JPH06145146A - オキシネイト誘導体 - Google Patents

オキシネイト誘導体

Info

Publication number
JPH06145146A
JPH06145146A JP32281792A JP32281792A JPH06145146A JP H06145146 A JPH06145146 A JP H06145146A JP 32281792 A JP32281792 A JP 32281792A JP 32281792 A JP32281792 A JP 32281792A JP H06145146 A JPH06145146 A JP H06145146A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
cyano
light emitting
emitting layer
synthesis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32281792A
Other languages
English (en)
Inventor
Manabu Uchida
内田  学
Yusho Izumisawa
勇昇 泉澤
Masazumi Uchino
正純 内野
Kenji Furukawa
顕治 古川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chisso Corp filed Critical Chisso Corp
Priority to JP32281792A priority Critical patent/JPH06145146A/ja
Publication of JPH06145146A publication Critical patent/JPH06145146A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Quinoline Compounds (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 次式 〔式中R〜Rは独立にH,F又はCN、うち少なく
共一つはF又はCN、Mは金属原子、nは1〜4のいづ
れか〕で示されるオキシネイト誘導体。 【効果】 上記化合物は、(EL)素子の構成々分とし
て有用であり、置換基の位置、数、金属の種類を変える
ことにより種々の発光色が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、蛍光塗料、エレクトロ
ルミネッセンス(EL)素子等の発光材料に関するもの
で、詳しくは新規なオキシネイト誘導体に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術とその問題点】有機化合物の高い蛍光効率
に着目し、有機化合物のEL性能を利用した素子の研究
は古くから行われている。例えば、W.Helfris
h,Dresmer.Williamsらはアントラセ
ン結晶を用い、青色発光を得ている(J.Chem.P
hys.,44,2902(1966))。また、C.
W.TangとS.A.VanSlykeはオキシン錯
体を用いて、緑色の発光を得ている(Appl.Phy
s.Lett.,51(12),21(1987))。
しかしいずれも実用化するために十分な条件を備えては
いない。また、フルカラーディスプレイを作製するため
には様々な発光色を得る必要がある。そこで、本発明は
新規オキシネイト誘導体、特にEL素子の1成分として
有効に機能する新規な化合物を開発すべく鋭意研究を重
ねた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】その結果、下記一般式
【化2】 [式中、R1 〜R6 はそれぞれ独立に水素原子、フッ素
原子またはシアノ基を示し、R1 〜R6 のうち少なくと
も1つはフッ素原子またはシアノ基であり、Mは金属原
子を示し、nは1、2、3または4を示す。]で表され
るオキシネイト誘導体がEL素子の1成分として有用で
あることを見いだし、本発明を完成した。以上の記述か
ら明らかなように、本発明の目的は、EL素子の成分と
して有用な新規化合物とその製造法を提供することであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記(1)な
いし(4)の各構成を有する。 (1)一般式
【化3】 [式中、R1 〜R6 はそれぞれ独立に水素原子、フッ素
原子またはシアノ基を示し、R1 〜R6 のうち少なくと
も1つはフッ素原子またはシアノ基であり、Mは金属原
子を示し、nは1、2、3または4を示す。]で表され
るオキシネイト誘導体。 (2)前記第1項記載の化合物において、R1 〜R6
それぞれ独立に水素原子またはシアノ基を示し、R1
6 のうち少なくとも1つはシアノ基であるオキシネイ
ト誘導体。 (3)前記第1項記載の化合物において、R1 〜R6
それぞれ独立に水素原子またはシアノ基を示し、R1
6 のうち少なくとも1つはシアノ基であり、Mはリチ
ウム、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、カル
シウム、マンガン、亜鉛、ガリウム、ストロンチウム、
イットリウム、ジルコニウム、鉛、銀、カドミウム、イ
ンジウムまたはバリウムのいづれかであるオキシネイト
誘導体。 (4)前記第1項記載の化合物をもちいた電界発光素
子。
【0005】本発明の構成と効果につき以下に詳述す
る。本発明の化合物の具体例としては、下記の化合物を
挙げることができる。
【化4】
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
【化18】
【化19】 上記各式中、Mはリチウム、ベリリウム、マグネシウ
ム、アルミニウム、カルシウム、マンガン、亜鉛、ガリ
ウム、ストロンチウム、イットリウム、ジルコニウム、
鉛、銀、カドミウム、インジウムまたはバリウムであ
り、nは1、2、3または4を表す。
【0006】上述した本発明の新規なオキシネイト誘導
体は、以下のようにして製造できる。まず、フッ素化ま
たは/およびシアノ化されたオキシンを酢酸、メタノー
ル、エタノールまたはプロパノールなどの溶媒にとか
し、所望の金属を含有する水溶液に加え、pHを所望の
値に調節することにより析出する結晶をろ別して得られ
る。この様にして得られた本発明のオキシネイト誘導体
は、低電圧で高輝度の発光が可能なEL素子の1成分と
して有効に利用できるものである。
【0007】本発明の化合物を用いたEL素子の構成と
しては、各種の態様があるが、基本的には一対の電極
(陽極と陰極)間に、前記オキシネイト誘導体を用いて
製造した発光層を挟持した構成とし、これに必要に応じ
て、正孔注入層や電子注入層を介在させればよい。具体
的には(1)陽極/発光層/陰極、(2)陽極/正孔注
入層/発光層/陰極、(3)陽極/発光層/電子注入層
/陰極、(4)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層
/陰極などの構成を挙げることができる。該正孔注入層
や電子注入層は、必須ではないが、これらの層があると
発光性能が一段と向上する。また、前記構成の素子は、
いずれも基板に支持されていることが好ましく、該基板
に付いては特に制限はなく、従来EL素子に慣用されて
いるもの、例えばガラス、透明プラスチック、石英など
から成るものを用いることができる。
【0008】本発明の化合物は、これらEL素子の発光
層として有用である。この発光層は、例えば蒸着法、ス
ピンコート法、キャスト法等の公知の方法によって、一
般式(I)の化合物を薄膜化する事により形成すること
ができるが、特に分子堆積膜とすることが好ましい。こ
こで分子堆積膜とは、該化合物の気相状態から沈着され
形成された薄膜や、該化合物の溶液状態または液相状態
から固体化され形成された膜のことであり、例えば、蒸
着膜などを示すが、通常この分子堆積膜はLB法により
形成された薄膜(分子累積膜)とは区別することができ
る。また、該発光層は、特開昭59−194393号公
報などに開示されているように、樹脂などの結着剤と該
化合物とを、溶剤に溶かして溶液とした後、これをスピ
ンコート法などにより薄膜化し、形成することができ
る。
【0009】このようにして形成された発光層の薄膜に
ついては特に制限はなく、適宜状況に応じて選ぶことが
できるが、通常5nmないし5000nmの範囲で選定
される。この様にして作製された本発明の化合物よりな
る発光層は、置換基の位置、種類または数および金属の
種類によりその色を様々に変化させることができる。例
えば後述の実施例1で示される化合物は黄色に発光し、
実施例3で示される化合物は橙色に発光し、実施例4で
示される化合物は青緑色に発光する。
【0010】このEL素子における陽極としては、仕事
関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化
合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好まし
く用いられる。このような電極物質の具体例としてはA
uなどの金属、CuI、ITO、SnO2 、ZnOなど
の誘電性透明材料が挙げられる。該陽極は、これらの電
極物質を蒸着やスパッタリングなどの方法により、薄膜
を形成させることにより作製することができる。この電
極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大
きくすることが望ましく、また、電極としてのシート抵
抗は数百Ω/mm以下が好ましい。さらに膜厚は材料に
もよるが、通常10nmないし1μm、好ましくは10
〜200nmの範囲で選ばれる。
【0011】一方、陰極としては、仕事関数の小さい
(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれ
らの混合物を電極物質とするものが用いられる。このよ
うな電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウ
ム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシ
ウム/銅混合物、Al/AlO2 、インジウムなどが挙
げられる。該陰極は、これらの電極物質を蒸着やスパッ
タリングなどの方法により、薄膜を形成させることによ
り、作製することができる。また、電極としてのシート
抵抗は数百Ω/mm以下が好ましく、膜厚は通常10n
mないし1μm、好ましくは50〜200nmの範囲で
選ばれる。なお、このEL素子においては、該陽極また
は陰極のいずれか一方が透明または半透明であること
が、発光を透過するため、発光の取出し効率がよく好都
合である。
【0012】本発明の化合物を用いるEL素子の構成
は、前記したように、各種の態様があり、前記(2)ま
たは(4)の構成のEL素子における正孔注入層(正孔
注入輸送層)は、正孔伝達化合物からなる層であって、
陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を有
し、この正孔注入層を陽極と発光層との間に介在させる
ことにより、より低い電界で多くの正孔が発光層に注入
され、その上、発光層に陰極または電子注入層より注入
された電子は、発光層と正孔注入層の界面に存在する電
子の障壁により、この発光層内の界面付近に蓄積され発
光効率が向上するなど、発光性能の優れた素子となる。
前記正孔注入層に用いられる正孔伝達化合物は、電界を
与えられた2個の電極間に配置されて陽極から正孔が注
入された場合、該正孔を適切に発光層へ伝達しうる化合
物であって、例えば、104 〜106 V/cmの電界印
加時に、少なくとも10-6cm2 /V・秒の正孔移動度
をもつものが好適である。このような正孔伝達化合物に
ついては、前記の好ましい性質を有する物であれば特に
制限はなく、従来、光導電材料において、正孔の電荷輸
送材として慣用されているものやEL素子の正孔注入層
に使用される公知のものの中から任意のものを選択して
用いることができる。
【0013】該電荷輸送材料としては、例えばトリアゾ
ール誘導体(米国特許第3,112,197号明細書な
どに記載のもの)、オキサジアゾール誘導体(米国特許
第3,189,447号明細書などに記載のもの)、イ
ミダゾール誘導体(特公昭37−16096号公報など
に記載のもの)、ポリアリールアルカン誘導体(米国特
許第3,615,402号明細書、同3,820,98
9号明細書、同3,542,544号明細書、特公昭4
5−555号公報、同51−10983号公報、特開昭
51−93224号公報、同55−17105号公報、
同56−4148号公報、、同55−108667号公
報、同55−156953号公報、同56−36656
号公報などに記載のもの)、ピラゾリン誘導体及びピラ
ゾロン誘導体(米国特許第3,180,729号明細
書、同4,278,746号明細書、特開昭55−88
064号公報、同55−88065号公報、同49−1
05537号公報、同55−51086号公報、同56
−80051号公報、同56−88141号公報、同5
7−45545号公報、同54−112637号公報、
同55−74546号公報などに記載のもの)、フェニ
レンジアミン誘導体(米国特許第3,615,404号
明細書、特公昭51−10105号公報、同46−37
12号公報、同47−25336号公報、特開昭54−
53435号公報、同54−110536号公報、同5
4−119925号公報などに記載のもの)、アリール
アミン誘導体(米国特許第3,567,450号明細
書、同3,180,703号明細書、同3,240,5
97号明細書、同3,658,520号明細書、同4,
232,103号明細書、同4,175,961号明細
書、同4,012,376号明細書、特公昭49−35
702号公報、同39−27577号公報、特開昭55
−144250号公報、同56−119132号公報、
同56−22437号公報、西独特許第1,110,5
18号明細書などに記載のもの)、アミノ置換カルコン
誘導体(米国特許第3,526,501号明細書などに
記載のもの)、オキサゾール誘導体(米国特許第3,2
57,203号明細書などに記載のもの)、スチリルア
ントラセン誘導体(特開昭56−46234号公報など
に記載のもの)、フルオレノン誘導体(特開昭54−1
10837号公報などに記載のもの)、ヒドラゾン誘導
体(米国特許第3,717,462号明細書、特開昭5
4−59143号公報、同55−52063号公報、同
55−52064号公報、同55−46760号公報、
同55−85495号公報、同57−11350号公
報、同57−148749号公報などに記載されている
もの)、スチルベン誘導体(特開昭61−210363
号公報、同61−228451号公報、同61−146
42号公報、同61−72255号公報、同62−47
646号公報、同62−36674号公報、同62−1
0652号公報、同62−30255号公報、同60−
93445号公報、同60−94462号公報、同60
−174749号公報、同60−175052号公報に
記載のもの)などを挙げることができる。
【0014】これらの化合物を正孔伝達化合物として使
用することができるが、次に示すポリフィリン化合物
(特開昭63−295695号公報などに記載のもの)
及び芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合
物(米国特許第4,127,412号明細書、特開昭5
3−27033号公報、同54−58445号公報、同
54−149634号公報、同54−64299号公
報、同55−79450号公報、同55−144250
号公報、同56−119132号公報、同61−295
558号公報、同61−98353号公報、同63−2
95695号公報などに記載のもの)、特に該芳香族第
三級アミン化合物を用いることが好ましい。
【0015】該ポリフィリン化合物の代表例としては、
ポリフィリン;5,10,15,20−テトラフェニル
−21H,23H−ポリフィリン銅(II);5,10,1
5,20−テトラフェニル−21H,23H−ポリフィ
リン亜鉛(II);5,10,15,20−テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)−21H,23H−ポリフィリ
ン;シリコンフタロシアニンオキシド;アルミニウムフ
タロシアニンクロリド;フタロシアニン(無金属);ジ
リチウムフタロシアニン;銅テトラメチルフタロシアニ
ン;銅フタロシアニン;クロムフタロシアニン;亜鉛フ
タロシアニン;鉛フタロシアニン;チタニウムフタロシ
アニンオキシド;マグネシウムフタロシアニン;銅オク
タメチルフタロシアニン;などが挙げられる。
【0016】また該芳香族第三級化合物及びスチリルア
ミン化合物の代表例としては、N,N,N’,N’,−
テトラフェニル−4,4’−ジアミノビフェニル;N,
N’−ジフェニル−N,N’−ジ(3−メチルフェニ
ル)−4,4’−ジアミノビフェニル(TPD);2,
2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパ
ン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニ
ル)シクロヘキサン;N,N,N’,N’,−テトラ−
p−トリル−4,4’−ジアミノビフェニル;1,1−
ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェ
ニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−
メチルフェニル)フェニルメタン;N,N’−ジフェニ
ル−N,N’−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4’
−ジアミノビフェニル;N,N’−テトラフェニル−
4,4’−ジアミノビフェニルエーテル;4,4’−ビ
ス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,
N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリル
アミン)−4’−[4(ジ−p−トリルアミン)スチリ
ル]スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2
−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4’−
N,N−ジフェニルアミノスチルベン;N−フェニルカ
ルバゾールなどが挙げられる。
【0017】上記EL素子における該正孔注入層は、こ
れらの正孔伝達化合物一種または二種以上からなる一層
で構成されてもよいし、あるいは、前記層とは別種の化
合物からなる正孔注入層を積層したものであってもよ
い。また、本発明の化合物は、電子注入層または電子輸
送層としても適している。これは、フッ素またはシアノ
基を導入したことによる。また、これらの層に用いられ
る化合物は、発光層や正孔輸送層と励起錯体を形成しな
い方がよく、本発明の化合物は他の化合物と励起錯体を
形成しづらいという利点がある。前記(3)または
(4)の構成のEL素子における電子注入層(電子注入
輸送層)は、電子伝達化合物からなるものであって、陰
極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有して
いる。このような電子伝達化合物について特に制限はな
く、本発明の化合物ばかりでなく、従来公知の化合物の
中から任意のものを選択して用いる事ができる。該電子
伝達化合物の好ましい例としては、
【0018】
【化20】
【化21】 などのニトロ置換フルオレノン誘導体、
【化22】 などのチオピランオキシド誘導体、
【化23】 などのジフェニルキノン誘導体[「ポリマー・プレプリ
ント(PolymerPreprints),ジャパ
ン」37,9,681(1988)]などに記載のも
の、あるいは
【0019】
【化24】
【化25】 などの化合物[J.Apply.Phys.,27,2
69(1988)などに記載のもの]や、アントラキノ
ジメタン誘導体(特開昭57−149259号公報、同
58−55450号公報、同61−225151号公
報、同61−233750号公報、同63−10406
1号公報などに記載のもの)、フルオレニリデンメタン
誘導体(特開昭60−69657号公報、同61−14
3764号公報、同61−148159号公報などに記
載のもの)、アントロン誘導体(特開昭61−2251
51号公報、同61−233750号公報などに記載の
もの)などを挙げることができる。
【0020】次に、本発明の化合物を用いたEL素子を
作製する好適な方法の例を各構成の素子それぞれについ
て説明する。前記の陽極/発光層/陰極からなるEL素
子の作製法について説明すると、まず適当な基板上に、
所望の電極物質、例えば陽極用物質からなる薄膜を、1
μm以下、好ましくは10〜200nmの範囲の膜厚に
なるように、蒸着やスパッタリングなどの方法により形
成させ、陽極を作製したのち、この上に発光材料である
一般式(I)で表わされる化合物の薄膜を形成させ、発
光層を設ける。該発光材料の薄膜化の方法としては、例
えば、スピンコート法、キャスト法、蒸着法などがある
が、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが生成し
にくいなどの点から、蒸着法が好ましい。
【0021】該発光材料の薄膜化に、この蒸着法を採用
する場合、その蒸着条件は、使用する発光層に用いる有
機化合物の種類、分子累積膜の目的とする結晶構造、会
合構造などにより異なるが、一般にボート加熱温度50
〜400℃、真空度10-5〜10-3Pa,蒸着速度0.
01〜50nm/sec、基板温度−50〜+300
℃、膜厚5nmないし5μmの範囲で適宜選ぶ事が望ま
しい。次にこの発光層の形成後、その上に陰極用物質か
らなる薄膜を、1μm以下、例えば蒸着やスパッタリン
グ等の方法により形成させ、陰極を設けることにより、
所望のEL素子が得られる。なお、このEL素子の作製
においては、作製順序を逆にして、陰極、発光層、陽極
の順に作製することも可能である。
【0022】次に、陽極/正孔注入層/発光層/陰極か
らなるEL素子の作製法について説明すると、まず、陽
極を前記のEL素子の場合と同様にして形成した後、そ
の上に、正孔伝達化合物からなる薄膜を蒸着法などによ
り形成し、正孔注入層を設ける。この際の蒸着条件は、
前記発光材料の薄膜形成の蒸着条件に準じれば良い。次
に、この正孔注入層の上に、順次発光層及び陰極を、前
記EL素子の作製の場合と同様にして設けることによ
り、所望のEL素子が得られる。なお、このEL素子の
作製においても、作製順序を逆にして、陰極、発光層、
正孔注入層、陽極の順に作製することも可能である。ま
た、陽極/発光層/電子注入層/陰極からなるEL素子
の作製法について説明すると、まず、陽極を前記のEL
素子の場合と同様にして形成した後、その上に、前記の
蒸着条件に準じ発光材料からなる薄膜を形成し、発光層
を設ける。次に、この発光層の上に、電子伝達化合物か
らなる薄膜を蒸着法等により形成し、電子注入層を設
け、ついでこの上に、陰極を前記EL素子の作製の場合
と同様にして設けることにより、所望のEL素子が得ら
れる。なお、このEL素子の作製においても、作製順序
を逆にして、陰極、電子注入層、発光層、陽極の順に作
製することも可能である。さらに、陽極/正孔注入層/
発光層/電子注入層/陰極からなるEL素子の作製法に
ついて説明すると、前記のEL素子の作製の場合と同様
にして、陽極、正孔注入層、発光層、電子注入層、陰極
を順次設けることにより所望のEL素子が得られる。な
お、このEL素子の作製においても、作製順序を逆にし
て、陰極、発光層、正孔注入層、陽極の順に作製するこ
とも可能である。
【0023】このようにして得られたEL素子に、直流
電圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性と
して電圧5〜40V程度を印加すると、発光が透明また
は半透明の電極側より観測できる。また、逆の極性で電
圧を印加しても電流は流れずに発光は全く生じない。さ
らに、交流電圧を印加する場合には、陽極が+、陰極が
−の状態になったときのみ発光する。なお印加する交流
の波形は任意で良い。次に、該EL素子の発光メカニズ
ムについて、陽極/正孔注入輸送層/発光層/陰極の構
成の場合を例に上げて説明する。前記陽極を+、陰極を
−の極性として電圧を印加すると、正孔が該陽極より正
孔注入層内に電界により注入される。この注入された正
孔は、該正孔注入輸送層内を発光層との界面に向けて輸
送され、この界面から発光機能が発現される領域(例え
ば発光層)に注入又は輸送される。一方、電子は、陰極
から発光層内に電界により注入され、さらに輸送され、
正孔のいる領域、すなわち、発光機能が発現される領域
で正孔と再結合する(この意味で、前記領域は再結合領
域といってもよい)。この再結合が行われると、分子、
その会合体または結晶などの励起状態が形成され、これ
が光に変換される。なお、再結合領域は、正孔注入輸送
層と発光層との界面でもよいし、発光層と陰極との界面
でもよく、あるいは両界面より離れた発光層中央部であ
ってもよい。これは使用する化合物の種類、その会合や
結晶構造により変わる。
【0024】[実施例]次に本発明を実施例及び応用例
に基づいて更に詳しく説明する。 実施例1 トリス(5−フルオロ−8−キノリノラト)
アルミニウム(III) の合成 塩化アルミニウム0.22gの水溶液に5−フルオロ−
8−キノリノール0.82gの酢酸溶液を加えた。pH
を水酸化ナトリウム水溶液で5に調節し、析出した結晶
をろ別して、水で洗浄後昇華した。収量は0.54gで
あった。この化合物のクロロホルム中での蛍光のλma
xは544nmであった。
【0025】実施例2 トリス(5−フルオロ−8−キ
ノリノラト)ガリウム(III) の合成 実施例1で用いた塩化アルミニウムを硝酸ガリウムに代
えて、実施例1に準ずる方法で合成した。クロロホルム
中での蛍光のλmaxは557nmであった。
【0026】実施例3 トリス(5−フルオロ−8−キ
ノリノラト)インジウム(III) の合成 実施例1で用いた塩化アルミニウムを塩化インジウムに
代えて、実施例1に準ずる方法で合成した。クロロホル
ム中での蛍光のλmaxは558nmであった。
【0027】実施例4 トリス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)アルミニウム(III) の合成 5−シアノ−8−アセトキシキノリンの合成 5−ホルミル−8−ヒドロキシキノリン0.86g、ヒ
ドロキシアミン塩酸塩0.52g、無水酢酸8mlおよ
びピリジン6mlを混合し、100℃で3時間攪拌し
た。放冷後、氷に加え、析出した結晶をろ別した。エタ
ノールから再結晶して0.65gを得た。構造はNMR
で確認した。1 HNMR δ2.53ppm(3H,
s),7.53ppm(1H,d),7.66ppm
(1H,q),7.99ppm(1H,d),8.56
ppm(1H,q),9.04ppm(1H,q). トリス(5−シアノ−8−キノリノラト)アルミニウム
(III)の合成 実施例1で用いた5−フロオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代えて、実
施例1に準ずる方法で合成した。この化合物のクロロホ
ルム中での蛍光のλmaxは489nmであった。ま
た、蛍光強度は、シアノ基のついていないトリス(8−
キノリノラト)アルミニウム(III)よりも強かった。
【0028】実施例5 トリス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)ガリウム(III)の合成 実施例2で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代えて、実
施例1に準ずる方法で合成した。
【0029】実施例6 トリス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)インジウム(III) の合成 実施例3で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代えて、実
施例1に準ずる方法で合成した。
【0030】実施例7 5−シアノ−8−キノリノラト
リチウム(I)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化リチウムに代えて、実施例1に準ず
る方法で合成した。
【0031】実施例8 ビス(5−シアノ−8−キノリ
ノラト)ベリリウム(II) の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを硫酸ベリリウムに代えて、実施例1に準
ずる方法で合成した。
【0032】実施例9 ビス(5−シアノ−8−キノリ
ノラト)マグネシウム(II) の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化マグネシウムに代えて、実施例1に
準ずる方法で合成した。
【0033】実施例10 ビス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)カルシウム(II) の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化カルシウムに代えて、実施例1に準
ずる方法で合成した。
【0034】実施例11 ビス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)マンガン(II) の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化マンガンに代えて、実施例1に準ず
る方法で合成した。
【0035】実施例12 ビス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)亜鉛(II) の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化亜鉛に代えて、実施例1に準ずる方
法で合成した。
【0036】実施例13 ビス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)ストロンチウム(II) の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化ストロンチウムに代えて、実施例1
に準ずる方法で合成した。
【0037】実施例14 トリス(5−シアノ−8−キ
ノリノラト)イットリウム(III)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化イットリウムに代えて、実施例1に
準ずる方法で合成した。
【0038】実施例15 テトラキス(5−シアノ−8
−キノリノラト)ジルコニウム(IV)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化ジルコニウムに代えて、実施例1に
準ずる方法で合成した。
【0039】実施例16 ビス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)鉛(II) の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化鉛に代えて、実施例1に準ずる方法
で合成した。
【0040】実施例17 5−シアノ−8−キノリノラ
ト銀(I)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化銀に代えて、実施例1に準ずる方法
で合成した。
【0041】実施例18 ビス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)カドミウム(II)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化カドミウムに代えて、実施例1に準
ずる方法で合成した。
【0042】実施例19 ビス(5−シアノ−8−キノ
リノラト)バリウム(II) の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化バリウムに代えて、実施例1に準ず
る方法で合成した。
【0043】実施例20 トリス(3−シアノ−8−キ
ノリノラト)アルミニウム(III)の合成 3−ヨード−8−トシルオキシキノリンの合成 8−トシルオキシキノリン0.6g、過よう素酸0.1
3g、よう素0.12g、酢酸4ml、四塩化炭素4m
l、水1mlと硫酸1滴を混合し、70℃で三日間加熱
した。放冷後、クロロホルムを加え有機層をチオ硫酸ナ
トリウムの水溶液、重曹の水溶液、水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後溶媒を除去した。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(クロロホルム)で精製し、
0.1gの3,6−ジヨード−8−トシルオキシキノリ
ンと0.3gの3−ヨード−8−トシルオキシキノリン
を得た。 3−シアノ−8−トシルオキシキノリンの合成 3−ヨード−8−トシルオキシキノリン0.22g、シ
アン化銅0.05gとDMF10mlを混合し、8時間
加熱還流した。放冷後、アンモニア水を加え酢酸エチル
で抽出し、塩酸、重曹の水溶液、水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒除去後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で
精製し、0.16gの3−シアノ−8−トシルオキシキ
ノリンを得た。構造は、NMRで確認した。1 HNMR
δ2.44ppm(3H,s),7.29ppm(2H,d),7.66ppm(1H,t),7.76-
7.86ppm(4H,m),8.52ppm(1H,d),8.91ppm(1H,d). 3−シアノ−8−キノリノールの合成 3−シアノ−8−トシルオキシキノリン0.1g、水酸
化カリウム0.2g、水5mlとエタノール5mlを混
合し、1時間50℃で撹拌した。放冷後、塩酸で中和
し、酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を除去した。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(クロロホルム:メタノール=10:
1)で精製し、0.04gの3−シアノ−8−キノリノ
ールを得た。 トリス(3−シアノ−8−キノリノラト)アルミニウム
(III)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを3−シアノ−8−ヒドロキシキノリンに代えて、実
施例1に準ずる方法で合成した。
【0044】実施例21 トリス(5−シアノ−8−キ
ノリノラト)ガリウム(III)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを3−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを硝酸ガリウムに代えて、実施例1に準ず
る方法で合成した。
【0045】実施例22 トリス(5−シアノ−8−キ
ノリノラト)インジウム(III)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを3−シアノ−8−アセトキシキノリンに代え、塩化
アルミニウムを塩化インジウムに代えて、実施例1に準
ずる方法で合成した。
【0046】実施例23 トリス(3,6−ジシアノ−
8−キノリノラト)アルミニウム(III)の合成 3,6−ジシアノ−8−トシルオキシキノリンの合成 3,6−ジヨード−8−トシルオキシキノリン0.2
g、シアン化銅0.07gとDMF10mlを混合し、
8時間加熱還流した。放冷後、アンモニア水を加え酢酸
エチルで抽出し、塩酸、重曹の水溶液、水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒除去後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1)で精製し、0.1gの3,6−ジシアノ−8−トシ
ルオキシキノリンを得た。 3,6−ジシアノ−8−キノリノールの合成 3,6−ジシアノ−8−トシルオキシキノリン0.1
g、水酸化カリウム0.2g、水5mlとエタノール5
mlを混合し、1時間50℃で撹拌した。放冷後、塩酸
で中和し、酢酸エチルで抽出した。水で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を除去した。シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=1
0:1)で精製し、0.03gの3,6−シアノ−8−
キノリノールを得た。 トリス(3,6−ジシアノ−8−キノリノラト)アルミ
ニウム(III)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを3,6−ジシアノ−8−ヒドロキシキノリンに代え
て、実施例1に準ずる方法で合成した。
【0047】実施例24 トリス(3,6−ジシアノ−
8−キノリノラト)ガリウム(III)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを3,6−ジシアノ−8−ヒドロキシキノリンに代
え、塩化アルミニウムを硝酸ガリウムに代えて、実施例
1に準ずる方法で合成した。
【0048】実施例25 トリス(3,6−ジシアノ−
8−キノリノラト)インジウム(III)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを3,6−ジシアノ−8−ヒドロキシキノリンに代
え、塩化アルミニウムを塩化インジウムに代えて、実施
例1に準ずる方法で合成した。
【0049】実施例26 トリス(5,7−ジシアノ−
8−キノリノラト)アリミニウム(III)の合成 5,7−ジシアノ−8−キノリノールの合成 5,7−ジヨード−8−キノリノール2g、シアン化銅
1gとHMPA50mlを混合し、8時間加熱還流し
た。放冷後、アンモニア水を加え酢酸エチルで抽出し、
塩酸、重曹の水溶液、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒除去後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(クロロホルム:メタノール=20:1)で精製
し、0.1gの5,7−ジシアノ−8−キノリノールを
得た。 トリス(5,7−ジシアノ−8−キノリノラト)アルミ
ニウム(III)の合成 実施例1で用いた5−フルオロ−8−ヒドロキシキノリ
ンを5,7−ジシアノ−8−ヒドロキシキノリンに代え
て、実施例1に準ずる方法で合成した。
【0050】応用例1 25mm×75mm×1.1mmのガラス基板上にIT
Oを蒸着法にて50nmの厚さで製膜したもの(東京三
容真空(株)製)を透明支持基板とした。この透明支持
基板を市販の蒸着装置(真空機工(株)製)の基板ホル
ダーに固定し、石英製のるつぼにTPDを入れ、また別
のるつぼに実施例1、2または3で得られた化合物をそ
れぞれ別に入れて真空槽を1×10-4Paまで減圧し
た。その後TPD入りの前記るつぼを加熱し、TPDを
蒸着速度0.1〜0.2nm/秒で透明支持基板上に蒸
着して、膜圧50nmの正孔注入層を製膜させた。次い
で、これを真空槽より取り出す事なく、正孔注入層の上
に、もう一つのるつぼよりAMCZを発光層として50
nm蒸着した。蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒であ
った。これを真空槽より取り出し、上記発光層の上にア
ルミニウム製のマスクを設置し、再び基板ホルダーに固
定した。次に、グラファイト製のるつぼにマグネシウム
を入れ、また別のるつぼに銀を装着した。その後真空槽
を2×10-4Paまで減圧してから、マグネシウムを
1.2〜2.4nm/秒の蒸着速度で、同時にもう一方
のるつぼから銀を0.1〜0.2nm/秒の蒸着速度で
蒸着した。上記条件でマグネシウムと銀の混合金属電極
を発光層の上に200nm積層蒸着して対向電極とし、
素子を形成した。ITO電極を陽極、マグネシウムと銀
の混合電極を陰極として、得られた素子に、直流電圧1
1Vを印加すると電流が100mA/cm2 程度流れ、
実施例1の化合物はyellow、実施例2はoran
ge、実施例3はorangeの発光を得た。
【0051】応用例2 25mm×75mm×1.1mmのガラス基板上にIT
Oを蒸着法にて100nmの厚さで製膜したもの(東京
三容真空(株)製)を透明支持基板とした。この透明支
持基板を市販の蒸着装置(真空機工(株)製)の基板ホ
ルダーに固定し、石英製のるつぼにTPDを入れ、また
別のるつぼに実施例4、5または6で得られた化合物を
それぞれ別に入れて真空槽を1×10-4Paまで減圧し
た。その後TPD入りの前記るつぼを加熱し、TPDを
蒸着速度0.1〜0.2nm/秒で透明支持基板上に蒸
着して、膜圧50nmの正孔注入層を製膜させた。次い
で、これを真空槽より取り出す事なく、正孔注入層の上
に、もう一つのるつぼよりAECZを発光層として50
nm蒸着した。蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒であ
った。これを真空槽より取り出し、上記発光層の上にア
ルミニウム製のマスクを設置し、再び基板ホルダーに固
定した。次に、グラファイト製のるつぼにマグネシウム
を入れ、また別のるつぼに銀を装着した。その後真空槽
を2×10-4Paまで減圧してから、マグネシウムを
1.2〜2.4nm/秒の蒸着速度で、同時にもう一つ
のるつぼから銀を0.1〜0.2nm/秒の蒸着速度で
蒸着した。上記条件でマグネシウムと銀の混合金属電極
を発光層の上に200nm積層蒸着して対向電極とし、
素子を形成した。ITO電極を陽極、マグネシウムと銀
の混合電極を陰極として、得られた素子に、直流電圧1
2Vを印加すると電流が100mA/cm2 程度流れ、
実施例4の化合物はyellow、実施例5はoran
ge、実施例6はorangeの発光を得た。
【0052】
【発明の効果】本発明の化合物は、置換基の種類、位置
および数、または、金属の種類を変えることにより、様
々な発光色が得られるためEL素子の発光層の1成分と
して適している。また、電子輸送性に優れ励起錯体を作
り難いことからEL素子の電子輸送層として適してい
る。これらを用いることにより、フルカラーディスプレ
ー等の高効率な発光素子が作成できる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 [式中、R1 〜R6 はそれぞれ独立に水素原子、フッ素
    原子またはシアノ基を示し、R1 〜R6 のうち少なくと
    も1つはフッ素原子またはシアノ基であり、Mは金属原
    子を示し、nは1、2、3または4を示す。]で表され
    るオキシネイト誘導体。
  2. 【請求項2】 請求項第1項記載の化合物において、R
    1 〜R6 はそれぞれ独立に水素原子またはシアノ基を示
    し、R1 〜R6 のうち少なくとも1つはシアノ基である
    オキシネイト誘導体。
  3. 【請求項3】 請求項第1項記載の化合物において、R
    1 〜R6 はそれぞれ独立に水素原子またはシアノ基を示
    し、R1 〜R6 のうち少なくとも1つはシアノ基であ
    り、Mはリチウム、ベリリウム、マグネシウム、アルミ
    ニウム、カルシウム、マンガン、亜鉛、ガリウム、スト
    ロンチウム、イットリウム、ジルコニウム、鉛、銀、カ
    ドミウム、インジウムまたはバリウムのいづれかである
    オキシネイト誘導体。
  4. 【請求項4】 請求項第1項記載の化合物をもちいた電
    界発光素子。
JP32281792A 1992-11-06 1992-11-06 オキシネイト誘導体 Pending JPH06145146A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32281792A JPH06145146A (ja) 1992-11-06 1992-11-06 オキシネイト誘導体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32281792A JPH06145146A (ja) 1992-11-06 1992-11-06 オキシネイト誘導体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06145146A true JPH06145146A (ja) 1994-05-24

Family

ID=18147951

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32281792A Pending JPH06145146A (ja) 1992-11-06 1992-11-06 オキシネイト誘導体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06145146A (ja)

Cited By (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0963768A (ja) * 1995-08-24 1997-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機発光素子
JPH1088121A (ja) * 1995-08-04 1998-04-07 Toyo Ink Mfg Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子材料およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子
US6013384A (en) * 1997-01-27 2000-01-11 Junji Kido Organic electroluminescent devices
JP2000072750A (ja) * 1998-06-16 2000-03-07 Mitsubishi Materials Corp 8−キノリノール誘導体とその製法及び金属錯体とその用途
WO2000032717A1 (en) * 1998-12-02 2000-06-08 South Bank University Enterprises Ltd. Electroluminescent quinolates
WO2000073273A1 (en) * 1999-05-28 2000-12-07 Nippon Chemiphar Co., Ltd. Process for the preparation of 2-halo-3-(3-quinolyl)propionic acid derivatives
US6396209B1 (en) 1998-12-16 2002-05-28 International Manufacturing And Engineering Services Co., Ltd. Organic electroluminescent device
US6423429B2 (en) 1998-03-02 2002-07-23 Junji Kido Organic electroluminescent devices
JP2002528633A (ja) * 1998-11-02 2002-09-03 サウス バンク ユニバーシティ エンタープライゼス リミテッド エレクトロルミネセンス材料
US6459199B1 (en) 1996-05-15 2002-10-01 Chemipro Kasei Kaisha, Limited Multicolor organic EL element having plurality of organic dyes, method of manufacturing the same, and display using the same
US6524727B1 (en) 1997-06-17 2003-02-25 South Bank University Limited Electroluminescent material
US6565995B1 (en) 1998-12-02 2003-05-20 South Bank University Enterprises, Ltd. Electroluminescent materials
US6589673B1 (en) 1999-09-29 2003-07-08 Junji Kido Organic electroluminescent device, group of organic electroluminescent devices
US6605317B1 (en) 1998-12-02 2003-08-12 South Bank University Enterprise Ltd. Method for forming films or layers
US6717354B1 (en) 1999-02-01 2004-04-06 South Bank University Enterprises Ltd. Electroluminescent materials
US6818324B1 (en) * 1997-10-09 2004-11-16 Samsung Sdi Co., Ltd. Organic thin-film EL device
WO2006024831A1 (en) * 2004-08-31 2006-03-09 Oled-T Limited Electroluminescent materials and devices
US7211334B2 (en) 2001-07-09 2007-05-01 Oled-T Limited Electroluminescent materials and devices
US7235311B2 (en) 2001-04-20 2007-06-26 Oled-T Limited Electroluminescent devices incorporating mixed metal organic complexes
US7303824B2 (en) 2001-08-04 2007-12-04 Oled-T Limited Electroluminescent device
GB2440367A (en) * 2006-07-26 2008-01-30 Oled T Ltd Electroluminescent device
US7326473B2 (en) 1998-02-17 2008-02-05 Junji Kido Organic electroluminescent devices
WO2008012581A3 (en) * 2006-07-26 2008-03-27 Oled T Ltd Cathode coating
US7354661B2 (en) 2001-06-15 2008-04-08 Oled-T Limited Electroluminescent devices
JP2008117798A (ja) * 2006-10-31 2008-05-22 Stanley Electric Co Ltd 有機薄膜素子およびタンデム型光電変換素子
EP2262025A2 (en) 2000-04-21 2010-12-15 TDK Corporation Organic electroluminescent device
WO2013058505A2 (ko) 2011-10-17 2013-04-25 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013141679A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013141674A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기발광소자
WO2013141675A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기발광소자
WO2013147573A1 (ko) 2012-03-30 2013-10-03 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013147572A1 (ko) 2012-03-30 2013-10-03 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013147570A1 (ko) 2012-03-30 2013-10-03 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013147571A1 (ko) 2012-03-30 2013-10-03 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2014021644A1 (ko) 2012-07-31 2014-02-06 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2014021642A1 (ko) 2012-07-31 2014-02-06 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2014021643A1 (ko) 2012-07-31 2014-02-06 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2014084699A1 (ko) 2012-11-30 2014-06-05 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2014084701A1 (ko) 2012-11-30 2014-06-05 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2015047055A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2015047037A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판 및 이의 제조방법
WO2015047036A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판 및 이의 제조방법
WO2015047041A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2015047049A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자장치
WO2015047053A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자장치의 제조 방법
WO2015047044A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자장치의 제조 방법
WO2015084073A1 (ko) 2013-12-04 2015-06-11 주식회사 엘지화학 유기전자장치용 기판의 제조 방법
US9072150B2 (en) 2011-04-18 2015-06-30 Seiko Epson Corporation Thiadiazole-based compound, light emitting element compound, light emitting element, light emitting device, authentication device, and electronic apparatus
US9067952B2 (en) 2011-08-09 2015-06-30 Seiko Epson Corporation Thiadiazole, light-emitting element, light-emitting apparatus, authentication apparatus, and electronic device
US9159932B2 (en) 2011-08-09 2015-10-13 Seiko Epson Corporation Light emitting element, light emitting device, and electronic device
US9203046B2 (en) 2003-10-17 2015-12-01 Junji Kido Organic electroluminescent device and production process thereof
US9224928B2 (en) 2011-12-28 2015-12-29 Seiko Epson Corporation Light emitting element, light emitting device and electronic apparatus
US9324952B2 (en) 2012-02-28 2016-04-26 Seiko Epson Corporation Thiadiazole, compound for light-emitting elements, light-emitting element, light-emitting apparatus, authentication apparatus, and electronic device
KR20170060579A (ko) * 2015-11-24 2017-06-01 주식회사 엘지화학 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물
US9698353B2 (en) 2014-04-09 2017-07-04 Seiko Epson Corporation Light-emitting element, light emission apparatus, authentication apparatus, and electronic machine
US9722184B2 (en) 2012-10-18 2017-08-01 Seiko Epson Corporation Thiadiazole, compound for light-emitting elements, light-emitting element, light-emitting apparatus, authentication apparatus, and electronic device
US9799836B2 (en) 2014-02-28 2017-10-24 Seiko Epson Corporation Light emitting element, light emitting device, authentication device, and electronic device
US9876177B2 (en) 2011-04-12 2018-01-23 Seiko Epson Corporation Thiadiazole-based compound, light emitting element compound, light emitting element, light emitting device, authentication device, and electronic device
WO2019164157A1 (ko) * 2018-02-26 2019-08-29 주식회사 엘지화학 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물

Cited By (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1088121A (ja) * 1995-08-04 1998-04-07 Toyo Ink Mfg Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子材料およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子
JPH0963768A (ja) * 1995-08-24 1997-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機発光素子
US6459199B1 (en) 1996-05-15 2002-10-01 Chemipro Kasei Kaisha, Limited Multicolor organic EL element having plurality of organic dyes, method of manufacturing the same, and display using the same
US6013384A (en) * 1997-01-27 2000-01-11 Junji Kido Organic electroluminescent devices
US6524727B1 (en) 1997-06-17 2003-02-25 South Bank University Limited Electroluminescent material
US6818324B1 (en) * 1997-10-09 2004-11-16 Samsung Sdi Co., Ltd. Organic thin-film EL device
US7326473B2 (en) 1998-02-17 2008-02-05 Junji Kido Organic electroluminescent devices
US6423429B2 (en) 1998-03-02 2002-07-23 Junji Kido Organic electroluminescent devices
JP2000072750A (ja) * 1998-06-16 2000-03-07 Mitsubishi Materials Corp 8−キノリノール誘導体とその製法及び金属錯体とその用途
US7183008B1 (en) 1998-11-02 2007-02-27 South Bank University Enterprises Ltd. Electroluminescent materials
JP2002528633A (ja) * 1998-11-02 2002-09-03 サウス バンク ユニバーシティ エンタープライゼス リミテッド エレクトロルミネセンス材料
US6605317B1 (en) 1998-12-02 2003-08-12 South Bank University Enterprise Ltd. Method for forming films or layers
JP2002531467A (ja) * 1998-12-02 2002-09-24 サウス バンク ユニバーシティー エンタープライジズ リミテッド エレクトロルミネセンスキノレート
WO2000032717A1 (en) * 1998-12-02 2000-06-08 South Bank University Enterprises Ltd. Electroluminescent quinolates
US6565995B1 (en) 1998-12-02 2003-05-20 South Bank University Enterprises, Ltd. Electroluminescent materials
US6396209B1 (en) 1998-12-16 2002-05-28 International Manufacturing And Engineering Services Co., Ltd. Organic electroluminescent device
US6717354B1 (en) 1999-02-01 2004-04-06 South Bank University Enterprises Ltd. Electroluminescent materials
WO2000073273A1 (en) * 1999-05-28 2000-12-07 Nippon Chemiphar Co., Ltd. Process for the preparation of 2-halo-3-(3-quinolyl)propionic acid derivatives
US6589673B1 (en) 1999-09-29 2003-07-08 Junji Kido Organic electroluminescent device, group of organic electroluminescent devices
EP2262025A2 (en) 2000-04-21 2010-12-15 TDK Corporation Organic electroluminescent device
US7235311B2 (en) 2001-04-20 2007-06-26 Oled-T Limited Electroluminescent devices incorporating mixed metal organic complexes
US7354661B2 (en) 2001-06-15 2008-04-08 Oled-T Limited Electroluminescent devices
US7211334B2 (en) 2001-07-09 2007-05-01 Oled-T Limited Electroluminescent materials and devices
US7303824B2 (en) 2001-08-04 2007-12-04 Oled-T Limited Electroluminescent device
US9203046B2 (en) 2003-10-17 2015-12-01 Junji Kido Organic electroluminescent device and production process thereof
GB2423302B (en) * 2004-08-31 2006-10-18 Oled-T Ltd Electroluminescent materials and device
GB2423302A (en) * 2004-08-31 2006-08-23 Nuko 70 Ltd Electroluminescent materials and device
WO2006024831A1 (en) * 2004-08-31 2006-03-09 Oled-T Limited Electroluminescent materials and devices
JP2008511598A (ja) * 2004-08-31 2008-04-17 オーエルイーディー−ティー リミテッド エレクトロルミネセンス物質およびデバイス
US9252383B2 (en) 2006-07-26 2016-02-02 Merck Patent Gmbh Cathode coating
GB2440367A (en) * 2006-07-26 2008-01-30 Oled T Ltd Electroluminescent device
WO2008012581A3 (en) * 2006-07-26 2008-03-27 Oled T Ltd Cathode coating
JP2008117798A (ja) * 2006-10-31 2008-05-22 Stanley Electric Co Ltd 有機薄膜素子およびタンデム型光電変換素子
US9876177B2 (en) 2011-04-12 2018-01-23 Seiko Epson Corporation Thiadiazole-based compound, light emitting element compound, light emitting element, light emitting device, authentication device, and electronic device
US9072150B2 (en) 2011-04-18 2015-06-30 Seiko Epson Corporation Thiadiazole-based compound, light emitting element compound, light emitting element, light emitting device, authentication device, and electronic apparatus
US9159932B2 (en) 2011-08-09 2015-10-13 Seiko Epson Corporation Light emitting element, light emitting device, and electronic device
US9067952B2 (en) 2011-08-09 2015-06-30 Seiko Epson Corporation Thiadiazole, light-emitting element, light-emitting apparatus, authentication apparatus, and electronic device
US9741940B2 (en) 2011-08-09 2017-08-22 Seiko Epson Corporation Thiadiazole, light-emitting element, light-emitting apparatus, authentication apparatus, and electronic device
WO2013058505A2 (ko) 2011-10-17 2013-04-25 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
US9224928B2 (en) 2011-12-28 2015-12-29 Seiko Epson Corporation Light emitting element, light emitting device and electronic apparatus
US9401460B2 (en) 2011-12-28 2016-07-26 Seiko Epson Corporation Light emitting element
US9324952B2 (en) 2012-02-28 2016-04-26 Seiko Epson Corporation Thiadiazole, compound for light-emitting elements, light-emitting element, light-emitting apparatus, authentication apparatus, and electronic device
WO2013141675A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기발광소자
WO2013141677A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013141673A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판의 제조방법
WO2013141678A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013141679A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013141674A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기발광소자
WO2013141676A1 (ko) 2012-03-23 2013-09-26 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013147571A1 (ko) 2012-03-30 2013-10-03 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013147570A1 (ko) 2012-03-30 2013-10-03 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013147572A1 (ko) 2012-03-30 2013-10-03 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2013147573A1 (ko) 2012-03-30 2013-10-03 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2014021644A1 (ko) 2012-07-31 2014-02-06 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
US9391301B2 (en) 2012-07-31 2016-07-12 Lg Chem, Ltd. Substrate for organic electronic device
US9373820B2 (en) 2012-07-31 2016-06-21 Lg Chem, Ltd. Substrate for organic electronic device
WO2014021643A1 (ko) 2012-07-31 2014-02-06 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2014021642A1 (ko) 2012-07-31 2014-02-06 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
US9722184B2 (en) 2012-10-18 2017-08-01 Seiko Epson Corporation Thiadiazole, compound for light-emitting elements, light-emitting element, light-emitting apparatus, authentication apparatus, and electronic device
US9768398B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Lg Chem, Ltd. Substrate for organic electronic device
WO2014084701A1 (ko) 2012-11-30 2014-06-05 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2014084699A1 (ko) 2012-11-30 2014-06-05 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2015047044A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자장치의 제조 방법
WO2015047055A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2015047053A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자장치의 제조 방법
WO2015047049A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자장치
US9570705B2 (en) 2013-09-30 2017-02-14 Lg Display Co., Ltd. Method of manufacturing organic electronic device
US10950808B2 (en) 2013-09-30 2021-03-16 Lg Display Co., Ltd. Method of preparing organic electronic device
US10079351B2 (en) 2013-09-30 2018-09-18 Lg Display Co., Ltd. Method of preparing organic electronic device
WO2015047041A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
WO2015047036A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판 및 이의 제조방법
US9755188B2 (en) 2013-09-30 2017-09-05 Lg Display Co., Ltd. Organic electronic device
US9761832B2 (en) 2013-09-30 2017-09-12 Lg Display Co., Ltd. Substrate for organic electronic device
WO2015047037A1 (ko) 2013-09-30 2015-04-02 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판 및 이의 제조방법
WO2015084073A1 (ko) 2013-12-04 2015-06-11 주식회사 엘지화학 유기전자장치용 기판의 제조 방법
US9799836B2 (en) 2014-02-28 2017-10-24 Seiko Epson Corporation Light emitting element, light emitting device, authentication device, and electronic device
US9698353B2 (en) 2014-04-09 2017-07-04 Seiko Epson Corporation Light-emitting element, light emission apparatus, authentication apparatus, and electronic machine
KR20170060579A (ko) * 2015-11-24 2017-06-01 주식회사 엘지화학 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물
WO2019164157A1 (ko) * 2018-02-26 2019-08-29 주식회사 엘지화학 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물
CN110546139A (zh) * 2018-02-26 2019-12-06 株式会社Lg化学 化合物、包含其的色料组合物以及包含其的树脂组合物
JP2020517791A (ja) * 2018-02-26 2020-06-18 エルジー・ケム・リミテッド 化合物、これを含む色材組成物およびこれを含む樹脂組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06145146A (ja) オキシネイト誘導体
JP4429438B2 (ja) アミノ化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JP3724833B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2651233B2 (ja) 薄膜有機el素子
JP3693128B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JPH02247278A (ja) エレクトロルミネッセンス素子
JPH06206865A (ja) 新規アントラセン化合物と該化合物を用いる電界発光素子
JPH07157473A (ja) トリアジン誘導体、その製造法及びそれを用いた電界発光素子
JPWO1994006157A1 (ja) 電荷注入補助材及びそれを含有する有機エレクトロルミネッセンス素子
JPH07138561A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2008072586A1 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2006067931A1 (ja) アントラセン誘導体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2007116750A1 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、及びこれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2007007464A1 (ja) 含窒素複素環誘導体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JPH06279323A (ja) 新規スチリル化合物,その製造法およびそれからなる有機エレクトロルミネッセンス素子
JPH08333569A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP3505761B2 (ja) 共重合体、その製造法及びそれを用いた電界発光素子
JP2554771B2 (ja) 芳香族ジメチリディン化合物
JPH06215874A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2000100566A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
JPH07224012A (ja) ジフェニルアミン誘導体
JP3278975B2 (ja) クマリン誘導体
JPH0517765A (ja) 有機エレクトロルミネツセンス素子
JPH07119408B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP5266161B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子