JPH06145191A - ３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド製造中間体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 〔構成〕下記一般式： 【化１】 （式中、Ａは保護されていてもよいカルボニル基を表
し、Ｂは保護されていてもよいアルデヒド基を示し、Ｗ
は水素原子または-OCOCH₃ 基を示し、Ｙは水酸基、置換
スルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ¹ は
水酸基又は保護された水酸基を示し、Ｒ² は低級アルカ
ノイル基を示す。ただし、──部分は、Ｗが水素原子を
示す場合には二重結合を示し、Ｗが-OCOCH₃ 基を示す場
合には単結合を示す）で示される３，４′−ジデオキシ
マイカミノシルタイロノライド製造中間体。 〔効果〕抗菌剤として有用な３，４′−ジデオキシマイ
カミノシルタイロノライド又はその塩を効率よく製造す
るための有用な中間体である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、優れた感染防御作用を
有する抗菌性物質である３，４′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドを製造するための有用な中間体に
関する。

【０００２】

【従来の技術】３，４′−ジデオキシマイカミノシルタ
イロノライド又はその塩は、グラム陽性及び陰性に属す
る微生物に対して抗菌活性を示す物質であり、特に感染
防御作用に優れた抗菌剤として有用である（特開平２−
２７５８９４号公報）。３，４′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライドは、タイロシンの酸加水分解物で
あるマイカミノシルタイロノライドの官能基を適宜保護
した後、３位及び４′位の水酸基をデオキシ化し、さら
に適宜脱保護することにより製造することができる。例
えば、３位と４′位の水酸基をスルホニル化した後、ジ
ャーナル・オブ・アンティバイオティックス(J. Antibi
otics 34、1374〜1376頁) 又は特開平2-191295号公報に
記載された方法により４′位の水酸基をハロゲン化し、
更に水素化トリブチル錫を用いてハロゲン原子を還元的
に除去するデオキシ化法が知られている。上記特開平2-
275894号公報に記載された方法も、同様に４′位の水酸
基をデオキシ化する方法である。３位の水酸基について
は、アルカリ条件下でスルホン酸を脱離させて二重結合
を形成させた後、二重結合を接触還元することによりデ
オキシ化を行うことができる。

【０００３】しかし上記の方法によれば、３位及び４′
位のデオキシ化を行うにあたり、両水酸基をスルホニル
化して４′位をハロゲン化した後、さらに３工程（４′
位の水素化トリブチル錫による還元工程、３位の二重結
合形成工程、及び還元工程）の反応を行う必要があり、
収率が低いという問題があった（約65〜70％）。さら
に、４′位のデオキシ化に使用する水素化トリブチル錫
は悪臭を伴い、反応後の生成物の精製が困難になるの
で、この反応を工業的に応用することには問題があっ
た。

【０００４】本発明者は、３，４′−ジデオキシマイカ
ミノシルタイロノライドを製造するための有用な中間体
である３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノラ
イド誘導体を製造するにあたり、上記の問題点を解決
し、工業的に応用可能な新規製造方法を提供することを
目的として研究を進めた。その結果、水素化トリブチル
錫を用いることなく、３位及び４′位にそれぞれスルホ
ニル基で保護された水酸基とハロゲン原子とを有するマ
イカミノシルタイロノライド誘導体を、１工程で効率的
に水素置換して、目的の３，４′−ジデオキシマイカミ
ノシルタイロノライド誘導体を製造する方法を見出し、
該発明について特許出願した（特願平 4-24692号) 。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】本発明は、上記の製造方法において有用な、
３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド製
造中間体を提供することを目的としている。本発明は、
下記一般式：

【０００６】

【化２】

【０００７】（式中、Ａは保護されていてもよいカルボ
ニル基を表し、Ｂは保護されていてもよいアルデヒド基
を示し、Ｗは水素原子または-OCOCH₃ 基を示し、Ｙは水
酸基、置換スルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を示
し、Ｒ¹ は水酸基又は保護された水酸基を示し、Ｒ² は
低級アルカノイル基を示す。ただし、──部分は、Ｗが
水素原子を示す場合には二重結合を示し、Ｗが-OCOCH₃
基を示す場合には単結合を示す）で示される３，４′−
ジデオキシマイカミノシルタイロノライド製造中間体を
提供するものである。

【０００８】本発明の式（Ｉ）で示される化合物におい
て、Ａ又はＢが表すカルボニル基又はアルデヒド基の保
護基としては当業者に自明なものはいかなるものを使用
してもよいが、例えば、ジメチルアセタール（ジメチル
ケタール）、ジエチルアセタール（ジエチルケター
ル）、ジエチルチオアセタール（ジエチルチオケター
ル）、エチレンアセタール（エチレンチオケタール）、
プロピレンアセタール（プロピレンケタール）等のアセ
タール（又はチオアセタール）又はケタール（又はチオ
ケタール）等を用いることができる。

【０００９】Ｗは水素原子または-OCOCH₃ 基を示し、Ｙ
は水酸基、置換スルホニルオキシ基、又はハロゲン原子
を示す。置換スルホニルオキシ基は-OSO₂R³ で示され、
Ｒ³は、例えば低級アルキル基、トリフルオロメチル
基、２−オキソ−10−ボルナニイル基、置換又は未置換
のアリル基、若しくは置換又は未置換のアラルキル基を
表す。低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、tert−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチ
ル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基などを挙げ
ることができる。置換または未置換のアリル基として
は、フェニル基、p-メトキシフェニル基、p-ニトロフェ
ニル基、p-フルオロフェニル基、p,o-ジフルオロフェニ
ル基、p-クロロフェニル基、m-クロロフェニル基、o-ク
ロロフェニル基、o,p-ジクロロフェニル基、p-ブロモフ
ェニル基、p-メチルフェニル基、m-メチルフェニル基、
o,p-ジメチルフェニル基、m,p-ジメチルフェニル基、ナ
フチル基等を挙げることができる。置換または未置換の
アラルキル基としては、ベンジル基、p-ニトロベンジル
基、o,p-ジニトロベンジル基、p-クロロベンジル基、m-
クロロベンジル基、p-メチルベンジル基、m-メチルベン
ジル基、o-メチルベンジル基、o,p-ジメチルベンジル
基、p-メトキシベンジル基、p-フルオロベンジル基を挙
げることができる。ハロゲン原子としては、例えば、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のいずれでもよい。

【００１０】Ｒ¹ は水酸基又は保護された水酸基を表
し、水酸基の保護基としては当業者に自明なものならば
いかなるものを用いてもよいが、例えばｔ−ブチルジメ
チルシリル、ジメチルセキシルシリル、トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリ（ｔ−ブチル）シリル等の
アルキルシリル基、トリチル基、テトラヒドロピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、アリル（allyl ）基、ア
セチル基等の低級アルカノイル基、ベンゾイル基、ベン
ジル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシカルボニル
基等を使用することができる。Ｒ² は水素原子又は低級
アルカノイル基を表し、低級アルカノイル基として炭素
数１〜６の直鎖又は分岐状のアルカノイル基を挙げるこ
とができる。低級アルカノイル基としては、例えば、ホ
ルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、
イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロ
イル基、ヘキサノイル基等を用いることができる。上記
式において──部分は単結合または二重結合を示すが、
Ｗが水素原子を示す場合には二重結合を示し、Ｗが-OCO
CH₃ 基を示す場合には単結合を示す。

【００１１】本発明の３，４′−ジデオキシマイカミノ
シルタイロノライド製造中間体において、Ａが保護され
たカルボニル基であり、Ｂが保護されたアルデヒド基で
あり、Ｗが水素原子であり、Ｙが水酸基であり、Ｒ¹ が
保護された水酸基である化合物（2',4"-ジ-O−アシル−
Δ²-デスマイコシン ビスアセタール体) は、例えば、
容易に入手可能な3-O-アセチルタイロシン（ジャーナル
・オブ・アンティバイオティックス27,542(1979)）を、
例えばジャーナル・オブ・アンティバイオティックス 3
5, 661(1982)に記載された方法により種々の酸無水物で
処理して2',4"'- ジ-O−アシル-3-O−アセチルタイロシ
ンに変換した後、該化合物に対して1.1-1.5 モル程度の
酸触媒の存在下に、例えばトルエン等の不活性溶媒中で
脱水剤及びアルコール化合物により5-80℃程度で処理し
て、2',4"-ジ-O−アシル-3-O−アセチルデスマイコシン
の 9,20-のビスアセタール体に変換し、さらに該化合物
を例えばトルエン等の不活性溶媒中で該化合物に対して
1.0-5.0 モル程度の塩基で処理することにより製造する
ことができる。

【００１２】上記の反応において、アルコール化合物と
してはメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコール、プロパンジオール、2,3-ブ
タンジオール等を用いることができ、これらは原料化合
物に対して５ないし20モル程度で使用される。脱水剤と
しては、オルト蟻酸エチル、オルト蟻酸メチル、無水塩
化カルシウム、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシ
ウム、モレキュラーシーブ等を用いることができ、酸触
媒としてはカンファースルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、ア
ンバーリスト15等を使用すればよい。また脱酢酸工程で
使用される塩基としては、水素化ナトリウム、tert−ブ
トキシカリウム、マグネシウムメトキシド、マグネシウ
ムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、1,
5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン等を使用すればよ
い。

【００１３】さらに、ピリジン、コジン、ルチジン、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機
塩基の存在下に、上記の化合物を不活性溶媒中でR³SO₂
反応性誘導体（ R³ は前記と同じである）と−25〜25℃
程度の温度で反応させることにより、Ｙが置換スルホニ
ルオキシ基である化合物に変換することができる。R³SO
₂ 反応性誘導体としては、ハロゲン化物や無水物を使用
ればよく、所望のR³SO ₂O- 基を導入するために用いるべ
きR³SO₂ 反応性誘導体は、当業者により適宜選択され
る。具体的には、メタンスルホニルクロリド、メタンス
ルホン酸無水物、エタンスルホニルクロリド、プロパン
スルホニルクロリド、ブタンスルホニルクロリド、ペン
タンスルンホニルクロリド、トリフルオリメタンスルホ
ニルクロリド、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、
ベンゼンスルホニルクロリド、p-メトキシフェニルスル
ホニルクロリド、p-ニトロフェニルスルホニルクロリ
ド、p-フルオロフェニルスルホニルクロリド、p,o-ジフ
ルオロフェニルスルホニルクロリド、p-クロロフェニル
スルホニルクロリド、m-クロロフェニルスルホニルクロ
リド、o-クロロフェニルスルホニルクロリド、o,p-ジク
ロロフェニルスルホニルクロリド、p-ブロモフェニルス
ルホニルクロリド、p-メチルフェニルスルホニルクロリ
ド、p-メチルフェニルスルホン酸無水物、m-メチルフェ
ニルスルホニルクロリド、o,p-ジメチルフェニルスルホ
ニルクロリド、m,p-ジメチルフェニルスルホニルクロリ
ド、ナフチルスルホニルクロリド、カンファースルホニ
ルクロリド、ベンジルスルホニルクロリド、p-ニトロベ
ンジルスルホニルクロリド、o,p-ジニトロベンジルスル
ホニルクロリド、p-クロロベンジルスルホニルクロリ
ド、m-クロロベンジルスルホニルクロリド、p-メチルベ
ンジルスルホニルクロリド、m-、メチルベンジルスルホ
ニルクロリド、オルトメチルベンジルスルホニルクロリ
ド、o,p-ジメチルベンジルスルホニルクロリド、p-メト
キシベンジルスルホニルクロリド、p-フルオロベンジス
ルスルホニルクロリド等を挙げることができるが、これ
らに限定されることはない。

【００１４】また、アセトン、メチルエチルケトン、ジ
メトキシエタン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルホルムアミド等の溶媒中で、Ｙが置換スル
ホニルオキシ基である上記の化合物に対して１〜５モル
程度のハロゲン化剤を50〜100 ℃程度の温度で作用させ
ることにより、Ｙがハロゲン原子である化合物を得るこ
とができる。ハロゲン化剤としては、ヨウ化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、
塩化ナトリウム、テトラブチルアンモニウムアイオダイ
ド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチル
アンミニウムクロリド等を用いることができるがこれら
に限定されることはない。

【００１５】本発明の化合物の製造方法の一例を説明し
たが、本発明の化合物の製造方法はこれらの方法に限定
されることはなく、上記の反応を修飾ないし改変するこ
とにより、あるいは別の製造方法によって製造してもよ
い。本発明の３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイ
ロノライド製造中間体において、Ａが保護されたカルボ
ニル基であり、Ｂが保護されたアルデヒド基であり、Ｗ
が水素原子であり、Ｙがハロゲン原子であり、Ｒ¹ が保
護された水酸基である化合物を用いて、抗菌剤として有
用な３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライ
ド又はその塩に変換するには、例えば上記の化合物をア
ルカリ条件下で還元することにより、３位及び４′位を
同時に水素置換して３，４′−ジデオキシ誘導体を製造
した後、常法に従って保護基を除去すればよい。

【００１６】該還元反応は、例えば、不活性溶媒中で基
質となる該化合物を触媒の存在下に接触還元すればよ
い。アルカリ条件を形成するために用いる塩基として
は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等を用いるこ
とができる。これらの塩基は、通常、基質に対して２〜
５モルの割合で使用すればよい。また接触還元に使用す
る触媒としては、白金、パラジウム、ラネーニッケル
等、好ましくはラネーニッケルを挙げることができる。
触媒の使用量は触媒の種類により異なるが、一般に、基
質に対して1/10〜１の割合で使用すればよい。不活性溶
媒としては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフ
ラン等の溶媒を挙げることができる。接触還元を行うに
あたり、例えば水素の添加圧を常圧〜５Kg/cm²、反応温
度を冷却下〜室温、好ましくは−10〜30℃として反応を
行えばよい。これらの条件は原料化合物や触媒の種類に
より異なるが、当業者により適宜選択されるものであ
る。マイシノシル基は、マイシノシル基を酸化して対応
するケトン体とした後に酸または塩基を用いた処理によ
り除去すればよい。また、保護基の除去は、通常、水の
存在下に塩酸、硫酸等の鉱酸で処理するか、酢酸、トリ
フルオロ酢酸、トリクロル酢酸等の有機酸で処理するこ
とにより行えばよいが、場合によってはジオキサン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニ
トリル等の溶媒中でｐ−トルエンスルホン酸等のアリー
ルスルホン酸、メタンスルホン酸等のアルキルスルホン
酸等を用いて、室温〜加熱下で処理することによっても
行うことができる。

【００１７】本発明の方法を用いて得ることができる
３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド
は、特開平2-275894号公報に記載されたように、グラム
陽性及び陰性に属する広範囲の微生物に対して抗菌活性
を示す物質であり、特に感染防御作用に優れているの
で、抗菌剤として有用である。

【００１８】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されること
はない。 実施例１ 2',3,4"-トリ−Ｏ−アセチルデスマイコシン
9,20−ビス( エチレンアセタールの製造

【００１９】

【化３】

【００２０】2',3,4",4"'-テトラ−Ｏ−アセチルタイロ
シン1.00ｇ（0.922 mmol）をトルエン５mlに溶解し、オ
ルトギ酸エチル0.61 ml(3.69 mmol)、エチレングリコー
ル0.51ml(9.22mmol)、dl−カンファスルホン酸321 mg
(1.38 mmol) を順次加え、50℃で２時間反応させた。反
応液にトルエン10mlを加え、５％重曹水15ml、飽和食塩
水15mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機
層を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(55 ｇ) にて、トルエン／アセトン(5／1)で溶
出し、トルエン／アセトン(2／1)展開のシリカゲルTLC
にてＲf 値0.38に硫酸呈色陽性を示すフラクションを分
取すると、58％の収率で表題化合物の無色アモルファス
状固体が525 mg得られた。

【００２１】UV(MeOH)λmax; 235nm IR(KBr)vmax; 3468, 2976, 2938, 2882, 1742, 1372, 1
236, 1175, 1086,1049 cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ: 0.84 (3H, br, H-18), 0.90 (3H, t, J=7.3 Hz, H-
17),0.99 (3H, d, J=5.9 Hz, H-21), 1.16 (3H, d, J=
6.6 Hz, H-6"),1.31 (3H, d, J=5.9 Hz, H-6'), 1.71
(3H, s, H-22),2.05 (3H, s, OCOCH₃), 2.11 (6H, s, 2
X OCOCH₃),2.39（6H, s, N(CH₃)₂-3'),2.91 (1H, m, H=
14), 3.28 (1H, m, H=5'), 3.45 (3H, s, OCH₃-2"),3.5
2 (3H, s, OCH₃-3"), 4.29 (1H, d, J=6.6 Hz, H-1'),
4.43 (1H, dd, J=2.2 & 10.3 Hz, H-4"),4.60 (1H, d,
J=8.1 Hz, H-1"), 4.81 (1H, m, H-15),4.90 (1H, bs,
H-20), 5.42 (1H, d, J=10.3 Hz, H-13),5.61 (1H, d,
J=16.1 Hz, H-10), 6.49 (1H, d, J=16.1 Hz, H-10) FAB-MS; 986 (M+H)⁺ 実施例２ 2',4"-ジ−Ｏ−アセチル−2,3 −デヒドロ−
3 −デオキシデスマイコシン 9,20−ビス( エチレンア
セタール) の製造

【００２２】

【化４】

【００２３】2',3,4"-トリ−Ｏ−アセチルデスマイコシ
ン 9,20-ビス( エチレンアセタール) 100 mg(0.101mmo
l) をテトラヒドロフラン1 mlに溶解し、氷冷下、水素
化ナトリウム9.7 mg(0.404mmol) を加え、室温で1.5 時
間反応した。反応液に酢酸エチル20mlを加え、水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮して
得られた残渣110 mgを、トルエン／アセトン(2／1)展開
の分取用シリカゲルTLCで精製すると同展開TLC にてＲf
値0.49に硫酸呈色陽性の表題化合物が85％の収率で80m
g得られた。

【００２４】UV(MeOH)λmax; 218nm IR(KBr)vmax; 3468, 2975, 2938, 2882, 1746, 1373, 1
235, 1171, 1086,1051 cm ^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ: 0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J=
6.6 Hz, H-6"),1.33 (3H, d, J=6.6 Hz, H-6'), 1.70
(3H, s, H-22),2.05 (3H, s, OCOCH₃), 2.11 (3H, s, O
COCH₃),2.40（6H, s, N(CH₃)₂-3'), 2.57 (1H, t, J=1
0.3 Hz, H-3'),2.91 (1H, m, H=14), 3.33 (1H, m, H=
5'), 3.48 (3H, s, OCH₃-2"),3.52 (3H, s, OCH₃-3"),
4.62 (1H, d, J=8.1 Hz, H-1"),4.87 (1H, m, H-15),
4.97 (1H, bs, H-20),5.05 (1H, dd, J=7.3 & 10.3 Hz,
H-2'),5.33 (1H, d, J=10.3 Hz, H-13), 5.48 (1H, d,
J=15.4 Hz, H-10),5.54 (1H, d, J=15.4 Hz, H-2), 6.
24 (1H, d, J=15.4 Hz, H-11),6.70 (1H, dd, J=15.4 &
9.5 Hz. H-3) FAB-MS; 926 (M+H)⁺ 実施例３ 2',4"-ジ−Ｏ−アセチル−2,3 −デヒドロ−
3.４^' −ジデオキシ−4'−Ｏ−メタンスルホニルデスマ
イコシン 9,20-ビス( エチレンアセタール) の製造

【００２５】

【化５】

【００２６】2',4"-ジ−Ｏ−アセチル-2,3−デヒドロ−
３−デオキシデスマイコシン 9,20- ビス( エチレンア
セタール) 50mg(0.0539mmol)をメチルエチルケトン0.5
mlに溶解し、トリエチルアミン22.5μl (0.161mmol) を
加えた後、氷冷下、塩化メタンスルホニル6.3 μl(0.08
08mmol) のメチルエチルケトン100 μl 溶液を加え、同
温度で15分間反応させた。反応液に酢酸エチル10mlを加
え、5 ％重曹水10ml、飽和食塩水10mlで洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮乾固する
と、トルエン／アセトン(4／1)展開のシリカゲルTLC に
てＲf 値0.5 1 に硫酸呈色陽性の表題化合物が55mg得ら
れた。

【００２７】NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ: 0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J=
6.6 Hz, H-6"),1.38 (3H, d, J=5.9 Hz, H-6'), 1.70
(3H, s, H-22),2.06 (3H, s, OCOCH₃), 2.11 (3H, s, O
COCH₃),2.40（6H, s, N(CH₃)₂-3'), 3.05 (1H, dd, J=
8.1 & 2.9 Hz, H-2"),3.11 (3H, s, OMs-4'), 3.48 (3
H, s, OCH₃-2"),3.52 (3H, s, OCH₃-3"), 4.24 (1H, t,
J=9.5 Hz, H-4'),4.62 (1H, d, J=8.1 Hz, H-1"),5.08
(1H, dd, J=7.3 & 10.3 Hz, H-2'),5.33 (1H, d, J=1
0.3 Hz, H-13), 5.48 (1H, d, J=15.4 Hz, H-10),5.55
(1H, d, J=15.4 Hz, H-2), 6.24 (1H, d, J=15.4 Hz, H
-11),6.68 (1H, dd, J=15.4 & 9.5 Hz, H-3) FAB-MS; 1004 (M+H) ⁺ 実施例４ 2',4"- ジ−Ｏ−アセチル−2,3 −デヒドロ
-3,4' −ジデオキシ−4'−ヨードデスマイコシン 9,20
−ビス( エチレンアセタール) の製造

【００２８】

【化６】

【００２９】2',4"-ジ−Ｏ−アセチル−2,3 −デヒドロ
-3,4' −デオキシデスマイコシン9,20−ビス( エチレン
アセタール) 1.88g(2.03mmol) をメチルエチルケトン20
ml に溶解し、トリエチルアミン0.85ml (6.09mmol) を
加えた後、氷冷下、塩化メタンスルホニル0.20ml (2.64
mmol) のメチルエチルケトン1.5 ml溶液を加え、同温度
で30分間反応させた。さらに反応液に、ヨウ化ナトリウ
ム 907mg(6.09 mmol)を加え、30分間加熱還流した。反
応液を減圧濃縮した後、酢酸エチル50mlを加え、5 ％重
曹水50ml、飽和食塩水50mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。有機層を減圧濃縮、真空乾燥すると、表
題化合物を主成分として含む無色アモルファス状固体が
2.10ｇ得られた。

【００３０】UV(MeOH)λmax; 216nm IR(KBr)vmax; 2975, 2936, 2880, 1750, 1717, 1373, 1
233, 1171, 1090,1049 cm ^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ: 0.95 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.17 (3H, d, J=
6.6 Hz, H-6"),1.53 (3H, d, J=5.1 Hz, H-6'), 1.69
(3H, s, H-22),2.04 (3H, s, OCOCH₃), 2.11 (3H, s, O
COCH₃),3.05 (1H, dd, J=2.9 & 8.1 Hz, H-2"), 3.48
(3H, s, OCH₃-2"),3.52 (3H, s, OCH₃-3"), 4.62 (1H,
d, J=8.1 Hz, H-1"),5.33 (1H, d, J=10.3 Hz, H-13),
5.47 (1H, d, J=15.4 Hz, H-10),5.55 (1H, d, J=15.4
Hz, H-2), 6.24 (1H, d, J=15.4 Hz, H-11),6.69 (1H,
dd, J=15.4 & 9.5 Hz. H-3) FAB-MS; 1036 (M+H) ⁺ 実施例５ 3,4'- ジデオキシデスマイコシン 9,20-ビス
( エチレンアセタール)の製造

【００３１】

【化７】

【００３２】実施例４で得られた 2',4"−ジ−Ｏ−アセ
チル−2,3 −デヒドロ-3,4'-ジデオキシ−4'−ヨードデ
スマイコシン 9,20-ビス( エチレンアセタール)470mg(
0.454mmol)をメタノール６mlに溶解し、炭酸カリウム20
0 mg(1.45 mmol) 、続いてラネーニッケル( 川研ファイ
ンケミカル株NDT-65) 湿重量400 mg(0.3ml) のメタノー
ル１ml懸濁液を加え、水素圧3.5Kg/cm² にて２時間接触
還元を行なった。触媒をセライトにて濾別し、母液を１
晩放置した後減圧濃縮した。残渣に酢酸エチル20ml、水
20mlを加え、分液した。有機層は飽和食塩水20mlで洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧濃縮
して得られた残渣423 mgをシリカゲルクロマトグラフィ
ー(40g) にて、クロロホルム／メタノール(25 ／1)で溶
出し、クロロホルム／メタノール(10 ／1)展開のシリカ
ゲルTLC にてＲf 値0.45に硫酸呈色陽性を示すフラクシ
ョンを分取すると、76％の収率で表題化合物の無色アモ
ルファス状固体が285 mg得られた。

【００３３】UV(MeOH)λmax; 234nm IR(KBr)vmax; 3466, 2971, 2936, 2880, 1730, 1379, 1
167, 1082 cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ: 0.93 (3H, t, J=7.3 Hz, H-17), 1.23 (3H, d, J=
6.2 Hz, H-6'),1.26 (3H, d, J=6.6 Hz, H-6"), 1.72
(3H, s, H-22),2.28（6H, s, N(CH₃)₂- 3'), 2.86 (1H,
m, H-14),3.48 (3H, s, OCH₃-2"), 3.61 (3H, s, OCH₃
-3"),4.28 (1H, d, J=7.3 Hz, H-1'), 4.54 (1H, d, J=
7.7 Hz, H-1"),4.91 (1H, m, H-15), 5.01 (1H, br, H-
20), 5.42 (1H, d, J=10.6 Hz,H-13),5.60 (1H, d, J=1
5.8 Hz, H-10), 6.39 (1H, d, J=15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 828(M+H) ⁺ 実施例６ 2'−Ｏ−アセチル−3,4'−ジデオキシデスマ
イコシン 9,20-ビス( エチレンアセタール) の製造

【００３４】

【化８】

【００３５】３,4'-ジデオキシデスマイコシン 9,20-ビ
ス( エチレンアセタール) 285 mgを酢酸エチル3.0 mlに
溶解後、無水酢酸51.4μl を加え室温で３時間反応させ
た後、酢酸エチル10mlを加え、5 ％重曹水10ml、20％食
塩水10mlで洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥後減圧乾固すると、クロロホルム／メタノール(10／
1)展開のシリカゲルTLC にてＲf 値0.44に硫酸呈色陽性
の表題化合物が300mg得られた。

【００３６】UV(MeOH)λmax; 235nm IR(KBr)vmax; 3476, 2973, 2938, 2882, 1744, 1373, 1
238, 1167, 1061,961 cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ: 0.82 (3H, bd, J=5.5 Hz, H-18), 0.92 (3H, t, J=
7.3 Hz, H-17),1.00 (3H, d, J=6.6 Hz, H-21), 1.23
(3H, d, J=6.2 Hz, H-6'),1.26 (3H, d, J=6.2 Hz, H-
6"), 1.35 (1H, m, H-4'a), 1.71 (1H, m, H-4'b),1.73
(3H, d, J=1.1 Hz, H-22), 2.04 (3H, s, OCOCH₃-2'),
2.26 [6H, s, N(CH₃)₂- 3'], 2.68 (1H, ddd, J=12.3 &
10.4 & 4.4 Hz,H-3'),3.18 (1H, br, H-4"), 3.48 (3
H, s, OCH₃-2"), 3.61 (3H, s, OCH₃-3"),4.31 (1H, d,
J=7.7 Hz, H-1'), 4.55 (1H, d, J=7.7 Hz, H-1"),4.8
0 (1H, dd, J=10.4 & 7.7 Hz, H-2'), 4.90 (1H, m, H
-15),4.95 (1H, bt J=5.1 Hz, H-20), 5.42 (1H, d, J=
10.6 Hz, H-13),5.62 (1H, d, J=15.8 Hz, H-10), 6.36
(1H, d, J=15.8 Hz, H-11) FAB-MS; 870 (M+H) ⁺ 実施例７ ２′−Ｏ−アセチル−３，４′−ジデオキシ
−４″−オキソデスマイコシン ９，２０−ビス（エチ
レンアセタール）の製造

【００３７】

【化９】

【００３８】トルエン８mlにＮ−クロロコハクサンイミ
ド４９１mg（3.６８mmol）を懸濁させ、０℃に冷却後ジ
メチルスルフィド0.４ml（5.５mmol）を加えて同温度に
て２０分攪拌した。この溶液を−２０℃に冷却後、２′
−Ｏ−アセチル−３，４′−ジデオキシデスマイコシン
９，２０−ビス（エチレンアセタール）８００mg（0.
９２mmol）のトルエン溶液４mlを加え、同温度で1.５時
間反応させた。この反応液にトリエチルアミン0.６４ml
（4.６mmol）を加え更に２０分反応させた。反応液は１
０％食塩水１５mlで２回洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾
燥、減圧乾固すると、クロロホルム／メタノール（５／
１）展開のシリカゲルＴＬＣにてRf値0.６５に硫酸呈色
陽性の表題化合物が７５５mg得られた。

【００３９】UV(MeOH)λmax;235nm IR(KBr) νmax;3441,2971,2938,2882,1744,1373,1240,1
169,1117,1057,974 cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.83(3H,d,J=5.9Hz,H-18), 0.94(3H,t,J=7.3Hz,H-1
7),1.00(3H,d,J=6.6Hz,H-21), 1.24(3H,d,J=5.9Hz,H-
6′),1.35(3H,d,J=7.0Hz,H-6 ″), 1.38(1H,m,H-4′a),
1.73(1H,m,H-4 ′b),1.76(3H,d,J=1.1Hz,H-22), 2.04
(3H,s,OCOCH₃-2 ′),2.26[6H,s,N(CH₃)₂-3 ′],3.46(3
H,s,OCH₃-2″),3.50(3H,s,OCH₃-3″),3.74(1H,t,J=3.3H
z,H-2 ″), 4.17(1H,q,J=7.0Hz,H-5″),4.26(1H,d,J=3.
7Hz,H-3 ″), 4.32(1H,d,J=7.7Hz,H-1″),4.81(1H,dd,J
=10.6&7.7Hz,H-2 ′), 4.83(1H,d,J=2.9Hz,H-1″),4.92
(1H,m,H-15), 4.95(1H,bt,J=5.1Hz,H-20),5.39(1H,d,J=
10.3Hz,H-13), 5.67(1H,d,J=15.8Hz,H-10),6.37(1H,d,J
=15.8Hz,H-11) FAB-MS;868(M＋H)⁺ 実施例８ ３，４′−ジデオキシマイカミノシルタイロ
ノライド ９，２０−ビス（エチレンアセタール）の製
造

【００４０】

【化１０】

【００４１】２′−Ｏ−アセチル−３，４′−ジデオキ
シ−４″−オキソデイマイコシン９，２０−ビス（エチ
レンアセタール）１００mg（0.１１５mmol）をメタノー
ル１mlに溶解後０℃にて１Ｎ-NaOH 0.１１５mlを加え同
温度で１時間反応させた。更に、濃アンモニア水４０μ
l を加えて昇温し、６０℃２時間反応させた。反応液に
クロロホルム５mlを加え、有機層は１０％食塩水５mlで
４回洗浄した。この有機層を減圧乾固すると、クロロホ
ルム／メタノール（５／１）展開のシリカゲルＴＬＣに
てRf値0.３１に硫酸呈色陽性の表題化合物が７４mg得ら
れた。

【００４２】UV(MeOH)λmax;235nm IR(KBr) νmax;3449,2938,2880,1730,1642,1458,1381,1
169,1111,1049,974 cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.93(3H,t,J=7.3Hz,H-17), 0.99(3H,d,J=6.6Hz,H-1
8),1.02(3H,d,J=7.0Hz,H-21), 1.24(3H,d,J=5.9Hz,H-
6′),1.78(3H,d,J=1.1Hz,H-22), 2.35[6H,s,N(CH₃)₂-
3′],3.30(1H,dd,J=10.3&7.3Hz,H-2 ′), 4.29(1H,d,J=
7.0Hz,H-1′),4.84(1H,m,H-15), 5.01(1H,bt,J=5.1Hz,H
-20),5.34(1H,d,J=9.9Hz,H-13), 5.66(1H,d,J=15.8Hz,H
-10),6.42(1H,d,J=15.8Hz,H-11) FAB-MS;654(M＋H)⁺ 、676(M＋Na)⁺ 実施例９ ３，４′−ジデオキシマイカミノシル タイ
ロノライドの製造

【００４３】

【化１１】

【００４４】３，４′−ジデオキシマイカミノシル タ
イロノライド ９，２０−ビス（エチレンアセタール）
２６mg（0.０５mmol）をテトラヒドロフラン0.２mlに溶
解後１Ｎ塩酸0.２mlを加え、室温で1.５時間反応させ
た。反応液を水で希釈後クロロホルム３mlを加えた。有
機層は５％重曹水２ml、１０％食塩水２mlで洗浄後無水
硫酸ナトリウムにて乾燥した。この有機層を減圧乾固す
ると、クロロホルム／メタノール（５／１）展開のシリ
カゲルＴＬＣにてRf値0.２５に硫酸呈色陽性の表題化合
物が２０mg得られた。

【００４５】UV(MeOH)λmax;283nm IR(KBr) νmax;3436,2967,2878,1725,1676,1591,1458,1
383,1316,1167,1071,984 cm^-1 NMR(CDCl₃); 主要ピークのみを表す δ;0.94(3H,t,J=7.3Hz,H-17), 1.04(3H,d,J=6.6Hz,H-1
8),1.20(3H,d,J=6.2Hz,H-6 ′), 1.21(3H,d,J=6.6Hz,H-
21),1.85(3H,d,J=1.1Hz,H-22),2.29(6H,s,N(CH₃)₂-3
′),2.90(1H,m,H-14),3.20(1H,dd,J=7.3&10.3Hz,H-2
′), 4.19(1H,d,J=7.3Hz,H-1′),4.88(1H,m,H-15),5.8
4(1H,d,J=10.6Hz,H-13),6.35(1H,d,J=15.6Hz,H-10),7.3
0(1H,d,J=15.6Hz,H-11), 9.69(1H,s,H-20) FAB-MS;566(M＋H)⁺

【００４６】

【発明の効果】本発明により、抗菌剤として有用な３，
４′−ジデオキシマイカミノシルタイロノライド又はそ
の塩を効率よく製造するための有用な中間体が提供され
た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 陰山 俊治 茨城県つくば市春日２−35−２ エトワー ル春日306 (72)発明者 三宅 俊昭 神奈川県横浜市港北区下田町３丁目５−１ 日吉ハイツ207 (72)発明者 松本 直樹 神奈川県横浜市港南区日限山４−52−11 (72)発明者 小湊 嘉一郎 神奈川県大和市南林間６−４−30 (72)発明者 田中 博 神奈川県茅ヶ崎市小和田３−16−26−306 (72)発明者 吉岡 武男 神奈川県綾瀬市上土棚1959 グリーンハイ ツ３−3102

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式： 【化１】 （式中、Ａは保護されていてもよいカルボニル基を表
   し、Ｂは保護されていてもよいアルデヒド基を示し、Ｗ
   は水素原子または-OCOCH₃ 基を示し、Ｙは水酸基、置換
   スルホニルオキシ基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ¹ は
   水酸基又は保護された水酸基を示し、Ｒ² は低級アルカ
   ノイル基を示す。ただし、──部分は、Ｗが水素原子を
   示す場合には二重結合を示し、Ｗが-OCOCH₃ 基を示す場
   合には単結合を示す）で示される３，４′−ジデオキシ
   マイカミノシルタイロノライド製造中間体。