【００６６】
【表１３】
【００６７】
【表１４】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年１月７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】ベンジルアミン誘導体（３）とグリシジル
エーテル（４）との反応は、この両者を無溶媒又はメタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール
等の低級アルコール溶媒中にて２５〜１５０℃で数１０
分〜２４時間攪拌することにより行われる。ここで原料
となるベンジルアミン誘導体（３）としては、Ｎ−ベン
ジル−３−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ヒドロキ
シプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−〔２−ビス（２
−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロポキシ〕−
２−ヒドロキシプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−
（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ
プロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−〔２，３−（ジメ
チルメチレンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシ
プロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−Ｄ−グルコピラノ
シルオキシ−２−ヒドロキシプロピルアミン、Ｎ−ベン
シル−３−Ｄ−ガラクトピラノシルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−（２，３，
４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシロキシ）−２−ヒ
ドロキシプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−４−α−Ｄ−
グルコピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒド
ロキシヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−４−β−Ｄ−グ
ルコピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロ
キシヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−４−α−Ｄ−ガラ
クトピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロ
キシヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−６−α−Ｄ−グル
コピラノシルオキシ−２，３，４，５−テトラヒドロキ
シヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−６−α−Ｄ−ガラク
トピラノシルオキシ−２，３，４，５−テトラヒドロキ
シヘキシルアミン等が挙げられる。なお、ベンジルアミ
ン誘導体としてＮ−ベンジル−３−〔２，３−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシプ
ロピルアミンのような水酸基の保護基を有する化合物を
用いた場合は、反応後、酸処理により当該水酸基の保護
基を脱離すればよい。
エーテル（４）との反応は、この両者を無溶媒又はメタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール
等の低級アルコール溶媒中にて２５〜１５０℃で数１０
分〜２４時間攪拌することにより行われる。ここで原料
となるベンジルアミン誘導体（３）としては、Ｎ−ベン
ジル−３−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ヒドロキ
シプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−〔２−ビス（２
−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロポキシ〕−
２−ヒドロキシプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−
（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ
プロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−〔２，３−（ジメ
チルメチレンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシ
プロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−Ｄ−グルコピラノ
シルオキシ−２−ヒドロキシプロピルアミン、Ｎ−ベン
シル−３−Ｄ−ガラクトピラノシルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−３−（２，３，
４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシロキシ）−２−ヒ
ドロキシプロピルアミン、Ｎ−ベンジル−４−α−Ｄ−
グルコピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒド
ロキシヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−４−β−Ｄ−グ
ルコピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロ
キシヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−４−α−Ｄ−ガラ
クトピラノシルオキシ−２，３，５，６−テトラヒドロ
キシヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−６−α−Ｄ−グル
コピラノシルオキシ−２，３，４，５−テトラヒドロキ
シヘキシルアミン、Ｎ−ベンジル−６−α−Ｄ−ガラク
トピラノシルオキシ−２，３，４，５−テトラヒドロキ
シヘキシルアミン等が挙げられる。なお、ベンジルアミ
ン誘導体としてＮ−ベンジル−３−〔２，３−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシプ
ロピルアミンのような水酸基の保護基を有する化合物を
用いた場合は、反応後、酸処理により当該水酸基の保護
基を脱離すればよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３０】実施例１ Ｎ−（３−ヘキサデシロキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル）−Ｎ−〔３−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）
−２−ヒドロキシプロピル〕ヘキサデカナミド（１ａ）
の合成： （１）Ｎ−ベンジル−３−〔２，３−（ジメチルメチレ
ンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシプロピルア
ミン（３ａ）（前記一般式（３）において、Ｒ４＝
（２，３−ジメチルメチレンジオキシ）プロピル，ａ＝
ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の合成
ル）−Ｎ−〔３−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）
−２−ヒドロキシプロピル〕ヘキサデカナミド（１ａ）
の合成： （１）Ｎ−ベンジル−３−〔２，３−（ジメチルメチレ
ンジオキシ）プロポキシ〕−２−ヒドロキシプロピルア
ミン（３ａ）（前記一般式（３）において、Ｒ４＝
（２，３−ジメチルメチレンジオキシ）プロピル，ａ＝
ｂ＝ｃ＝０，ｄ＝１）の合成
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３１】滴下漏斗、温度計、還流冷却管を備えた５
００ｍｌの３口フラスコにベンジルアミン１７４ｍｌ
（１．５９ｍｏｌ）、エタノール４８．０ｍｌを入れ、
窒素雰囲気下で８０℃に加熱攪拌しつつ、これに２，３
−（ジメチルメチレンジオキシ）プロピルグリシジルエ
ーテル２０．３ｇ（０．１１ｍｏｌ）を２時間かけて滴
下し、滴下終了後、更に同条件下、１時間加熱攪拌し
た。減圧濃縮後、シリカゲルフラッシュクロマトグラフ
ィーで精製することにより、表記化合物（３ａ）２０．
４ｇ（収率６４％）を得た。
００ｍｌの３口フラスコにベンジルアミン１７４ｍｌ
（１．５９ｍｏｌ）、エタノール４８．０ｍｌを入れ、
窒素雰囲気下で８０℃に加熱攪拌しつつ、これに２，３
−（ジメチルメチレンジオキシ）プロピルグリシジルエ
ーテル２０．３ｇ（０．１１ｍｏｌ）を２時間かけて滴
下し、滴下終了後、更に同条件下、１時間加熱攪拌し
た。減圧濃縮後、シリカゲルフラッシュクロマトグラフ
ィーで精製することにより、表記化合物（３ａ）２０．
４ｇ（収率６４％）を得た。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３７】（３）Ｎ−（３−ヘキサデシロキシ−２−
ヒドロキシプロピル）−３−（２，３−ジヒドロキシプ
ロポキシ）−２−ヒドロキシプロピルアミン（２Ｂａ）
（前記一般式（２Ｂ）において、Ｒ１＝Ｃ１６Ｈ３３，
Ｒ４＝−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ，ａ＝ｂ＝ｃ＝
０，ｄ＝１）の合成 ３００ｍｌのオートクレーブに上記（２）で得た（２Ａ
ａ）２１．４ｇ（３８．６ｍｍｏｌ）、パラジウム黒
１．０７ｇ、メタノール２００ｍｌを入れ、水素圧１０
０ｋｇ／ｃｍ２、５０℃で３６時間水素化分解した。触
媒を濾別後、放冷し、生成する結晶（２Ｂａ）１１．１
ｇ（収率６２％）を得た。
ヒドロキシプロピル）−３−（２，３−ジヒドロキシプ
ロポキシ）−２−ヒドロキシプロピルアミン（２Ｂａ）
（前記一般式（２Ｂ）において、Ｒ１＝Ｃ１６Ｈ３３，
Ｒ４＝−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ，ａ＝ｂ＝ｃ＝
０，ｄ＝１）の合成 ３００ｍｌのオートクレーブに上記（２）で得た（２Ａ
ａ）２１．４ｇ（３８．６ｍｍｏｌ）、パラジウム黒
１．０７ｇ、メタノール２００ｍｌを入れ、水素圧１０
０ｋｇ／ｃｍ２、５０℃で３６時間水素化分解した。触
媒を濾別後、放冷し、生成する結晶（２Ｂａ）１１．１
ｇ（収率６２％）を得た。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４２】
【化７】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４５】
【化８】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４８】
【化９】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５２】
【化１０】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５４】
【表８】 無色固体 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：３３９６（ｂｒ）２９２０
２８５２ １４６６ １０２８１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３−Ｄ２Ｏ，δ） ０．８８（ｔ，Ｊ＝６．４８Ｈｚ，３Ｈ） １．１２−２．１０（ｍ，２８Ｈ） ２．４０−２．８５（ｍ，４Ｈ） ３．２５−４．３０（ｍ，１７Ｈ） ５．０７（ｂｒ，１Ｈ）
２８５２ １４６６ １０２８１ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３−Ｄ２Ｏ，δ） ０．８８（ｔ，Ｊ＝６．４８Ｈｚ，３Ｈ） １．１２−２．１０（ｍ，２８Ｈ） ２．４０−２．８５（ｍ，４Ｈ） ３．２５−４．３０（ｍ，１７Ｈ） ５．０７（ｂｒ，１Ｈ）
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５５】
【化１１】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００６３】
【表１１】
Claims (3)
- 【請求項１】 次の一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 は炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖の飽
和又は不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ2 は水素原子又は
炭素数１〜３１の直鎖若しくは分岐鎖の飽和若しくは不
飽和の炭化水素基を示し、Ｒ3 及びＲ4 は炭素数１〜１
２の酸素原子を含んでいてもよい炭化水素基を示し、
ａ、ｂ、ｃ及びｄはそれぞれ０〜３の数を示すが、ｂと
ｄの双方が０となる場合を除く）で表わされるアミド誘
導体。 - 【請求項２】 次の一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 は炭素数１０〜２６の直鎖又は分岐鎖の飽
和又は不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ3 及びＲ4 は炭素
数１〜１２の酸素原子を含んでいてもよい炭化水素基を
示し、Ｒ5 は水素原子又はベンジル基を示し、ａ、ｂ、
ｃ及びｄは、それぞれ０〜３の数を示すが、ｂとｄの双
方が０となる場合を除く）で表わされるアミン誘導体。 - 【請求項３】 請求項１記載のアミド誘導体を含有する
皮膚外用剤。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4294504A JPH06145123A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | アミド誘導体及びその製造中間体、並びに該アミド誘導体を含有する皮膚外用剤 |
| US08/144,411 US5446027A (en) | 1992-11-02 | 1993-11-02 | Amide derivative and external skin care preparation containing the same |
| EP93117729A EP0596450A1 (en) | 1992-11-02 | 1993-11-02 | Amide derivative and external skin care preparation containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4294504A JPH06145123A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | アミド誘導体及びその製造中間体、並びに該アミド誘導体を含有する皮膚外用剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06145123A true JPH06145123A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17808635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4294504A Pending JPH06145123A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | アミド誘導体及びその製造中間体、並びに該アミド誘導体を含有する皮膚外用剤 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5446027A (ja) |
| EP (1) | EP0596450A1 (ja) |
| JP (1) | JPH06145123A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2775407B2 (ja) * | 1995-05-24 | 1998-07-16 | 花王株式会社 | アミド誘導体、この製造中間体並びに該アミド誘導体を含有する皮膚外用剤及び毛髪化粧料 |
| EP0761644A3 (en) * | 1995-09-07 | 1999-04-07 | Kao Corporation | Amide derivatives and their use in cosmetic composition |
| JP3457813B2 (ja) * | 1996-11-07 | 2003-10-20 | 花王株式会社 | 化粧料 |
| FR2755689B1 (fr) * | 1996-11-14 | 1998-12-18 | Ceca Sa | Procede de preparation d'amines polyglycerylees, les amines ainsi obtenues et leurs derives |
| DE60043187D1 (de) | 1999-04-08 | 2009-12-03 | Kao Corp | Zusammensetzungen für externe verwendung |
| US20210283469A1 (en) * | 2020-03-11 | 2021-09-16 | POP-iT TENNIS LLC | Sport equipment attachment |
| CN112441937B (zh) * | 2020-11-25 | 2022-04-22 | 华南理工大学 | 一种酰胺衍生物的合成方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2404070A1 (de) * | 1974-01-29 | 1975-08-14 | Henkel & Cie Gmbh | Hautpflege- und hautschutzmittel mit einem gehalt an haut-feuchthaltemitteln |
| DE2421618A1 (de) * | 1974-05-04 | 1975-11-20 | Henkel & Cie Gmbh | Hautpflege- und hautschutzmittel mit einem gehalt an haut-feuchthaltemitteln |
| JPS6026086B2 (ja) * | 1978-05-13 | 1985-06-21 | カネボウ株式会社 | 化粧料 |
| JPS6026087B2 (ja) * | 1978-06-15 | 1985-06-21 | カネボウ株式会社 | 化粧料 |
| MY100343A (en) * | 1985-12-20 | 1990-08-28 | Kao Corp | Amide derivative and external medicament comprising same |
| JPS63216852A (ja) * | 1987-03-05 | 1988-09-09 | Kao Corp | ２級アミド誘導体の製造法 |
| EP0534286B1 (en) * | 1987-03-06 | 1995-08-02 | Kao Corporation | External skin care preparation |
| JPH078844B2 (ja) * | 1987-07-27 | 1995-02-01 | 花王株式会社 | アミド誘導体及びそれを含有する皮膚外用剤 |
| ES2058670T3 (es) * | 1989-05-19 | 1994-11-01 | Kao Corp | Derivados amidicos y preparados dermatologicos que los contienen. |
| JPH03115223A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-16 | Kao Corp | 癌転移阻害剤 |
| JPH0818948B2 (ja) * | 1990-08-31 | 1996-02-28 | 花王株式会社 | 水性化粧料及びその製造法 |
| AU639373B2 (en) * | 1990-10-22 | 1993-07-22 | Unilever Plc | Cosmetic composition |
| GB9100816D0 (en) * | 1991-01-15 | 1991-02-27 | Unilever Plc | Cosmetic composition |
| EP0605543B1 (en) * | 1991-09-24 | 1996-03-27 | Kao Corporation | Composition for external skin care |
-
1992
- 1992-11-02 JP JP4294504A patent/JPH06145123A/ja active Pending
-
1993
- 1993-11-02 EP EP93117729A patent/EP0596450A1/en not_active Withdrawn
- 1993-11-02 US US08/144,411 patent/US5446027A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0596450A1 (en) | 1994-05-11 |
| US5446027A (en) | 1995-08-29 |
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