JPH0615541B2 - ２−アリ−ル−４−イソオキサゾリン−３−オン誘導体 - Google Patents

２−アリ−ル−４−イソオキサゾリン−３−オン誘導体

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JPH0615541B2
JPH0615541B2 JP62106896A JP10689687A JPH0615541B2 JP H0615541 B2 JPH0615541 B2 JP H0615541B2 JP 62106896 A JP62106896 A JP 62106896A JP 10689687 A JP10689687 A JP 10689687A JP H0615541 B2 JPH0615541 B2 JP H0615541B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （発明の分野） 本発明は２−アリール−４−イソオキサゾリン−３−オ
ン誘導体に関する。
（従来の技術） ２−アリールイソオキサゾリン−３−オン誘導体として
は、これまでに、ヘテロサイクルズ(Heterocycles)，２
０(6)，１１２３〜１１２６頁（１９８３），ケミカル
・アンド・ファーマセンティカル・ブラテン(Chemical
and Pharmaceutical Bulletin)，３０(9)，３０９７−
３１０５頁，ヘテロサイクルズ，１９(3)，５１５〜５
２０頁，ヘテロサイクルズ，１９(3)，５２１〜５２４
頁，ジャーナル・オブ・ザ・ヘテロサイクリック・ケミ
ストリー(Journal of Heterocyclic Chemistry)，１７
(4)，７２７〜７３１頁，ケミカル・アンド・ファーマ
センティカル・ブラテン，１９(7)，１３８９〜１３９
４頁，特開昭５５−１０４２７４号、などにその例及び
合成法が記載されているが、２位の置換基がクロル基を
超える電子吸引性の基が結合したアリール基のものはこ
れまで知られていない。
４位に窒素原子、硫黄原子で一置換されたメチル基を有
する例についても同様である。
（発明の目的） 本発明の目的は、４位にメルカプトアゾール類、メルカ
プトアザインデン類、メルカプトピリミジン類、ベンゾ
トリアゾール類、インダゾール類、ベンツイミダゾール
類の窒素原子又は硫黄原子で一置換されたメチル基を有
し、かつ２位のアリール基にクロル基を超える電子吸引
性の基が結合した全く新規な２−アリール−４−イソオ
キサゾリン−３−オン誘導体を提供することである。
（発明の構成） 本発明の化合物は式〔Ｉ〕で表わされる。
式〔Ｉ〕 式中、Ｒ１はアルキル基（置換基を有するものを含む。
例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘ
キシル基、ｔ−ブチル基、クロルメチル基、Ｎ−メチル
アセチルアミノメチル基、オクチルチオメチル基、アダ
マンチル基、ウンデシル基、ヘプタデシル基など）、あ
るいはアリール基（置換基を有するものを含む。例え
ば、フェニル基、２−メチルフェニル基、４−メチルフ
ェニル基、４−メトキシフェニル基、４−メトキシ−４
−アセタミドフェニル基、４−ドデシルオキシフェニル
基、４−オクタデシルオキシフェニル基、３−スルホ−
４−メトキシフェニル基など）であるが、アルキル基の
場合には１〜６、アリール基の場合には６〜２４の炭素
数のものが好ましい。Ｒ１としては特にメチル基、ｔ−
ブチル基、フェニル基、アルコキシ基置換フェニル基が
好ましい。
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、アルコキシ基（置換基を有するも
のを含む。例えば、メトキシ基、２−メトキシエトキシ
基、フェノキシ基、４−ｎ−ヘキサデシルカルバモイル
フェノキシ基、エトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ
−ヘキサデシルオキシ基、メトキシプロピル基など）、
アシル基（置換基を有するものを含む。例えば、アセチ
ル基、ｎ−ドデカノイル基、ベンゾイル基、２−エトキ
シカルボニルベンゾイル基、２，２−ジメチルプロパノ
イル基など）、アルコキシまたはアリールオキシカルボ
ニル基（置換基を有するものを含む。例えば、メトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−オクチルオ
キシカルボニル基、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基など）、スルホニル基（置
換基を有するものを含む。例えば、メチルスルホニル
基、クロルメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
ｎ−ドデシルスルホニル基、ｎ−テトラデシルスルホニ
ル基、フェニルスルホニル基、４−メチルフェニルスル
ホニル基、ｔ−ドデシルスルホニル基など）、カルバモ
イル基（置換基を有するものを含む。例えば、カルバモ
イル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル
基、ｎ−ブチルカルバモイル基、３−（２，４−ジ−ｔ
−ペンチルフェノキシ）プロピルカルバモイル基、Ｎ−
メチル−Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイル基、（３−ヘキ
サデシルスルファモイル）フェニルカルバモイル基、Ｎ
−メチル−Ｎ−ｎ−オクタデシルカルバモイル基、ｎ−
ヘキサデシルカルバモイル基、３−ｎ−ドデシルオキシ
プロピルカルバモイル基、など）、スルファモイル基
（置換基を有するものを含む。例えば、メチルスルファ
モイル基、ジメチルスルファモイル基、ジエチルスルフ
ァモイル基、ジブチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−
Ｎ−ｎ−ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−
ｎ−オクチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−
ヘキサデシルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−
オクタデシルスルファモイル基、ｎ−ドデシルスルファ
モイル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモ
イル基、Ｎ−メチル−Ｎ−３−メトキシプロピルスルフ
ァモイル基、ビス（２−メトキシエチル）スルファモイ
ル基、など）、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、カ
ルボキシ基またはトリフルオロメチル基、スルホ基、の
中から選ばれる基であり、Ｒ２およびＲ３は少なくとも
一方がニトロ基、シアノ基、スルホニル基またはトリフ
ルオロメチルから選ばれる。Ｒ２，Ｒ３は好ましくは少
なくとも一方がニトロ基あるいはスルホニル基である。
特にＲ２，Ｒ３の少なくとも一方がニトロ基であるもの
が好ましい。
この時Ｒ２，Ｒ３のニトロ基以外の一方の基および／ま
たはＲ４がスルホニル基、スルファモイル基、アルコキ
シカルボニル基、カルバモイル基、アシル基、トリフル
オロメチル基又はシアノ基、カルボキシ基、スルホ基で
あるものが好ましい。
特に、Ｒ２がニトロ基であり、Ｒ３がスルファモイル
基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基またはト
リフルオロメチル基、カルボキシ基、スルホ基であり、
Ｒ４が水素原子であるものが好ましい。
Ｘはメルカプトアゾール類、メルカプトアザインデン
類、メルカプトピリミジン類、ベンゾトリアゾール類、
インダゾール類、ベンツイミダゾール類（これらは置換
基を有するものを含む）のいずれかであり、硫黄原子ま
たは窒素原子で４−イソオキサゾリン環の４位のメチレ
ン炭素と結合している。
このうち、好ましい化合物をその基名で以下列挙する。
１−フェニル−５−テトラゾリルチオ基、 １−（４−カルボキシフェニル）−５−テトラゾリルチ
オ基、 １−（３−ヒドロキシフェニル）−５−テトラゾリルチ
オ基、 １−（４−スルホフェニル）−５−テトラゾリルチオ
基、 １−（３−スルホフェニル）−５−テトラゾリルチオ
基、 １−（４−スルファモイルフェニル）−５−テトラゾリ
ルチオ基、 １−（３−ヘキサノイルアミノフェニル）−５−テトラ
ゾリルチオ基、 １−（３−ノナノイルアミノフェニル）−５−テトラゾ
リルチオ基、 １−（３−アミノフェニル）−５−テトラゾリルチオ
基、 １−（１−ナフチル）−５−テトラゾリルチオ基、 １−｛３−（３−メチルウレイド）フェニル｝−５−テ
トラゾリルチオ基、 １−（４−ニトロフェニル）−５−テトラゾリルチオ
基、 １−（３−フェノキシカルボニルフェニル）−５−テト
ラゾリルチオ基、 １−（４−フェノキシカルボニルフェニル）−５−テト
ラゾリルチオ基、 １−（３−マレインイミドフェニル）−５−テトラゾリ
ルチオ基、 １−エチル−５−テトラゾリルチオ基、 １−（２−カルボキシエチル）−５−テトラゾリルチオ
基、 １−（４−ベンゾイルオキシフェニル）−５−テトラゾ
リルチオ基、 １−（３−ビニルカルボニルフェニル）−５−テトラゾ
リルチオ基、 ２−メチルチオ−５−（１，３，４−チアジアゾリル）
チオ基、 ２−ペンチルチオ−５−（１，３，４−チアジアゾリ
ル）チオ基、 ２−（２−カルボキシエチルチオ）−５−（１，３，４
−チアジアゾリル）チオ基、 ２−（２−ジメチルアミノエチルチオ）−５−（１，
３，４−チアジアゾリル）チオ基、 ２−フェノキシカルボニルメチルチオ−５−（１，３，
４−チアジアゾリル）チオ基、 ２−〔３−｛チオフェン−２−イルカルボニル｝プロピ
ル〕チオ−５−（１，３，４−チアジアゾリル）チオ
基、 ２−ベンゾチアゾリルチオ基、 ５−（２−メタンスルホニルエトキシカルボニル）−２
−ベンゾチアゾリルチオ基、 ２−ベンツイミダゾリルチオ基、 １−（４−ｎ−ヘキシカルバモイルフェニル）−２−イ
ミダゾリルチオ基、 １−フェニル−２−イミダゾリルチオ基、 ５−（２−エチルヘキサノイルアミノ）−２−ベンツイ
ミダゾリルチオ基、 ５−ヘキサノイルアミノ−２−ベンツイミダゾリルチオ
基、 ５−フェノキシカルボニル−２−ベンツイミダゾリルチ
オ基、 １−｛４−（２−クロルエトキシカルボニル）フェニ
ル｝−２−イミダゾリルチオ基、 ２−ベンツオキサゾリルチオ基、 ２−（６−ニトロ−１，３−ベンツオキサゾリル）チオ
基、 ６−フェノキシカルボニル−２−ベンツオキサゾリルチ
オ基、 ３−メチル−４−フェニル−５−（１，２，４−トリア
ゾリル）チオ基、 ３−アセチルアミノ−４−メチル−５−（１，２，４−
トリアゾリル）チオ基、 ２−フェニル−５−（１，３，４−オキサジアゾイル）
チオ基、 ６−メチル−４−（１，３，３ａ，７−テトラザインデ
ニル）チオ基、 ６−メチル−２−ベンジル−４−（１，３，３ａ，７−
テトラザインデニル）チオ基、 ６−フェニル−４−（１，３，３ａ，７−テトラザイン
デニル）チオ基、 ４，６−ジメチル−２−（１，３，３ａ，７−テトラザ
インデニル）チオ基、 ２−ピリミジニルチオ基、 ４−メチル−６−ヒドロキシ−２−ピリミジニルチオ
基、 ４−プロピル−２−ピリミジニルチオ基、 でこれらのものは、４−イソオキサゾリン環の４位のメ
チレン炭素と硫黄原子で結合している。
更に、 ベンゾトリアゾリル基、 ５−ニトロベンゾトリアゾリル基、 ５−メチルベンゾトリアゾリル基、 ５，６−ジクロルベンゾトリアゾリル基、 ５−ブロモベンゾトリアゾリル基、 ５−メトキシベンゾトリアゾリル基、 ５−アセチルアミノベンゾトリアゾリル基、 ５，６−ジメチルベンゾトリアゾリル基、 ５−ｎ−ブチルベンゾトリアゾリル基、 ５−ニトロ−６−クロルベンゾトリアゾリル基、 ４，５，６，７−テトラクロロベンゾトリアゾリル基、 ５−フェノキシカルボニルベンゾトリアゾリル基、 ５−（２，３−ジクロルプロピルオキシカルボニル）ベ
ンゾトリアゾリル基、 ５−ベンジルオキシカルボニルベンゾトリアゾリル基、 ５−（ブチルカルバモイルメトキシカルボニル）ベンゾ
トリアゾリル基、 ５−（ブトキシカルボニルメトキシカルボニル）ベンゾ
トリアゾリル基、 ５−スクシンイミドメチルベンゾトリアゾリル基、 インダゾリル基、 ５−ニトロインダゾリル基、 ３−ニトロインダゾリル基、 ３−クロル−５−ニトロインダゾリル基、 ３−シアノインダゾリル基、 ３−ｎ−ブチルカルバモイルインダゾリル基、 ５−ニトロ−３−メタンスルホニルインダゾリル基、 ５−ニトロ−３−フェノキシカルボニルインダゾリル
基、 ５−ニトロベンツイミダゾリル基、 ４−ニトロベンツイミダゾリル基、 ５，６−ジクロルベンツイミダゾリル基、 ５−シアノ−６−クロルベンツイミダゾリル基、 ５−トリフルオロメチル−６−クロルベンツイミダゾリ
ル基。
があり、これらの基は ４−イソオキサゾリン環の４位のメチレン炭素と窒素原
子で結合している。
前述したＸのうち更に好ましい基としては １−フェニル−５−テトラゾリルチオ基、 ２−メチル−チオ−５−（１，３，４−チアジアゾリ
ル）チオ基、 ２−ベンゾチアゾリルチオ基、 ２−ベンツイミダゾリルチオ基、 ５−ニトロベンゾトリアゾリル基、 ５−ニトロベンゾインダゾリル基、 ６−メチルベンゾトリアゾリル基、が挙げられる。
これらの置換基Ｘのうち、硫黄原子が、４−イソオキサ
ゾリン環の４位のメチレン炭素と結合する、 １−フェニル−５−テトラゾリルチオ基、 ２−メチル−５−（１，３，４−チアジアゾリル）チオ
基、 ２−ベンゾチアゾリルチオ基、 ２−ベンツイミダゾリルチオ基、 が好ましく、 最も好ましい基としては、 １−フェニル−５−テトラゾリルチオ基を挙げることが
できる。
以下に本発明の化合物の具体例を列挙するが、本発明の
範囲はこれらに限定されるものではない。
本発明の化合物の合成中間体となる２−アリール−４−
イソオキサゾリン−３−オン誘導体は、一般に以下に記
すように大別して〔Ａ〕あるいは〔Ｂ〕の二通りの方法
で合成することが出来る。
〔Ａ〕窒素−置換ヒドロキシルアミンをプロピオール酸
誘導体（エステル、酸・ハライドでＮ＋アシル化し、塩
基性条件下、閉環し４−イソオキサゾリン−３−オン誘
導体を得る方法（ケミカル・アブストラク誌、７６巻２
３号；１４０７７５ａ，同誌、７５巻１７号；１１０２
２７ｋなどに例が知られている。）あるいは窒素−置換
ヒドロキシルアミンをジケテンあるいはβ−ケト酸誘導
体によりＮ−アシル化を行ない、脱水閉環を行ない、４
−イソオキサゾリン−３−オン誘導体を得る方法（ヘテ
ロサイクルズ２０巻６号；１１２３〜１１２６頁、同１
９巻３号、５２１〜５２４頁などに例が知られてい
る。） 〔Ｂ〕２位あるいはその共役位置に電子吸引性基を有す
るハロベンゼン類などの芳香族求核置換に対して活性な
芳香族化合物と、３−ヒドロキシイソオキサゾールをジ
メチルスルホキシドあるいはジメチルホルムアミドなど
の非プロトン性極性溶媒中、塩基性条件下置換反応を行
ない４−イソオキサゾリン−３−オン誘導体を得る方
法。
また以上の反応により合成された２−アリール−４−イ
ソオキサゾリン−３−オン誘導体より本発明の化合物の
合成原料となる２−アリール−４−ハロメチル−４−イ
ソオキサゾリン−３−オン誘導体を合成する方法とし
て、以下の方法を挙げることが出来る。
即ち、２−アリール−４−イソオキサゾリン−３−オン
誘導体と過剰のパラホルムアルデヒド（普通３当量〜２
０当量程度）及び、当量〜二当量程度の無水塩化亜鉛
を、ハロゲン系溶媒（メチレンクロリド、クロロホル
ム、１，２−ジクロルエタン）あるいは酢酸を溶媒とし
て、塩化水素ガスを吹き込みながら加熱することにより
得ることが出来る。
こうして合成した２−アリール−４−ハロメチル−４−
イソオキサゾリン−３−オンを合成する方法として以下
の一般的合成法を挙げることができる。
即ち、２−アリール−４−ハロメチル−４−イソオキサ
ゾリン−３−オン誘導体を当量〜二当量程度のメルカプ
トアゾール類、メルカプトアザインデン類、メルカプト
ピリミジン類、ベンゾトリアゾール類、インダゾール
類、ベンツイミダゾール類の化合物と混合し、溶媒とし
てアセトン、アセトニトリル、アルコール系、酢酸エチ
ルエステル等を用い、更に当量以上の脱酸剤（炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、等の無機塩基、ピリジン、
トリエチルアミン等の有機塩基等）を加え、更に必要で
あればヨウ化ナトリウムを触媒量加え、通常室温で数時
間攪拌することにより得ることが出来る。
（発明の効果） 本発明の化合物はハロゲン化銀写真感光材料の分野にお
いて、ポジ作用化合物と呼ばれる化合物に当たり、酸化
還元反応を行い写真的に活性な化合物（特許請求の範囲
第一項のＸの説明に挙げた複素環化合物）を放出する。
その結果、主にかぶり防止効果、現像促制効果等を現像
銀に対して逆イメージまたは均一に発現させることが可
能となる。しかも写真系中において非常に安定であり、
処理時の活性も自由にコントロールできるという全く新
規な化合物である。具体的な有効性については特願昭６
１−２５９３２６号、特願昭６１−２８７４５５号、特
願昭６２−３４９５５号、特願昭６１−８８６２５等に
記載のとうりである。
また除草剤、殺菌剤、鎮痛剤、消炎剤などとしての薬理
作用も有しており生理活性物質としても重要な意味を有
している。
以下に実施例を掲げ、本発明を更に詳細に説明する。
（実施例１） 化合物９の合成 合成例１−１ ３−ヒドロキシイソオキサゾール類の合
成 標記化合物は以下の文献、特許に記載の方法を参考にし
て容易に合成することが出来る。
三共研究所年報、２２巻、２１５頁（１９７０）、特公
昭５２−９６７５号、ブラタン ド ラ ソシエテ ケ
ミク ド フランセ(Bulletin de la societe chimique
de France)１９７８頁、特開昭５７−２０６６６８
号、同５７−２０６６６７号、テトラヘドロン(Tetrahe
dron)、２０巻、２８３５頁、（１９６４）、特開昭５
８−１９４８６７号、同５７−７０８７８号、特公昭４
９−４８９５３号、特開昭５９−１９０９７７号、ジャ
ーナル オブ オルガニック ケミストリー(Journal o
f Organic Chemistry)、４８巻、４３０７頁（１９８３
年）、Chemical and Pharmaceutical Bulletin、１４
巻、２７７頁、Heterocycles、１２巻、１０号、１２９
７号、カナディアン、ジャーナル オブ ケミストリー
(Canadian Journal of Chemistry)、６２巻、１９４０
頁、特開昭５９−５０１９０７号 具体的操作法を以下に示す。
（例−１） ５−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイソオキ
サゾールの合成 ヒドロキシルアミン塩酸塩583.7ｇを４Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液２リットルに溶解し、氷冷下エタノール２リ
ットルを添加し、更に４Ｎ水酸化ナトリウム−エタノー
ル（１：１）混合溶液を加えて溶液のpHを１０．０に調
節した。この溶液にピバロイル酢酸エチルエステル１３
８０ｇと４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液−エタノール
（１：１）混合溶液を反応溶液のpHが１０．０＋−０．
２、温度が−５℃に調節して滴下した。
滴下終了後、室温で２時間攪はんしたのち、０℃の濃塩
酸水６kgに注ぎ１２時間放置した。析出した結晶を濾取
し、十分に水洗したのち乾燥した。
収量770ｇ 収率68.2％ 融点99−101℃ （例−２） ５−フェニル−３−ヒドロキシイソオキサ
ゾールの合成 Chemical and Pharmaceutical Bulletin１４巻１１号１
２７７−１２８６頁に記載の方法で合成した。
融点１５０−１５１℃ （例−３） ５−ウンデシル−３−ヒドロキシイソオキ
サゾールの合成 例−１の方法に準じて合成した。
収率５９．２％ 融点５５−５６℃ （例−４） ５−メチル−３−ヒドロキシイソオキサゾ
ールの合成 特開昭５９−５０１９０７号に記載の方法によって合成
した。
融点８５−８６℃ （例−５）５−（４−メトキシフェニル）−３−ヒドロ
キシイソオキサゾールの合成 例−２の方法に準じて合成した。
融点１９１−１９３℃（分解） その他の３−ヒドロキシイソオキサゾール類も同様に合
成できる。
合成例１−２ Ｎ−ヘキサデシル−３−ニトロ−４−ク
ロロベンゼンスルホンアミドの合成 ８００ｇの３−ニトロ−４−クロルベンゼンスルホニル
クロリドと１０００mlのジクロロメタンを混合し、これ
にヘキサデシルアミン６００ｇ、トリエチルアミン２５
１mlのジクロロメタン溶液を滴下した。反応終了後この
反応溶媒を減圧留去し３０００mlのメタノールを加え加
熱し溶解した後、ゆっくり冷却すると結晶が析出した。
この結晶を濾取し乾燥した。
収量1020ｇ、収率88％、融点９１−９３℃ 合成例１−３ Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシル−３−ニ
トロ−４−クロロベンゼンスルホンアミドの合成 Ｎ−ヘキサデシル−３−ニトロ−４−クロロベンゼンス
ルホンアミド１７０ｇをアセトン６４０mlに溶解し、炭
酸カリウム７９ｇ、ポリエチレングリコール４００６m
l、ジメチル硫酸７１ｇを加え５時間加熱還流した。こ
れにアセトン２４０mlを加え４０℃で水８７０mlを滴下
し室温まで冷却すると結晶が析出した。結晶を濾取し、
水、メタノールで洗い乾燥した。
収量169ｇ、収率９７％、融点７４−７５℃ 合成例１−４ ５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル
−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニトロフェニ
ル）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシル−３−ニトロ−４−クロ
ロベンゼンスルホンアミド４７０ｇ、５−ｔ−ブチル−
３−ヒドロキシイソオキサゾール１６９ｇ、炭酸カリウ
ム１６８ｇ、ジメチルスルホキシド１．２１を混合し６
５℃で６時間反応した。反応液を氷水に注ぎ析出した結
晶を濾取し、水洗後乾燥した。
収量576ｇ、収率100％、融点６７−６８℃ 合成例１−５ ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２
−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル
−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−
オンの合成 ５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデ
シルスルファモイル−２−ニトロフェニル）−４−イソ
オキサゾリン−３−オン５５０ｇ、塩化亜鉛２００ｇ、
パラホルムアルデヒド２００ｇ、酢酸１．５１を混合
し、塩化水素ガスを吹き込みながら１０時間加熱還流し
た。冷却後、反応液を水にあけ、析出した結晶を濾取
し、アセトニトリル−メタノル（１：４）混合溶媒より
再結晶した。
収量585ｇ、収率９６％、融点５６℃ 合成例１−６ 化合物９の合成 ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（４−Ｎ−メ
チル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニトロフ
ェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オン２５０ｇと
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール７５ｇをア
セトン５００mlに溶解し、炭酸カリウム６０ｇを加え室
温で２時間攪はんした。反応混合物を稀塩酸水に注ぎ酢
酸エチルエステルで抽出し、抽出液を水洗後乾燥して減
圧下濃縮した。残渣にエタノール１１酢酸エチルエステ
ル１００mlを加え再結晶した。
収量250ｇ、収率82％、融点７３−７５℃ 実施例２ 化合物３の合成 合成例２−１ Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシル−３−ニ
トロ−４−クロロ−ベンツアミドの合成 １０５．７ｇの３−ニトロ−４−クロロ安息香酸と８０
０mlのアセトニトリルを混合し、これに塩化チオニル６
８．６ｇを加え、４時間加熱還流した。冷却後、溶媒を
留去しクロロホルムに溶解した。この溶液にトリエチル
アミン６３．５ｇを加え、５℃とした。つぎにＮ−メチ
ルオクタデシルアミン１４８．６ｇのクロロホルム溶液
をこれに滴下した。反応終了後、水を加え分液した後、
有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無機物をろ別
したのち溶媒を留去し、アセトニトリル−メタノール
（１：３）より再結晶した。
収量186ｇ、収率76.0％、融点５５〜５６℃ 合成例２−２ ５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル
−Ｎ−オクタデシルカルバモイル−２−ニトロフェニ
ル）−３−イソオキサゾロンの合成 ３４．１ｇのＮ−メチル−Ｎ−オクタデシル−３−ニト
ロ−４−クロロベンツアミド、１２．４ｇの５−ｔ−ブ
チル−３−ヒドロキシイソオキサゾール、１２．４ｇの
炭酸カリウムにジメチルホルムアミド３００mlを加え、
１００℃にて５時間反応した。溶媒を減圧留去し酢酸エ
チルと水を加えて攪拌したのち有機相をとり、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで主生成物を分散した。ｎ
−ヘキサン−酢酸エチルより再結晶した。
収量18.0ｇ、収率43.1％、融点６４℃ 合成例２−３ ４−クロロメチル−５−ｔ−ブチル−２
−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルカルバモイル−
２−ニトロフェニル）−３−イソオキサゾロンの合成 ５−ｔ−ブチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデ
シルカルバモイル−２−ニトロフェニル）−３−イソオ
キサゾロン３６ｇ、パラホルムアルデヒド５．７ｇ、塩
化亜鉛１０．３ｇを酢酸２５０mlと混合し、塩化水素ガ
スを吹き込みながら１００℃２０時間反応した。反応終
了後、冷却し反応混合物を氷水にあけた。析出した固体
をろ取し、クロロホルムに溶解しカラムクロマトグラフ
ィーで精製した。
収量10.0ｇ、収率25.6％、融点７７℃ 合成例２−４ 化合物３の合成 合成例２−３で合成したクロロメチル体を用いて実施例
１の合成例１−６と同様の操作，モル比で反応を行い、
抽出濃縮残渣をカラムクロマトグラフィーで精製（展開
溶媒、酢酸エチルエステル；ヘキサン１：２）し、メタ
ノールより再結晶した。
収率65％、融点６４〜６６℃ 実施例３ 化合物１４の合成 合成例３−１ ５−ｔ−ブチル−２−（４−ジメチルス
ルファモイル−２−ニトロフェニル）イソオキサゾリン
−３−オンの合成 ２６．５ｇのジメチル ４−クロロ−３−ニトロベンゼ
ンスルホンアミド、１７．５ｇの５−ｔ−ブチル−３−
ヒドロキシイソオキサゾールを１００mlのジメチルスル
ホキシドに溶解し、これに１７ｇの炭酸カリウムを加
え、６５℃にて７時間反応した。反応終了後、反応混合
物を冷希塩酸に注ぎ、攪拌すると結晶が析出した。この
結晶をろ取し、メタノールより再結晶して得た。
収量33.1ｇ、収率89.5％、融点167〜168℃ 合成例３−２ ５−ｔ−ブチル−４−クロルメチル−２
−（４−ジメチルスルファモイル−２−ニトロフェニ
ル）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 ５−ｔ−ブチル−２−（４−ジメチルスルファモイル−
２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オ
ン １１．８ｇ、５０mlの酢酸、４．３ｇのパラホルム
アルデヒド、６．５ｇの塩化亜鉛を混合し、塩化水素ガ
スを吹き込みながら５．５時間加熱還流した。反応終了
後、溶媒を減圧留去、残渣に水、酢酸エチルを加えて、
抽出、有機層を重曹水で２回洗浄したのち、有機層の溶
媒を留去した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで主生成物を分取し、目的物を得た。
収量5.4ｇ、収率40.4％、融点163〜164℃ 合成例３−３ 化合物１４の合成 ５−ｔ−ブチル−２−（４−ジメチルスルファモイル−
２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オ
ン ５．０ｇと１−フェニル−５−メルカプトテトラゾ
ール ２．３ｇと酢酸エチルエステル５０mlに溶解しこ
れに室温下、トリエチルアミン２mlを添加し、室温で２
時間反応した。反応混合物を希塩酸水にあけ、有機層を
分取し、水洗後濃縮し残渣をメタノールと少量の水の混
合溶媒より再結晶した。
収量5.1ｇ、収率76％、融点172〜173℃ 実施例４ 化合物３６ 合成例４−１ エチル−４−クロロ−３−ニトロベンゾ
アートの合成 ６ｇの４−クロロ−３−ニトロ安息香酸と１７mlのメタ
ノールを混合し室温で攪はんした。これに濃硫酸０．６
mlを加えて、４時間還流した。反応終了後冷却し水を１
７ml加え結晶を濾取した。
収量6.0ｇ、収率93.5％、 合成例４−２ ５−ｔ−ブチル−２−（４−エトキシカ
ルボニル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリ
ン−３−オンの合成 ４１３．３ｇのエチル−４−クロロ−３−ニトロベンゾ
アート、３０５ｇの５−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイ
ソオキサゾール、１１のジメチルスルホキシドを混合し
攪はんした。これに３００ｇの重曹を加え９０℃で８時
間反応した。つぎに冷却し１．５１のメタノールを加え
さらに水３１を加えて結晶を析出させ結晶を濾取した。
収量560.7ｇ、収率93.2％、融点８８℃ 合成例４−３ ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２
−（４−カルボキシ−２−ニトロフェニル）−４−イソ
オキサゾリン−３−オンの合成 ３００．９ｇの５−ｔ−ブチル−２−（４−エトキシカ
ルボニル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリ
ン−３−オン、１９１．１ｇのパラホルムアルデヒド、
１９１．１ｇの塩化亜鉛、９１０mlの酢酸を混合し塩化
水素ガスを吹き込みながらスチームバス上で４時間反応
した。つぎに水５００mlを加え２時間反応した。つぎに
濃酢酸５００mlを加えさらに３時間加熱した。この後に
加熱を止め室温まで冷却した。析出した結晶を濾取し水
洗したのち乾燥した。
収量319.3ｇ、収率96％、融点217℃（分解） 合成例４−４ ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２
−（４−ｎ−ヘキサデシルカルバモイル−２−ニトロフ
ェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 ８１．６ｇの５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−
（４−カルボキシ−２−ニトロフェニル）−４−イソオ
キサゾリン−３−オンと４８０mlの酢酸エチルエステル
を混合し−１５℃に冷却した。この懸濁液にトリエチル
アミン３２．６mlを滴下した。つぎに−１０℃以下に保
ちながらエチルクロロカーボナート２２．０mlを滴下し
た。５０分間反応したのちヘキサデシルアミン４９ｇを
添加した。−１０℃で１０分間反応したのち徐々に室温
とし一夜放置した。つぎに水４００mlを加えて分液し有
機層を取り濃縮乾固した。残渣をメタノールより結晶化
させた。
収量100.9ｇ、収率75.9％ 合成例４−５ 化合物３６の合成 ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（４−ｎ−ヘ
キサデシルカルバモイル−２−ニトロフェニル）−４−
イソオキサゾリン−３−オン３０ｇの１−フェニル−５
−メルカプトテトラゾール１０．２ｇにアセトン１５０
mlを加え、室温下炭酸カリウム８ｇを加えて１時間３０
分攪拌した。反応液を希塩酸水に注ぎ、酢酸エチルエス
テルで抽出し、水洗後、濃縮し残渣に酢酸エチルエステ
ル−メタノール（１：５）混合溶媒１５０mlより再結晶
した。
収量32ｇ、収率83％、融点68〜70℃ 実施例 化合物４３の合成 実施例４で合成した、５−ｔ−ブチル−４−クロロメチ
ル−２−（４−カルボキシ−２−ニトロフェニル）−４
−イソオキサゾリン−３−オン１７．７ｇ、１−フェニ
ル−５−メルカプトテトラゾール９．８ｇ、炭酸カリウ
ム７．６ｇにアセトン９０mlを加え、室温下３時間攪拌
した。反応液を希塩酸水にあけ、酢酸エチルエステルで
４０℃で高温抽出し、温水洗浄した。抽出液を冷却し、
結晶が抽出した後ヘキサンを加え０℃で攪拌し、濾取し
た。
収量20ｇ、収率81％、融点179〜181℃ 実施例６ 化合物５２の合成 合成例６−１ ５−ｔ−ブチル−２−（４−ニトロ−２
−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルスルファモイルフェニ
ル）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシル ２−クロロ−５−ニト
ロベンゼンスルホンアミド６２ｇ、ジメチルホルムアミ
ド２２０ml、５−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシイソオキ
サゾール２０．９ｇ、炭酸カリウム２０．７ｇを混合
し、８０℃、６時間反応しした。反応液を塩酸で酸性と
したのち、ジメチルホルムアミドを留去し、水、酢酸エ
チルを加え抽出した。
有機層をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
主生成物を分取、目的物を得た。
収量29ｇ、収率38.8％、融点５５〜５６℃ 合成例６−２ ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２
−（４−ニトロ−２−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルス
ルファモイルフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−
オンの合成 ２０ｇの５−ｔ−ブチル−２−（４−ニトロ−２−Ｎ−
メチル−Ｎ−オクタデシルスルファモイルフェニル）−
４−イソオキサゾリン−３−オン、１００mlの酢酸、３
ｇのパラホルムアルデヒド、５．４ｇの塩化亜鉛を混合
し、塩化水素ガスを吹き込みながら７時間還流した。反
応終了後溶媒を減圧留去、残渣をクロロホルムに溶解
し、シリカゲルクロマトグラフィで分取し、目的物を得
た。
収量12.3ｇ、収率57.0％、融点４８〜５０℃ 合成例６−３ 化合物５２の合成 ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（４−ニトロ
−２−Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルスルファモイルフ
ェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オン １０ｇ、
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール２．７ｇ、
炭酸水素ナトリウム４ｇ、ヨウ化ナトリウム０．１ｇに
アセトン１００mlを加え、室温下４時間攪拌した。反応
液を希塩酸水に注ぎ、酢酸エチルエステルで抽出し、濃
縮後、残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製した。
ヘキサン−酢酸エチルエステル（１：１）留分より目的
物が得られた。
収量8.4ｇ、収率69％、融点５３〜５５℃ 実施例７ 化合物５１の合成 合成例７−１ ５−メチル−２−（２−ニトロ−４−ト
リフルオロメチルフェニル）−４−イソオキサゾリン−
３−オンの合成２２６ ｇの４−クロロ−３−ニトロベンゾトリフルオリ
ド、１２９ｇの３−ヒドロキシ−５−メチルイソオキサ
ゾール、３３６ｇの炭酸水素ナトリウム、６００mlのジ
メチルスルホキシドを混合し、７５℃で６時間反応し
た。反応後水に注いで析出した結晶をシリカゲルショー
トカラムで精製したのち、水−メタノールより再結晶し
た。
収量176ｇ、収率61.1％、融点122℃ 合成例７−２ ４−クロルメチル−５−メチル−２−
（４−トリフルオロメチル−２−ニトロフェニル）イソ
オキサゾリン−３−オンの合成 １６５ｇ（０．５７３）の５−メチル−２−（４−トリ
フルオロメチル−２−ニトロフェニル）イソオキサゾリ
ン−３−オン、１５６．２ｇの塩化亜鉛、２０６．３ｇ
のパラホルムアルデヒド５mlの硫酸を混合し、400mlの
酢酸を加え攪拌した。
室温で、この混合物に塩化水素ガスを吹き込み飽和させ
たあと塩化水素ガスの吹き込みを続けながら８時間加熱
還流した。冷却後、氷水に注ぎ、酢酸エチルを加え抽出
したのち、乾固シリカゲルのショートカラムで着色成分
を除いたあとｎ−ヘキサン・酢酸エチル＝４：１から再
結晶した。
収量110ｇ、収率57％、融点68〜70℃ 合成例７−３ 化合物５１の合成 合成例７−２で合成したクロル体を用い、実施例１の合
成例１−６と同様の操作、モル比で反応させ、処理し
た。
再結晶はｎ−ヘキサン：酢酸エチルエステル５：１から
行い目的物を得た。
収率77％、融点88〜90℃ 実施例８ 化合物４９の合成 合成例８−１ ４−クロルメチル−５−フェニル−２−
（４−カルボキシ−２−ニトロフェニル）イソオキサゾ
リン−３−オンの合成 ４−クロルメチル−５−フェニル−２−（４−エトキシ
カルボニル−２−ニトロフェニル）イソオキサゾリン−
３−オン２７０ｇ（０．６７）を２．５の１，４−ジ
オキサンに加え、濃塩酸３００mlを加え、８時間加熱還
流した。冷却後、水を加え析出した結晶を濾取し、水洗
後乾燥した。
収量210.2ｇ、収率83.7％、融点186〜189℃ 合成例８−２ ４−クロルメチル−５−フェニル−２−
｛４−（３−ドデシルオキルプロピルカルバモイル）−
２−ニトロプロピル｝イソオキサゾリン−３−オンの合
成 １５０ｇ（０．４００）の４−クロルメチル−５−フェ
ニル−２−（４−カルボキシ−２−ニトロフェニル）イ
ソオキサゾリン−３−オン、６００mlのクロロホルムを
混合し９０．８ｇのジシクロヘキシルカルボジイミドを
加え室温で３０分反応した。次に３−ドデシルオキシプ
ロピルアミン９７．４ｇを滴下した。滴下後５時間反応
したあと、シリカゲルのショートカラムで精製したの
ち、アセトニトリルより再結晶し、目的物を得た。
収量78.0ｇ、収率33.4％、融点110〜111℃ 合成例８−３ 化合物４９の合成 合成例８−２で合成したクロルメチル体を用い合成例１
−６と同様のモル比、操作を用い濃縮残渣をシリカゲル
フラッシュカラムクロマトグラフィーに付しヘキサン−
酢酸エチルエステル（３：１）留分より目的物を得、メ
タノールを加え、冷却し固化させた。
収率69％、融点40〜42℃ 実施例９ 化合物例６１の合成 合成例９−１ ５−ｔ−ブチル−２−（４−メタンスル
ホニル−２−テトラデシルスルホニルフェニル）−４−
イソオキサゾリン−３−オンの合成 ３２ｇの４−メタンスルホニル−２−テトラデシルスル
ホニルクロルベンゼン、２０ｇの５−ｔ−ブチル−３−
ヒドロキシイソオキサゾール、２０ｇの炭酸カリウム、
１４０mlのジメチルスルホキシドを混合し、８０℃で４
時間反応した。反応終了後反応混合物を水にあけ、酢酸
エチルで抽出し、有機層をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物を主生成物として得た。
収量20.0ｇ、収率50.8％、融点９７〜９８℃ 合成例９−２ ５−ｔ−ブチル−４−クロルメチル−２
−（４−メタンスルホニル−２−テトラデシルスルホニ
ルフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オン ５−ｔ−ブチル−２−（４−メタンスルホニル−２−テ
トラデシルスルホニルフェニル）−４−イソオキサゾリ
ン−３−オン１３ｇ、パラホルムアルデヒド３．２ｇ、
塩化亜鉛４．８ｇ、硫酸３ml、酢酸１００mlを混合し、
塩化水素ガスを吹き込みながら７時間加熱還流した。
冷却後水に注ぎ酢酸エチルで抽出し、シリカゲルクロマ
トグラフィで精製し、目的物１１ｇを得た。
収率77.7％、融点110〜111℃ 合成例９−３ 化合物６１の合成 合成例９−２で合成したクロロメチル体を用い、合成例
３−３と同様な操作を行い、得られた残渣をエタノール
より再結晶した。
収率92％、融点119〜122℃ 実施例１０ 化合物２８の合成 合成例１０−１ Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシル−３−
ニトロ−４−クロロベンゼンスルホンアミドの合成 Ｎ−ヘキサデシル−３−ニトロ−４−クロロベンゼンス
ルホンアミド１７０ｇをアセトン６４０mlに溶解し、炭
酸カリウム７９ｇ、ポリエチレングリコール４００６m
l、ジメチル硫酸７１ｇを加え５時間加熱還流した。こ
れにアセトン２４mlを加え４０℃で水８７０mlを滴下し
室温まで冷却すると結晶が析出した。結晶を濾取し、
水、メタノールで洗い乾燥した。
収量169ｇ、収率97％、融点７４−７５℃ 合成例１０−２ ５−メチル−２−（４−Ｎ−メチル−
Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニトロフェニ
ル）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシル−３−ニトロ−４−クロ
ロベンゼスルホンアミド１６ｇ、５−メチル−３−ヒド
ロキシイソオキサゾール４．８ｇ、炭酸水素ナトリウム
６．４ｇ、ジメチルスルホキシド５０mlを混合し７５℃
で６時間反応した。反応液を塩酸酸性の氷水に注ぎ析出
した結晶を濾取し、水洗後メタノールより再結晶し乾燥
した。
収量17.9ｇ、収率99％、融点６３−６５℃ 合成例１０−３ ５−メチル−４−クロロメチル−２−
（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−
２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オ
ンの合成 ５−メチル−２−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシル
スルファモイル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキ
サゾリン−３−オン１６ｇ、塩化亜鉛５ｇ、パラホルム
アルデヒド７ｇ、酢酸５０ml、濃硫酸０．５mlを混合
し、塩化水素ガスを吹き込みながら７５℃で９時間攪は
んした。冷却後、反応液を水に注ぎ、析出した結晶を濾
取し、メタノールより再結晶した。
収量16.3ｇ、収率94％、融点５５〜５６℃ 合成例１０−４ 化合物２８の合成 合成例１０−３で合成したクロロメチル体１３ｇ、１−
フェニル−５−メルカプトテトラゾール３．９ｇ、アセ
トン２７mlを仕込み、攪拌溶解後、炭酸カリウム３．２
ｇ、ヨウ化カリウム０．１ｇを添加し、室温下２時間反
応する。反応後酢酸エチルエステル１８．５ml、ｎ−ヘ
キサン３４mlを添加し、水冷下、希塩酸水３０mlを滴下
して４０℃にして分液する。有機層を取り、メタノール
６０mlを加え冷却すると結晶が析出した。
収量13ｇ、収率81％、融点８１〜８２℃ 実施例１１ 化合物３３の合成 合成例１１−１ Ｎ，Ｎ−ジブチル−３−ニトロ−４−
クロロベンゼンスルホンアミドの合成 水酸化ナトリウム１５０ｇを水２００mlに溶解し冷却
し、これにジブチルアミン６００mlを加え、０℃に冷却
した。これに激しく攪拌しながら１０℃以下で、３−ニ
トロ−４−クロロベンゼンスルホニルクロリド９５４ｇ
をアセトニトリル９５０mlに溶解した液を滴下した。
滴下後１０℃で１時間攪拌し、析出した結晶を濾取し、
希塩酸水で十分に洗浄し乾燥した。
収量1171ｇ、収率90％ 合成例１１−２ ５−メチル−２−（４−Ｎ，Ｎ−ジブ
チル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−
３−オンの合成 Ｎ，Ｎ−ジブチル−３−ニトロ−４−クロロベンゼンス
ルホンアミド１１ｇ、５−メチル−３−ヒドロキシイソ
オキサゾール５ｇ、炭酸水素ナトリウム６．３ｇにジメ
チルスルホキサイド３０mlを加え、８５℃で４時間反応
した。４０℃に冷却後、イソプロピルアルコール２０ml
を加え、濾過後濾液を５０℃にしこれに水２０ml、塩酸
０．５mlを加え冷却し析出した結晶を濾取し水洗し乾燥
した。
収量11.5ｇ、収率89％ 合成例１１−３ ５−メチル−４−クロロメチル−２−
（４−Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル−２−ニトロフ
ェニル）−４−イソオキサゾリン−３−オンの合成 ５−メチル−２−（４−Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイ
ル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３
−オン １０．５ｇにパラホルムアルデヒド６．５ｇ、
塩化亜鉛４．５ｇに酢酸３５mlを加え、更に硫酸０．３
mlを加え、塩化水素ガスを吹き込みながら８０℃で５時
間攪拌した。反応液を０℃のメタノール８０mlに加え、
氷水２０mlを加え析出した結晶を濾取し、乾燥した。
収量８．６ｇ、収率７３％ 合成例１１−４ 化合物３３の合成 合成例１１−３で合成したクロロメチル体３０ｇ、１−
フェニル−５−メルカプトテトラゾール１１．６ｇをア
セトニトリル１００mlに溶解し炭酸カリウム１０ｇを加
え、室温下２時間攪拌した。反応液を希塩酸水に注ぎ酢
酸エチルエステルで抽出し濃縮後メタノールより再結晶
した。
収量３３ｇ、収率８４％、融点122〜123℃ 実施例１２ 化合物１１，１２の合成 ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（Ｎ−メチル
−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニトロフェニ
ル）−４−イソオキサゾリン−３−オン ３０ｇ、化合
物Ａ＊７．７３ｇをアセトン１００mlに溶解し、これに
炭酸カリウム７．２５ｇ、ヨウ化ナトリウム１ｇを加
え、１時間加熱還流した。
濾過後濾液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付す、ヘキサン−酢酸エチルエステル（５：１）
留分から化合物１１が ヘキサン−酢酸エチルエステル
（３：１）留分から化合物１２がそれぞれ得られた。各
々メタノールより再結晶した。
収量 化合物11 7.4ｇ、収率21％、融点80〜81℃ 〃 化合物12 22ｇ、 〃62％、 〃94〜96℃ 実施例１３ 化合物１５ ５−ｔ−ブチル−４−クロロメチル−２−（Ｎ−メチル
−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル−２−ニトロフェニ
ル）−４−イソオキサゾリン−３−オン１０ｇ、化合物
Ｂ＊２．８８ｇ、炭酸カリウム２．５ｇにアセトン５０
mlを加え室温下１時間反応した。反応液を希塩酸水にあ
け、酢酸エチルエステル抽出し、濃縮後、メタノールで
結晶化させた。
収量12ｇ、収率100％、融点65〜66℃ 実施例１４ 化合物１６ 化合物Ｃ＊を用い実施例１３と同様な操作を行い目的物
を得た。
収率92％、融点81〜82℃ 実施例１５ 化合物１７の合成 化合物Ｄ＊を用い実施例１３と同じ操作を行い、目的物
を得た。
収率75％、融点93〜95℃ 実施例１６ 化合物１８の合成 化合物Ｅ＊を用い実施例１８と同様の操作を用い、更に
シリカゲルクロマトグラフィーで精製しメタノールで数
日冷却し結晶を得た。
収率80％、融点107〜108℃ 実施例１７ 化合物１９の合成 化合物Ｆ＊を用い実施例１３と同様な操作により、目的
物を得た。
収率88％、融点91〜93℃ 実施例１８ 化合物２１の合成 化合物Ｇ＊を用い実施例１２と同様な操作で行い、目的
物を得た。
収率85％、融点96〜98℃ 実施例１９ 化合物２３の合成 化合物Ｈ＊を用い実施例１３の方法と同様の操作を行
い、メタノール水（１０：１）混合溶媒より再結晶し
た。
収率42％、融点83〜85℃ 実施例２０ 化合物２５の合成 化合物Ｉ＊３．７ｇと５−ｔ−ブチル−４−クロロメチ
ル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシルスルファモイ
ル−２−ニトロフェニル）−４−イソオキサゾリン−３
−オン １０ｇ、をアセトニトリル５０mlに溶解し、１
０時間加熱還流した。溶媒を除去後、残渣にメタノール
を加え、加熱溶解後、０℃で数日放置し析出した結晶を
濾取した。
収量4.4ｇ、収率34％、融点60〜61℃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 413/12 ２３９ 8829−4Ｃ ２４９ 8829−4Ｃ ２５７ 8829−4Ｃ ２６１ 8829−4Ｃ ２７１ 8829−4Ｃ 413/14 ２０７ 8829−4Ｃ 417/12 ２６１ 9051−4Ｃ 487/04 １４６ 7019−4Ｃ // Ｇ０３Ｃ 1/10

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】下記一般式〔Ｉ〕の構造を有する２−アリ
    ール−４−イソオキサゾリン−３−オン誘導体。 一般式〔Ｉ〕 式中、 Ｒ１はクロル原子、Ｎ−メチルアセチルアミノ基または
    オクチルチオ基で置換されてもよいアルキル基；メチル
    基、メトキシ基、アセトアミド基、ドデシルオキシ基、
    オクタデシルオキシ基またはスルホ基で置換されてもよ
    いアリール基を表わす。 Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、トリフルオロメチル基、
    アルキル基（このアルキル基はアルコキシ基で置換され
    てもよい）で置換されてもよいカルバモイル基；アルキ
    ル基で置換されてもよいスルファモイル基；アルコキシ
    カルボニル基；アリールオキシカルボニル基；クロル原
    子で置換されてもよいアルキルスルホニル基；メチル基
    で置換されてもよいアリールスルホニル基；ハロゲン原
    子；シアノ基；ニトロ基；メトキシ基で置換されてもよ
    いアルコキシ基；エトキシカルボニル基で置換されても
    よいアシル基；カルボキシ基；スルホ基を表わし、
    Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４のうち少なくとも一つは上記のニトロ
    基、シアノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ス
    ルホニル基の中から選ばれる。 Ｘは、１−フェニル−５−テトラゾリルチオ基、１−
    （４−カルボキシフェニル）−５−テトラゾリルチオ
    基、１−（３−ヒドロキシフェニル）−５−テトラゾリ
    ルチオ基、１−（４−スルホフェニル）−５−テトラゾ
    リルチオ基、１−（３−スルホフェニル）−５−テトラ
    ゾリルチオ基、１−（４−スルファモイルフェニル）−
    ５−テトラゾリルチオ基、１−（３−ヘキサノイルアミ
    ノフェニル）−５−テトラゾリルチオ基、１−（３−ノ
    ナノイルアミノフェニル）−５−テトラゾリルチオ基、
    １−（３−アミノフェニル−５−テトラゾリルチオ基、
    １−（１−ナフチル）−５−テトラゾリルチオ基、１−
    ｛３−（３−メチルウレイド）フェニル｝−５−テトラ
    ゾリルチオ基、１−（４−ニトロフェニル）−５−テト
    ラゾリルチオ基、１−（３−フェノキシカルボニルフェ
    ニル）−５−テトラゾリルチオ基、１−（４−フェノキ
    シカルボニルフェニル）−５−テトラゾリルチオ基、１
    −（３−マレインイミドフェニル）−５−テトラゾリル
    チオ基、１−エチル−５−テトラゾリルチオ基、１−
    （２−カルボキシエチル）−５−テトラゾリルチオ基、
    １−（４−ベンゾイルオキシフェニル）−５−テトラゾ
    リルチオ基、１−（３−ビニルカルボニルフェニル）−
    ５−テトラゾリルチオ基、２−メチルチオ−５−（１，
    ３，４−チアジアゾリル）チオ基、２−ペンチルチオ−
    ５−（１，３，４−チアジアゾリル）チオ基、２−（２
    −カルボキシエチルチオ）−５−（１，３，４−チアジ
    アゾリル）チオ基、２−（２−ジメチルアミノエチルチ
    オ）−５−（１，３，４−チアジアゾリル）チオ基、２
    −フェノキシカルボニルメチルチオ−５−（１，３，４
    −チアジアゾリル）チオ基、２−〔３−｛チオフェン−
    ２−イルカルボニル｝プロピル〕チオ−５−（１，３，
    ４−チアジアゾリル）チオ基、３′−メチル−４−フェ
    ニル−５−（１，２，４−トリアゾリル）チオ基、３−
    アセチルアミノ−４−メチル−５−（１，２，４−トリ
    アゾリル）チオ基、２−フェニル−５−（１，３，４−
    オキサジアゾイル）チオ基、６−メチル−４−（１，
    ３，３ａ，７−テトラザインデニル）チオ基、６−メチ
    ル−２−ベンジル−４−（１，３，３ａ，７−テトラザ
    インデニル）チオ基、６−フェニル−４−（１，３，３
    ａ，７−テトラザインデニル）チオ基、４，６−ジメチ
    ル−２−（１，３，３ａ，７−テトラザインデニル）チ
    オ基、２−ピリミジニルチオ基、４−メチル−６−ヒド
    ロキシ−２−ピリミジニルチオ基、４−プロピル−２−
    ピリミジニルチオ基、ベンゾトリアゾリル基、５−ニト
    ロベンゾトリアゾリル基、５−メチルベンゾトリアゾリ
    ル基、５，６−ジクロルベンゾトリアゾリル基、５−ブ
    ロモベンゾトリアゾリル基、５−メトキシベンゾトリア
    ゾリル基、５−アセチルアミノベンゾトリアゾリル基、
    ５，６−ジメチルベンゾトリアゾリル基、５−ｎ−ブチ
    ルベンゾトリアゾリル基、５−ニトロ−６−クロルベン
    ゾトリアゾリル基、４，５，６，７−テトラクロロベン
    ゾトリアゾリル基、５−フェノキシカルボニルベンゾト
    リアゾリル基、５−（２，３−ジクロルプロピルオキシ
    カルボニル）ベンゾトリアゾリル基、５−ベンジルオキ
    シカルボニルベンゾトリアゾリル基、５−（ブチルカル
    バモイルメトキシカルボニル）ベンゾトリアゾリル基、
    ５−（ブトキシカルボニルメトキシカルボニル）ベンゾ
    トリアゾリル基、５−スクシンイミドメチルベンゾトリ
    アゾリル基、インダゾリル基、５−ニトロインダゾリル
    基、３−ニトロインダゾリル基、３−クロル−５−ニト
    ロインダゾリル基、３−シアノインダゾリル基、３−ｎ
    −ブチルカルバモイルインダゾリル基、５−ニトロ−３
    −メタンスルホニルインダゾリル基、５−ニトロ−３−
    フェノキシカルボニルインダゾリル基、５−ニトロベン
    ツイミダゾリル基、４−ニトロベンツイミダゾリル基、
    ５，６−ジクロルベンツイミダゾリル基、５−シアノ−
    ６−クロルベンツイミダゾリル基、５−トリフルオロメ
    チル−６−クロルベンツイミダゾリル基の中から選ばれ
    る基である。
  2. 【請求項２】特許請求の範囲第１項においてＸが、１−
    フェニル−５−テトラゾリルチオ基、２−メチル−チオ
    −５−（１，３，４−チアジアゾリル）チオ基、２−ベ
    ンゾチアゾリルチオ基、２−ベンツイミダゾリルチオ
    基、５−ニトロベンゾトリアゾリル基、５−ニトロベン
    ゾインダゾリル基、６−メチルベンゾトリアゾリル基、
    である式〔Ｉ〕で表される化合物。
  3. 【請求項３】特許請求の範囲第１項において、Ｒ１が炭
    素数１〜６のアルキル基である式〔Ｉ〕で表わされる化
    合物。
  4. 【請求項４】特許請求の範囲第１項において、Ｒ１が炭
    素数６〜１２のアリール基である式〔Ｉ〕で表わされる
    化合物。
  5. 【請求項５】特許請求の範囲第１項において、Ｒ２ある
    いはＲ３のうち少なくとも一方がニトロ基である式
    〔Ｉ〕で表わされる化合物。
  6. 【請求項６】特許請求の範囲第１項において、Ｒ２およ
    びＲ３がトリフルオロメチル基、シアノ基、スルホニル
    基、の中から選ばれる式〔Ｉ〕で表わされる化合物。
  7. 【請求項７】特許請求の範囲第４項において、Ｒ２ある
    いはＲ３のうち少なくとも一方がニトロ基である式
    〔Ｉ〕で表わされる化合物。
  8. 【請求項８】特許請求の範囲第５項において、Ｒ２ある
    いはＲ３のうち少なくとも一方がニトロ基である式
    〔Ｉ〕で表わされる化合物。
  9. 【請求項９】特許請求の範囲第８項において、Ｒ２、Ｒ
    ３、Ｒ４のうち少なくとも一方が、スルホニル基、スル
    ファモイル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル
    基、アシル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、カル
    ボキシ基、スルホ基の中から選ばれる式〔Ｉ〕で表わさ
    れる化合物。
  10. 【請求項１０】特許請求の範囲第９項において、Ｒ２、
    Ｒ３、Ｒ４のうち少なくとも一方が、スルホニル基、ス
    ルファモイル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイ
    ル基、アシル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、カ
    ルボキシ基、スルホ基の中から選ばれる式〔Ｉ〕で表わ
    される化合物。
  11. 【請求項１１】特許請求の範囲第１項において、Ｒ２が
    ニトロ基であり、Ｒ３がスルファモイル基、カルバモイ
    ル基、アルコキシカルボニル基、トリフルオロメチル
    基、カルボキシ基、スルホ基の中から選ばれる基でＲ４
    が水素原子である式〔Ｉ〕で表される化合物。
  12. 【請求項１２】特許請求の範囲第１２項において、Ｘが
    １−（フェニル−５−テトラゾリルチオ基、２−メチル
    −チオ−５−（１，３，４−チアジアゾリル）チオ基、
    ２−ベンゾチアゾリルチオ基、２−ベンツイミダゾリル
    チオ基、である式〔Ｉ〕で表される化合物。
  13. 【請求項１３】特許請求の範囲第１２項において、Ｘが
    １−フェニル−５−テトラゾリルチオ基、である式
    〔Ｉ〕で表される化合物。
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