JPH0817901A - 半導体ウェハ保管装置及びその不良収納検出方法 - Google Patents
半導体ウェハ保管装置及びその不良収納検出方法Info
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- JPH0817901A JPH0817901A JP14422294A JP14422294A JPH0817901A JP H0817901 A JPH0817901 A JP H0817901A JP 14422294 A JP14422294 A JP 14422294A JP 14422294 A JP14422294 A JP 14422294A JP H0817901 A JPH0817901 A JP H0817901A
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Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Controlling Sheets Or Webs (AREA)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ハンドリングによるウェハのキャリアへの収
納、キャリアからの取り出し、立て替えの際に、ウェハ
の誤挿入を検出し、ウェハのキズ発生を防止する。 【構成】ウェハをキャリア2にハンドリングで収納取出
しする際、キャリアを発光部50と受光センサ60を備
えたキャリアカセット5に設置する。発光部50と受光
センサ60は、本来ウェハが横切らない場所(キャリア
ミゾの間の凸部21)に備えられ、この間にウェハ32
がかかった特にアラーム音が発生させ、ウェハ32のキ
ズ発生を防止する。これら受光部50と受光センサ60
とをキャリア正面の対角線上に備えることでハンドリン
グの支障にならず、かつ早期に異常検出ができる。
納、キャリアからの取り出し、立て替えの際に、ウェハ
の誤挿入を検出し、ウェハのキズ発生を防止する。 【構成】ウェハをキャリア2にハンドリングで収納取出
しする際、キャリアを発光部50と受光センサ60を備
えたキャリアカセット5に設置する。発光部50と受光
センサ60は、本来ウェハが横切らない場所(キャリア
ミゾの間の凸部21)に備えられ、この間にウェハ32
がかかった特にアラーム音が発生させ、ウェハ32のキ
ズ発生を防止する。これら受光部50と受光センサ60
とをキャリア正面の対角線上に備えることでハンドリン
グの支障にならず、かつ早期に異常検出ができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウェハの保管装置
及び半導体ウェハの不良収納検出方法に関し、特に半導
体ウェハの不良収納状態を未然に検出する装置とその検
出方法に関する。
及び半導体ウェハの不良収納検出方法に関し、特に半導
体ウェハの不良収納状態を未然に検出する装置とその検
出方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図5は従来の半導体ウェハの保管装置で
あるキャリアと呼ばれる収納箱を上方から見た上面図で
ある。図6において、このキャリア2内には、半導体ウ
ェハを多数平行に配列して収納すべく、各ウェハの周縁
部(端部)を入れる溝20が、第1のサイド3とこれに
対向した第2のサイド9とに形成され、場合によっては
各ウェハの下方の周縁部にも形成されている。ウェハ1
0とこのとなりのウェハ13との溝20の間には凸部2
1が形成され、収納・取出しのハンドリングが難かしく
ならないように、その凸部21の幅が定められている。
溝20のみぞ幅及びみぞの深さは、収納されるべきウェ
ハの厚み及び直径から所定の寸法上の余裕を持たせてい
る。
あるキャリアと呼ばれる収納箱を上方から見た上面図で
ある。図6において、このキャリア2内には、半導体ウ
ェハを多数平行に配列して収納すべく、各ウェハの周縁
部(端部)を入れる溝20が、第1のサイド3とこれに
対向した第2のサイド9とに形成され、場合によっては
各ウェハの下方の周縁部にも形成されている。ウェハ1
0とこのとなりのウェハ13との溝20の間には凸部2
1が形成され、収納・取出しのハンドリングが難かしく
ならないように、その凸部21の幅が定められている。
溝20のみぞ幅及びみぞの深さは、収納されるべきウェ
ハの厚み及び直径から所定の寸法上の余裕を持たせてい
る。
【0003】キャリア2は、図示されていないカセット
に装着される。このようなキャリア2は、半導体ウェハ
の各製造工程間において、従来から使用されており、不
可欠のものである。ここで、ウェハ10,13は正常の
収納状態、ウェハ12は一方がとなりの溝20内に入っ
ており誤収納状態示す。
に装着される。このようなキャリア2は、半導体ウェハ
の各製造工程間において、従来から使用されており、不
可欠のものである。ここで、ウェハ10,13は正常の
収納状態、ウェハ12は一方がとなりの溝20内に入っ
ており誤収納状態示す。
【0004】一方、誤って収納された半導体ウェハの傾
斜状態を、2位置のセンサを用いて検出する特開昭63
−300525号公報によれば、半導体ウェハを収納し
たキャリアを上下動させながら計測する構造となってお
り、しかもウェハの傾斜度は、演算・計算することによ
り、得られる装置である。
斜状態を、2位置のセンサを用いて検出する特開昭63
−300525号公報によれば、半導体ウェハを収納し
たキャリアを上下動させながら計測する構造となってお
り、しかもウェハの傾斜度は、演算・計算することによ
り、得られる装置である。
【0005】この装置を示す図7を参照すると、アーム
93の走行路でウェハ91間にはウェハ位置検出機構が
設けられ、この機構は光センサを用いており、収納され
たキャリア92を介在して一方、例えばアーム93側に
は、発光素子を内蔵した発光部94a,94bが2系統
配設され、これらと対を成す受光素子を内蔵した2系統
の受光部95a,95bはキャリア92を介した反対側
の固定部分98bに設けられている。
93の走行路でウェハ91間にはウェハ位置検出機構が
設けられ、この機構は光センサを用いており、収納され
たキャリア92を介在して一方、例えばアーム93側に
は、発光素子を内蔵した発光部94a,94bが2系統
配設され、これらと対を成す受光素子を内蔵した2系統
の受光部95a,95bはキャリア92を介した反対側
の固定部分98bに設けられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図6に示した従来のキ
ャリア2に、半導体ウェハを順次ハンドリング手段等で
収納する場合、図5のウェハ12のように、対向した正
しい位置の溝20に収納されず、一方がとなりの溝に入
ってしまい、傾斜した状態となることがある。
ャリア2に、半導体ウェハを順次ハンドリング手段等で
収納する場合、図5のウェハ12のように、対向した正
しい位置の溝20に収納されず、一方がとなりの溝に入
ってしまい、傾斜した状態となることがある。
【0007】これは、溝20の幅が狭いのに対して、対
向した溝間の距離が大きいことに起因して、発生する事
故である。目視で半導体ウェハを収納する場合に生じ易
いが、機械的なハンドリング手段でも、生じることがあ
る。
向した溝間の距離が大きいことに起因して、発生する事
故である。目視で半導体ウェハを収納する場合に生じ易
いが、機械的なハンドリング手段でも、生じることがあ
る。
【0008】図6では、右側に傾斜したウェハ12が示
されており、当然左側に傾斜する場合もありえるが、い
ずれの場合もとなりのウェハ1又は13と接触してしま
い、この接触によって、ウェハの主表面の端部にすでに
形成されている半導体層等が破壊されるだけでなく、擦
過傷による屑が発生した場合にはこの屑が他のウェハの
主表面に付着し、不良率を著しく低下させる原因とな
る。
されており、当然左側に傾斜する場合もありえるが、い
ずれの場合もとなりのウェハ1又は13と接触してしま
い、この接触によって、ウェハの主表面の端部にすでに
形成されている半導体層等が破壊されるだけでなく、擦
過傷による屑が発生した場合にはこの屑が他のウェハの
主表面に付着し、不良率を著しく低下させる原因とな
る。
【0009】また、上記公報の技術では、半導体ウェハ
を水平位で取扱っており、収納の一部過程を自然落下に
まかせることができず、また主表面に塵埃が付着し易
く、その点での信頼性が低下する欠点がある。また、こ
の構成は、傾斜収納を未然に防止する構成ではなく、一
旦収納されたウェハの傾斜度を計測するものであり、ま
たその構成も極めて複雑なものになっている。また、上
記2系統のセンサは、半導体ウェハの収納・取出し方向
と平行な光線となっているため、収納取出しの方法が複
雑となる。さらに、一枚一枚半導体ウェハを上下動させ
ながら検出するため、さら判定時間を要する。
を水平位で取扱っており、収納の一部過程を自然落下に
まかせることができず、また主表面に塵埃が付着し易
く、その点での信頼性が低下する欠点がある。また、こ
の構成は、傾斜収納を未然に防止する構成ではなく、一
旦収納されたウェハの傾斜度を計測するものであり、ま
たその構成も極めて複雑なものになっている。また、上
記2系統のセンサは、半導体ウェハの収納・取出し方向
と平行な光線となっているため、収納取出しの方法が複
雑となる。さらに、一枚一枚半導体ウェハを上下動させ
ながら検出するため、さら判定時間を要する。
【0010】以上のような従来技術の諸問題を解決すべ
く、本発明は、次のような各課題を掲げる。 (A)半導体装置の傾斜収納を未然に防止すること。 (B)半導体ウェハの主表面のうち、特に周囲部分の表
面を破壊しないようにすること。 (C)擦過傷等による屑の発生を防止すること。 (D)半導体ウェハの製造歩留りを向上させること。 (E)比較的簡単な構成でしかも迅速に検出できるよう
にすること。 (F)ハンドリング作業者にも不良収納を未然に知らせ
るようにすること。 (G)一度に同時に多数の半導体ウェハの傾斜収納の検
出ができるようにすること。 (H)作業性を低下させず、製造工程を増加させないよ
うにすること。 (I)バッチ式の立て替え機にも利用できること。 (J)半導体ウェハその主表面を水平位にせず、垂直位
の状態で取扱うようにすること。 (K)直径の大きな半導体ウェハでも、傾斜収納されな
いようにすること。
く、本発明は、次のような各課題を掲げる。 (A)半導体装置の傾斜収納を未然に防止すること。 (B)半導体ウェハの主表面のうち、特に周囲部分の表
面を破壊しないようにすること。 (C)擦過傷等による屑の発生を防止すること。 (D)半導体ウェハの製造歩留りを向上させること。 (E)比較的簡単な構成でしかも迅速に検出できるよう
にすること。 (F)ハンドリング作業者にも不良収納を未然に知らせ
るようにすること。 (G)一度に同時に多数の半導体ウェハの傾斜収納の検
出ができるようにすること。 (H)作業性を低下させず、製造工程を増加させないよ
うにすること。 (I)バッチ式の立て替え機にも利用できること。 (J)半導体ウェハその主表面を水平位にせず、垂直位
の状態で取扱うようにすること。 (K)直径の大きな半導体ウェハでも、傾斜収納されな
いようにすること。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の構成は、
半導体ウェハの端部が挿入される溝が、所定の幅の凸部
をへだてて多数配列されたキャリアを備えた半導体ウェ
ハの保管装置において、前記凸部の一方からこれと対向
した他方の凸部へ向う平面に沿って、所定の光線を放射
する発光手段と、この発光手段からの光線を感知する受
光手段とを備え、この受光手段で感知した光線を所定の
電気信号として出力する検出手段を有することを特徴と
する。
半導体ウェハの端部が挿入される溝が、所定の幅の凸部
をへだてて多数配列されたキャリアを備えた半導体ウェ
ハの保管装置において、前記凸部の一方からこれと対向
した他方の凸部へ向う平面に沿って、所定の光線を放射
する発光手段と、この発光手段からの光線を感知する受
光手段とを備え、この受光手段で感知した光線を所定の
電気信号として出力する検出手段を有することを特徴と
する。
【0012】本発明の他の構成は、半導体ウェハをキャ
リアに収納する際に、このウェハが投光された光線を遮
断するか否かで、このウェハの位置ずれを検出する半導
体ウェハ不良収納検出方法において、前記ウェハの収納
する方向と所定の角度をなす斜方向に、前記光線を放射
することを特徴とする。
リアに収納する際に、このウェハが投光された光線を遮
断するか否かで、このウェハの位置ずれを検出する半導
体ウェハ不良収納検出方法において、前記ウェハの収納
する方向と所定の角度をなす斜方向に、前記光線を放射
することを特徴とする。
【0013】
【実施例】図1は本発明の第1の実施例の半導体ウェハ
の保管装置の半導体ウェハ不良収納検出手段を示す上面
図であり、図2は図1の発光部−受光センサに沿って切
断してみた断面図である。
の保管装置の半導体ウェハ不良収納検出手段を示す上面
図であり、図2は図1の発光部−受光センサに沿って切
断してみた断面図である。
【0014】図1,図2において、この実施例は、多数
の半導体ウェハを収納するキャリア2と、このキャリア
2をセットしたキャリアカセット5と、溝20の間の凸
部21のほぼ中央に設けた発光部50,51,52と、
この発光部50,51,52にそれぞれ対向した受光セ
ンサ60,61,62とを備える。
の半導体ウェハを収納するキャリア2と、このキャリア
2をセットしたキャリアカセット5と、溝20の間の凸
部21のほぼ中央に設けた発光部50,51,52と、
この発光部50,51,52にそれぞれ対向した受光セ
ンサ60,61,62とを備える。
【0015】ここで、発光部50等は、発光ダイオード
やレーザ光線等の発光体と、この発光体からの光線を光
学的に収束して投光するためのレンズ系とを備え、キャ
リアカセット5の一端に設けられ、その光線は下方から
斜め上方に放射される光線40となっており、各凸部2
1にそれぞれ対応して多数配列される。この発光部50
等からの光線40,41等は、キャリア2内に形成した
開口部48を通過する。この開口部48には、光透過性
のガラス等や樹脂等が嵌入されていてもよい。ここで、
キャリア2が光線を透過させ得るものであれば、開口部
48は必要ない。
やレーザ光線等の発光体と、この発光体からの光線を光
学的に収束して投光するためのレンズ系とを備え、キャ
リアカセット5の一端に設けられ、その光線は下方から
斜め上方に放射される光線40となっており、各凸部2
1にそれぞれ対応して多数配列される。この発光部50
等からの光線40,41等は、キャリア2内に形成した
開口部48を通過する。この開口部48には、光透過性
のガラス等や樹脂等が嵌入されていてもよい。ここで、
キャリア2が光線を透過させ得るものであれば、開口部
48は必要ない。
【0016】斜め上方に向かう光線40等は、キャリア
2内から上方へ出て、キャリアカセット5の他端に設け
た受光センサ60等に入射する。ここで、光線40の長
さのほぼ半分は、キャリア2の開口部2′のラインから
外に位置していることが好ましく、少なくともこの光線
40の一部が開口部2′から外にある必要がある。この
構成により、半導体ウェハ35がキャリア2内に入り切
らないうちに、傾斜収納を検出することができる。
2内から上方へ出て、キャリアカセット5の他端に設け
た受光センサ60等に入射する。ここで、光線40の長
さのほぼ半分は、キャリア2の開口部2′のラインから
外に位置していることが好ましく、少なくともこの光線
40の一部が開口部2′から外にある必要がある。この
構成により、半導体ウェハ35がキャリア2内に入り切
らないうちに、傾斜収納を検出することができる。
【0017】光線40は、ウェハ35の収納・取出し方
向に対して所定の角度で斜めの光線となっていることが
好ましく、図2では光線40が上下方向の収納・取出し
方向に対して45°前後の斜方向として示されており、
最も好ましい実施例である。この光線40は、正しくキ
ャリア2内に挿入されたウェハ35の主表面がなす面と
ほぼ平行な面に沿っており、かつ上記斜めとなっている
光線である。
向に対して所定の角度で斜めの光線となっていることが
好ましく、図2では光線40が上下方向の収納・取出し
方向に対して45°前後の斜方向として示されており、
最も好ましい実施例である。この光線40は、正しくキ
ャリア2内に挿入されたウェハ35の主表面がなす面と
ほぼ平行な面に沿っており、かつ上記斜めとなっている
光線である。
【0018】この構成は、特にウェハの垂直状態でのハ
ンドリング作業性を確保するためたに、一方の側を開放
しておく必要があるからでもある。即ち、発光部50と
受光センサ60とをキャリア2の側面の対角線に備える
ことで、収納・取出し時のハンドリングの支障になら
ず、かつ早期に検出できる。尚、発光部50と受光セン
サ60との位置は、互いに入れ換えることができるが、
発光部が下方に位置する方が、照明の影響を受けないと
いう点でより好ましい。
ンドリング作業性を確保するためたに、一方の側を開放
しておく必要があるからでもある。即ち、発光部50と
受光センサ60とをキャリア2の側面の対角線に備える
ことで、収納・取出し時のハンドリングの支障になら
ず、かつ早期に検出できる。尚、発光部50と受光セン
サ60との位置は、互いに入れ換えることができるが、
発光部が下方に位置する方が、照明の影響を受けないと
いう点でより好ましい。
【0019】図2の光線40は、図1の相対向する凸部
21のほぼ中心位置を結ぶことにより得られる平面上に
存在することが最も好ましく、上記中心位置からのずれ
がないことが好ましい。
21のほぼ中心位置を結ぶことにより得られる平面上に
存在することが最も好ましく、上記中心位置からのずれ
がないことが好ましい。
【0020】発光部50,受光センサ60には、入出力
の配線が必要であるが、この配線はキャリア2とカセッ
ト5との間の空域を利用してもよく、ここでは図示を省
く。この出力配線の処理回路は後述する。キャリア2,
カセット5は、静電気によるウェハ35内の形成素子の
破壊を防止するため、電気的に絶縁性の低い樹脂が好ま
しい。
の配線が必要であるが、この配線はキャリア2とカセッ
ト5との間の空域を利用してもよく、ここでは図示を省
く。この出力配線の処理回路は後述する。キャリア2,
カセット5は、静電気によるウェハ35内の形成素子の
破壊を防止するため、電気的に絶縁性の低い樹脂が好ま
しい。
【0021】キャリア2は、下方が半導体ウェハ35の
直系に沿った半円形上の凸部21を呈しているが、この
ような半円形でなく、方形であってもよく、また底部に
溝がなくてもよいが、図1に示す如く上面から見て、相
対向する位置に溝20と凸部21とを設けることは不可
欠である。光線40,41等は、正常位置に半導体ウェ
ハが収納される過程にあれば、さえぎられることがな
く、また実際に収納されている場合でも正常位置にウェ
ハがあれば遮られることがない。
直系に沿った半円形上の凸部21を呈しているが、この
ような半円形でなく、方形であってもよく、また底部に
溝がなくてもよいが、図1に示す如く上面から見て、相
対向する位置に溝20と凸部21とを設けることは不可
欠である。光線40,41等は、正常位置に半導体ウェ
ハが収納される過程にあれば、さえぎられることがな
く、また実際に収納されている場合でも正常位置にウェ
ハがあれば遮られることがない。
【0022】キャリア2内に半導体ウェハを収納する作
業において、発光部50,51,52等からの光線は、
対応する受光センサ60,61,62等にそれぞれ入射
しており、どれか一つの受光センサ入射がなければ、直
に警報音を発する手段を設ける。尚、受光センサとして
は、CCD素子等の光感知素子が用いられる。警報音の
かわりに警報ランプを点燈又は点滅させるようにしても
よく、あるいはこれらランプと警報音とを並用してもよ
い。
業において、発光部50,51,52等からの光線は、
対応する受光センサ60,61,62等にそれぞれ入射
しており、どれか一つの受光センサ入射がなければ、直
に警報音を発する手段を設ける。尚、受光センサとして
は、CCD素子等の光感知素子が用いられる。警報音の
かわりに警報ランプを点燈又は点滅させるようにしても
よく、あるいはこれらランプと警報音とを並用してもよ
い。
【0023】今、ハンドリング49で吸着又は嵌合した
半導体ウェハ35は、キャリア2の上方から注意深く、
所定の一対の溝20に入るように下方に移動させられ
る。この際、第1のウェハ30,第2のウェハ31は、
光線40,41等に触れることなく、すでに正常に収納
されている。
半導体ウェハ35は、キャリア2の上方から注意深く、
所定の一対の溝20に入るように下方に移動させられ
る。この際、第1のウェハ30,第2のウェハ31は、
光線40,41等に触れることなく、すでに正常に収納
されている。
【0024】次に、第3のウェハ32をキャリア2内に
上方から下方に近づけてゆくと、この第3のウェハ32
は一方の溝20が正規の位置のとなりの溝20に入って
しまうように傾斜しているため、キャリア2内に収納さ
れる直前に、光線42はさえぎられて、受光センサ62
にこの光線42は届かなくなり、直ちに警報音等が発せ
られ、ウェハ32の下方移動を中止し、警報音等が消え
るまでウェハ32の傾斜補正を行うことができる。この
ため、傾斜収納を未然に防止することができる。
上方から下方に近づけてゆくと、この第3のウェハ32
は一方の溝20が正規の位置のとなりの溝20に入って
しまうように傾斜しているため、キャリア2内に収納さ
れる直前に、光線42はさえぎられて、受光センサ62
にこの光線42は届かなくなり、直ちに警報音等が発せ
られ、ウェハ32の下方移動を中止し、警報音等が消え
るまでウェハ32の傾斜補正を行うことができる。この
ため、傾斜収納を未然に防止することができる。
【0025】尚、第3のウェハ32は一方が右方の溝に
収納される位置にあるが、これとは逆にすでに収納され
ている第2のウェハ31の一方の溝に収納されてしまう
ような傾斜にある場合もあるが、このような場合も、同
様に作用する。
収納される位置にあるが、これとは逆にすでに収納され
ている第2のウェハ31の一方の溝に収納されてしまう
ような傾斜にある場合もあるが、このような場合も、同
様に作用する。
【0026】図3は、上記第1の実施例の受光センサで
得られた信号を処理する回路を示したブロック図であ
る。図3において、図1,2と共通する発光部70,7
1からの発光した光線は各々受光センサ72,73に達
し、ここでの信号レベルは必要レベルにまで増幅器7
4,75で各々増幅され、この出力は各々論理レベル
〔1〕、
得られた信号を処理する回路を示したブロック図であ
る。図3において、図1,2と共通する発光部70,7
1からの発光した光線は各々受光センサ72,73に達
し、ここでの信号レベルは必要レベルにまで増幅器7
4,75で各々増幅され、この出力は各々論理レベル
〔1〕、
〔0〕にまで変換器76,77で変換され、こ
の出力をORゲート78に入力し、その出力は出力処理
部79で目的に応じて処理される。
の出力をORゲート78に入力し、その出力は出力処理
部79で目的に応じて処理される。
【0027】ここでの処理出力の一つは、警報音を発す
る警報手段80に接続され、他に目視のできる点灯又は
点滅発光体からなる発光手段81に接続され、あるいは
コンピュータの入力等や工業用ロボットのハンドリング
手段のストップ信号等として使用する出力端子82に接
続される。上記各手段80,81,82は、必要に応じ
て一つの手段が選択され、あるいは二つ以上の手段が選
択される。尚、図3の構成において、受光部から変換器
までは二系列についてのみ説明したが、実際には、収納
されるウェハの枚数に応じて、必要数用意される。
る警報手段80に接続され、他に目視のできる点灯又は
点滅発光体からなる発光手段81に接続され、あるいは
コンピュータの入力等や工業用ロボットのハンドリング
手段のストップ信号等として使用する出力端子82に接
続される。上記各手段80,81,82は、必要に応じ
て一つの手段が選択され、あるいは二つ以上の手段が選
択される。尚、図3の構成において、受光部から変換器
までは二系列についてのみ説明したが、実際には、収納
されるウェハの枚数に応じて、必要数用意される。
【0028】上記構成において、受光センサ72,73
のうち少なくとも一つの入射光がないと、変換器76,
77に「1」,又は「0」のレベルとなって出力され、
ORゲート78にて、少なくともその一つが「入射光
無」の状態になれば、この状態を検出して、出力処理部
79に送られる。以上の通り、半導体ウェハの傾斜収納
が、未然に防止できる。
のうち少なくとも一つの入射光がないと、変換器76,
77に「1」,又は「0」のレベルとなって出力され、
ORゲート78にて、少なくともその一つが「入射光
無」の状態になれば、この状態を検出して、出力処理部
79に送られる。以上の通り、半導体ウェハの傾斜収納
が、未然に防止できる。
【0029】尚、図3のブロック図の他に、次の態様を
とりうる。即ち、増幅器74,75,変換器76,77
を共用すべく増幅器の入力部を制御回路でスキャンニン
グし、時分割した形で一つの増幅器に入力させてもよ
い。この場合は、ORゲート78の入力部分に一時的に
記憶するレジスタを用意する必要があるが、多数のウェ
ハのある場合回路を簡略化する上で有利である。
とりうる。即ち、増幅器74,75,変換器76,77
を共用すべく増幅器の入力部を制御回路でスキャンニン
グし、時分割した形で一つの増幅器に入力させてもよ
い。この場合は、ORゲート78の入力部分に一時的に
記憶するレジスタを用意する必要があるが、多数のウェ
ハのある場合回路を簡略化する上で有利である。
【0030】図3のブロック図の他に、さらに次の態様
もとりうる。即ち、発光部−受光センサ−増幅器−発光
体又は警報音体からなる構成を、半導体ウェハ間のキャ
リアに各々設ける。この構成は、極めて簡単な回路で、
しかも遮られた光線の位置が(発光体の場合)直ちに認
識できるという利点がある。
もとりうる。即ち、発光部−受光センサ−増幅器−発光
体又は警報音体からなる構成を、半導体ウェハ間のキャ
リアに各々設ける。この構成は、極めて簡単な回路で、
しかも遮られた光線の位置が(発光体の場合)直ちに認
識できるという利点がある。
【0031】図4は、本発明の第2の実施例の半導体ウ
ェハの保管装置を部分的に示す斜視図である。図4にお
いて、この実施例は、受光センサを用いていない点を除
いて、上記第1の実施例を示す図1,図2とほぼ共通す
るため、共通部分は共通の参照数字で示すに留め、その
説明を省略する。
ェハの保管装置を部分的に示す斜視図である。図4にお
いて、この実施例は、受光センサを用いていない点を除
いて、上記第1の実施例を示す図1,図2とほぼ共通す
るため、共通部分は共通の参照数字で示すに留め、その
説明を省略する。
【0032】この実施例は、図1の受光センサ60,6
1,62等が設けられておらず、放射した光線の当たる
受光面60,61,62等を用いるか、これら受光面を
包括する受光部64に、アルミニウム粉末を表面に固着
した接着シールを貼って、視認性を良好にすることが好
ましい。発光部50,51,52等からの各光線40,
41,42等は、前下方から後上方(図2と共通)に向
って放射され、各光線の直系は3mm乃至6mm以上が
好ましいが、特に視認性を良くするためには凸部21の
幅まで広げることが好ましい。また各光線は、可視光線
に限られる。
1,62等が設けられておらず、放射した光線の当たる
受光面60,61,62等を用いるか、これら受光面を
包括する受光部64に、アルミニウム粉末を表面に固着
した接着シールを貼って、視認性を良好にすることが好
ましい。発光部50,51,52等からの各光線40,
41,42等は、前下方から後上方(図2と共通)に向
って放射され、各光線の直系は3mm乃至6mm以上が
好ましいが、特に視認性を良くするためには凸部21の
幅まで広げることが好ましい。また各光線は、可視光線
に限られる。
【0033】図4の斜視図は、作業者自信の目の位置か
ら実際に見える図である。この作業者は、第3のウェハ
32を挟んだ専用グリップ65を右手55で掴み、矢印
で示す挿入方向64に沿って、キャリア2内の溝20に
挿入しようとしているところである。第3の半導体ウェ
ハ32の両主表面上には、光線42,43がそれぞれ放
射されている。
ら実際に見える図である。この作業者は、第3のウェハ
32を挟んだ専用グリップ65を右手55で掴み、矢印
で示す挿入方向64に沿って、キャリア2内の溝20に
挿入しようとしているところである。第3の半導体ウェ
ハ32の両主表面上には、光線42,43がそれぞれ放
射されている。
【0034】今図示されているように、第3の半導体ウ
ェハ32が傾斜して所定位置から外れて収納されようと
すると、光線42は第3の半導体ウェハの一主表面に長
い楕円形状の受光面62′が形成されると共に、受光面
62が光らなくなる。これを、作業者は直ちに視認でき
るから、第3のウェハ32の傾斜を正して正常挿入の位
置にもどして、所定の溝20に収納することができる。
ェハ32が傾斜して所定位置から外れて収納されようと
すると、光線42は第3の半導体ウェハの一主表面に長
い楕円形状の受光面62′が形成されると共に、受光面
62が光らなくなる。これを、作業者は直ちに視認でき
るから、第3のウェハ32の傾斜を正して正常挿入の位
置にもどして、所定の溝20に収納することができる。
【0035】この際、第3の半導体ウェハ32の傾斜を
正し過ぎ、反対方向に傾斜してしまうと、光線43がさ
えぎられて今度は受光面63が光らなくなり、作業者は
直ちに過剰補正であることが視認できるから、適正位置
にもどしながら、挿入を進めることができる。
正し過ぎ、反対方向に傾斜してしまうと、光線43がさ
えぎられて今度は受光面63が光らなくなり、作業者は
直ちに過剰補正であることが視認できるから、適正位置
にもどしながら、挿入を進めることができる。
【0036】この実施例は、受光手段や電気的に変換す
る回路例えば図3のような検出手段等を用いないで済む
ため、極めて簡単な構成となり、廉価に誤挿入防止手段
を提供できるという効果がある。
る回路例えば図3のような検出手段等を用いないで済む
ため、極めて簡単な構成となり、廉価に誤挿入防止手段
を提供できるという効果がある。
【0037】以上の実施例では、半導体ウェハを一枚づ
つ順次収納する場合について述べたが、一度に二枚づつ
ハンドリング手段で収納する場合でも、上記構成で同様
の効果が得られる。
つ順次収納する場合について述べたが、一度に二枚づつ
ハンドリング手段で収納する場合でも、上記構成で同様
の効果が得られる。
【0038】次に、キャリアカセット内に収納された多
数の半導体ウェハを一度に他のキャリアカセットに移し
変えるいわゆるバッチ式処理の場合について説明する。
数の半導体ウェハを一度に他のキャリアカセットに移し
変えるいわゆるバッチ式処理の場合について説明する。
【0039】次に本発明の第3の実施例として、バッチ
式の立替え機の例を図5を参照して説明する。図4にお
いて、この第2の実施例は、単独で用いられる他に、ウ
ェット処理装置や拡散処理のボードの立替え等にも広く
使用できるもので、多数の半導体ウェハ1が立て替え機
100の中にすでに収納されており、キャリア2へ移し
替える場合には、この立て替え機100は上下を逆にす
るが、チャック部8が設けられているため、ウェハ1は
落下しない。まず、上下逆になった立て替え機100
を、キャリア2の上に設定する(設定手段は図示してい
ない)。
式の立替え機の例を図5を参照して説明する。図4にお
いて、この第2の実施例は、単独で用いられる他に、ウ
ェット処理装置や拡散処理のボードの立替え等にも広く
使用できるもので、多数の半導体ウェハ1が立て替え機
100の中にすでに収納されており、キャリア2へ移し
替える場合には、この立て替え機100は上下を逆にす
るが、チャック部8が設けられているため、ウェハ1は
落下しない。まず、上下逆になった立て替え機100
を、キャリア2の上に設定する(設定手段は図示してい
ない)。
【0040】この状態で、まず多数のウェハの位置ずれ
を、受光部7、受光センサ6を用いて、上記第1の実施
例と同様に検出する。仮に、すでに位置ずれがあれば、
立て替え機をもとにもどして、この位置ずれを直し、再
度キャリアカセット5のキャリア2上に設定する。位置
ずれがない場合には、チャック部8を解放して、多数の
半導体ウェハ1を一度にキャリア2内へ落下させる。落
下させた後のウェハ1の位置ずれも、さらに確認する。
以上で移し替えが終了する。
を、受光部7、受光センサ6を用いて、上記第1の実施
例と同様に検出する。仮に、すでに位置ずれがあれば、
立て替え機をもとにもどして、この位置ずれを直し、再
度キャリアカセット5のキャリア2上に設定する。位置
ずれがない場合には、チャック部8を解放して、多数の
半導体ウェハ1を一度にキャリア2内へ落下させる。落
下させた後のウェハ1の位置ずれも、さらに確認する。
以上で移し替えが終了する。
【0041】以上の通り、バッチ式の立て替え機におい
て、キャリアからキャリアへウェハを立て替える際、立
て替え時のウェハのキャリア溝に対する平行状態を確認
し、隣の溝にわたっているウェハがあればそれを検出で
きる。
て、キャリアからキャリアへウェハを立て替える際、立
て替え時のウェハのキャリア溝に対する平行状態を確認
し、隣の溝にわたっているウェハがあればそれを検出で
きる。
【0042】尚上記第1,第2の実施例ともに、発光器
及び光センサとしては、紫外線、可視光線赤外線だけで
なく、レーザ光線も使用できる。また、第3の実施例に
ついては、アラームだけでなく、特に制御系のフィード
バック機構にも入力することができる。
及び光センサとしては、紫外線、可視光線赤外線だけで
なく、レーザ光線も使用できる。また、第3の実施例に
ついては、アラームだけでなく、特に制御系のフィード
バック機構にも入力することができる。
【0043】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、半導体ウ
ェハの傾斜収納が未然に検出できるように、少なくとも
発光部を設けたので、上記各課題が解決され、半導体ウ
ェハが傾斜収納されることがなくなり、ウェハのキズ発
生を防止することができる等の効果が得られる。
ェハの傾斜収納が未然に検出できるように、少なくとも
発光部を設けたので、上記各課題が解決され、半導体ウ
ェハが傾斜収納されることがなくなり、ウェハのキズ発
生を防止することができる等の効果が得られる。
【図1】本発明の第1の実施例を示す上面図である。
【図2】図1の光線面に沿って切断して見た断面図であ
る。
る。
【図3】第1の実施例で使用される検出装置を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図4】本発明の第2の実施例を示す斜視図である。
【図5】本発明の第3の実施例を示す側面図である。
【図6】従来のキャリアを示す上面図である。
【図7】従来の傾斜収納検出装置を示す斜視図である。
2,92 キャリア 2′ キャリアの収納口 3 第1のサイド 5 キャリアカセット 9 第2のサイド 10乃至13,30乃至32,35,91 半導体ウ
ェハ 20 溝 21 凸部 40乃至42 光線 48 開口部 49 ハンドリング 50,51,52,70,71 発光部 60,61,62,72,73 受光センサ 74,75 増幅器 76,77 変換器 78 ORゲート 79 出力処理部 80 警報手段 81 発光手段 82 出力端子 93 アーム 95a,95b 受光部 98a 固定部分 100 立て替え機
ェハ 20 溝 21 凸部 40乃至42 光線 48 開口部 49 ハンドリング 50,51,52,70,71 発光部 60,61,62,72,73 受光センサ 74,75 増幅器 76,77 変換器 78 ORゲート 79 出力処理部 80 警報手段 81 発光手段 82 出力端子 93 アーム 95a,95b 受光部 98a 固定部分 100 立て替え機
Claims (7)
- 【請求項1】 半導体ウェハの端部が挿入される溝が、
所定の幅の凸部をへだてて多数配列されたキャリアを備
えた半導体ウェハの保管装置において、前記凸部の一方
からこれと対向した他方の凸部へ向う平面に沿って、所
定の光線を放射する発光手段と、この発光手段からの光
線を感知する受光手段とを備え、この受光手段で感知し
た光線を所定の電気信号として出力する検出手段を有す
ることを特徴とする半導体ウェハの保管装置。 - 【請求項2】 前記検出手段に、警報音又は警報光を発
する手段を設けた請求項1記載の半導体ウェハの保管装
置。 - 【請求項3】 前記発光手段からの光線が、前記ウェハ
の挿入方向に対して所定の角度をなす斜め光線となって
いる請求項1記載の半導体ウェハの保管装置。 - 【請求項4】 前記発光手段から前記受光手段にまで達
する光線の一部は、前記キャリアの収納口から外に存在
するように配置されている請求項1記載の半導体ウェハ
の保管装置。 - 【請求項5】 半導体ウェハの端部が挿入される溝が、
所定の幅の凸部をへだてて多数配列されたキャリアを備
えた半導体ウェハの保管装置において、前記凸部の一方
からこれと対向した他方の凸部へ向う平面に沿った可視
光線を所定の角度で放射する発光手段を設けたこと特徴
とする半導体ウェハの保管装置。 - 【請求項6】 半導体ウェハをキャリアに収納する際
に、このウェハが投光された光線を遮断するか否かで、
このウェハの位置ずれを検出する半導体ウェハ不良収納
検出方法において、前記ウェハの収納する方向と所定の
角度をなす斜方向に、前記光線を放射することを特徴と
する半導体ウェハの不良収納検出方法。 - 【請求項7】 第1のキャリア内の多数の半導体ウェハ
を一度に第2のキャリア内に移し替える際に、前記斜方
向の光線を用いる請求項6記載の半導体ウェハの不良収
納検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14422294A JPH0817901A (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | 半導体ウェハ保管装置及びその不良収納検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14422294A JPH0817901A (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | 半導体ウェハ保管装置及びその不良収納検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0817901A true JPH0817901A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15357088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14422294A Pending JPH0817901A (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | 半導体ウェハ保管装置及びその不良収納検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0817901A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002270674A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | 搬出装置 |
| KR100481279B1 (ko) * | 2002-09-12 | 2005-04-07 | 한국디엔에스 주식회사 | 반도체 제조에 사용되는 웨이퍼 보우트 |
| KR100775086B1 (ko) * | 2006-06-02 | 2007-11-08 | 주식회사 케이씨텍 | 이물질 감지 장치 및 방법 |
| US7427354B2 (en) | 2005-01-26 | 2008-09-23 | Aquatech, Ltd. | Degradation treatment process and system for organics in organically-polluted water |
| CN102956526A (zh) * | 2012-11-15 | 2013-03-06 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 静态同步扫描获取硅片位置信息的系统及方法 |
| JP2013162048A (ja) * | 2012-02-07 | 2013-08-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状物処理装置 |
| JP2018044858A (ja) * | 2016-09-14 | 2018-03-22 | 株式会社レクザム | ロボットのハンド部の傾き検査装置及びその傾き検査方法 |
| CN114864458A (zh) * | 2022-05-24 | 2022-08-05 | 深圳市深科达智能装备股份有限公司 | 晶圆盒、晶圆搬运设备及控制方法、电气设备及存储介质 |
| JP2022136524A (ja) * | 2021-03-08 | 2022-09-21 | 日鉄テックスエンジ株式会社 | 傾斜検出装置、傾斜検出方法、分離装置および分離方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04321253A (ja) * | 1991-04-19 | 1992-11-11 | Tokyo Electron Ltd | ウエハ搬送装置、ウエハの傾き検出方法、およびウエハの検出方法 |
-
1994
- 1994-06-27 JP JP14422294A patent/JPH0817901A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04321253A (ja) * | 1991-04-19 | 1992-11-11 | Tokyo Electron Ltd | ウエハ搬送装置、ウエハの傾き検出方法、およびウエハの検出方法 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002270674A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | 搬出装置 |
| KR100481279B1 (ko) * | 2002-09-12 | 2005-04-07 | 한국디엔에스 주식회사 | 반도체 제조에 사용되는 웨이퍼 보우트 |
| US7427354B2 (en) | 2005-01-26 | 2008-09-23 | Aquatech, Ltd. | Degradation treatment process and system for organics in organically-polluted water |
| KR100775086B1 (ko) * | 2006-06-02 | 2007-11-08 | 주식회사 케이씨텍 | 이물질 감지 장치 및 방법 |
| JP2013162048A (ja) * | 2012-02-07 | 2013-08-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状物処理装置 |
| CN102956526A (zh) * | 2012-11-15 | 2013-03-06 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 静态同步扫描获取硅片位置信息的系统及方法 |
| JP2018044858A (ja) * | 2016-09-14 | 2018-03-22 | 株式会社レクザム | ロボットのハンド部の傾き検査装置及びその傾き検査方法 |
| JP2022136524A (ja) * | 2021-03-08 | 2022-09-21 | 日鉄テックスエンジ株式会社 | 傾斜検出装置、傾斜検出方法、分離装置および分離方法 |
| CN114864458A (zh) * | 2022-05-24 | 2022-08-05 | 深圳市深科达智能装备股份有限公司 | 晶圆盒、晶圆搬运设备及控制方法、电气设备及存储介质 |
| CN114864458B (zh) * | 2022-05-24 | 2025-11-04 | 深圳市深科达智能装备股份有限公司 | 晶圆盒、晶圆搬运设备及控制方法、电气设备及存储介质 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19961217 |