JPH06150871A - ウェーハ浮き上がり検出装置 - Google Patents

ウェーハ浮き上がり検出装置

Info

Publication number
JPH06150871A
JPH06150871A JP4327295A JP32729592A JPH06150871A JP H06150871 A JPH06150871 A JP H06150871A JP 4327295 A JP4327295 A JP 4327295A JP 32729592 A JP32729592 A JP 32729592A JP H06150871 A JPH06150871 A JP H06150871A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
light
disk
wafer disk
optical head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4327295A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Nakaya
良 中矢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP4327295A priority Critical patent/JPH06150871A/ja
Publication of JPH06150871A publication Critical patent/JPH06150871A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェーハディスクに設けられたウェーハ保持
機構におけるウェーハのウェーハディスクからの浮き上
がりを検出することができるウェーハ浮き上がり検出装
置を提供する。 【構成】 このウェーハ浮き上がり検出装置は、ウェー
ハディスク4の各ウェーハ保持機構10の固定ブロック
14、16に設けられた光学ヘッド20、22を備え
る。光学ヘッド20は、ウェーハディスク4の裏面側か
らの光25を、ウェーハディスク4の表面近くを光学ヘ
ッド22に向けて進むように出力する。この光学ヘッド
20には、真空容器2外の発光器24からの光25が光
ファイバ28および中継レンズユニット32を経由して
導かれる。光学ヘッド22からの光25は、中継レンズ
ユニット34および光ファイバ30を経由して真空容器
2外の受光器26へ導かれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばイオン注入装
置、イオンビームエッチング装置、薄膜形成装置等に用
いられるものであって、ウェーハディスクに設けられた
ウェーハ保持機構におけるウェーハのウェーハディスク
からの浮き上がりを検出するウェーハ浮き上がり検出装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】バッチ処理式のイオン注入装置等におい
ては、真空容器内に収納された回転式のウェーハディス
クの周縁部に複数枚のウェーハを装着して、複数枚のウ
ェーハに対して一括してイオン注入等の処理を施す。
【0003】そのようなウェーハディスクの一例を図5
および図6に示す。このウェーハディスク4は、図示し
ない真空容器(図1の真空容器2参照)内に収納されて
いて、例えば矢印Aのように回転させられ、また場合に
よっては回転と同時に並進させられることもある。
【0004】このウェーハディスク4の周縁部には、図
5では一つしか図示していないけれども、複数のウェー
ハ保持機構10が設けられている。このウェーハ保持機
構10は、互いに三角状に配置されたスライドブロック
12と二つの固定ブロック14、16とによって、図5
および図6中に実線で示すように、ウェーハ6の端面を
押さえてウェーハ6を1枚ずつ保持(挟持)するもので
ある。スライドブロック12は、図示しない機構によっ
て矢印Bのように前後にスライドさせられる。ちなみ
に、ウェーハ6の厚さは例えば約0.7mmであり、ス
ライドブロック12および固定ブロック14、16のウ
ェーハディスク4上の高さは例えば約3mmである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなウェーハ
保持機構10においては、ウェーハ6を保持する際に、
何らかの不都合によって、例えばウェーハ搬送ロボット
のアーム上でウェーハの位置がずれる等によって、ウェ
ーハ6がスライドブロック12および固定ブロック1
4、16間に正しく置かれずにずれが生じると、例えば
図5および図6中に2点鎖線で示すように、ウェーハ6
の一部分が固定ブロック14等の上に乗り上げてウェー
ハ6がウェーハディスク4から浮き上がってしまい、ウ
ェーハ保持機構10に正しく保持されないことが起こ
る。
【0006】仮にこのようにウェーハ6が浮き上がった
ままでウェーハディスク4を回転ささると、ウェーハ6
が脱落して破損するという問題が生じる。
【0007】そこでこの発明は、上記のようなウェーハ
ディスクに設けられたウェーハ保持機構におけるウェー
ハのウェーハディスクからの浮き上がりを検出すること
ができるウェーハ浮き上がり検出装置を提供することを
主たる目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のウェーハ浮き上がり検出装置は、前述し
たような各ウェーハ保持機構の一方の固定ブロックの内
側端部にウェーハディスクを貫通させてそれぞれ設けら
れていて、ウェーハディスクの裏面側からの光を受けて
それをウェーハディスクの表面近くであってウェーハの
厚さよりも近い所を他方の固定ブロックに向けてウェー
ハディスクの表面に沿って進むように出力する第1の光
学ヘッドと、各ウェーハ保持機構の他方の固定ブロック
の内側端部にウェーハディスクを貫通させてそれぞれ設
けられていて、第1の光学ヘッドからの光を受けてそれ
をウェーハディスクの裏面側へ出力する第2の光学ヘッ
ドと、真空容器の外側に設けられていて光を発する発光
器と、この発光器からの光を真空容器を貫通して真空容
器内へ導く第1の光ファイバと、ウェーハディスクの裏
面側に位置する固定部に固定されていて、ウェーハディ
スクを一定の検出位置に停止させた状態で、第1の光フ
ァイバからの光を空間を通して第1の光学ヘッドに入射
させる第1の中継レンズユニットと、ウェーハディスク
の裏面側の固定部に固定されていて、ウェーハディスク
を前記検出位置に停止させた状態で、第2の光学ヘッド
からの光を空間を通して受ける第2の中継レンズユニッ
トと、この第2の中継レンズユニットからの光を真空容
器を貫通して真空容器外へ導く第2の光ファイバと、真
空容器の外側に設けられていて、この第2の光ファイバ
からの光を受けてそれを電気信号に変換する受光器とを
備えることを特徴とする。
【0009】
【作用】上記構成によれば、発光器から出力された光
は、第1の光ファイバおよび第1の中継レンズユニット
を経由して、ウェーハディスク上の第1の光学ヘッドへ
と導かれる。
【0010】そして、ウェーハ保持機構にウェーハが正
しく保持されている場合は、ウェーハはウェーハディス
クから浮き上がっていないので、第1の光学ヘッドから
出力された光は、このウェーハに遮られて、第2の光学
ヘッドには到達しない。
【0011】一方、ウェーハ保持機構においてウェーハ
がウェーハディスクから浮き上がっている場合は、第1
の光学ヘッドから出力された光は、ウェーハに遮られる
ことなく第2の光学ヘッドに到達する。そしてこの光
が、第2の中継レンズユニットおよび第2の光ファイバ
を経由して受光器に導かれる。これによって、ウェーハ
の浮き上がりを検出することができる。
【0012】
【実施例】図1は、この発明の一実施例に係るウェーハ
浮き上がり検出装置の構成を示す概略断面図である。図
2は、この発明の一実施例に係るウェーハ浮き上がり検
出装置を設けたウェーハディスクを部分的に示す平面図
である。図5および図6の例と同一または相当する部分
には同一符号を付し、重複説明は省略する。
【0013】この実施例のウェーハ浮き上がり検出装置
は、第1の光学ヘッド20、第2の光学ヘッド22、発
光器24、受光器26、第1の光ファイバ28、第2の
光ファイバ30、第1の中継レンズユニット32および
第2の中継レンズユニット34を備えている。
【0014】第1の光学ヘッド20は、前述したウェー
ハディスク4上の全てのウェーハ保持機構10の一方の
固定ブロック14の内側端部に、ウェーハディスク4を
貫通させて、それぞれ設けられている。この各光学ヘッ
ド20は、ウェーハディスク4の裏面側からの光25を
受けてそれを、ウェーハディスク4の表面近くであって
ウェーハ6の厚さ(例えば前述したように約0.7m
m)よりも近い所を他方の固定ブロック16に向けて、
より具体的にはそこに設けられた第2の光学ヘッド22
に向けて、ウェーハディスク4の表面に沿って進むよう
に出力する。各光学ヘッド20および22は、例えば、
幾つかの光学レンズおよび反射鏡の組み合わせから成
る。
【0015】第2の光学ヘッド22は、上記各ウェーハ
保持機構10の他方の固定ブロック16の内側端部にウ
ェーハディスク4を貫通させてそれぞれ設けられてい
る。この各光学ヘッド22は、対向する光学ヘッド20
からの光25を受けてそれをウェーハディスク4の裏面
側へ出力する。
【0016】発光器24は、ウェーハディスク4を収納
する真空容器2の外側に設けられていて、前記光25を
発する。この発光器24は、例えば発光ダイオードから
成る。
【0017】第1の光ファイバ28は、発光器24から
の光25を真空容器2を貫通して真空容器2内へ導く。
38はその真空シール部である。
【0018】第1の中継レンズユニット32は、ウェー
ハディスク4の裏面側に位置する固定部36に固定され
ていて、ウェーハディスク4を一定の検出位置に停止さ
せた状態で、図1に示すように、第1の光ファイバ28
からの光25を空間を通してウェーハディスク4上の第
1の光学ヘッド20に入射させる。
【0019】第2の中継レンズユニット34は、上記固
定部36に固定されていて、ウェーハディスク4を前記
検出位置に停止させた状態で、図1に示すように、ウェ
ーハディスク4上の第2の光学ヘッド22からの光25
を空間を通して受ける。この中継レンズユニット32お
よび34は、例えば、幾つかの光学レンズの組み合わせ
から成る。
【0020】前記検出位置は、例えば、ウェーハディス
ク4上のウェーハ保持機構10に対してウェーハ6を搬
出入(着脱)する位置である。そして、ウェーハディス
ク4を例えば矢印A方向に一定ピッチずつ回転させるこ
とにより、ウェーハディスク4上の全ての光学ヘッド2
0および22を、順次、中継レンズユニット32および
34にそれぞれ対向させて光学的に結合させることがで
きる。
【0021】第2の光ファイバ30は、中継レンズユニ
ット34からの光25を真空容器2を貫通して真空容器
2外へ導く。40はその真空シール部である。
【0022】受光器26は、真空容器2の外側に設けら
れていて、光ファイバ30からの光25を受けてそれを
電気信号に変換する。この受光器26は、例えば、フォ
トダイオードあるいはフォトトランジスタおよび出力回
路等から成る。
【0023】上記のようなウェーハ浮き上がり検出装置
の動作例を説明すると、発光器24から出力された光2
5は、第1の光ファイバ28および第1の中継レンズユ
ニット32を経由して、ウェーハディスク4上の第1の
光学ヘッド20へと導かれる。
【0024】そして、ウェーハ保持機構10に図2中に
実線で示すようにウェーハ6が正しく保持されている場
合は、図3に示すように、ウェーハ6はウェーハディス
ク4から浮き上がっていないので、第1の光学ヘッド2
0から出力された光25は、このウェーハ6に遮られ
て、第2の光学ヘッド22には到達しない。
【0025】一方、ウェーハ保持機構10においてウェ
ーハ6が正しく置かれずに、例えば図2中に2点鎖線で
示すようにウェーハ6の一部分が固定ブロック14上に
乗り上げる等して、ウェーハ6がウェーハディスク4か
ら浮き上がっていると、前述したように光学ヘッド22
からの光25はウェーハディスク4のごく表面近傍を通
っているので、図4に示すように、第1の光学ヘッド2
0から出力された光25は、ウェーハ6に遮られること
なく第2の光学ヘッド22に到達する。そしてこの光2
5が、図1に示すように、第2の中継レンズユニット3
4および第2の光ファイバ30を経由して受光器26に
導かれ、受光器26はそれに応じた信号を出力する。こ
れによって、ウェーハ6の浮き上がりを検出することが
できる。この検出結果を利用することにより、ウェーハ
6の脱落による破損等が起こるのを未然に防止すること
ができる。
【0026】そしてウェーハディスク4を前述したよう
に一定ピッチずつ回転させることにより、上記のような
検出を、ウェーハディスク4上の全てのウェーハ保持機
構10におけるウェーハ6について行うことができる。
【0027】しかもこのウェーハ浮き上がり検出装置で
は、単にウェーハディスク4上の各ウェーハ保持機構1
0に発光器および受光器をそれぞれ設けてウェーハ6の
浮き上がりを検出する場合に比べて、次のような効果が
得られる。
【0028】 真空容器2内に発光器および受光器を
収納すると、それらから、更にはそれらに対する電気配
線から、ガスが発生して真空容器2内の真空度を悪化さ
せる要因になると共に、真空中において発光器および受
光器が正しく動作しない恐れがあるが、この検出装置で
は発光器24および受光器26を真空容器2の外に設け
ているので、そのような不都合が全く起こらない。
【0029】 ウェーハディスク4上の各ウェーハ保
持機構10に発光器および受光器をそれぞれ設けるとウ
ェーハディスク4上で多くのスペースが必要になると共
に、ウェーハディスク4は回転および場合によっては並
進もするので、ウェーハディスク4上の各発光器および
受光器に対する電気配線が困難になるが、この検出装置
では各ウェーハ保持機構10には小さな光学ヘッド20
および22を埋め込んでおけば良いので余分なスペース
を必要とせず、また電気配線も全く不要である。
【0030】 多数のウェーハ保持機構10に対し
て、一組の発光器24、受光器26、光ファイバ28お
よび30ならびに中継レンズユニット32および34を
共用できるので、コスト的にも安くできる。
【0031】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ウェー
ハディスクに設けられた各ウェーハ保持機構におけるウ
ェーハのウェーハディスクからの浮き上がりを検出する
ことができる。そしてこの検出結果を利用することによ
り、ウェーハの脱落による破損等が起こるのを未然に防
止することができる。
【0032】しかもこのウェーハ浮き上がり検出装置で
は、単にウェーハディスク上の各ウェーハ保持機構に発
光器および受光器をそれぞれ設けてウェーハの浮き上が
りを検出する場合に比べて、次のような効果が得られ
る。
【0033】 真空容器内に発光器および受光器を収
納すると、それらから、更にはそれらに対する電気配線
から、ガスが発生して真空容器内の真空度を悪化させる
要因になると共に、真空中において発光器および受光器
が正しく動作しない恐れがあるが、この検出装置では発
光器および受光器を真空容器の外に設けているので、そ
のような不都合が全く起こらない。
【0034】 ウェーハディスク上の各ウェーハ保持
機構に発光器および受光器をそれぞれ設けるとウェーハ
ディスク上で多くのスペースが必要になると共に、ウェ
ーハディスクは回転および場合によっては並進もするの
で、ウェーハディスク上の各発光器および受光器に対す
る電気配線が困難になるが、この検出装置では各ウェー
ハ保持機構には小さな光学ヘッドを埋め込んでおけば良
いので余分なスペースを必要とせず、また電気配線も全
く不要である。
【0035】 多数のウェーハ保持機構に対して、一
組の発光器、受光器、光ファイバならびに中継レンズユ
ニットを共用できるので、コスト的にも安くできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係るウェーハ浮き上がり
検出装置の構成を示す概略断面図である。
【図2】この発明の一実施例に係るウェーハ浮き上がり
検出装置を設けたウェーハディスクを部分的に示す平面
図である。
【図3】ウェーハが正しく保持されている場合を示す断
面図である。
【図4】ウェーハがウェーハディスクから浮き上がって
いる場合を示す断面図である。
【図5】従来のウェーハディスクを部分的に示す平面図
である。
【図6】図5の線C−Cに沿う概略拡大断面図である。
【符号の説明】
2 真空容器 4 ウェーハディスク 6 ウェーハ 10 ウェーハ保持機構 12 スライドブロック 14,16 固定ブロック 20 第1の光学ヘッド 22 第2の光学ヘッド 24 発光器 25 光 26 受光器 28 第1の光ファイバ 30 第2の光ファイバ 32 第1の中継レンズユニット 34 第2の中継レンズユニット 36 固定部
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 N 8418−4M

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空容器内に収納された回転式のウェー
    ハディスクであって、その周縁部に、互いに三角状に配
    置されたスライドブロックと二つの固定ブロックとによ
    ってウェーハの端面を押さえてウェーハを保持するウェ
    ーハ保持機構を複数有するものの各ウェーハ保持機構に
    おけるウェーハの浮き上がりを検出する装置であって、
    前記各ウェーハ保持機構の一方の固定ブロックの内側端
    部にウェーハディスクを貫通させてそれぞれ設けられて
    いて、ウェーハディスクの裏面側からの光を受けてそれ
    をウェーハディスクの表面近くであってウェーハの厚さ
    よりも近い所を他方の固定ブロックに向けてウェーハデ
    ィスクの表面に沿って進むように出力する第1の光学ヘ
    ッドと、各ウェーハ保持機構の他方の固定ブロックの内
    側端部にウェーハディスクを貫通させてそれぞれ設けら
    れていて、第1の光学ヘッドからの光を受けてそれをウ
    ェーハディスクの裏面側へ出力する第2の光学ヘッド
    と、真空容器の外側に設けられていて光を発する発光器
    と、この発光器からの光を真空容器を貫通して真空容器
    内へ導く第1の光ファイバと、ウェーハディスクの裏面
    側に位置する固定部に固定されていて、ウェーハディス
    クを一定の検出位置に停止させた状態で、第1の光ファ
    イバからの光を空間を通して第1の光学ヘッドに入射さ
    せる第1の中継レンズユニットと、ウェーハディスクの
    裏面側の固定部に固定されていて、ウェーハディスクを
    前記検出位置に停止させた状態で、第2の光学ヘッドか
    らの光を空間を通して受ける第2の中継レンズユニット
    と、この第2の中継レンズユニットからの光を真空容器
    を貫通して真空容器外へ導く第2の光ファイバと、真空
    容器の外側に設けられていて、この第2の光ファイバか
    らの光を受けてそれを電気信号に変換する受光器とを備
    えることを特徴とするウェーハ浮き上がり検出装置。
JP4327295A 1992-11-11 1992-11-11 ウェーハ浮き上がり検出装置 Pending JPH06150871A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4327295A JPH06150871A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 ウェーハ浮き上がり検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4327295A JPH06150871A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 ウェーハ浮き上がり検出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06150871A true JPH06150871A (ja) 1994-05-31

Family

ID=18197537

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4327295A Pending JPH06150871A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 ウェーハ浮き上がり検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06150871A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010092619A (ja) * 2008-10-03 2010-04-22 Nissin Ion Equipment Co Ltd イオン注入装置
KR101018016B1 (ko) * 2008-11-26 2011-03-02 세메스 주식회사 기판 지지 유닛과, 이를 이용한 기판 처리 장치 및 방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010092619A (ja) * 2008-10-03 2010-04-22 Nissin Ion Equipment Co Ltd イオン注入装置
KR101018016B1 (ko) * 2008-11-26 2011-03-02 세메스 주식회사 기판 지지 유닛과, 이를 이용한 기판 처리 장치 및 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5183378A (en) Wafer counter having device for aligning wafers
KR100284148B1 (ko) 적층물체 검색장치 및 방법
US8233696B2 (en) Simultaneous wafer ID reading
US4513430A (en) Missing or broken wafer sensor
KR20200074928A (ko) 웨이퍼의 에지 영역 검사 시스템
WO2009135066A2 (en) End effector to substrate offset detection and correction
US5227642A (en) Apparatus for optically reading and discriminating symbols or characters represented by indentations formed on the surface of a sample
US20020125448A1 (en) Multi-functioned wafer aligner
JPH04193951A (ja) 保持装置
KR20180037063A (ko) 본딩 전에 칩을 검사하는 방법 및 장치
JP3179206B2 (ja) ウエハ検出装置
JPH0817901A (ja) 半導体ウェハ保管装置及びその不良収納検出方法
JP2003303878A (ja) 基板保持装置
JPH07231031A (ja) 位置検出/案内装置
JP2620723B2 (ja) 半導体装置の製造方法
WO1998025409A1 (en) Low-profile image formation apparatus
JPS6311776B2 (ja)
JP2694216B2 (ja) ウエハ処理方法およびウエハ処理装置
JPH0669323A (ja) ウエハ検出装置およびウエハ位置決め装置
JP2576711B2 (ja) 半導体ウェーハ有無識別装置
JPH06338558A (ja) 検出装置及び処理装置
JPH0964155A (ja) 基板保持状態確認方法および装置
JPH0430554A (ja) ウェハ整列装置およびウェハ整列方法
JP2510286B2 (ja) 半導体ウエハ計数装置
JPH01144647A (ja) 半導体ウエハ計数装置

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040414