JPH06145179A - 新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents

新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法

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JPH06145179A
JPH06145179A JP4296098A JP29609892A JPH06145179A JP H06145179 A JPH06145179 A JP H06145179A JP 4296098 A JP4296098 A JP 4296098A JP 29609892 A JP29609892 A JP 29609892A JP H06145179 A JPH06145179 A JP H06145179A
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JP
Japan
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bis
compound
general formula
compound represented
butadienyl
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JP4296098A
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English (en)
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Tadashi Inoue
正 井上
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Denka Co Ltd
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Denki Kagaku Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 置換−1,3−ブタジェニル基を2つ有する
新規な有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。 【構成】 一般式 (A1 ,A2 は水素原子又は低級アルキル基を示す。Y
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は炭化
水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物及びその製
造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、置換−1,3−ブダジ
エニル基を2つ有する新規な有機ケイ素化合物及びその
製造方法に関する。そしてこの新規な有機ケイ素化合物
はシランカップリング剤、シリル化剤、高分子化合物の
改質剤、架橋剤、高分子共重合体用モノマー及び、その
他の有機ケイ素化合物の原料等、多岐にわたる分野への
利用がが考えられる。
【0002】
【従来技術】従来より1,3−ブタジエニル基を有する
有機ケイ素化合物としては2−(トリメトキシ)シリル
−1,3−ブタジエン、2−(メトキシジメチル)シリ
ル−1,3−ブタジエン、2−(ジメチルクロロ)シリ
ル−1,3−ブタジエン、2−(トリエチル)シリル−
1,3−ブタジエンなどが知られており、また、特開昭
61−205286号公報にはビス〔2−(1,3−ブ
タジエニル)〕ジメトキシシランが開示されている。
【0003】しかし1つのケイ素原子に対し2つの置換
−1、3−ブタジニエル基を有しかつ、そのケイ素原子
が水素原子と結合してSi−H結合を有する有機ケイ素
化合物は報告されていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】有機ケイ素化合物はシ
ランカップリング剤あるいは樹脂改質剤として広く利用
されているが、このためには反応性に優れていることが
必要であり、そのような新規な有機ケイ素化合物の出現
が望まれていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明はSi−H結合を
有する化合物の反応性に着目し、Si−H結合を有する
シラン化合物について鋭意研究を行った結果、収率良く
置換−1,3ブタジエニル基をケイ素原子に導入できる
ことを見いだし本発明に至った。
【0006】すなわち、本発明は、一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は、低級アルキル基を示す。
Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基または
炭化水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物を第一
発明とし、一般式(II) H4-n-m SiXm n (II) (Xはハロゲン原子又は低級アルコキシ基、Yは水素原
子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、炭化水素基を示
す。mは2又は3、nは0又は1を示す。ただしm+n
≦3)で表されるシラン化合物と一般式(III) (Zはハロゲン原子を示し、A1 ,A2 は水素原子又
は、低級アルキル基を示す)で表されるグリニャール化
合物を反応させることを特徴とする一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は、低級アルキル基を示す。
Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基または
炭化水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物の製造
方法を第二発明とすることからなる。
【0007】本発明の一般式(1)の化合物は、1つの
ケイ素原子に2つの置換−1,3−ブタジエニル基が結
合し、かつ同じケイ素原子に一つ以上の水素原子が結合
していることを特徴とする化合物であり、その例として
は、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕シラン、ビ
ス〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕シラン、ビス
〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕シラン、ビス
〔2−(1,3−ブタジエニル)〕クロルシラン、ビス
〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕クロルシラン、
ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕クロルシラ
ン、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕ブロモシラ
ン、ビス〔2−(1,3−ペンタタジエニル)〕ブロモ
シラン、ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕ブ
ロモシラン、ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕メ
チルシラン、ビス〔2−(1,3−ペンタタジエニ
ル)〕メチルシラン、ビス〔3−(1,3ーペンタジエ
ニエル)〕メチルシラン、ビス〔2−(1,3−ブタジ
エニル)〕メトキシシラン、ビス〔2−(1,3−ペン
タタジエニル)〕メトキシシラン、ビス〔3−(1,3
−ペンタジエニエル)〕メトキシシラン、ビス〔2−
(1,3−ブタジエニル)〕エトキシシラン、ビス〔2
−(1,3−ペンタタジエニル)〕エトキシシラン、ビ
ス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕エトキシシラ
ン、ビス〔3−(1,3−ペンタジエニエル)〕フェニ
ルシラン等を挙げることができる。
【0008】次に、本発明の一般式(I)で表される新
規化合物は、一般式(II)で表されるシラン化合物と
一般式(III)で表されるグリニャール化合物とを反
応させることにより収率良く得られる。
【0009】本発明の一般式(II)で表されるシラン
化合物の例としては、ジクロルシラン、ジエトキシシラ
ン、ジメトキシシラン、ジブロモシラン、トリクロルシ
ラン、トリブロモシラン、トリメトキシシラン、メチル
ジクロルシラン、メチルジブロモシラン、メチルジメト
キシシラン、メチルジエトキシシラン、フェニルジクロ
ルシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエト
キシシラン等が例示される。
【0010】本発明の一般式(III)で表されるグリ
ニャール化合物としては、クロロプレン、ブロモプレン
等のグリニャール化合物を挙げることができる。グリニ
ャール化合物の製造方法としては、通常の方法を採用す
ることができ、例えば「ジャーナル・オブ・オルガニッ
ク・ケミストリー,44巻,4788頁(1979
年)」に記載されている方法に準拠して製造することが
できる。
【0011】本発明の一般式(II)で表されるシラン
化合物と一般式(III)で表されるグリニャール化合
物との反応は、グリニャール化合物の製造時に一般に利
用されるテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒に一般
式(III)で表されるグリニャール化合物を溶解し、
不活性ガスの雰囲気下に一般式(II)で表されるシラ
ン化合物を反応させればよい。
【0012】反応温度は−30℃〜溶媒沸点であり、好
ましくは、0℃〜室温付近である。反応時間は数分間〜
10時間であるが、10分〜5時間とすることが好まし
い。また、本発明の原料及び生成物などの重合を防止す
る為に、安定剤、例えばターシャリーブチルカテコー
ル、N,N−ジエチルハイドロキシルアミン、ハイドロ
キンノン等を添加しても良い。
【0013】一般式(II)で表されるシラン化合物と
一般式(III)で表されるグリニャール化合物のモル
比は1:0.5〜1:5の範囲で行うことができるが、
好ましくは1:1.8〜1:2.2である。
【0014】反応に用いる溶剤としてはグリニャール化
合物を製造する時に使用した溶媒をそのまま利用できる
が、反応を阻害しない他の溶剤を混合しても良い。ま
た、反応液の希釈は、容積効率、反応熱などを考慮して
適宜きめることができる。
【0015】本発明の反応は、通常、不活性雰囲気下で
行う。不活性雰囲気に用いられるガスとしては、アルゴ
ン、窒素、ヘリウム、水素等が挙げらるが、これらのガ
スを単独または、混合して用いることができる。
【0016】また、本発明の反応は一般式(II)で表
されるシラン化合物を一般式(III)で表されるグリ
ニャール化合物の原料となるハロゲン化ブタジエンとエ
ーテル系溶媒と金属マグネシウム共存下で反応させて製
造することも可能である。
【0017】
【発明の効果】本発明の1,3−ブタジエニル基を2つ
有する新規なケイ素化合物は、シランカップリング剤、
シリル化剤、高分子改質剤、他の有機ケイ素化合物の原
料等としての利用が期待される。また、本発明の製造方
法により該新規なケイ素化合物を高収率で得ることがで
きる。
【0018】
【実施例】本発明を以下の実施例により更に詳細に説明
する。 実施例1 3リットルの4つ口フラスコを用い、コンデンサーを取
り付け、窒素雰囲気下で金属マグネシウム49.4g
(2.11mol)と十分に脱水したテトラヒドロフラ
ン1080ccとクロロプレン20gを入れ約50℃に
加熱した。塩化亜鉛を約0.5g を入れると速やかに反
応が始まり、撹拌を行いながらさらに滴下ロートで10
0gのクロロプレン(クロロプレンは合計120g
(1.36mol))をゆっくりと添加した(添加時間
30分)。この間、反応液はリフラックッス状態であ
り、滴下終了とともにリフラックッス状態は終わった。
引続き50℃で1時間熟成を行った後、O−フェナント
ロリンを用いグリニャール化合物の生成を確認した。
【0019】このグリニャール化合物が生成しているフ
ラスコに室温(約23℃)で撹拌しながらジクロロシラ
ン43.3g(0.43mol)をゆっくりフィードし
た。ジクロロシランのフィードを開始するとすぐに反応
し内温が上昇し塩が生成した。ジクロロシランのフィー
ド終了後、約50℃、1時間熟成した。反応液をフラス
コから抜取り約5000ccのヘキサンで洗浄しなが
ら、ろ過を行った。ろ液を常法に従い蒸留精製を行い2
6g の無色透明な液を回収した。
【0020】この液をGC−MS及び 1HNMRで分析
し回収液はビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕シラ
ンであることを確認した。1 HNMR ;CDCl3 δ(ppm) 6.50〜6.60(m,2H,HC=C) 5.95(s,2H,H2 C=C) 5.75(s,2H,H2 C=C) 5.26〜5.36(d,2H,H2 C=C) 5.14〜5.24(d,2H,H2 C=C) 4.45(s,2H,Si−H2 ) マススペクトル 136(M+ ) 83(M−C4 5 +
【0021】実施例2 実施例1と同様の装置を用い、金属マグネシウム80g
(3.29mol)と十分に脱水したテトラヒドロフラ
ン1880ccとクロロプレン53.1gを入れ約50
℃に加熱した。塩化亜鉛を約8.0g を入れると速やか
に反応が始まり、撹拌を行いながらさらに滴下ロートで
200gのクロロプレン(クロロプレンは合計253g
(2.86mol))をゆっくりと添加した(添加時間
40分)。この間、反応液はリフラックッス状態であ
り、滴下終了とともにリフラックッス状態は終わった。
引続き室温で1時間熟成を行った後、Oーフェナントロ
リンを用いグリニャール化合物の生成を確認した。
【0022】このグリニャール化合物が生成しているフ
ラスコに室温(約23℃)で撹拌しながらジクロロメチ
ルシラン102. 1g(mol)をゆっくりフィードし
た。フィードを開始するとすぐに反応し内温が上昇し塩
が生成した。ジクロロメチルシランのフィード終了後、
約室温で1時間熟成した。該反応液を常法に従い蒸留精
製を行い24gの無色透明な液を回収した。
【0023】この液をGC−MS及び 1HNMRで分析
し、回収液はビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕メ
チルシランであることを確認した。1 HNMR ;CDCl3 δ(ppm) 6.50〜6.60(m,2H,HC=C) 5.90〜5.95(d,2H,H2 C=C) 5.62〜5.72(d,2H,H2 C=C) 5.22〜5.32(d,2H,H2 C=C) 5.10〜5.20(d,2H,H2 C=C) 4.60〜4.68(m,1H,Si−H) 0.40〜0.50(d,3H,CH3 ) マススペクトル 150(M+ ) 135(M−CH3 +

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は低級アルキル基を示す。Y
    は水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は炭化
    水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物。
  2. 【請求項2】 一般式(II) H4-n-m SiXm n (II) (Xはハロゲン原子又は低級アルコキシ基、Yは水素原
    子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、炭化水素基を示
    す。mは2又は3、nは0又は1を示す。ただしm+n
    ≦3)で表されるシラン化合物と一般式(III) (Zはハロゲン原子を示し、A1 ,A2 は水素原子又は
    低級アルキル基を示す)で表されるグリニャール化合物
    を反応させることを特徴とする一般式(I) (A1 ,A2 は水素原子又は、低級アルキル基を示す。
    Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基または
    炭化水素基を示す)で表される有機ケイ素化合物の製造
    方法。
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