JPH06145179A - 新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents
新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法Info
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- JPH06145179A JPH06145179A JP4296098A JP29609892A JPH06145179A JP H06145179 A JPH06145179 A JP H06145179A JP 4296098 A JP4296098 A JP 4296098A JP 29609892 A JP29609892 A JP 29609892A JP H06145179 A JPH06145179 A JP H06145179A
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- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- -1 Silane compound Chemical class 0.000 claims description 25
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Chemical group 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003607 modifier Substances 0.000 abstract description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract 1
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N bromosilane Chemical compound Br[SiH3] VQPFDLRNOCQMSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQIZQWJZCWVEGF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienylsilane Chemical compound [SiH3]C=CC=C BQIZQWJZCWVEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical group OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N dichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)Cl UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 3-butylbenzene-1,2-diol Chemical group CCCCC1=CC=CC(O)=C1O BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical class C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDASIVNNQKBTK-UHFFFAOYSA-N C(=CC=C)CCO[SiH3] Chemical compound C(=CC=C)CCO[SiH3] LZDASIVNNQKBTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Chemical group 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- HWCCZVRBWGLIGI-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dien-2-yl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(=C)C=C HWCCZVRBWGLIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- XKBAVCUSVIEVHR-UHFFFAOYSA-N dibromo(methyl)silane Chemical compound C[SiH](Br)Br XKBAVCUSVIEVHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJIYRPVGAZXYBD-UHFFFAOYSA-N dibromosilane Chemical compound Br[SiH2]Br VJIYRPVGAZXYBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BODAWKLCLUZBEZ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(phenyl)silicon Chemical compound CCO[Si](OCC)C1=CC=CC=C1 BODAWKLCLUZBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N diethoxysilane Chemical compound CCO[SiH2]OCC ZXPDYFSTVHQQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N diethylhydroxylamine Chemical group CCN(O)CC FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIQDYIQMZXESRD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[SiH](OC)C1=CC=CC=C1 CIQDYIQMZXESRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N tribromosilane Chemical compound Br[SiH](Br)Br IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 置換−1,3−ブタジェニル基を2つ有する
新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。 【構成】 一般式 (A1 ,A2 は水素原子又は低級アルキル基を示す。Y
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は炭化
水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物及びその製
造方法。
新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。 【構成】 一般式 (A1 ,A2 は水素原子又は低級アルキル基を示す。Y
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は炭化
水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物及びその製
造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、置換−1,3−ブダジ
エニル基を2つ有する新規な有機ケイ素化合物及びその
製造方法に関する。そしてこの新規な有機ケイ素化合物
はシランカップリング剤、シリル化剤、高分子化合物の
改質剤、架橋剤、高分子共重合体用モノマー及び、その
他の有機ケイ素化合物の原料等、多岐にわたる分野への
利用がが考えられる。
エニル基を2つ有する新規な有機ケイ素化合物及びその
製造方法に関する。そしてこの新規な有機ケイ素化合物
はシランカップリング剤、シリル化剤、高分子化合物の
改質剤、架橋剤、高分子共重合体用モノマー及び、その
他の有機ケイ素化合物の原料等、多岐にわたる分野への
利用がが考えられる。
【0002】
【従来技術】従来より1,3−ブタジエニル基を有する
有機ケイ素化合物としては2−(トリメトキシ)シリル
−1,3−ブタジエン、2−(メトキシジメチル)シリ
ル−1,3−ブタジエン、2−(ジメチルクロロ)シリ
ル−1,3−ブタジエン、2−(トリエチル)シリル−
1,3−ブタジエンなどが知られており、また、特開昭
61−205286号公報にはビス〔2−(1,3−ブ
タジエニル)〕ジメトキシシランが開示されている。
有機ケイ素化合物としては2−(トリメトキシ)シリル
−1,3−ブタジエン、2−(メトキシジメチル)シリ
ル−1,3−ブタジエン、2−(ジメチルクロロ)シリ
ル−1,3−ブタジエン、2−(トリエチル)シリル−
1,3−ブタジエンなどが知られており、また、特開昭
61−205286号公報にはビス〔2−(1,3−ブ
タジエニル)〕ジメトキシシランが開示されている。
【0003】しかし1つのケイ素原子に対し2つの置換
−1、3−ブタジニエル基を有しかつ、そのケイ素原子
が水素原子と結合してSi−H結合を有する有機ケイ素
化合物は報告されていない。
−1、3−ブタジニエル基を有しかつ、そのケイ素原子
が水素原子と結合してSi−H結合を有する有機ケイ素
化合物は報告されていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】有機ケイ素化合物はシ
ランカップリング剤あるいは樹脂改質剤として広く利用
されているが、このためには反応性に優れていることが
必要であり、そのような新規な有機ケイ素化合物の出現
が望まれていた。
ランカップリング剤あるいは樹脂改質剤として広く利用
されているが、このためには反応性に優れていることが
必要であり、そのような新規な有機ケイ素化合物の出現
が望まれていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明はSi−H結合を
有する化合物の反応性に着目し、Si−H結合を有する
シラン化合物について鋭意研究を行った結果、収率良く
置換−1,3ブタジエニル基をケイ素原子に導入できる
ことを見いだし本発明に至った。
有する化合物の反応性に着目し、Si−H結合を有する
シラン化合物について鋭意研究を行った結果、収率良く
置換−1,3ブタジエニル基をケイ素原子に導入できる
ことを見いだし本発明に至った。
【0006】すなわち、本発明は、一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は、低級アルキル基を示す。
Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基または
炭化水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物を第一
発明とし、一般式(II) H4-n-m SiXm Yn (II) (Xはハロゲン原子又は低級アルコキシ基、Yは水素原
子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、炭化水素基を示
す。mは2又は3、nは0又は1を示す。ただしm+n
≦3)で表されるシラン化合物と一般式(III) (Zはハロゲン原子を示し、A1 ,A2 は水素原子又
は、低級アルキル基を示す)で表されるグリニャール化
合物を反応させることを特徴とする一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は、低級アルキル基を示す。
Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基または
炭化水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物の製造
方法を第二発明とすることからなる。
Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基または
炭化水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物を第一
発明とし、一般式(II) H4-n-m SiXm Yn (II) (Xはハロゲン原子又は低級アルコキシ基、Yは水素原
子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、炭化水素基を示
す。mは2又は3、nは0又は1を示す。ただしm+n
≦3)で表されるシラン化合物と一般式(III) (Zはハロゲン原子を示し、A1 ,A2 は水素原子又
は、低級アルキル基を示す)で表されるグリニャール化
合物を反応させることを特徴とする一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は、低級アルキル基を示す。
Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基または
炭化水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物の製造
方法を第二発明とすることからなる。
【0007】本発明の一般式(1)の化合物は、1つの
ケイ素原子に2つの置換−1,3−ブタジエニル基が結
合し、かつ同じケイ素原子に一つ以上の水素原子が結合
していることを特徴とする化合物であり、その例として
は、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕シラン、ビ
ス〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕シラン、ビス
〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕シラン、ビス
〔2−(1,3−ブタジエニル)〕クロルシラン、ビス
〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕クロルシラン、
ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕クロルシラ
ン、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕ブロモシラ
ン、ビス〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕ブロモ
シラン、ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕ブ
ロモシラン、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕メ
チルシラン、ビス〔2−(1,3−ペンタタジエニ
ル)〕メチルシラン、ビス〔3−(1,3ーペンタジエ
ニエル)〕メチルシラン、ビス〔2−(1,3−ブタジ
エニル)〕メトキシシラン、ビス〔2−(1,3−ペン
タタジエニル)〕メトキシシラン、ビス〔3−(1,3
−ペンタジエニエル)〕メトキシシラン、ビス〔2−
(1,3−ブタジエニル)〕エトキシシラン、ビス〔2
−(1,3−ペンタタジエニル)〕エトキシシラン、ビ
ス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕エトキシシラ
ン、ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕フェニ
ルシラン等を挙げることができる。
ケイ素原子に2つの置換−1,3−ブタジエニル基が結
合し、かつ同じケイ素原子に一つ以上の水素原子が結合
していることを特徴とする化合物であり、その例として
は、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕シラン、ビ
ス〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕シラン、ビス
〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕シラン、ビス
〔2−(1,3−ブタジエニル)〕クロルシラン、ビス
〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕クロルシラン、
ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕クロルシラ
ン、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕ブロモシラ
ン、ビス〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕ブロモ
シラン、ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕ブ
ロモシラン、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕メ
チルシラン、ビス〔2−(1,3−ペンタタジエニ
ル)〕メチルシラン、ビス〔3−(1,3ーペンタジエ
ニエル)〕メチルシラン、ビス〔2−(1,3−ブタジ
エニル)〕メトキシシラン、ビス〔2−(1,3−ペン
タタジエニル)〕メトキシシラン、ビス〔3−(1,3
−ペンタジエニエル)〕メトキシシラン、ビス〔2−
(1,3−ブタジエニル)〕エトキシシラン、ビス〔2
−(1,3−ペンタタジエニル)〕エトキシシラン、ビ
ス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕エトキシシラ
ン、ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕フェニ
ルシラン等を挙げることができる。
【0008】次に、本発明の一般式(I)で表される新
規化合物は、一般式(II)で表されるシラン化合物と
一般式(III)で表されるグリニャール化合物とを反
応させることにより収率良く得られる。
規化合物は、一般式(II)で表されるシラン化合物と
一般式(III)で表されるグリニャール化合物とを反
応させることにより収率良く得られる。
【0009】本発明の一般式(II)で表されるシラン
化合物の例としては、ジクロルシラン、ジエトキシシラ
ン、ジメトキシシラン、ジブロモシラン、トリクロルシ
ラン、トリブロモシラン、トリメトキシシラン、メチル
ジクロルシラン、メチルジブロモシラン、メチルジメト
キシシラン、メチルジエトキシシラン、フェニルジクロ
ルシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエト
キシシラン等が例示される。
化合物の例としては、ジクロルシラン、ジエトキシシラ
ン、ジメトキシシラン、ジブロモシラン、トリクロルシ
ラン、トリブロモシラン、トリメトキシシラン、メチル
ジクロルシラン、メチルジブロモシラン、メチルジメト
キシシラン、メチルジエトキシシラン、フェニルジクロ
ルシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエト
キシシラン等が例示される。
【0010】本発明の一般式(III)で表されるグリ
ニャール化合物としては、クロロプレン、ブロモプレン
等のグリニャール化合物を挙げることができる。グリニ
ャール化合物の製造方法としては、通常の方法を採用す
ることができ、例えば「ジャーナル・オブ・オルガニッ
ク・ケミストリー,44巻,4788頁(1979
年)」に記載されている方法に準拠して製造することが
できる。
ニャール化合物としては、クロロプレン、ブロモプレン
等のグリニャール化合物を挙げることができる。グリニ
ャール化合物の製造方法としては、通常の方法を採用す
ることができ、例えば「ジャーナル・オブ・オルガニッ
ク・ケミストリー,44巻,4788頁(1979
年)」に記載されている方法に準拠して製造することが
できる。
【0011】本発明の一般式(II)で表されるシラン
化合物と一般式(III)で表されるグリニャール化合
物との反応は、グリニャール化合物の製造時に一般に利
用されるテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒に一般
式(III)で表されるグリニャール化合物を溶解し、
不活性ガスの雰囲気下に一般式(II)で表されるシラ
ン化合物を反応させればよい。
化合物と一般式(III)で表されるグリニャール化合
物との反応は、グリニャール化合物の製造時に一般に利
用されるテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒に一般
式(III)で表されるグリニャール化合物を溶解し、
不活性ガスの雰囲気下に一般式(II)で表されるシラ
ン化合物を反応させればよい。
【0012】反応温度は−30℃〜溶媒沸点であり、好
ましくは、0℃〜室温付近である。反応時間は数分間〜
10時間であるが、10分〜5時間とすることが好まし
い。また、本発明の原料及び生成物などの重合を防止す
る為に、安定剤、例えばターシャリーブチルカテコー
ル、N,N−ジエチルハイドロキシルアミン、ハイドロ
キンノン等を添加しても良い。
ましくは、0℃〜室温付近である。反応時間は数分間〜
10時間であるが、10分〜5時間とすることが好まし
い。また、本発明の原料及び生成物などの重合を防止す
る為に、安定剤、例えばターシャリーブチルカテコー
ル、N,N−ジエチルハイドロキシルアミン、ハイドロ
キンノン等を添加しても良い。
【0013】一般式(II)で表されるシラン化合物と
一般式(III)で表されるグリニャール化合物のモル
比は1:0.5〜1:5の範囲で行うことができるが、
好ましくは1:1.8〜1:2.2である。
一般式(III)で表されるグリニャール化合物のモル
比は1:0.5〜1:5の範囲で行うことができるが、
好ましくは1:1.8〜1:2.2である。
【0014】反応に用いる溶剤としてはグリニャール化
合物を製造する時に使用した溶媒をそのまま利用できる
が、反応を阻害しない他の溶剤を混合しても良い。ま
た、反応液の希釈は、容積効率、反応熱などを考慮して
適宜きめることができる。
合物を製造する時に使用した溶媒をそのまま利用できる
が、反応を阻害しない他の溶剤を混合しても良い。ま
た、反応液の希釈は、容積効率、反応熱などを考慮して
適宜きめることができる。
【0015】本発明の反応は、通常、不活性雰囲気下で
行う。不活性雰囲気に用いられるガスとしては、アルゴ
ン、窒素、ヘリウム、水素等が挙げらるが、これらのガ
スを単独または、混合して用いることができる。
行う。不活性雰囲気に用いられるガスとしては、アルゴ
ン、窒素、ヘリウム、水素等が挙げらるが、これらのガ
スを単独または、混合して用いることができる。
【0016】また、本発明の反応は一般式(II)で表
されるシラン化合物を一般式(III)で表されるグリ
ニャール化合物の原料となるハロゲン化ブタジエンとエ
ーテル系溶媒と金属マグネシウム共存下で反応させて製
造することも可能である。
されるシラン化合物を一般式(III)で表されるグリ
ニャール化合物の原料となるハロゲン化ブタジエンとエ
ーテル系溶媒と金属マグネシウム共存下で反応させて製
造することも可能である。
【0017】
【発明の効果】本発明の1,3−ブタジエニル基を2つ
有する新規なケイ素化合物は、シランカップリング剤、
シリル化剤、高分子改質剤、他の有機ケイ素化合物の原
料等としての利用が期待される。また、本発明の製造方
法により該新規なケイ素化合物を高収率で得ることがで
きる。
有する新規なケイ素化合物は、シランカップリング剤、
シリル化剤、高分子改質剤、他の有機ケイ素化合物の原
料等としての利用が期待される。また、本発明の製造方
法により該新規なケイ素化合物を高収率で得ることがで
きる。
【0018】
【実施例】本発明を以下の実施例により更に詳細に説明
する。 実施例1 3リットルの4つ口フラスコを用い、コンデンサーを取
り付け、窒素雰囲気下で金属マグネシウム49.4g
(2.11mol)と十分に脱水したテトラヒドロフラ
ン1080ccとクロロプレン20gを入れ約50℃に
加熱した。塩化亜鉛を約0.5g を入れると速やかに反
応が始まり、撹拌を行いながらさらに滴下ロートで10
0gのクロロプレン(クロロプレンは合計120g
(1.36mol))をゆっくりと添加した(添加時間
30分)。この間、反応液はリフラックッス状態であ
り、滴下終了とともにリフラックッス状態は終わった。
引続き50℃で1時間熟成を行った後、O−フェナント
ロリンを用いグリニャール化合物の生成を確認した。
する。 実施例1 3リットルの4つ口フラスコを用い、コンデンサーを取
り付け、窒素雰囲気下で金属マグネシウム49.4g
(2.11mol)と十分に脱水したテトラヒドロフラ
ン1080ccとクロロプレン20gを入れ約50℃に
加熱した。塩化亜鉛を約0.5g を入れると速やかに反
応が始まり、撹拌を行いながらさらに滴下ロートで10
0gのクロロプレン(クロロプレンは合計120g
(1.36mol))をゆっくりと添加した(添加時間
30分)。この間、反応液はリフラックッス状態であ
り、滴下終了とともにリフラックッス状態は終わった。
引続き50℃で1時間熟成を行った後、O−フェナント
ロリンを用いグリニャール化合物の生成を確認した。
【0019】このグリニャール化合物が生成しているフ
ラスコに室温(約23℃)で撹拌しながらジクロロシラ
ン43.3g(0.43mol)をゆっくりフィードし
た。ジクロロシランのフィードを開始するとすぐに反応
し内温が上昇し塩が生成した。ジクロロシランのフィー
ド終了後、約50℃、1時間熟成した。反応液をフラス
コから抜取り約5000ccのヘキサンで洗浄しなが
ら、ろ過を行った。ろ液を常法に従い蒸留精製を行い2
6g の無色透明な液を回収した。
ラスコに室温(約23℃)で撹拌しながらジクロロシラ
ン43.3g(0.43mol)をゆっくりフィードし
た。ジクロロシランのフィードを開始するとすぐに反応
し内温が上昇し塩が生成した。ジクロロシランのフィー
ド終了後、約50℃、1時間熟成した。反応液をフラス
コから抜取り約5000ccのヘキサンで洗浄しなが
ら、ろ過を行った。ろ液を常法に従い蒸留精製を行い2
6g の無色透明な液を回収した。
【0020】この液をGC−MS及び 1HNMRで分析
し回収液はビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕シラ
ンであることを確認した。1 HNMR ;CDCl3 δ(ppm) 6.50〜6.60(m,2H,HC=C) 5.95(s,2H,H2 C=C) 5.75(s,2H,H2 C=C) 5.26〜5.36(d,2H,H2 C=C) 5.14〜5.24(d,2H,H2 C=C) 4.45(s,2H,Si−H2 ) マススペクトル 136(M+ ) 83(M−C4 H5 )+
し回収液はビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕シラ
ンであることを確認した。1 HNMR ;CDCl3 δ(ppm) 6.50〜6.60(m,2H,HC=C) 5.95(s,2H,H2 C=C) 5.75(s,2H,H2 C=C) 5.26〜5.36(d,2H,H2 C=C) 5.14〜5.24(d,2H,H2 C=C) 4.45(s,2H,Si−H2 ) マススペクトル 136(M+ ) 83(M−C4 H5 )+
【0021】実施例2 実施例1と同様の装置を用い、金属マグネシウム80g
(3.29mol)と十分に脱水したテトラヒドロフラ
ン1880ccとクロロプレン53.1gを入れ約50
℃に加熱した。塩化亜鉛を約8.0g を入れると速やか
に反応が始まり、撹拌を行いながらさらに滴下ロートで
200gのクロロプレン(クロロプレンは合計253g
(2.86mol))をゆっくりと添加した(添加時間
40分)。この間、反応液はリフラックッス状態であ
り、滴下終了とともにリフラックッス状態は終わった。
引続き室温で1時間熟成を行った後、Oーフェナントロ
リンを用いグリニャール化合物の生成を確認した。
(3.29mol)と十分に脱水したテトラヒドロフラ
ン1880ccとクロロプレン53.1gを入れ約50
℃に加熱した。塩化亜鉛を約8.0g を入れると速やか
に反応が始まり、撹拌を行いながらさらに滴下ロートで
200gのクロロプレン(クロロプレンは合計253g
(2.86mol))をゆっくりと添加した(添加時間
40分)。この間、反応液はリフラックッス状態であ
り、滴下終了とともにリフラックッス状態は終わった。
引続き室温で1時間熟成を行った後、Oーフェナントロ
リンを用いグリニャール化合物の生成を確認した。
【0022】このグリニャール化合物が生成しているフ
ラスコに室温(約23℃)で撹拌しながらジクロロメチ
ルシラン102. 1g(mol)をゆっくりフィードし
た。フィードを開始するとすぐに反応し内温が上昇し塩
が生成した。ジクロロメチルシランのフィード終了後、
約室温で1時間熟成した。該反応液を常法に従い蒸留精
製を行い24gの無色透明な液を回収した。
ラスコに室温(約23℃)で撹拌しながらジクロロメチ
ルシラン102. 1g(mol)をゆっくりフィードし
た。フィードを開始するとすぐに反応し内温が上昇し塩
が生成した。ジクロロメチルシランのフィード終了後、
約室温で1時間熟成した。該反応液を常法に従い蒸留精
製を行い24gの無色透明な液を回収した。
【0023】この液をGC−MS及び 1HNMRで分析
し、回収液はビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕メ
チルシランであることを確認した。1 HNMR ;CDCl3 δ(ppm) 6.50〜6.60(m,2H,HC=C) 5.90〜5.95(d,2H,H2 C=C) 5.62〜5.72(d,2H,H2 C=C) 5.22〜5.32(d,2H,H2 C=C) 5.10〜5.20(d,2H,H2 C=C) 4.60〜4.68(m,1H,Si−H) 0.40〜0.50(d,3H,CH3 ) マススペクトル 150(M+ ) 135(M−CH3 )+
し、回収液はビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕メ
チルシランであることを確認した。1 HNMR ;CDCl3 δ(ppm) 6.50〜6.60(m,2H,HC=C) 5.90〜5.95(d,2H,H2 C=C) 5.62〜5.72(d,2H,H2 C=C) 5.22〜5.32(d,2H,H2 C=C) 5.10〜5.20(d,2H,H2 C=C) 4.60〜4.68(m,1H,Si−H) 0.40〜0.50(d,3H,CH3 ) マススペクトル 150(M+ ) 135(M−CH3 )+
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は低級アルキル基を示す。Y
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は炭化
水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物。 - 【請求項2】 一般式(II) H4-n-m SiXm Yn (II) (Xはハロゲン原子又は低級アルコキシ基、Yは水素原
子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、炭化水素基を示
す。mは2又は3、nは0又は1を示す。ただしm+n
≦3)で表されるシラン化合物と一般式(III) (Zはハロゲン原子を示し、A1 ,A2 は水素原子又は
低級アルキル基を示す)で表されるグリニャール化合物
を反応させることを特徴とする一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は、低級アルキル基を示す。
Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基または
炭化水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4296098A JPH06145179A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4296098A JPH06145179A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06145179A true JPH06145179A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17829110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4296098A Pending JPH06145179A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06145179A (ja) |
-
1992
- 1992-11-05 JP JP4296098A patent/JPH06145179A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050210 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A072 | Dismissal of procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073 Effective date: 20051025 |