JPH06148057A - 微粒子計測方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 任意の測定実試料中における粒径別粒子数分
布の測定を高精度かつ自動的に行うことが可能な微粒子
計測技術を提供する。 【構成】 重量計１０上の混合槽９には、試料槽６およ
び試料希釈液槽２から、試料６ａおよび試料希釈液２ａ
が供給される。混合槽９には、第１微粒子計１１が介設
された試料管１５および加圧気体導入管８が接続され、
与圧気体により、第１微粒子計１１に対する試料希釈液
２ａ、および試料希釈液２ａによって希釈された試料６
ａなどの内容液の供給を行う。試料管１５における第１
微粒子計１１の下流側には、液体屈折率計１２および流
量計１３が介設されており、第１微粒子計１１を通過し
た直後の各種液体の屈折率および流量の計測を行う。第
１微粒子計１１の計測結果は、液体屈折率計１２によっ
て計測された屈折率によって補正される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は微粒子計測技術に関し、
特に、計測・分析機器製造業、化学プラント製造業及び
半導体製造業、半導体材料・化学薬品製造業などに適用
して有効な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、半導体装置の製造プロセスで
は、半導体回路の一層の高集積化・微細化に伴って、半
導体ウエハの処理工程に用いられる各種薬液などに含ま
れる極微細な異物も製品歩留りに大きく影響することが
懸念されており、任意の試料溶媒中の当該微細異物に関
する高精度の測定技術の開発が必須となっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、既存の液中
微粒子計測装置に於いては、粒径既知のポリスチレンラ
テックス等の標準粒子を純水等の中に単分散させた較正
標準液を用いて求めた微粒子粒径と散乱光パルス電圧値
との較正曲線（関係Ａ）をそのまま溶媒及び溶質の光学
的屈折率値が較正標準液と異なった測定実試料中の異物
微粒子の粒径別粒子数分布計測に適用しているため、測
定実試料中の異物微粒子に関する粒径および粒子数の測
定結果の信頼性が必ずしも高いとは言えない。特に、最
近の半導体プロセスのように極微細の異物の混入が問題
となるような用途では、上述のような従来の測定技術で
は、測定精度が不十分となる懸念がある。

【０００４】また、既存の装置では、計測微粒子数が高
濃度で装置計数上限値を超えた場合には単にエラーメッ
セージが表示される等だけで粒径別粒子数分布を知るこ
とができない。

【０００５】従って、本発明の目的は、任意の測定実試
料中における粒径別粒子数分布の測定を高精度かつ自動
的に行うことが可能な微粒子計測技術を提供することに
ある。

【０００６】本発明の他の目的は、任意の濃度の測定実
試料中における粒径別粒子数分布の測定を高精度かつ自
動的に行うことが可能な微粒子計測技術を提供すること
にある。

【０００７】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【０００９】すなわち、本発明は、粒径既知の標準粒子
を標準溶媒中に単分散させた較正標準液に一定波長の光
を照射した時に発生するＭｉｅ散乱光のパルス電圧値と
標準粒子の粒径との第１の相関関係（関係Ａ）を調べ、
この第１の相関関係に基づいて測定実試料中における微
粒子粒径と粒子数をそれぞれ散乱光のパルス電圧値とパ
ルス数より計測する微粒子計測方法において、測定実試
料における微粒子を除いた溶液部分である試料溶媒の光
学的屈折率を当該測定実試料の微粒子計測時に測定し、
当該測定実試料の計測時に標準溶媒と試料溶媒との屈折
率の違いで生ずる微粒子粒径と散乱光パルス電圧値との
第２の相関関係（関係Ｂ）の第１の相関関係（関係Ａ）
からのズレを自動演算処理で修正することで溶媒屈折率
補正された粒径別粒子数分布を求めるものである。

【００１０】また、本発明は、請求項１記載の微粒子計
測方法において、微粒子を殆んど含まず測定実試料と可
溶かつ透明で光学的屈折率値が相異なった数種の希釈溶
媒の各々によって測定実試料を希釈して微粒子計測を行
い、測定実試料中の微粒子と希釈溶媒との屈折率が一致
する場合に微粒子の散乱光パルス強度が最小になること
より、測定実試料中の微粒子の屈折率を自動測定し、測
定実試料の計測時に当該測定実試料中の溶質（異物微粒
子）と標準粒子との屈折率の違いで生ずる微粒子粒径と
散乱光パルス電圧値との第３の相関関係（関係Ｃ）の第
１の相関関係（関係Ａ）からのズレを自動演算処理で修
正することで溶質屈折率補正された粒径別粒子数分布を
求めるものである。

【００１１】また、本発明は、請求項１または２記載の
微粒子計測方法において、測定実試料の溶媒や微粒子の
屈折率が別途既知の場合、屈折率値を外部より操作者
が、または任意の記憶媒体から入力し、微粒子粒径と散
乱光パルス電圧値との第４の相関関係（関係Ｄ）の第１
の相関関係（関係Ａ）からのズレを自動演算処理で修正
することで溶媒及び溶質屈折率補正された粒径別粒子数
分布を求めるものである。

【００１２】また、本発明は、請求項１，２または３記
載の微粒子計測方法において、測定実試料中の計測微粒
子数が高濃度のために計測可能上限値を超えた場合に、
自動的に測定実試料中の希釈および再計測を行うもので
ある。

【００１３】また、本発明は、粒径既知の標準粒子を標
準溶媒中に単分散させた較正標準液に一定波長の光を照
射した時に発生する散乱光のパルス電圧値と標準粒子の
粒径との第１の相関関係（関係Ａ）を調べ、この第１の
相関関係に基づいて測定実試料中における微粒子の粒径
と粒子数をそれぞれ散乱光のパルス電圧値とパルス数よ
り計測する液中微粒子計測装置において、第１の相関関
係を計測する第１微粒子計より後方の流路上に配置さ
れ、較正標準液と異なった測定実試料における微粒子を
除いた溶液部分である試料溶媒の光学的屈折率を自動測
定する屈折率計測手段と、この屈折率計測手段によって
計測された試料溶媒の光学的屈折率に基づいて測定実試
料の計測時に標準溶媒と試料溶媒との屈折率の違いで生
ずる微粒子粒径と散乱光パルス電圧値との第２の相関関
係（関係Ｂ）の第１の相関関係（関係Ａ）からのズレを
自動演算処理で修正することで溶媒屈折率補正された粒
径別粒子数分布を求める第１の演算手段とを備えたもの
である。

【００１４】また、本発明は、請求項５記載の微粒子計
測装置において、測定実試料を貯留・供給する試料槽
と、微粒子を殆んど含まず測定実試料と可溶かつ透明な
希釈溶媒を貯留・供給する希釈液槽と、測定実試料およ
び希釈溶媒を所望の割合で混合し、第１の微粒子計に供
給する混合槽と、この混合槽から第１の微粒子計に供給
される測定実試料の流量を計測する流量計測手段と、試
料槽から混合槽に至る希釈溶媒の供給経路に介設された
第２の微粒子計と、光学的屈折率値が相異なった数種の
希釈溶媒の各々で測定実試料を希釈して第１の微粒子計
で微粒子計測し、測定実試料中の異物微粒子と希釈溶媒
との屈折率が一致する場合に微粒子の散乱光パルス強度
が最小になることより、測定実試料中の微粒子の屈折率
を自動測定する第２の演算手段と、測定実試料の計測時
に溶質（異物微粒子）と標準粒子との屈折率の違いで生
ずる微粒子粒径と散乱光パルス電圧値との第３の相関関
係（関係Ｃ）の第１の相関関係（関係Ａ）からのズレを
自動演算処理で修正することで溶質屈折率補正された粒
径別粒子数分布を求める第３の演算手段とを備えたもの
である。

【００１５】また、本発明は、請求項５または６記載の
微粒子計測装置において、測定実試料の溶媒や微粒子の
屈折率が別途既知の場合、当該屈折率値を外部より操作
者が、または任意の記憶媒体から第１または第２の演算
手段に入力し、微粒子粒径と散乱光パルス電圧値との第
４の相関関係（関係Ｄ）の第１の相関関係（関係Ａ）か
らのズレを自動演算処理で修正することで溶媒及び溶質
屈折率補正された粒径別粒子数分布を求めるものであ
る。

【００１６】また、本発明は、請求項６または７記載の
微粒子計測装置において、測定実試料中の計測微粒子数
の濃度が第１の微粒子計の計測可能上限値を超えない範
囲に、混合槽における希釈溶媒による希釈率を制御する
ものである。

【００１７】

【作用】上記した本発明の微粒子計測技術によれば、た
とえばフローセルや入射光源、反射光検出部等の第１の
微粒子計個有の光学系諸パラメーターと較正標準液によ
る微粒子粒径と散乱光パルス電圧値との第１の相関関係
（関係Ａ）とを用いてＭｉｅ散乱光強度式から、試料溶
媒と溶質の光学的屈折率を外部パラメーターとする微粒
子粒径と散乱光パルス電圧値との間の当該第１の微粒子
計に固有の第２〜第４の相関関係（実験式）を求める。
そして、測定又はキー入力した実試料溶媒と溶質の屈折
率値をこの実験式に代入して正確な異物などの微粒子粒
径を計測する。

【００１８】また、高濃度微粒子試料については、たと
えば、異物などの微粒子を殆んど含まないその試料の主
成分溶媒を希釈溶媒として用いることで希釈・再計測値
が装置計数上限値を超えないように希釈倍率を自動設定
させる。

【００１９】

【実施例】以下、本発明の一例である微粒子計測方法お
よび装置について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。

【００２０】図１は本発明の一実施例である微粒子計測
装置の構成の一例を示す概念図である。

【００２１】重量計１０に載置された混合槽９には、試
料液採取管７および希釈液採取管３を介して、試料槽６
および試料希釈液槽２が接続されている。試料槽６に
は、外部から清浄な与圧気体が供給される加圧気体導入
管５が接続されており、内部の試料６ａを試料液採取管
７内に圧送して混合槽９に対する供給を行う。同様に、
試料希釈液槽２には、加圧気体導入管１が接続されてお
り、内部の試料希釈液２ａが希釈液採取管３を通じて混
合槽９に供給される。希釈液採取管３の経路には、第２
微粒子計４が介設されており、当該希釈液採取管３を通
過して混合槽９に至る試料希釈液２ａにおける微粒子の
有無を監視する。

【００２２】混合槽９には、第１微粒子計１１が介設さ
れた試料管１５および加圧気体導入管８が接続されてお
り、当該加圧気体導入管８を通じて外部から作用する清
浄な与圧気体により、第１微粒子計１１に対する試料６
ａ、試料希釈液２ａ、試料希釈液２ａによって希釈され
た試料６ａなどの内容液の供給が行われる。

【００２３】また、試料管１５における第１微粒子計１
１の下流側には流量計１３が介設されており、第１微粒
子計１１を通過した直後の各種液体の流量の計測を行
う。

【００２４】なお、前記第１微粒子計１１および第２微
粒子計４は、たとえば、測定実試料を光学的に透明で耐
薬品性を有する図示しないフローセル中を通過させ、そ
の際にレーザー光を試料に照射して異物微粒子より放射
される散乱光のパルスを図示しない受光素子で電気信号
として測定するレーザー光散乱方式の微粒子計測機構か
らなる。

【００２５】この場合、試料管１５における第１微粒子
計１１の下流側には、液体屈折率計１２が介設されてお
り、第１微粒子計１１を通過した直後の各種液体の屈折
率の計測を行うことが可能になっている。

【００２６】加圧気体導入管１〜試料管１５の各部は、
システム制御部１４の配下で一括して制御される。ま
た、システム制御部１４は、第１微粒子計１１および液
体屈折率計１２、さらには流量計１３，重量計１０およ
び図示しないキーボードなどを介して操作者から入力さ
れる各種の情報の基づいて、後述のような各種制御動作
および演算を行う。

【００２７】以下、本実施例の微粒子計測方法および装
置の作用について述べる。

【００２８】（１）液中微粒子計較正用標準液と測定実
試料溶媒（異物微粒子を除いた溶液部分）との光学的屈
折率が異なる場合 まず、第１微粒子計１１の後方に設置した液体屈折率計
１２で試料溶媒の光学的屈折率値を測定する。一方、図
示しないフローセルや入射光源、反射光検出部等の第１
微粒子計１１の光学系諸パラメーターと較正標準液によ
る微粒子粒径と散乱光パルス電圧値との第１の相関関係
（関係Ａ）とを用いてＭｉｅ散乱光強度式から、試料溶
媒と溶質との光学的屈折率を外部パラメーターとする第
１微粒子計１１に固有の微粒子粒径と散乱光パルス電圧
値との間の実験式（関係Ｂ）（関係Ｃ）（関係Ｄ）を予
め求めておき、システム制御部１４には、散乱光パルス
電圧値から屈折率補正された微粒子粒径を自動演算処理
する機能を持たせる。そして、液体屈折率計１２で測定
した試料溶媒の屈折率値をシステム制御部１４に送信し
て溶媒屈折率補正（関係Ｂ）された粒径別粒子数分布を
求める。

【００２９】（２）標準粒子と測定実試料溶質（異物微
粒子）との光学的屈折率が異なる場合 まず、試料６ａを試料槽６に入れ、異物微粒子を含まな
い清浄な窒素等の不活性ガスを加圧気体導入管５により
試料槽６中に導入して試料液面を加圧し、混合槽９に試
料６ａを圧送する。混合槽９の下に位置する重量計１０
で槽中に流入した試料重量を測定し、規定量になる直前
で試料槽６の試料液面下に浸っていた試料液採取管７を
液面上に引上げ、管内に残留している試料液体を加圧気
体導入管５より流出する不活性ガスで混合槽９の中に追
い出す。

【００３０】また、異物微粒子を殆んど含まず測定実試
料６ａと可溶かつ透明で、かつ光学的屈折率値が種々異
なった数種の比較溶媒を用意し、まず、それらの溶媒の
中のひとつを試料希釈液槽２に入れる。同様に異物微粒
子を含まない清浄な窒素等の不活性ガスを加圧気体導入
管１により試料希釈液槽２中に導入して溶媒液面を加圧
し、第２微粒子計４に比較溶媒を圧送して粒径別粒子数
分布を計測して溶媒が異物微粒子を含まないことを確認
の上、混合槽９に流し込む。同様に混合槽９の下に位置
する重量計１０で槽中に流入した比較溶媒重量を測定
し、規定量になる直前で試料希釈液槽２の試料液面下に
浸っていた希釈液採取管３を液面上に引上げ、管内に残
留している溶媒液体を加圧気体導入管１より流出する不
活性ガスで混合槽９中に追い出す。

【００３１】この様にして測定実試料を比較溶媒と適当
な比率で混合希釈した後、異物微粒子を含まない清浄な
窒素等の不活性ガスを加圧気体導入管８により混合槽９
中に導入して混合試料液面を加圧し、第１微粒子計１１
に混合試料を圧送して粒径別粒子数分布を計測し、液体
屈折率計１２で混合試料の光学的屈折率値を測定する。

【００３２】更に、別種の比較溶媒を用いて一連の操作
を同様に行なうため、一種類の比較溶媒を使用した計測
が終了する毎に、試料希釈液槽２、希釈液採取管３、第
２微粒子計４、混合槽９、第１微粒子計１１、液体屈折
率計１２、流量計１３を適切な溶媒で洗浄し、その後、
変更した比較溶媒毎に混合試料中の粒径別粒子数分布を
計測し、液体屈折率計１２で混試料の光学的屈折率値を
測定する。

【００３３】そして、実試料中異物微粒子の屈折率と混
合試料溶媒（異物微粒子を除いた試料溶液と比較溶媒と
の混合溶液部分）の屈折率が一致する場合に異物微粒子
の散乱光パルス強度が最小になることから、数種の比較
溶媒を用いて計測した混合試料の粒径別粒子数分布が最
も低粒径・低粒子数分布となった時の混合試料溶媒の屈
折率測定値で異物微粒子の光学的屈折率を近似し、前記
の溶媒屈折率補正（関係Ｂ）の場合と同様にシステム制
御部１４で溶質屈折率補正（関係Ｃ）された粒径別粒子
数分布を求める。

【００３４】（３）実試料の溶媒や異物微粒子の屈折率
が既知の場合 まず、試料６ａを混合槽９に入れる。異物微粒子を含ま
ない清浄な窒素等の不活性ガスを加圧気体導入管８によ
り混合槽９中に導入して試料液面を加圧し、第１微粒子
計１１に試料６ａを圧送して粒径別粒子数分布を計測し
た後、流量計１３で試料量を測定して排液する。その
後、システム制御部１４に実試料の溶媒や異物微粒子の
屈折率値を、図示しないキーボードなどから入力し溶媒
及び溶質屈折率補正された粒径別粒子数分布（関係Ｄ）
を求める。なお、実試料の溶媒や異物微粒子の屈折率値
を予め所定の記憶媒体に格納しておき、必要に応じてシ
ステム制御部１４が読みだすようにしてもよい。

【００３５】（４）測定に先立って実試料中の計測微粒
子数が全く未知の場合又は高濃度で装置計測可能上限値
を超える恐れのある場合 まず、試料６ａを試料槽６に入れ、異物微粒子を含まな
い清浄な窒素等の不活性ガスを加圧気体導入管５により
試料槽６中に導入して試料液面を加圧し、混合槽９に圧
送する。更に異物微粒子を含まない清浄な窒素等の不活
性ガスを加圧気体導入管８により混合槽９中に導入して
試料液面を加圧し、第１微粒子計１１に試料を圧送して
粒径別粒子数分布を計測した後、流量計１３で試料量を
測定して排液する。

【００３６】もしも計測微粒子数が高濃度で装置計測可
能上限値を超えた時は、その上限値を超える直前までに
第１微粒子計１１を通過した試料量ａ（ｍｌ／分）を流
量計１３で測定し、それと第１微粒子計１１に固有の規
定試料量ｂ（ｍｌ／分）との比（ｂ／ａ）より決まる最
低倍率以上で自動希釈再計測を行なう。

【００３７】その手順は、試料６ａを試料槽６に入れ、
異物微粒子を含まない清浄な窒素等の不活性ガスを加圧
気体導入管５により試料槽６中に導入して試料液面を加
圧し、混合槽９に試料６ａを圧送する。混合槽９の下に
位置する重量計１０で槽中に流入した試料重量を測定
し、規定量になる直前で試料槽６の試料液面下に浸って
いた試料液採取管７を液面上に引上げ、管内に残留して
いる試料液体を加圧気体導入管５より流出する不活性ガ
スで混合槽９の中に追い出す。また、本試料の主成分溶
媒を希釈溶媒（試料希釈液２ａ）として試料希釈液槽２
に入れ、同様に異物微粒子を含まない清浄な窒素等の不
活性ガスを加圧気体導入管１により試料希釈液槽２中に
導入して溶媒液面を加圧し、第２微粒子計４に比較溶媒
を圧送して粒径別粒子数分布を計測して希釈溶媒が異物
微粒子を含まないことを確認の上、混合槽９に流し込
む。同様に混合槽９の下に位置する重量計１０で槽中に
流入した比較溶媒重量を測定し、規定量になる直前で試
料希釈液槽２の試料液面下に浸っていた希釈液採取管３
を液面上に引上げ、管内に残留している溶媒液体を加圧
気体導入管１より流出する不活性ガスで混合槽９中に追
い出す。

【００３８】この様にして測定実試料を希釈溶媒と適当
な比率で混合した後、異物微粒子を含まない清浄な窒素
等の不活性ガスを加圧気体導入管８により混合槽９中に
導入して混合試料液面を加圧し、第１微粒子計１１に混
合試料を圧送して粒径別粒子数分布を計測する。更に、
液体屈折率計１２で混合試料の光学的屈折率値を測定し
てシステム制御部１４に送信して溶媒屈折率補正（関係
Ｂ）された粒径別粒子数分布を求める。また異物微粒子
の屈折率が既知の場合は、更にシステム制御部１４に異
物微粒子の屈折率値を入力し、溶媒及び溶質屈折率補正
された粒径別粒子数分布（関係Ｄ）を求める。

【００３９】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。

【００４０】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。

【００４１】すなわち、測定実試料を光学的に透明で耐
薬品性を有するフローセル中を通過させ、その際にレー
ザー光を試料に照射して異物微粒子より放射される散乱
光のパルスを受光素子で電気信号として測定するレーザ
ー光散乱方式液中微粒子計測装置に於いて、測定実試料
溶液及び異物微粒子の各光学的屈折率を考慮した異物微
粒子粒径補正を行うので、従来よりも粒径計測精度の向
上が図れる。

【００４２】また、高濃度微粒子試料を自動希釈・再計
測することができるので、任意の濃度の測定実試料中に
おける粒径別粒子数分布の測定を高精度かつ自動的に行
うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である微粒子計測装置の構成
の一例を示す概念図である。

【符号の説明】

１ 加圧気体導入管 ２ 試料希釈液槽 ２ａ 試料希釈液 ３ 希釈液採取管 ４ 第２微粒子計 ５ 加圧気体導入管 ６ 試料槽 ６ａ 試料 ７ 試料液採取管 ８ 加圧気体導入管 ９ 混合槽 １０ 重量計 １１ 第１微粒子計 １２ 液体屈折率計 １３ 流量計 １４ システム制御部 １５ 試料管

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粒径既知の標準粒子を標準溶媒中に単分
   散させた較正標準液に一定波長の光を照射した時に発生
   するＭｉｅ散乱光のパルス電圧値と標準粒子の粒径との
   第１の相関関係（関係Ａ）を調べ、この第１の相関関係
   に基づいて測定実試料中における微粒子粒径と粒子数を
   それぞれ散乱光のパルス電圧値とパルス数より計測する
   微粒子計測方法であって、前記測定実試料における前記
   微粒子を除いた溶液部分である試料溶媒の光学的屈折率
   を当該測定実試料の微粒子計測時に測定し、当該測定実
   試料の計測時に前記標準溶媒と前記試料溶媒との屈折率
   の違いで生ずる微粒子粒径と散乱光パルス電圧値との第
   ２の相関関係（関係Ｂ）の前記第１の相関関係（関係
   Ａ）からのズレを自動演算処理で修正することで溶媒屈
   折率補正された粒径別粒子数分布を求めることを特徴と
   する微粒子計測方法。
2. 【請求項２】 前記微粒子を殆んど含まず前記測定実試
   料と可溶かつ透明で光学的屈折率値が相異なった数種の
   希釈溶媒の各々によって前記測定実試料を希釈して微粒
   子計測を行い、前記測定実試料中の前記微粒子と希釈溶
   媒との屈折率が一致する場合に前記微粒子の散乱光パル
   ス強度が最小になることより、前記測定実試料中の前記
   微粒子の屈折率を自動測定し、前記測定実試料の計測時
   に当該測定実試料中の溶質（微粒子）と標準粒子との屈
   折率の違いで生ずる微粒子粒径と散乱光パルス電圧値と
   の第３の相関関係（関係Ｃ）の前記第１の相関関係（関
   係Ａ）からのズレを自動演算処理で修正することで溶質
   屈折率補正された粒径別粒子数分布を求めることを特徴
   とする請求項１記載の微粒子計測方法。
3. 【請求項３】 前記測定実試料の溶媒や前記微粒子の屈
   折率が別途既知の場合、屈折率値を外部より操作者が、
   または任意の記憶媒体から入力し、微粒子粒径と散乱光
   パルス電圧値との第４の相関関係（関係Ｄ）の前記第１
   の相関関係（関係Ａ）からのズレを自動演算処理で修正
   することで溶媒及び溶質屈折率補正された粒径別粒子数
   分布を求めることを特徴とする請求項１または２記載の
   微粒子計測方法。
4. 【請求項４】 前記測定実試料中の計測微粒子数が高濃
   度のために計測可能上限値を超えた場合に、自動的に前
   記測定実試料中の希釈および再計測を行うことを特徴と
   する請求項１，２または３記載の微粒子計測方法。
5. 【請求項５】 粒径既知の標準粒子を標準溶媒中に単分
   散させた較正標準液に一定波長の光を照射した時に発生
   するＭｉｅ散乱光のパルス電圧値と標準粒子の粒径との
   第１の相関関係（関係Ａ）を調べ、この第１の相関関係
   に基づいて測定実試料中における微粒子の粒径と粒子数
   をそれぞれ散乱光のパルス電圧値とパルス数より計測す
   る液中微粒子計測装置であって、前記第１の相関関係を
   計測する第１微粒子計より後方の流路上に配置され、前
   記較正標準液と異なった前記測定実試料における前記微
   粒子を除いた溶液部分である試料溶媒の光学的屈折率を
   自動測定する屈折率計測手段と、この屈折率計測手段に
   よって計測された前記試料溶媒の光学的屈折率に基づい
   て前記測定実試料の計測時に前記標準溶媒と前記試料溶
   媒との屈折率の違いで生ずる微粒子粒径と散乱光パルス
   電圧値との第２の相関関係（関係Ｂ）の前記第１の相関
   関係（関係Ａ）からのズレを自動演算処理で修正するこ
   とで溶媒屈折率補正された粒径別粒子数分布を求める第
   １の演算手段とを有することを特徴とする微粒子計測装
   置。
6. 【請求項６】 前記測定実試料を貯留・供給する試料槽
   と、前記微粒子を殆んど含まず測定実試料と可溶かつ透
   明な希釈溶媒を貯留・供給する希釈液槽と、前記測定実
   試料および前記希釈溶媒を所望の割合で混合し、前記第
   １の微粒子計に供給する混合槽と、この混合槽から前記
   第１の微粒子計に供給される前記測定実試料の流量を計
   測する流量計測手段と、前記試料槽から前記混合槽に至
   る前記希釈溶媒の供給経路に介設された第２の微粒子計
   と、光学的屈折率値が相異なった数種の前記希釈溶媒の
   各々で前記測定実試料を希釈して前記第１の微粒子計で
   微粒子計測し、前記測定実試料中の前記微粒子と希釈溶
   媒との屈折率が一致する場合に前記微粒子の散乱光パル
   ス強度が最小になることより、前記測定実試料中の前記
   微粒子の屈折率を自動測定する第２の演算手段と、前記
   測定実試料の計測時に溶質（微粒子）と標準粒子との屈
   折率の違いで生ずる微粒子粒径と散乱光パルス電圧値と
   の前記第３の相関関係（関係Ｃ）の前記第１の相関関係
   （関係Ａ）からのズレを自動演算処理で修正することで
   溶質屈折率補正された粒径別粒子数分布を求める第３の
   演算手段とを有することを特徴とする請求項５記載の微
   粒子計測装置。
7. 【請求項７】 前記測定実試料の溶媒や異物微粒子の屈
   折率が別途既知の場合、当該屈折率値を外部より操作者
   が、または任意の記憶媒体から前記第１または第２の演
   算手段に入力し、微粒子粒径と散乱光パルス電圧値との
   第４の相関関係（関係Ｄ）の前記第１の相関関係（関係
   Ａ）からのズレを自動演算処理で修正することで溶媒及
   び溶質屈折率補正された粒径別粒子数分布を求めること
   を特徴とする請求項５または６記載の微粒子計測装置。
8. 【請求項８】 前記測定実試料中の計測微粒子数の濃度
   が前記第１の微粒子計の計測可能上限値を超えない範囲
   に、前記混合槽における前記希釈溶媒による希釈率を制
   御することを特徴とする請求項６または７記載の微粒子
   計測装置。