JPH0614586B2 - プリント基板の導電膜保護部の生成装置 - Google Patents
プリント基板の導電膜保護部の生成装置Info
- Publication number
- JPH0614586B2 JPH0614586B2 JP61165410A JP16541086A JPH0614586B2 JP H0614586 B2 JPH0614586 B2 JP H0614586B2 JP 61165410 A JP61165410 A JP 61165410A JP 16541086 A JP16541086 A JP 16541086A JP H0614586 B2 JPH0614586 B2 JP H0614586B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- conductive film
- circuit board
- printed circuit
- roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 70
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔目 次〕 概要 産業上の利用分野 従来の技術 発明が解決しようとする問題点 問題点を解決するための手段 作用 実施例 (i)一実施例によるプリント基板の導電膜保護部の生
成装置 (ii)一実施例のまとめ (iii)別実施例 (iv)発明の変形態様 発明の効果 〔概 要〕 プリント基板の導電膜保護部の生成装置に関し、生成装
置を簡単な構造にし、且つ少ない工数で高精度のスルー
ホールの導電膜保護部が得られるようにすることを目的
とし、両面又は一面に導電膜が施されていると共に孔部
に導電膜が施されてスルーホールが形成さている基板を
ピックアップローラとこれと対向する形で設けられた圧
送ローラで挾持して前記基板のスルーホールにインクに
より孔埋めして導電膜保護部を形成するプリント基板の
導電膜保護部の生成装置において、上記圧送ローラを、
基板に点接触又は点接触に近い状態で接触する狭幅のロ
ーラにした構成にする。
成装置 (ii)一実施例のまとめ (iii)別実施例 (iv)発明の変形態様 発明の効果 〔概 要〕 プリント基板の導電膜保護部の生成装置に関し、生成装
置を簡単な構造にし、且つ少ない工数で高精度のスルー
ホールの導電膜保護部が得られるようにすることを目的
とし、両面又は一面に導電膜が施されていると共に孔部
に導電膜が施されてスルーホールが形成さている基板を
ピックアップローラとこれと対向する形で設けられた圧
送ローラで挾持して前記基板のスルーホールにインクに
より孔埋めして導電膜保護部を形成するプリント基板の
導電膜保護部の生成装置において、上記圧送ローラを、
基板に点接触又は点接触に近い状態で接触する狭幅のロ
ーラにした構成にする。
本発明は、プリント基板の導電膜保護部の生成装置に関
し、特に、基板の製造過程において、その孔部内に保護
物質で導電膜保護部を形成する際に用いられるプリント
基板の導電膜保護部の生成装置に関するものである。
し、特に、基板の製造過程において、その孔部内に保護
物質で導電膜保護部を形成する際に用いられるプリント
基板の導電膜保護部の生成装置に関するものである。
このようなプリント基板の導電膜保護部の生成装置によ
って製造された基板に回路が印刷された後、各種の回路
部品が取り付けられ、プリントボードとして現在電子機
器等に汎用さている。
って製造された基板に回路が印刷された後、各種の回路
部品が取り付けられ、プリントボードとして現在電子機
器等に汎用さている。
前記プリントポードに供される基板は、先ず、エポキシ
樹脂等の絶縁板の両面に導電膜となる銅張を施した後、
所望個所に孔を開ける。次いで、この孔部にスルーホー
ルメッキ法により導通メッキを施して形成する。従っ
て、孔部の内壁にも導電膜が施されて、基板の両面の導
電膜に接続するスルーホールが形成される。
樹脂等の絶縁板の両面に導電膜となる銅張を施した後、
所望個所に孔を開ける。次いで、この孔部にスルーホー
ルメッキ法により導通メッキを施して形成する。従っ
て、孔部の内壁にも導電膜が施されて、基板の両面の導
電膜に接続するスルーホールが形成される。
その後の回路印刷及び当該印刷された回路の形成過程に
あっては、スルーホールを後の工程での腐食等から保護
して、その形成メッキ(導電膜)が除去されないように
する必要がある。
あっては、スルーホールを後の工程での腐食等から保護
して、その形成メッキ(導電膜)が除去されないように
する必要がある。
それに応えるものとして、従来採用されていたプリント
基板の導電膜保護部の生成装置は、保護物質としての溶
融インクをピックアップローラでスルーホールを含む基
板に付着させ、そのスルーホール内を埋める方法があっ
た。しかる後、基板の表面に付着したインクを落として
乾燥させ、次の工程でスルーホール内から落ちないよう
にしていた。
基板の導電膜保護部の生成装置は、保護物質としての溶
融インクをピックアップローラでスルーホールを含む基
板に付着させ、そのスルーホール内を埋める方法があっ
た。しかる後、基板の表面に付着したインクを落として
乾燥させ、次の工程でスルーホール内から落ちないよう
にしていた。
そして、スルーホールが埋められた基板への回路印刷及
び当該印刷回路の形成が、効果的に行なわれるようにな
っていた。
び当該印刷回路の形成が、効果的に行なわれるようにな
っていた。
ところで、上述した従来のプリント基板の導電膜保護部
の生成装置にあっては、ピックアップローラによってス
ルーホール内を埋めるインクは、そのスルーホールを介
して基板の反対面にも流出する。この流出したインク
は、基板を安定的に搬送させるローラの表面に付着する
こととなる。そのとき、スルーホールに孔埋めされたイ
ンクが、ローラによって吸い取られてしまうので、孔埋
めとしては不都合であった。
の生成装置にあっては、ピックアップローラによってス
ルーホール内を埋めるインクは、そのスルーホールを介
して基板の反対面にも流出する。この流出したインク
は、基板を安定的に搬送させるローラの表面に付着する
こととなる。そのとき、スルーホールに孔埋めされたイ
ンクが、ローラによって吸い取られてしまうので、孔埋
めとしては不都合であった。
また、長期間のプリント基板の導電膜保護部の生成装置
の使用において搬送用ローラの表面が厚くなって基板を
安定な状態で搬送できなくなり、当該ローラの表面を頻
繁に清掃しなければならないという問題点があった。更
に、その頻繁の清掃に困って、稼働効率が低下してしま
うという問題点もあった。
の使用において搬送用ローラの表面が厚くなって基板を
安定な状態で搬送できなくなり、当該ローラの表面を頻
繁に清掃しなければならないという問題点があった。更
に、その頻繁の清掃に困って、稼働効率が低下してしま
うという問題点もあった。
従来かかる欠点を解消する手段として、特開昭60−8
8494号公報に示す回路基板の製造方法があるが、し
かし、その方法はスルーホールにインクを充填した後、
片面を半硬化させ、その後基板裏面を平坦にし、再び全
部を硬化しなければならない。従って、工数が多くな
り、また装置の構造も複雑になる欠点がある。
8494号公報に示す回路基板の製造方法があるが、し
かし、その方法はスルーホールにインクを充填した後、
片面を半硬化させ、その後基板裏面を平坦にし、再び全
部を硬化しなければならない。従って、工数が多くな
り、また装置の構造も複雑になる欠点がある。
本発明は、このような点に鑑みて創作したもので、生成
装置の構造を簡単にし、且つ工数を少なくして高精度の
スルーホールの導電膜保護部が得られるプリント基板の
導電膜保護部の生成装置を提供することを目的とする。
装置の構造を簡単にし、且つ工数を少なくして高精度の
スルーホールの導電膜保護部が得られるプリント基板の
導電膜保護部の生成装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するための本発明の構成は、両面又は一
面に導電膜が施されていると共に孔部に導電膜が施され
てスルーホールが形成さている基板をピックアップロー
ラとこれと対向する形で設けられた圧送ローラで挾持し
て前記基板のスルーホールにインクにより孔埋めして導
電膜保護部を形成するプリント基板の導電膜保護部の生
成装置において、上記圧送ローラを、基板に点接触又は
点接触に近い状態で接触する狭幅のローラにしたことを
特徴とする。
面に導電膜が施されていると共に孔部に導電膜が施され
てスルーホールが形成さている基板をピックアップロー
ラとこれと対向する形で設けられた圧送ローラで挾持し
て前記基板のスルーホールにインクにより孔埋めして導
電膜保護部を形成するプリント基板の導電膜保護部の生
成装置において、上記圧送ローラを、基板に点接触又は
点接触に近い状態で接触する狭幅のローラにしたことを
特徴とする。
圧送ローラを、基板に点接触又は点接触に近い状態で当
接する狭幅のローラにすれば、基板と圧送ローラとの接
触面積が少なくなってプリント基板のスルーホールに孔
埋めされた保護物質(インク)が圧送ローラで取り去ら
れることが少なくなり、また保護物質が圧送ローラに付
着することが少なくなって、安定して基板が搬送され
る。そして、簡単な構造の生成装置で、且つ少ない工数
で高精度のスルーホールの導電膜保護部が得られる。
接する狭幅のローラにすれば、基板と圧送ローラとの接
触面積が少なくなってプリント基板のスルーホールに孔
埋めされた保護物質(インク)が圧送ローラで取り去ら
れることが少なくなり、また保護物質が圧送ローラに付
着することが少なくなって、安定して基板が搬送され
る。そして、簡単な構造の生成装置で、且つ少ない工数
で高精度のスルーホールの導電膜保護部が得られる。
以下、図面に基づいて本発明の実施例について詳細に説
明する。
明する。
(i)一実施例によるプリント基板の導電膜保護部の生
成装置 第1図は、本発明の一実施例におけるプリント基板の導
電膜保護部の生成装置の構成を示す。
成装置 第1図は、本発明の一実施例におけるプリント基板の導
電膜保護部の生成装置の構成を示す。
図において、孔埋めが行なわれる対象の基板11は、矢
印a方向で進行するものである。なお、ここで示す基板
11は、極めて長い長尺物としているが、実際には各種
の長さを有する基板が随時作業対象となる。
印a方向で進行するものである。なお、ここで示す基板
11は、極めて長い長尺物としているが、実際には各種
の長さを有する基板が随時作業対象となる。
この基板11は、第2図に示すように、エポキシ樹脂等
の絶縁板13の両面にメッキによる導電膜15が形成さ
れ、また、この基板11を貫通して設けられた複数の孔
部の内壁にもメッキによる導電膜19が施されており、
両面の導電膜15を孔部の内壁に設けた導電膜19で接
続したスルーホール17が形成されている。
の絶縁板13の両面にメッキによる導電膜15が形成さ
れ、また、この基板11を貫通して設けられた複数の孔
部の内壁にもメッキによる導電膜19が施されており、
両面の導電膜15を孔部の内壁に設けた導電膜19で接
続したスルーホール17が形成されている。
このような複数のスルーホール17を有する基板11
は、先ず、一対の搬入ローラ21及び23によって挾持
されて、矢印a方向で進行させられる。但し、これらの
搬入ローラ21及び23の駆動手段は省略する。これら
搬入ローラ21及び23のそれぞれは合成ゴム製の円筒
形状であり、その長軸方向は、基板11の進行方向aに
対して直角となるように設置されている。
は、先ず、一対の搬入ローラ21及び23によって挾持
されて、矢印a方向で進行させられる。但し、これらの
搬入ローラ21及び23の駆動手段は省略する。これら
搬入ローラ21及び23のそれぞれは合成ゴム製の円筒
形状であり、その長軸方向は、基板11の進行方向aに
対して直角となるように設置されている。
搬送される基板11の下側に、インクパン25が設置さ
れており、その内側にインク27が用意されている。こ
のインク27は、基板の製造過程において、スルーホー
ル17内に孔埋めされる保護物質である。インクパン2
5内には、ヒータ(図示せず)を入れて、適切な温度
(例えば、40±10℃)に加熱して、インク27を溶
融している。その溶融状態は、流動状体である。
れており、その内側にインク27が用意されている。こ
のインク27は、基板の製造過程において、スルーホー
ル17内に孔埋めされる保護物質である。インクパン2
5内には、ヒータ(図示せず)を入れて、適切な温度
(例えば、40±10℃)に加熱して、インク27を溶
融している。その溶融状態は、流動状体である。
また、基板11の進行方向aに対して直角な軸方向とな
るようにピックアップローラ29が設置されている。こ
のピックアップローラ29も円筒形状の合成ゴム製であ
る。
るようにピックアップローラ29が設置されている。こ
のピックアップローラ29も円筒形状の合成ゴム製であ
る。
ピックアップローラ29は、その一部が溶融したインク
27の液中に漬けられている。このピックアップローラ
27は、プリント基板11の進行方向に沿った矢印b方
向で回転する。但し、その回転駆動手段は省略する。
27の液中に漬けられている。このピックアップローラ
27は、プリント基板11の進行方向に沿った矢印b方
向で回転する。但し、その回転駆動手段は省略する。
従って、溶融インク27の流動状体中に漬けられたピッ
クアップローラ29の表面にはインク27が付着して、
それが回転することによりこのインク27が基板11の
裏面に付着される。それと共に、インク27は、基板1
1のスルーホール17内にも侵入する。ピックアップロ
ーラ29の長さは、基板11の横幅方向以上であるの
で、基板11の全幅にわたって略均一に、そのスルーホ
ール17がインク27で孔埋められる。
クアップローラ29の表面にはインク27が付着して、
それが回転することによりこのインク27が基板11の
裏面に付着される。それと共に、インク27は、基板1
1のスルーホール17内にも侵入する。ピックアップロ
ーラ29の長さは、基板11の横幅方向以上であるの
で、基板11の全幅にわたって略均一に、そのスルーホ
ール17がインク27で孔埋められる。
このピックアップローラ29に対向する形で、圧送ロー
ラ31が設けられている。この圧送ローラ31とピック
アップローラ29で、基板11を挾持するようになって
いる。この圧送ローラ31は、アルミニューム等で成る
狭幅の金属円板33の外周にテフロン製のOリング35
が装着されている。このOリング35は、基板11の保
護のために設けたものである。また、Oリング35が基
板11に直接接触する部分は極めて小さく、基板11に
いわば点接触となるものである。
ラ31が設けられている。この圧送ローラ31とピック
アップローラ29で、基板11を挾持するようになって
いる。この圧送ローラ31は、アルミニューム等で成る
狭幅の金属円板33の外周にテフロン製のOリング35
が装着されている。このOリング35は、基板11の保
護のために設けたものである。また、Oリング35が基
板11に直接接触する部分は極めて小さく、基板11に
いわば点接触となるものである。
第3図は、第2図に示すピックアップローラ29と圧送
ローラ31との配置関係を示す。ここでは、圧送ローラ
31は複数設けてあり、回転軸37に装着されている。
各圧送ローラ31は、回転軸37に対して移動可能であ
り、受ホイール39によって、該回転軸37の任意な個
所で取り付けられるようになっている。ここでは、ピッ
クアップローラ29の全長にわたって圧送ローラ31が
略等しい間隔で取りつけられている。この回転軸37
は、ピックアップローラ29の長手方向と一致する方向
で設けられており、図示しない支持手段によって回動自
由に支えられている。
ローラ31との配置関係を示す。ここでは、圧送ローラ
31は複数設けてあり、回転軸37に装着されている。
各圧送ローラ31は、回転軸37に対して移動可能であ
り、受ホイール39によって、該回転軸37の任意な個
所で取り付けられるようになっている。ここでは、ピッ
クアップローラ29の全長にわたって圧送ローラ31が
略等しい間隔で取りつけられている。この回転軸37
は、ピックアップローラ29の長手方向と一致する方向
で設けられており、図示しない支持手段によって回動自
由に支えられている。
搬入ローラ21及び23に依って進行方向aで搬送され
た基板11が、ピックアップローラ29と圧送ローラ3
1との間で挾持されれば、この圧送ローラ31は矢印c
方向で回転する。その場合、この圧送ローラ31はピッ
クアップローラ29とは反対側から基板11を、そのO
リング35の極めて小さい接触域で押すことになる。
た基板11が、ピックアップローラ29と圧送ローラ3
1との間で挾持されれば、この圧送ローラ31は矢印c
方向で回転する。その場合、この圧送ローラ31はピッ
クアップローラ29とは反対側から基板11を、そのO
リング35の極めて小さい接触域で押すことになる。
従って、基板11と圧送ローラ31との接触面積が少な
くなるので、スルーホール17内に孔埋め(充填)され
たインク27が基板11の反対側に流出しても、圧送ロ
ーラ31の表面に付着することは極めて少なく、付着し
ても保持力はなく漸次取り去られる。従って、圧送ロー
ラ31の径が効果的に大きくなることはない。更に、複
数の圧送ローラ31で基板11を押圧するので、当該基
板11の搬送には全く支障はない。
くなるので、スルーホール17内に孔埋め(充填)され
たインク27が基板11の反対側に流出しても、圧送ロ
ーラ31の表面に付着することは極めて少なく、付着し
ても保持力はなく漸次取り去られる。従って、圧送ロー
ラ31の径が効果的に大きくなることはない。更に、複
数の圧送ローラ31で基板11を押圧するので、当該基
板11の搬送には全く支障はない。
このようにして、ピックアップローラ29によってイン
ク27で、基板11のスルーホール17が孔埋められた
後、当該基板11は、一対の搬出ローラ41及び43に
よって挾持されて走行案内される。この搬出ローラ41
及び43のそれぞれも合成ゴム製の円筒形状であり、そ
の長軸方向は、基板11の進行方向aに対して直角とな
るように設置されている。
ク27で、基板11のスルーホール17が孔埋められた
後、当該基板11は、一対の搬出ローラ41及び43に
よって挾持されて走行案内される。この搬出ローラ41
及び43のそれぞれも合成ゴム製の円筒形状であり、そ
の長軸方向は、基板11の進行方向aに対して直角とな
るように設置されている。
搬出ローラ41及び43による搬送後に、上下に設けた
一対のスキージ45及び47によって、基板11の下面
に付着している余分なインク27およびスルーホール1
7から上に流出しているインク27を除去する。そのよ
うにして除去された余分なインク27は、再利用のため
にインクパン25内に落とされる。
一対のスキージ45及び47によって、基板11の下面
に付着している余分なインク27およびスルーホール1
7から上に流出しているインク27を除去する。そのよ
うにして除去された余分なインク27は、再利用のため
にインクパン25内に落とされる。
このような過程を経て、第4図に示すようにインク27
でスルーホール17が孔埋められた基板11は、次の乾
燥工程に供される。
でスルーホール17が孔埋められた基板11は、次の乾
燥工程に供される。
(ii)一実施例のまとめ このように、本発明実施例のプリント基板の導電膜保護
部の生成装置においては、インク27を付着させ、対象
としている基板11のスルーホール17を孔埋めするピ
ックアップローラ29の反対面側に、圧送ローラ31を
設けて搬送安定を図っている。この圧送ローラ31が回
転する時は、基板11に対して点接触に近い状態で接触
するようになっている。つまり、接触面積が極めて小さ
いので、この圧送ローラ31はインク27が付着しな
い。そのため、ローラの表面を頻繁に清掃する必要はな
いので、プリント基板の導電膜保護部の生成装置での生
産効率が向上する。
部の生成装置においては、インク27を付着させ、対象
としている基板11のスルーホール17を孔埋めするピ
ックアップローラ29の反対面側に、圧送ローラ31を
設けて搬送安定を図っている。この圧送ローラ31が回
転する時は、基板11に対して点接触に近い状態で接触
するようになっている。つまり、接触面積が極めて小さ
いので、この圧送ローラ31はインク27が付着しな
い。そのため、ローラの表面を頻繁に清掃する必要はな
いので、プリント基板の導電膜保護部の生成装置での生
産効率が向上する。
(iii)別実施例 第5図は、圧送ローラの別具体例を示す。同図(a)に
示す圧送ローラ51Aは、テフロン等の基板11に影響
を与えない強度の材料でなり、その円板状の外周が歯車
形状となるように一体形成されている。その外周突起に
よって、基板11はいわば“点”で接触することとなる
ので、第2図に示す実施例での圧送ローラ31よりも接
触面積が小さくなり、当該圧送ローラ51Aにインク2
7が付着する程度はより低くなるので、更に効果的とい
える。また、同図(b)に示すような山形突起を有する
外周形状の圧送ローラ51Bとしてもよい。更に、同図
(c)に示すように、圧送ローラの断面形状を山形突起
状にすれば、極めて効果的である。
示す圧送ローラ51Aは、テフロン等の基板11に影響
を与えない強度の材料でなり、その円板状の外周が歯車
形状となるように一体形成されている。その外周突起に
よって、基板11はいわば“点”で接触することとなる
ので、第2図に示す実施例での圧送ローラ31よりも接
触面積が小さくなり、当該圧送ローラ51Aにインク2
7が付着する程度はより低くなるので、更に効果的とい
える。また、同図(b)に示すような山形突起を有する
外周形状の圧送ローラ51Bとしてもよい。更に、同図
(c)に示すように、圧送ローラの断面形状を山形突起
状にすれば、極めて効果的である。
第6図は、本発明実施例によって保護膜を形成する場合
の対象となる別な態様の基板を示す。これが、第2図に
示す基板と異なるのは、当該基板の裏面には導電膜が形
成されていない。但し、保護膜形成の作用については同
じである。
の対象となる別な態様の基板を示す。これが、第2図に
示す基板と異なるのは、当該基板の裏面には導電膜が形
成されていない。但し、保護膜形成の作用については同
じである。
上述した実施例にあっては、『孔埋め』による保護膜形
成の対象となる基板は、その両面に導電膜15が形成さ
れたものであった。しかし、第6図に示すような片面だ
けの基板でもよく、その孔部(スルーホール)57がイ
ンクで孔埋めされる過程は、上述したものと同じであ
る。
成の対象となる基板は、その両面に導電膜15が形成さ
れたものであった。しかし、第6図に示すような片面だ
けの基板でもよく、その孔部(スルーホール)57がイ
ンクで孔埋めされる過程は、上述したものと同じであ
る。
また、上述した実施例において孔部の保護膜形成の態様
を『孔埋め』としたが、第7図(A)及び(B)に示す
ような形で、単に孔部の内壁の導電膜19を覆うような
保護膜を形成するようにしてもよい。その場合の保護膜
形成の構成及び動作も同様である。
を『孔埋め』としたが、第7図(A)及び(B)に示す
ような形で、単に孔部の内壁の導電膜19を覆うような
保護膜を形成するようにしてもよい。その場合の保護膜
形成の構成及び動作も同様である。
(iv)発明の変形態様 なお、上述した本発明実施例にあっては、複数の圧送ロ
ーラ31を回転軸37に取り付けて整列させたが、これ
に限られることはない。例えば、個々の圧送ローラ31
を別々に支持し、整列させることなく、基板11を走行
案内するのに適切な位置でそれぞれ配置してもよい。ま
た、幅広のピックアップローラ29に対して、1つの圧
送ローラ31によって基板11を安定に走行させられる
ならば、圧送ローラ31を複数設けることは必要でな
い。
ーラ31を回転軸37に取り付けて整列させたが、これ
に限られることはない。例えば、個々の圧送ローラ31
を別々に支持し、整列させることなく、基板11を走行
案内するのに適切な位置でそれぞれ配置してもよい。ま
た、幅広のピックアップローラ29に対して、1つの圧
送ローラ31によって基板11を安定に走行させられる
ならば、圧送ローラ31を複数設けることは必要でな
い。
基板11の長さが多種多様であることを想定して、それ
ら全ての基板11を安定的に搬送させることの見地か
ら、搬出ローラ41及び43を設けたが、搬入ローラ2
1及び23とスキージ45及び47との間にわたる長い
基板11のみが孔埋めの対象となるならば、搬出ローラ
41及び43は不必要である。
ら全ての基板11を安定的に搬送させることの見地か
ら、搬出ローラ41及び43を設けたが、搬入ローラ2
1及び23とスキージ45及び47との間にわたる長い
基板11のみが孔埋めの対象となるならば、搬出ローラ
41及び43は不必要である。
搬出ローラ43についても同様に、Oリング等の狭面積
で基板と接するような構成としても勿論よい。
で基板と接するような構成としても勿論よい。
搬入ローラ21及び23は、金属シリンダにクッション
の覆いを施したものであってもよい。要は、基板11の
搬送の際に傷が付かないようになっていればよい。
の覆いを施したものであってもよい。要は、基板11の
搬送の際に傷が付かないようになっていればよい。
また、上述した材質等は適宜代替されるものである。
更に、本発明は上述したものに限られることはなく、各
種の変形態様があることは当業者であれば容易に推考で
きるであろう。
種の変形態様があることは当業者であれば容易に推考で
きるであろう。
以上述べたように、本発明は、両面又は一面に導電膜が
施されていると共に孔部に導電膜が施されてスルーホー
ルが形成さている基板をピックアップローラとこれと対
向する形で設けられた圧送ローラで挾持して前記基板の
スルーホールにインクにより孔埋めして導電膜保護部を
形成するプリント基板の導電膜保護部の生成装置におい
て、上記圧送ローラを、基板に点接触又は点接触に近い
状態で接触する狭幅のローラにしたことで、プリント基
板のスルーホールに孔埋めされた保護物質(インク)が
圧送ローラで取り去られることが少なくなり、また保護
物質が圧送ローラに付着することが少なくなって、安定
して基板を搬送できる。そして、生成装置が簡単な構造
で、且つ少ない工数で高精度のスルーホール導電膜保護
部が得られる効果を奏するものである。
施されていると共に孔部に導電膜が施されてスルーホー
ルが形成さている基板をピックアップローラとこれと対
向する形で設けられた圧送ローラで挾持して前記基板の
スルーホールにインクにより孔埋めして導電膜保護部を
形成するプリント基板の導電膜保護部の生成装置におい
て、上記圧送ローラを、基板に点接触又は点接触に近い
状態で接触する狭幅のローラにしたことで、プリント基
板のスルーホールに孔埋めされた保護物質(インク)が
圧送ローラで取り去られることが少なくなり、また保護
物質が圧送ローラに付着することが少なくなって、安定
して基板を搬送できる。そして、生成装置が簡単な構造
で、且つ少ない工数で高精度のスルーホール導電膜保護
部が得られる効果を奏するものである。
第1図は本発明の一実施例によるプリント基板の導電膜
保護部の生成装置における各部の配置関係を示す概略側
面図、 第2図は本発明の一実施例によるプリント基板の導電膜
保護部の生成装置によって導電膜保護部の形成対象とな
る基盤を説明する一部断面図、 を示す概略側面図、 第3図は第1図に示す本発明実施例における圧送ローラ
とピックアップローラとの位置関係を示す概略正面図、 第4図は第1図に示す本発明実施例によりスルーホール
がインクで孔埋められた状態を示す概略断面図、 第5図(a),(b),(c)は本発明実施例のプリント基板の
導電膜保護部の生成装置に用いる圧送ローラの別具体例
を示す概略図、 第6図は本発明の別実施例によるプリント基板の導電膜
保護部の生成装置によって保護膜の形成対象となる別な
形態の基板を示す一部断面図、 第7図(A)及び(B)は本発明の別実施例によるプリ
ント基板の導電膜保護部の生成装置によって孔部に形成
される保護膜の態様を示す説明図である。 図において、 11は基板、 15,19は導電膜、 17はスルーホール、 27はインク、 29はピックアップローラ、 31,51A,51Bは圧送ローラ、 33は金属円板、 35はOリング、 57は孔部である。
保護部の生成装置における各部の配置関係を示す概略側
面図、 第2図は本発明の一実施例によるプリント基板の導電膜
保護部の生成装置によって導電膜保護部の形成対象とな
る基盤を説明する一部断面図、 を示す概略側面図、 第3図は第1図に示す本発明実施例における圧送ローラ
とピックアップローラとの位置関係を示す概略正面図、 第4図は第1図に示す本発明実施例によりスルーホール
がインクで孔埋められた状態を示す概略断面図、 第5図(a),(b),(c)は本発明実施例のプリント基板の
導電膜保護部の生成装置に用いる圧送ローラの別具体例
を示す概略図、 第6図は本発明の別実施例によるプリント基板の導電膜
保護部の生成装置によって保護膜の形成対象となる別な
形態の基板を示す一部断面図、 第7図(A)及び(B)は本発明の別実施例によるプリ
ント基板の導電膜保護部の生成装置によって孔部に形成
される保護膜の態様を示す説明図である。 図において、 11は基板、 15,19は導電膜、 17はスルーホール、 27はインク、 29はピックアップローラ、 31,51A,51Bは圧送ローラ、 33は金属円板、 35はOリング、 57は孔部である。
Claims (2)
- 【請求項1】両面又は一面に導電膜が施されていると共
に孔部に導電膜が施されてスルーホールが形成されてい
る基板をピックアップローラとこれと対向する形で設け
られた圧送ローラで挾持して前記基板のスルーホールに
インクにより孔埋めして導電膜保護部を形成するプリン
ト基板の導電膜保護部の生成装置において、上記圧送ロ
ーラを、基板に点接触又は点接触に近い状態で接触する
狭幅のローラにしたことを特徴とするプリント基板の導
電膜保護部の生成装置。 - 【請求項2】圧送ローラは、狭幅の円板の外周にOリン
グを装着したものにした特許請求の範囲第1項記載のプ
リント基板の導電膜保護部の生成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61165410A JPH0614586B2 (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | プリント基板の導電膜保護部の生成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61165410A JPH0614586B2 (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | プリント基板の導電膜保護部の生成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6320896A JPS6320896A (ja) | 1988-01-28 |
| JPH0614586B2 true JPH0614586B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=15811881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61165410A Expired - Lifetime JPH0614586B2 (ja) | 1986-07-14 | 1986-07-14 | プリント基板の導電膜保護部の生成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0614586B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0532815A1 (en) * | 1991-09-16 | 1993-03-24 | International Business Machines Corporation | Method for manufacturing lattice-matched substrates for high-Tc superconductor films |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6088494A (ja) * | 1983-10-20 | 1985-05-18 | ソニー株式会社 | 回路基板の製造方法 |
| JPS60172371U (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-15 | 大山 實 | プリント配線板の配線孔用充填硬化剤の余剰付着分払拭装置 |
-
1986
- 1986-07-14 JP JP61165410A patent/JPH0614586B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6320896A (ja) | 1988-01-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6622773B2 (en) | Method and apparatus for forming solder balls | |
| JP4347294B2 (ja) | プリント基板を、レーザーで構造化可能な熱硬化性ソルダストップラッカーおよびエレクトロレジストでコーティングするための方法および装置 | |
| JPH0614586B2 (ja) | プリント基板の導電膜保護部の生成装置 | |
| KR100286738B1 (ko) | 감광액 양면 도포장치 | |
| JP2556971B2 (ja) | 半田転写キャリア.フィルムと、半田転写キャリア、フィルムの再生方法 | |
| JPH02207591A (ja) | 回路基板の製造方法 | |
| JP2740061B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
| JP2945510B2 (ja) | 接着剤の塗布方法 | |
| JPH07106734A (ja) | プリント配線基板の製造装置、乾燥装置、および搬送 装置 | |
| JPS6039156Y2 (ja) | 半田付け装置 | |
| JPH0632373B2 (ja) | 印刷配線板のスル−ホ−ル孔埋め装置 | |
| JP2546440B2 (ja) | プリント基板のエッチング装置 | |
| JPS63226995A (ja) | 回路基板のスル−ホ−ル接続部形成方法 | |
| JPH06315980A (ja) | フィルムラミネータとそれに使用する加圧ローラ | |
| JP2000138439A (ja) | レジスト塗布装置 | |
| JPS61282213A (ja) | 回路基板搬送用断熱チエ−ン | |
| JPH0239537A (ja) | 半田めっき方法 | |
| JPH08188885A (ja) | エッチング方法 | |
| JPS6074597A (ja) | 厚膜印刷方法 | |
| JPH01256159A (ja) | リードフレームへの半田外装方法 | |
| FR2628592A1 (fr) | Procede de realisation de circuits imprimes sur un support tridimensionnel, et support ainsi equipe | |
| JPH042752A (ja) | 半導体リードのはんだコーティング方法およびはんだコーティング装置 | |
| JP2000315849A (ja) | 薬液処理装置 | |
| JPS6321813A (ja) | 筒型コンデンサ及びその製造方法 | |
| JPS6377754A (ja) | サ−マルヘツドの製造方法 |