JPH06155752A - インクジェット記録ヘッドの撥水処理方法 - Google Patents
インクジェット記録ヘッドの撥水処理方法Info
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- JPH06155752A JPH06155752A JP31053892A JP31053892A JPH06155752A JP H06155752 A JPH06155752 A JP H06155752A JP 31053892 A JP31053892 A JP 31053892A JP 31053892 A JP31053892 A JP 31053892A JP H06155752 A JPH06155752 A JP H06155752A
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Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘッド形成部材の変形やクラック等による破
壊を伴う事なく、数千回以上のワイピング動作によって
も撥水性が維持される事によりインク滴の直進性が維持
され、長期的に良好な印字画像が得られるインクジェッ
ト記録ヘッドの製造を可能とする。 【構成】インクジェット記録ヘッド1のノズル開口面3
に、1)陰極電流密度0.5〜4A/dm2の電解メッ
キで粗面化を行い少なくともNiを含有するメッキ層7
を設け、2)前記メッキ層7上に含弗素重合体8をコー
ティングする。
壊を伴う事なく、数千回以上のワイピング動作によって
も撥水性が維持される事によりインク滴の直進性が維持
され、長期的に良好な印字画像が得られるインクジェッ
ト記録ヘッドの製造を可能とする。 【構成】インクジェット記録ヘッド1のノズル開口面3
に、1)陰極電流密度0.5〜4A/dm2の電解メッ
キで粗面化を行い少なくともNiを含有するメッキ層7
を設け、2)前記メッキ層7上に含弗素重合体8をコー
ティングする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、インクジェット記録ヘ
ッドのノズル開口面への撥水処理方法に関する。
ッドのノズル開口面への撥水処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】インクジェット記録ヘッドはノズルより
インクをインク滴として吐出し被記録体に印字画像を形
成するが、水性インクを用いる場合、ノズル開口面の撥
水性が不十分であるとインクの液滴が付着し易くなり、
そのため吐出するインク滴の直進性が損なわれ印字画像
の乱れなどのトラブルにより記録不能となる事がある。
インクをインク滴として吐出し被記録体に印字画像を形
成するが、水性インクを用いる場合、ノズル開口面の撥
水性が不十分であるとインクの液滴が付着し易くなり、
そのため吐出するインク滴の直進性が損なわれ印字画像
の乱れなどのトラブルにより記録不能となる事がある。
【0003】インクジェット記録ヘッドに於いて求めら
れるノズル開口面の撥水性は、接触角が90度以上であ
ればインク滴の直進性が損なわれる事がなく十分な撥水
性を有していると言えるが、多くのインクジェット記録
ヘッドには金属・硝子・プラスティック・セラミックス
などの材料が用いられており、これらの殆どは接触角が
約30〜80度くらいであり十分な撥水性を有している
とは言えない。そこで従来、インクの付着をなくすため
ノズル開口面に撥水処理剤をコーティングする事が行わ
れており、コーティングする方法としては、例えば静電
粉体塗装(特開昭57−167765号)、真空蒸着
(特開昭60−183161号)や、その他にもスプレ
ーコート、スピンコートなど種々の方法が知られてい
る。
れるノズル開口面の撥水性は、接触角が90度以上であ
ればインク滴の直進性が損なわれる事がなく十分な撥水
性を有していると言えるが、多くのインクジェット記録
ヘッドには金属・硝子・プラスティック・セラミックス
などの材料が用いられており、これらの殆どは接触角が
約30〜80度くらいであり十分な撥水性を有している
とは言えない。そこで従来、インクの付着をなくすため
ノズル開口面に撥水処理剤をコーティングする事が行わ
れており、コーティングする方法としては、例えば静電
粉体塗装(特開昭57−167765号)、真空蒸着
(特開昭60−183161号)や、その他にもスプレ
ーコート、スピンコートなど種々の方法が知られてい
る。
【0004】一方インクジェット記録ヘッドは、記録中
に被記録体から発生するゴミがノズル開口面に付着しイ
ンク滴の直進性が損なわれる事を防止するためにゴムや
布からなるワイパーを用いてノズル開口面を拭くワイピ
ングを行うが、このときワイパーはコーティング層上を
擦るためにワイピングの回数と共にコーティング層が磨
耗してゆく。そのため層厚が十分でないと数回のワイピ
ングでコーティング層がなくなってしまい撥水性の維持
が困難となり、長期的な使用が出来ないという問題があ
り、しかしながら数千回以上のワイピングによってもな
くならないだけの十分な層厚を有するコーティング層を
得ようとすると、従来より知られているコーティング方
法では撥水処理剤がノズル内に侵入し目詰まりを起こ
す、コーティング層がノズル上にも張って塞がってしま
うといった問題があった。
に被記録体から発生するゴミがノズル開口面に付着しイ
ンク滴の直進性が損なわれる事を防止するためにゴムや
布からなるワイパーを用いてノズル開口面を拭くワイピ
ングを行うが、このときワイパーはコーティング層上を
擦るためにワイピングの回数と共にコーティング層が磨
耗してゆく。そのため層厚が十分でないと数回のワイピ
ングでコーティング層がなくなってしまい撥水性の維持
が困難となり、長期的な使用が出来ないという問題があ
り、しかしながら数千回以上のワイピングによってもな
くならないだけの十分な層厚を有するコーティング層を
得ようとすると、従来より知られているコーティング方
法では撥水処理剤がノズル内に侵入し目詰まりを起こ
す、コーティング層がノズル上にも張って塞がってしま
うといった問題があった。
【0005】そこでこれらの問題を解決する為の方法と
して、特開平2−48953号では切断砥石による切断
研磨や研磨剤による粗化によってノズル開口面に凹凸を
設け、次いで多孔質体または溶媒により膨潤する物質か
らなる転写媒体に撥水処理剤を塗布してこれを前記凹凸
面に転写する事によりワイピングが行われた後にも良好
な撥水性を有するコーティング層を得る方法が示されて
いる。
して、特開平2−48953号では切断砥石による切断
研磨や研磨剤による粗化によってノズル開口面に凹凸を
設け、次いで多孔質体または溶媒により膨潤する物質か
らなる転写媒体に撥水処理剤を塗布してこれを前記凹凸
面に転写する事によりワイピングが行われた後にも良好
な撥水性を有するコーティング層を得る方法が示されて
いる。
【0006】しかしながらノズル開口面に砥粒を用いて
直接凹凸を形成する上記の方法では、凹凸面側と反対面
側の応力が著しく変化し基材が反ったり、また基材にク
ラックが入り割れるなどの現象が発生しヘッド形成部材
の変形や破損が発生した。更に緻密な粗面を得る事が困
難で凹凸が滑らか部分では基材とコーティング層の密着
性を十分に得る事が難しくワイピングによってコーティ
ング層が剥がれピンホールが発生し、剥がれた部分にイ
ンクが付着してノズルより吐出するインク滴の飛行軌跡
を曲げ良好な記録画像を形成が出来なくなり好ましいも
のではなかった。他にも直接基材表面に凹凸を得る方法
としてケミカルエッチングによる粗化なども知られてい
るが、それらの方法も基材を直接傷つけたり侵す方法で
あり、反ったりクラックが入るという問題の解決にはな
らないものであった。
直接凹凸を形成する上記の方法では、凹凸面側と反対面
側の応力が著しく変化し基材が反ったり、また基材にク
ラックが入り割れるなどの現象が発生しヘッド形成部材
の変形や破損が発生した。更に緻密な粗面を得る事が困
難で凹凸が滑らか部分では基材とコーティング層の密着
性を十分に得る事が難しくワイピングによってコーティ
ング層が剥がれピンホールが発生し、剥がれた部分にイ
ンクが付着してノズルより吐出するインク滴の飛行軌跡
を曲げ良好な記録画像を形成が出来なくなり好ましいも
のではなかった。他にも直接基材表面に凹凸を得る方法
としてケミカルエッチングによる粗化なども知られてい
るが、それらの方法も基材を直接傷つけたり侵す方法で
あり、反ったりクラックが入るという問題の解決にはな
らないものであった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の第1の
目的は、ヘッド形成部材の変形や破壊を伴う事なく粗面
化を実現する事であり、第2の目的は、ノズル開口面を
均一で緻密な粗面とする事により、数千回以上のワイピ
ングによっても撥水性がノズル全面に於いて維持されイ
ンク滴の直進性が長期的に良好なインクジェット記録ヘ
ッドの撥水処理方法を提供する事にある。
目的は、ヘッド形成部材の変形や破壊を伴う事なく粗面
化を実現する事であり、第2の目的は、ノズル開口面を
均一で緻密な粗面とする事により、数千回以上のワイピ
ングによっても撥水性がノズル全面に於いて維持されイ
ンク滴の直進性が長期的に良好なインクジェット記録ヘ
ッドの撥水処理方法を提供する事にある。
【0008】
【課題を解決するための手段】そのため本発明は、イン
クジェット記録ヘッドのノズル開口面に粗面化し得られ
た粗面に含弗素重合体をコーティングする撥水処理方法
に於いて、前記粗面化をメッキにより行う事を特徴とす
る。
クジェット記録ヘッドのノズル開口面に粗面化し得られ
た粗面に含弗素重合体をコーティングする撥水処理方法
に於いて、前記粗面化をメッキにより行う事を特徴とす
る。
【0009】本発明のインクジェット記録ヘッドの撥水
処理方法に於いては、先ずノズル開口面上にメッキによ
る粗面化を行い凹凸を有するメッキ層を形成する。凹凸
をヘッド形成部材のノズル開口面を直接加工し設けるの
でなくメッキ層として設ける事により、ヘッド形成部材
に対し反り等の形状変化やクラック等の破壊を起こす事
なく凹凸を得る事が出来る。得られるメッキ層が平滑で
あるとコーティング層の密着性がなくワイピングにより
コーティング層が剥がれ易く、逆に粗過ぎる場合は形成
される金属結晶粒が大きい為にメッキ層と基材の密着性
が得られない事から、メッキによる粗面化は陰極電流密
度が0.5〜4A/dm2の範囲からなる電解メッキ法
により行う事が好ましく、また用いられる金属としては
耐蝕性や耐湿性、硬さから少なくともNiを含有する事
が望ましい。陰極電流密度が4A/dm2より大きい場
合には得られるメッキ層表面が平滑になりコーティング
層との密着性が得られず、0.5A/dm2より小さい
場合には金属結晶粒が大きくなり凹凸が非常に粗くメッ
キ層と基材の密着性が得られずワイピングでメッキ層自
体が容易に剥離し同時にコーティング層も剥離して撥水
性が維持出来ず、好ましくない。
処理方法に於いては、先ずノズル開口面上にメッキによ
る粗面化を行い凹凸を有するメッキ層を形成する。凹凸
をヘッド形成部材のノズル開口面を直接加工し設けるの
でなくメッキ層として設ける事により、ヘッド形成部材
に対し反り等の形状変化やクラック等の破壊を起こす事
なく凹凸を得る事が出来る。得られるメッキ層が平滑で
あるとコーティング層の密着性がなくワイピングにより
コーティング層が剥がれ易く、逆に粗過ぎる場合は形成
される金属結晶粒が大きい為にメッキ層と基材の密着性
が得られない事から、メッキによる粗面化は陰極電流密
度が0.5〜4A/dm2の範囲からなる電解メッキ法
により行う事が好ましく、また用いられる金属としては
耐蝕性や耐湿性、硬さから少なくともNiを含有する事
が望ましい。陰極電流密度が4A/dm2より大きい場
合には得られるメッキ層表面が平滑になりコーティング
層との密着性が得られず、0.5A/dm2より小さい
場合には金属結晶粒が大きくなり凹凸が非常に粗くメッ
キ層と基材の密着性が得られずワイピングでメッキ層自
体が容易に剥離し同時にコーティング層も剥離して撥水
性が維持出来ず、好ましくない。
【0010】本発明のインクジェット記録ヘッドの撥水
処理方法を用いる事の出来るノズル開口面を形成する材
料としては、一般にインクジェット記録ヘッドに用いら
れるところの金属であれば任意に選択し用いる事が出来
る。またその他の材料としてインクジェット記録ヘッド
に用いられる硝子・プラスティック・セラミック等の材
料に対しては予めノズル開口面にSiO2、Cr、Ni
等の薄層をスパッタした後に用いる事が出来る。
処理方法を用いる事の出来るノズル開口面を形成する材
料としては、一般にインクジェット記録ヘッドに用いら
れるところの金属であれば任意に選択し用いる事が出来
る。またその他の材料としてインクジェット記録ヘッド
に用いられる硝子・プラスティック・セラミック等の材
料に対しては予めノズル開口面にSiO2、Cr、Ni
等の薄層をスパッタした後に用いる事が出来る。
【0011】本発明のインクジェット記録ヘッドの撥水
処理方法に於いて、コーティング剤として用いるところ
の含弗素重合体は、非晶質含弗素重合体である事が望ま
しい。具体的には、ポリジパーフルオロアルキルフマレ
ート、テフロンAF(DuPont社商標)、サイトッ
プ(旭硝子(株)商標)のような含弗素重合体、あるい
は、ジパーフルオロアルキルフマレートとスチレンの交
互共重合体、三弗化塩化エチレンとビニルエーテルとの
交互共重合体、四弗化塩化エチレンとビニルエステルと
の交互共重合体などの含弗素エチレンと炭化水素系エチ
レンとの交互共重合体若しくはその類似体ないし誘導
体、フマライト(日本油脂(株)商標)が好ましく用い
られ得る。これら非晶質含弗素重合体は選択的に弗素系
有機溶剤に溶解する事から、溶媒に任意の濃度で溶解し
てコーティングする事により、粉体状または分散媒の形
態でしか塗布できないポリテトラフルオロエチレンやポ
リクロロトリフルオロエチレンなどに比べ形成されたコ
ーティング層のノズル開口面に対する密着性が高く、か
つ均一なコーティングが可能となる。なおコーティング
層の層厚は厚過ぎるとノズルがコーティング剤で塞が
り、薄過ぎるとコーティング不良によるピンホールが発
生する事から50〜1500オングストロームの範囲で
ある事が望ましい。
処理方法に於いて、コーティング剤として用いるところ
の含弗素重合体は、非晶質含弗素重合体である事が望ま
しい。具体的には、ポリジパーフルオロアルキルフマレ
ート、テフロンAF(DuPont社商標)、サイトッ
プ(旭硝子(株)商標)のような含弗素重合体、あるい
は、ジパーフルオロアルキルフマレートとスチレンの交
互共重合体、三弗化塩化エチレンとビニルエーテルとの
交互共重合体、四弗化塩化エチレンとビニルエステルと
の交互共重合体などの含弗素エチレンと炭化水素系エチ
レンとの交互共重合体若しくはその類似体ないし誘導
体、フマライト(日本油脂(株)商標)が好ましく用い
られ得る。これら非晶質含弗素重合体は選択的に弗素系
有機溶剤に溶解する事から、溶媒に任意の濃度で溶解し
てコーティングする事により、粉体状または分散媒の形
態でしか塗布できないポリテトラフルオロエチレンやポ
リクロロトリフルオロエチレンなどに比べ形成されたコ
ーティング層のノズル開口面に対する密着性が高く、か
つ均一なコーティングが可能となる。なおコーティング
層の層厚は厚過ぎるとノズルがコーティング剤で塞が
り、薄過ぎるとコーティング不良によるピンホールが発
生する事から50〜1500オングストロームの範囲で
ある事が望ましい。
【0012】本発明のインクジェット記録ヘッドの撥水
処理方法に於けるコーティング方法として好ましい第一
の形態は、含弗素重合体を溶解させてなる重合体溶液中
にノズル開口面を有するヘッド形成部材を漬けてこれを
等速で引上げるところのディッピング法によりコーティ
ング層を形成する。ディッピング法によればコーティン
グ層の層厚は、主に引上げ速度と前記重合体溶液の粘度
によって決まるが、このうちの引上げ速度の調整により
層厚のコントロールが非常に容易であり、簡単に所望の
層厚でコーティング層を得る事が出来、また非常に均一
に、かつ安定してコーティングを行う事が出来る。
処理方法に於けるコーティング方法として好ましい第一
の形態は、含弗素重合体を溶解させてなる重合体溶液中
にノズル開口面を有するヘッド形成部材を漬けてこれを
等速で引上げるところのディッピング法によりコーティ
ング層を形成する。ディッピング法によればコーティン
グ層の層厚は、主に引上げ速度と前記重合体溶液の粘度
によって決まるが、このうちの引上げ速度の調整により
層厚のコントロールが非常に容易であり、簡単に所望の
層厚でコーティング層を得る事が出来、また非常に均一
に、かつ安定してコーティングを行う事が出来る。
【0013】また本発明のインクジェット記録ヘッドの
撥水処理方法に於けるコーティング方法として好ましい
第二の形態は、含弗素重合体を溶解させてなる重合体溶
液を水面上に1〜数滴々下し展開させて溶媒を揮発させ
た後、得られた展開膜をノズル開口面に転写するところ
の水面展開法によりコーティング層を形成する。水面展
開法によればコーティング層の層厚は、前記重合体溶液
の含弗素重合体の濃度および単位面積当りの滴下量によ
って決まるが、層厚は滴下量を調整する事により層厚管
理が容易で簡単に所望の層厚でコーティング層を得る事
が出来、また予め水面上に展開膜として形成されるので
ノズル開口面全体に均一な層厚でコーティング層を得る
事が出来る。
撥水処理方法に於けるコーティング方法として好ましい
第二の形態は、含弗素重合体を溶解させてなる重合体溶
液を水面上に1〜数滴々下し展開させて溶媒を揮発させ
た後、得られた展開膜をノズル開口面に転写するところ
の水面展開法によりコーティング層を形成する。水面展
開法によればコーティング層の層厚は、前記重合体溶液
の含弗素重合体の濃度および単位面積当りの滴下量によ
って決まるが、層厚は滴下量を調整する事により層厚管
理が容易で簡単に所望の層厚でコーティング層を得る事
が出来、また予め水面上に展開膜として形成されるので
ノズル開口面全体に均一な層厚でコーティング層を得る
事が出来る。
【0014】更に本発明のインクジェット記録ヘッドの
撥水処理方法に於けるコーティング方法として好ましい
第二の形態の別形態として、含弗素重合体を溶解させて
なる重合体溶液を水面上に1〜数滴々下し展開させて溶
媒を揮発させた後、バリアーを移動させて展開膜をラン
グミュアー膜とし、得られたラングミュアー膜をノズル
開口面に接触させる事によって、含弗素重合体からなる
LB膜をコーティング層として形成する。このようなL
B膜は2回以上同一面に接触させた際に積層が可能であ
る事から、接触回数を調整する事により所望の層厚のコ
ーティング層を容易に得る事が出来る。
撥水処理方法に於けるコーティング方法として好ましい
第二の形態の別形態として、含弗素重合体を溶解させて
なる重合体溶液を水面上に1〜数滴々下し展開させて溶
媒を揮発させた後、バリアーを移動させて展開膜をラン
グミュアー膜とし、得られたラングミュアー膜をノズル
開口面に接触させる事によって、含弗素重合体からなる
LB膜をコーティング層として形成する。このようなL
B膜は2回以上同一面に接触させた際に積層が可能であ
る事から、接触回数を調整する事により所望の層厚のコ
ーティング層を容易に得る事が出来る。
【0015】また、本発明のインクジェット記録ヘッド
の撥水処理方法に於けるコーティング方法として好まし
い第三の形態は、鏡平面を有する転写用媒体の前記鏡平
面に含弗素重合体を溶解させてなる重合体溶液からなる
重合体層を形成し、次いで前記鏡平面の重合体層をノズ
ル開口面に転写するところの転写法によってコーティン
グ層を形成する。転写法によればコーティング層の層厚
は鏡平面上の重合体層の層厚によって決まり、これをコ
ントロールする事によりノズル開口面に対し所望の層厚
のコーティング層を容易に形成する事が出来る。前記重
合体層の層厚のコントロールは転写媒体への重合体層の
形成方法に委ねられるが、最も簡易な方法としてはディ
ッピング法があり、その他スピンコート法やスプレーコ
ート法を用いる事も可能である。また転写媒体の材質に
ついては任意のものを用いる事が可能であるが、転写媒
体の表面形状は重合体層を転写する際の転写のし易さに
係っており、鏡平面である場合には良好に転写可能であ
るが、凹凸構造であると転写され易い部分、され難い部
分ができピンホールを発生させる原因となるので好まし
くない。
の撥水処理方法に於けるコーティング方法として好まし
い第三の形態は、鏡平面を有する転写用媒体の前記鏡平
面に含弗素重合体を溶解させてなる重合体溶液からなる
重合体層を形成し、次いで前記鏡平面の重合体層をノズ
ル開口面に転写するところの転写法によってコーティン
グ層を形成する。転写法によればコーティング層の層厚
は鏡平面上の重合体層の層厚によって決まり、これをコ
ントロールする事によりノズル開口面に対し所望の層厚
のコーティング層を容易に形成する事が出来る。前記重
合体層の層厚のコントロールは転写媒体への重合体層の
形成方法に委ねられるが、最も簡易な方法としてはディ
ッピング法があり、その他スピンコート法やスプレーコ
ート法を用いる事も可能である。また転写媒体の材質に
ついては任意のものを用いる事が可能であるが、転写媒
体の表面形状は重合体層を転写する際の転写のし易さに
係っており、鏡平面である場合には良好に転写可能であ
るが、凹凸構造であると転写され易い部分、され難い部
分ができピンホールを発生させる原因となるので好まし
くない。
【0016】本発明のインクジェット記録ヘッドの撥水
処理方法に於いては、メッキによる粗面化を行い、これ
をオゾン雰囲気にさらした後にコーティングを行う事が
出来る。このようなオゾンを用いた表面洗浄処理を行う
事によってコーティングを行う面にある汚れを除去して
コーティング層の密着性を上げる事が出来、前記オゾン
雰囲気は酸素プラズマや紫外線照射により得る事が出来
る。またその他にも電解脱脂など種々の表面洗浄処理を
用いる事も出来、同様の効果を得る事が出来る。
処理方法に於いては、メッキによる粗面化を行い、これ
をオゾン雰囲気にさらした後にコーティングを行う事が
出来る。このようなオゾンを用いた表面洗浄処理を行う
事によってコーティングを行う面にある汚れを除去して
コーティング層の密着性を上げる事が出来、前記オゾン
雰囲気は酸素プラズマや紫外線照射により得る事が出来
る。またその他にも電解脱脂など種々の表面洗浄処理を
用いる事も出来、同様の効果を得る事が出来る。
【0017】
【実施例】以下に、図面を参照しながら本発明を詳細に
説明する。
説明する。
【0018】(実施例1)図1は本発明の実施例1に述
べるインクジェット記録ヘッドの撥水処理方法によって
作成されたインクジェット記録ヘッド1を工程を追って
示すところの説明図である。先ず、オーステナイト型C
r18%Ni8%ステンレス鋼板(100μm厚、以下
ステンレスプレートと略)を圧延型抜きしノズルプレー
ト2を作成する。次いでノズルプレート2のノズル開口
面3に対して反対側となる面4より光硬化型のレジスト
5をノズル6内に入れ、これを以下に示す組成のメッキ
液を用い、以下の条件でノズル開口面3にメッキによる
粗面化を行い層厚3μmのメッキ層7を得た(図1
a)。このメッキ層7の表面粗さを測定したところRa
は0.09μmであり、また凸頂間の平均距離(以下ピ
ッチ)は7μmであった。このメッキ層7を得たノズル
プレート2は反りやクラックといった形状変化や破損は
全くなかった。
べるインクジェット記録ヘッドの撥水処理方法によって
作成されたインクジェット記録ヘッド1を工程を追って
示すところの説明図である。先ず、オーステナイト型C
r18%Ni8%ステンレス鋼板(100μm厚、以下
ステンレスプレートと略)を圧延型抜きしノズルプレー
ト2を作成する。次いでノズルプレート2のノズル開口
面3に対して反対側となる面4より光硬化型のレジスト
5をノズル6内に入れ、これを以下に示す組成のメッキ
液を用い、以下の条件でノズル開口面3にメッキによる
粗面化を行い層厚3μmのメッキ層7を得た(図1
a)。このメッキ層7の表面粗さを測定したところRa
は0.09μmであり、また凸頂間の平均距離(以下ピ
ッチ)は7μmであった。このメッキ層7を得たノズル
プレート2は反りやクラックといった形状変化や破損は
全くなかった。
【0019】・メッキ組成 Ni(SO3NH2)2 300g/l NiCl2 15g/l H3BO3 45g/l ・条件 pH 2.5 メッキ温度 40℃ 陰極電流密度 3.0A/dm2 これを適当な剥離剤を用いてレジスト5を除去した後、
面4に粘着層を有するポリイミドテープを貼り、表1に
示す組成よりなる含弗素重合体溶液を用い、引上げ速度
35mm/分で前記ノズルプレート2をディッピング
し、ポリイミドテープを剥がした後、150℃のオーヴ
ンに1時間入れ溶媒を除去してメッキ層7上にコーティ
ング層8を得た(図1b)。コーティング層8の層厚
は、ステンレスプレートの少なくとも片面を研磨により
鏡面としたものを前記と同じ方法でディッピングした後
に鏡面上のコーティング層を光学式膜厚計で測定する方
法で測ったところ、約200オングストロームであっ
た。
面4に粘着層を有するポリイミドテープを貼り、表1に
示す組成よりなる含弗素重合体溶液を用い、引上げ速度
35mm/分で前記ノズルプレート2をディッピング
し、ポリイミドテープを剥がした後、150℃のオーヴ
ンに1時間入れ溶媒を除去してメッキ層7上にコーティ
ング層8を得た(図1b)。コーティング層8の層厚
は、ステンレスプレートの少なくとも片面を研磨により
鏡面としたものを前記と同じ方法でディッピングした後
に鏡面上のコーティング層を光学式膜厚計で測定する方
法で測ったところ、約200オングストロームであっ
た。
【0020】
【表1】
【0021】その後、ポリカーボネートからなる、イン
ク流路を形成するヘッド形成部材9およびインクをヘッ
ド内に供給するための供給口を有するヘッド形成部材1
0を接着し、更にインク滴を吐出するための圧力を発生
させる厚電素子11、前記ノズルプレート2をそれぞれ
接着して、インクジェット記録ヘッド1を得た(図1
c)。
ク流路を形成するヘッド形成部材9およびインクをヘッ
ド内に供給するための供給口を有するヘッド形成部材1
0を接着し、更にインク滴を吐出するための圧力を発生
させる厚電素子11、前記ノズルプレート2をそれぞれ
接着して、インクジェット記録ヘッド1を得た(図1
c)。
【0022】ヘッド1のコーティング層8は水に対する
接触角は約99度であり、ノズル6の重合体溶液による
目詰まりやノズル6上にコーティング層が形成され塞が
る現象はなかった。またメッキ層7上に対しピンホール
等のコーティング不良もなく形成されていた。
接触角は約99度であり、ノズル6の重合体溶液による
目詰まりやノズル6上にコーティング層が形成され塞が
る現象はなかった。またメッキ層7上に対しピンホール
等のコーティング不良もなく形成されていた。
【0023】このヘッド1を用いて表2に示すところの
インクジェットインク12をノズル6よりを吐出したと
ころインク滴13はノズル6の開口方向に対し曲りなく
(0.5°以下)真直ぐ吐出・飛行し(図1d)、被記
録体に対し印字精度の高い高品位な記録画像が形成出来
た。またインク吐出中、被記録体より繊維状のゴミが発
生しコーティング層8上に付着した場合のゴミ除去のた
め、シリコンゴムからなるゴミ除去ワイパー14を用い
てワイピングを最大10000回まで繰り返す試験を行
った(図1e)結果、インク滴13の直進性は全く損な
われる事なく10000回のワイピングの後にも印字精
度の高い高品位な記録画像を形成する事が出来た。
インクジェットインク12をノズル6よりを吐出したと
ころインク滴13はノズル6の開口方向に対し曲りなく
(0.5°以下)真直ぐ吐出・飛行し(図1d)、被記
録体に対し印字精度の高い高品位な記録画像が形成出来
た。またインク吐出中、被記録体より繊維状のゴミが発
生しコーティング層8上に付着した場合のゴミ除去のた
め、シリコンゴムからなるゴミ除去ワイパー14を用い
てワイピングを最大10000回まで繰り返す試験を行
った(図1e)結果、インク滴13の直進性は全く損な
われる事なく10000回のワイピングの後にも印字精
度の高い高品位な記録画像を形成する事が出来た。
【0024】
【表2】
【0025】(実施例2)図2は本発明の実施例2に述
べるインクジェット記録ヘッドの撥水処理方法によって
作成されたインクジェット記録ヘッド15を工程を追っ
て示すところの説明図である。先ず、エキシマレーザー
によりノズル16、インク供給口17を穿孔したポリ塩
化エーテルからなるヘッド形成部材18のノズル開口面
19にNiスパッタを施し、これに以下に示す組成より
なるメッキ液を用い、以下の条件にてノズル開口面19
上にメッキによる粗面化を行い層厚10μmのメッキ層
20を得た(図2a)。このメッキ層20の表面粗さを
測定したところRaは0.20μmであり、また凸頂間
の平均距離(以下ピッチ)は10μmであった。このメ
ッキ層20を形成したノズル形成部材18は反りやクラ
ックといった形状変化や破損はなかった。
べるインクジェット記録ヘッドの撥水処理方法によって
作成されたインクジェット記録ヘッド15を工程を追っ
て示すところの説明図である。先ず、エキシマレーザー
によりノズル16、インク供給口17を穿孔したポリ塩
化エーテルからなるヘッド形成部材18のノズル開口面
19にNiスパッタを施し、これに以下に示す組成より
なるメッキ液を用い、以下の条件にてノズル開口面19
上にメッキによる粗面化を行い層厚10μmのメッキ層
20を得た(図2a)。このメッキ層20の表面粗さを
測定したところRaは0.20μmであり、また凸頂間
の平均距離(以下ピッチ)は10μmであった。このメ
ッキ層20を形成したノズル形成部材18は反りやクラ
ックといった形状変化や破損はなかった。
【0026】・メッキ組成 Ni(SO3NH2)2 400g/l NiCl2 30g/l H3BO3 40g/l ・条件 pH 3.5 メッキ温度 40℃ 陰極電流密度 0.7A/dm2 次いで、水槽21に水22を入れ、表3に示す組成より
なる重合体溶液を1〜2滴水面に滴下して溶媒を揮発さ
せた後、硝子製のバリアー23で水面上の浮遊層を寄せ
てラングミュアー膜24とし、メッキ層20表面を静か
にラングミュアー膜24に接触させる(図2b)。接触
はメッキ層20が水面に平行である事が好ましいが数度
程度の傾きはあっても支障なく行える。接触後しばらく
静置の後、静かにヘッド形成部材18を引上げ付着した
水滴をエアーブローで除去する。メッキ層20をラング
ミュアー膜24へ接触させ水滴をエアーブローで除去す
るまでの工程を計15回行った後、ヘッド形成部材18
を130℃のオーヴンに1時間入れ、残留水分を完全に
除去し、コーティング層25を得た。コーティング層2
5の層厚を実施例1と同様の方法で測定したところ、約
180オングストロームであった。
なる重合体溶液を1〜2滴水面に滴下して溶媒を揮発さ
せた後、硝子製のバリアー23で水面上の浮遊層を寄せ
てラングミュアー膜24とし、メッキ層20表面を静か
にラングミュアー膜24に接触させる(図2b)。接触
はメッキ層20が水面に平行である事が好ましいが数度
程度の傾きはあっても支障なく行える。接触後しばらく
静置の後、静かにヘッド形成部材18を引上げ付着した
水滴をエアーブローで除去する。メッキ層20をラング
ミュアー膜24へ接触させ水滴をエアーブローで除去す
るまでの工程を計15回行った後、ヘッド形成部材18
を130℃のオーヴンに1時間入れ、残留水分を完全に
除去し、コーティング層25を得た。コーティング層2
5の層厚を実施例1と同様の方法で測定したところ、約
180オングストロームであった。
【0027】
【表3】
【0028】その後、ヘッド形成部材18とポリ塩化エ
ーテルからなる振動板26を接着し、更に厚電素子11
bを振動板26に接着してインクジェット記録ヘッド1
5を得た(図2c)。
ーテルからなる振動板26を接着し、更に厚電素子11
bを振動板26に接着してインクジェット記録ヘッド1
5を得た(図2c)。
【0029】ヘッド15のコーティング層25は水に対
する接触角は約105度であり、ノズル16内への重合
体の侵入による詰まりまたはノズル16上にコーティン
グ層が形成され塞がる事はなく、またメッキ層20に対
しピンホール等のコーティング不良を起こす事なく形成
されていた。
する接触角は約105度であり、ノズル16内への重合
体の侵入による詰まりまたはノズル16上にコーティン
グ層が形成され塞がる事はなく、またメッキ層20に対
しピンホール等のコーティング不良を起こす事なく形成
されていた。
【0030】このヘッド15を用いてインクジェットイ
ンク12をノズル16より吐出したがインク滴はノズル
16の開口方向に対し曲りなく(0.5°以下)真直ぐ
吐出し、被記録体に対し印字精度の高い高品位な記録画
像が形成出来た。また実施例1と同様の方法によりワイ
ピングを行ったが、インク滴の直進性は全く損なわれる
事なく10000回のワイピング後にも印字精度の高い
高品位な記録画像を形成することが出来た。
ンク12をノズル16より吐出したがインク滴はノズル
16の開口方向に対し曲りなく(0.5°以下)真直ぐ
吐出し、被記録体に対し印字精度の高い高品位な記録画
像が形成出来た。また実施例1と同様の方法によりワイ
ピングを行ったが、インク滴の直進性は全く損なわれる
事なく10000回のワイピング後にも印字精度の高い
高品位な記録画像を形成することが出来た。
【0031】(実施例3)図3は本発明の実施例3に述
べるインクジェット記録ヘッドの撥水処理方法によって
作成されたインクジェット記録ヘッド27を工程を追っ
て示すところの説明図である。先ず、以下に示す組成の
メッキ液を用い以下の条件でメッキによる粗面化を行う
以外は全て実施例1と同様の方法により、ノズルプレー
ト28のノズル開口面29上に層厚5μmのメッキ層3
0を得た。このメッキ層30の表面粗さを測定したとこ
ろRaは0.16μmであり、またピッチは9μmであ
った。このメッキ層30を得たノズルプレート28は反
りやクラックといった形状変化や破損は全くなかった。
べるインクジェット記録ヘッドの撥水処理方法によって
作成されたインクジェット記録ヘッド27を工程を追っ
て示すところの説明図である。先ず、以下に示す組成の
メッキ液を用い以下の条件でメッキによる粗面化を行う
以外は全て実施例1と同様の方法により、ノズルプレー
ト28のノズル開口面29上に層厚5μmのメッキ層3
0を得た。このメッキ層30の表面粗さを測定したとこ
ろRaは0.16μmであり、またピッチは9μmであ
った。このメッキ層30を得たノズルプレート28は反
りやクラックといった形状変化や破損は全くなかった。
【0032】・メッキ組成 NiSO4・7H2O 250g/l NiCl2・6H2O 40g/l H3BO3 30g/l ・条件 pH 5.0 メッキ温度 50℃ 陰極電流密度 3.5A/dm2 次いで硝子からなる転写用媒体31の鏡平面32(Ra
0.002μm、ピッチ40μm)上に表4よりなる重
合体溶液を1〜2滴々下し転写用媒体31をモータ33
を用いて2000rpm/分で1分間回転させ鏡平面3
2上に重合体層34を得た(図3a)。これをしばらく
静置し溶媒を蒸発させた後、メッキ層30の表面を重合
体層34に2〜3分押し付け重合体層34の一部をメッ
キ層30上に転写し、ノズルプレート28を200℃の
オーヴンに1時間入れて、コーティング層35を得た。
コーティング層35の層厚を実施例1と同様の方法で測
定したところ、約170オングストロームであった。
0.002μm、ピッチ40μm)上に表4よりなる重
合体溶液を1〜2滴々下し転写用媒体31をモータ33
を用いて2000rpm/分で1分間回転させ鏡平面3
2上に重合体層34を得た(図3a)。これをしばらく
静置し溶媒を蒸発させた後、メッキ層30の表面を重合
体層34に2〜3分押し付け重合体層34の一部をメッ
キ層30上に転写し、ノズルプレート28を200℃の
オーヴンに1時間入れて、コーティング層35を得た。
コーティング層35の層厚を実施例1と同様の方法で測
定したところ、約170オングストロームであった。
【0033】
【表4】
【0034】その後、実施例1と同じヘッド形成部材お
よび振動板、厚電素子を各々接着し、これに前記ノズル
プレート28を接着して、インクジェット記録ヘッド2
7を得た。
よび振動板、厚電素子を各々接着し、これに前記ノズル
プレート28を接着して、インクジェット記録ヘッド2
7を得た。
【0035】ヘッド27のコーティング層35は水に対
する接触角は約107度であり、ノズル36が重合体層
により詰まったり塞がったりする事はなく、メッキ層3
0に対しピンホール等のコーティング不良もなく形成さ
れていた。
する接触角は約107度であり、ノズル36が重合体層
により詰まったり塞がったりする事はなく、メッキ層3
0に対しピンホール等のコーティング不良もなく形成さ
れていた。
【0036】このヘッド27を用いてインクジェットイ
ンク12をノズル36より吐出したところインク滴13
bはノズル36の開口方向に対し曲りなく(0.5°以
下)真直ぐ吐出・飛行し、被記録体に対し、印字精度の
高い高品位な記録画像が形成出来た(図3b)。また実
施例1と同様の方法によりワイピングを行ったが、イン
ク滴13bの直進性は全く損なわれる事なく、1000
0回のワイピング後にも印字精度の高い高品位な記録画
像を形成することが出来た。
ンク12をノズル36より吐出したところインク滴13
bはノズル36の開口方向に対し曲りなく(0.5°以
下)真直ぐ吐出・飛行し、被記録体に対し、印字精度の
高い高品位な記録画像が形成出来た(図3b)。また実
施例1と同様の方法によりワイピングを行ったが、イン
ク滴13bの直進性は全く損なわれる事なく、1000
0回のワイピング後にも印字精度の高い高品位な記録画
像を形成することが出来た。
【0037】(比較例1)メッキによる粗面化を行う代
わりに、#4000微粒からなる研磨剤を用いて凹凸を
ノズル開口面37に設け、ノズル開口面37にコーティ
ングを行う以外は全て実施例1と同様の方法によりイン
クジェット記録ヘッド38を得た。なお、ノズル開口面
37の表面粗さをコーティング前に測定したところ、面
全体としてはRaは0.4μm、ピッチは15μmであ
ったが、所々、凹凸が非常に滑らかな部分があり、その
部分のみを測定したところ、Raは約0.001〜0.
004μmであった。
わりに、#4000微粒からなる研磨剤を用いて凹凸を
ノズル開口面37に設け、ノズル開口面37にコーティ
ングを行う以外は全て実施例1と同様の方法によりイン
クジェット記録ヘッド38を得た。なお、ノズル開口面
37の表面粗さをコーティング前に測定したところ、面
全体としてはRaは0.4μm、ピッチは15μmであ
ったが、所々、凹凸が非常に滑らかな部分があり、その
部分のみを測定したところ、Raは約0.001〜0.
004μmであった。
【0038】ヘッド38を用いてインクジェットインク
12をノズル39より吐出したところ、初期的にはイン
ク滴13cはノズル39の開口方向に対し曲りなく
(0.5°以下)真直ぐ吐出・飛行し被記録体に対し印
字精度の高い高品位な記録画像が形成できたが、実施例
1と同様の方法によりワイピングを行ったところ、20
00回後、凹凸が滑らかな部分でコーティング層40が
ピンホール状に剥離しインクが溜り、その結果、インク
滴が2〜5°曲り(図4、角度a)、被記録体に印字精
度の高い高品位な記録画像が形成できなくなった。
12をノズル39より吐出したところ、初期的にはイン
ク滴13cはノズル39の開口方向に対し曲りなく
(0.5°以下)真直ぐ吐出・飛行し被記録体に対し印
字精度の高い高品位な記録画像が形成できたが、実施例
1と同様の方法によりワイピングを行ったところ、20
00回後、凹凸が滑らかな部分でコーティング層40が
ピンホール状に剥離しインクが溜り、その結果、インク
滴が2〜5°曲り(図4、角度a)、被記録体に印字精
度の高い高品位な記録画像が形成できなくなった。
【0039】(比較例2)メッキによる粗面化を行う代
わりに、ポリ塩化エーテルからなるノズル形成部材41
を#2000微粒からなる切削用砥石42を装着したス
ライングマシン43でA−A線に沿って切削し(図5
a)、凹凸を有するノズル開口面を成形し、該ノズル開
口面にコーティングを行う以外は全て実施例2と同様の
操作によりインクジェット記録ヘッドを得ようとした
が、切削時にノズル形成部材41に変形やクラック44
が発生し(図5b)、コーティングは行えたが組み立が
出来ず、ヘッドは得られなかった。
わりに、ポリ塩化エーテルからなるノズル形成部材41
を#2000微粒からなる切削用砥石42を装着したス
ライングマシン43でA−A線に沿って切削し(図5
a)、凹凸を有するノズル開口面を成形し、該ノズル開
口面にコーティングを行う以外は全て実施例2と同様の
操作によりインクジェット記録ヘッドを得ようとした
が、切削時にノズル形成部材41に変形やクラック44
が発生し(図5b)、コーティングは行えたが組み立が
出来ず、ヘッドは得られなかった。
【0040】(比較例3)メッキ条件の内、陰極電流密
度を10A/dm2とする以外は全て実施例1と同様の
方法により、インクジェット記録ヘッド45を得た。な
お、メッキ層46の表面粗さをコーティング前に測定し
たところ、Raは0.007μm、ピッチは5μmであ
った。
度を10A/dm2とする以外は全て実施例1と同様の
方法により、インクジェット記録ヘッド45を得た。な
お、メッキ層46の表面粗さをコーティング前に測定し
たところ、Raは0.007μm、ピッチは5μmであ
った。
【0041】ヘッド45を用いて、インクジェットイン
ク12をノズル47より吐出させたところ、初期的には
インク滴13dはノズル47の開口方向に対し曲りなく
(0.5°以下)真直ぐ吐出・飛行し被記録体に対し印
字精度の高い高品位な記録画像が形成できたが、実施例
1と同様の方法でワイピングを行ったところ、2000
回後、コーティング層48が剥離して撥水性がなくなり
インク溜りが発生し、インク滴が2〜9°曲り(図6、
角度b)、高品位な記録画像を形成する事が出来なくな
った。
ク12をノズル47より吐出させたところ、初期的には
インク滴13dはノズル47の開口方向に対し曲りなく
(0.5°以下)真直ぐ吐出・飛行し被記録体に対し印
字精度の高い高品位な記録画像が形成できたが、実施例
1と同様の方法でワイピングを行ったところ、2000
回後、コーティング層48が剥離して撥水性がなくなり
インク溜りが発生し、インク滴が2〜9°曲り(図6、
角度b)、高品位な記録画像を形成する事が出来なくな
った。
【0042】(比較例4)メッキ条件の内、陰極電流密
度を0.1A/dm2とする以外は全て実施例3と同様
の方法により、インクジェット記録ヘッド49を得た。
なお、メッキ層50の表面粗さをコーティング前に測定
したところ、Raは0.3μm、ピッチは13μmであ
った。
度を0.1A/dm2とする以外は全て実施例3と同様
の方法により、インクジェット記録ヘッド49を得た。
なお、メッキ層50の表面粗さをコーティング前に測定
したところ、Raは0.3μm、ピッチは13μmであ
った。
【0043】ヘッド49を用いて、インクジェットイン
ク12をノズル51より吐出させたところ、初期的には
インク滴13eはノズル51の開口方向に対し曲りなく
(0.5°以下)真直ぐ吐出・飛行し被記録体に対し印
字精度の高い高品位な記録画像が形成できたが、実施例
1と同様の方法でワイピングを行ったところ、1000
回後、メッキ層50がノズルプレート52より剥離し、
それに伴ってコーティング層53も剥がれて撥水性がな
くなり、インク溜りが発生してインク滴が3〜9°曲り
(図7、角度c)、高品位な記録画像を形成することが
出来なくなった。
ク12をノズル51より吐出させたところ、初期的には
インク滴13eはノズル51の開口方向に対し曲りなく
(0.5°以下)真直ぐ吐出・飛行し被記録体に対し印
字精度の高い高品位な記録画像が形成できたが、実施例
1と同様の方法でワイピングを行ったところ、1000
回後、メッキ層50がノズルプレート52より剥離し、
それに伴ってコーティング層53も剥がれて撥水性がな
くなり、インク溜りが発生してインク滴が3〜9°曲り
(図7、角度c)、高品位な記録画像を形成することが
出来なくなった。
【0044】以上の結果をまとめると表5が得られる。
【0045】
【表5】
【0046】表5より、実施例1〜3に示すようにノズ
ル開口面に陰極電流密度0.5〜4A/dm2の範囲か
らなる電解メッキによってメッキ層を形成しコーティン
グ層を積層した場合には、ヘッド形成部材の変形を起こ
す事なく均一で緻密な粗面が得られ、初期は勿論の事、
ワイピング10000回後に於いてもコーティング層の
剥離を起こさず、その結果インク滴の直進性を保ち被記
録体に良好な記録画像を長期にわたり形成する事を可能
とするインクジェット記録ヘッドを得る事が出来る。し
かし比較例1、2の様にヘッド形成部材を加工する方法
で凹凸を形成しコーティングする方法では、均一で緻密
な粗面が得られずコーティング層の密着性が十分得られ
なかったり、ヘッド形成部材が変形や破損しインクジェ
ット記録ヘッドが作成出来なくなる。また比較例3の様
に4A/dm2を越える陰極電流密度でメッキを行うと
粗面が得られずにコーティング層が容易に剥がれ、比較
例4の様に0.5A/dm2未満の電流密度でメッキを
行うとメッキ層と基材との密着性が得られず、メッキ層
がワイピングにより剥離し、何れの場合も撥水性を維持
する事が出来ずインク滴の直進性が保てずに良好な記録
画像が得られなくなる。
ル開口面に陰極電流密度0.5〜4A/dm2の範囲か
らなる電解メッキによってメッキ層を形成しコーティン
グ層を積層した場合には、ヘッド形成部材の変形を起こ
す事なく均一で緻密な粗面が得られ、初期は勿論の事、
ワイピング10000回後に於いてもコーティング層の
剥離を起こさず、その結果インク滴の直進性を保ち被記
録体に良好な記録画像を長期にわたり形成する事を可能
とするインクジェット記録ヘッドを得る事が出来る。し
かし比較例1、2の様にヘッド形成部材を加工する方法
で凹凸を形成しコーティングする方法では、均一で緻密
な粗面が得られずコーティング層の密着性が十分得られ
なかったり、ヘッド形成部材が変形や破損しインクジェ
ット記録ヘッドが作成出来なくなる。また比較例3の様
に4A/dm2を越える陰極電流密度でメッキを行うと
粗面が得られずにコーティング層が容易に剥がれ、比較
例4の様に0.5A/dm2未満の電流密度でメッキを
行うとメッキ層と基材との密着性が得られず、メッキ層
がワイピングにより剥離し、何れの場合も撥水性を維持
する事が出来ずインク滴の直進性が保てずに良好な記録
画像が得られなくなる。
【0047】
【発明の効果】以上の説明により、本発明のインクジェ
ット記録ヘッドの撥水処理方法によれば、ノズル開口面
の粗面化を陰極電流密度0.5〜4A/dm2の範囲の
電解メッキによって行う事により、ヘッド形成部材の変
形や破壊を伴う事なく粗面化が実現され、かつ緻密な粗
面が得られる事により、長期的な使用の中でワイピング
を繰り返し行った後にもメッキ層の凹部にコーティング
層が残り撥水性が維持され、インク滴の直進性が保持さ
れ良好な記録画像を形成する事が可能なインクジェット
記録ヘッドを得る事が出来る。
ット記録ヘッドの撥水処理方法によれば、ノズル開口面
の粗面化を陰極電流密度0.5〜4A/dm2の範囲の
電解メッキによって行う事により、ヘッド形成部材の変
形や破壊を伴う事なく粗面化が実現され、かつ緻密な粗
面が得られる事により、長期的な使用の中でワイピング
を繰り返し行った後にもメッキ層の凹部にコーティング
層が残り撥水性が維持され、インク滴の直進性が保持さ
れ良好な記録画像を形成する事が可能なインクジェット
記録ヘッドを得る事が出来る。
【図1】本発明の実施例1を行う工程の一部説明図およ
び得られたインクジェット記録ヘッドの一部断面図であ
る。
び得られたインクジェット記録ヘッドの一部断面図であ
る。
【図2】本発明の実施例2を行う工程の一部説明図であ
る。
る。
【図3】本発明の実施例3を行う工程の一部説明図及び
得られたインクジェット記録ヘッドの一部断面図であ
る。
得られたインクジェット記録ヘッドの一部断面図であ
る。
【図4】本発明の比較例1により得られたインクジェッ
ト記録ヘッドの一部断面図である。
ト記録ヘッドの一部断面図である。
【図5】本発明の比較例2を行う工程の一部説明図であ
る。
る。
【図6】本発明の比較例3により得られたインクジェッ
ト記録ヘッドの一部断面図である。
ト記録ヘッドの一部断面図である。
【図7】本発明の比較例4により得られたインクジェッ
ト記録ヘッドの一部断面図である。
ト記録ヘッドの一部断面図である。
1、15、27、38、45、49‥‥インクジェット
記録ヘッド 2、28、52‥‥ノズルプレート 3、19、29、37‥‥ノズル開口面 4‥‥面 5‥‥レジスト 6、16、36、39、47、51‥‥ノズル 7、20、30、46、50‥‥メッキ層 8、25、35、40、48、53‥‥コーティング層 9、10、18、41‥‥ヘッド形成部材 11、11b‥‥厚電素子 12‥‥インクジェットインク 13、13b、13c、13d、13e‥‥インク滴 14‥‥ゴミ除去ワイパー 17‥‥インク供給口 21‥‥水槽 22‥‥水 23‥‥バリアー 24‥‥ラングミュアー膜 26‥‥振動板 31‥‥転写用媒体 32‥‥鏡平面 33‥‥モーター 34‥‥重合体層 42‥‥切削用砥石 43‥‥スライングマシン 44‥‥クラック a、b、c‥‥角度
記録ヘッド 2、28、52‥‥ノズルプレート 3、19、29、37‥‥ノズル開口面 4‥‥面 5‥‥レジスト 6、16、36、39、47、51‥‥ノズル 7、20、30、46、50‥‥メッキ層 8、25、35、40、48、53‥‥コーティング層 9、10、18、41‥‥ヘッド形成部材 11、11b‥‥厚電素子 12‥‥インクジェットインク 13、13b、13c、13d、13e‥‥インク滴 14‥‥ゴミ除去ワイパー 17‥‥インク供給口 21‥‥水槽 22‥‥水 23‥‥バリアー 24‥‥ラングミュアー膜 26‥‥振動板 31‥‥転写用媒体 32‥‥鏡平面 33‥‥モーター 34‥‥重合体層 42‥‥切削用砥石 43‥‥スライングマシン 44‥‥クラック a、b、c‥‥角度
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C25D 5/36 B
Claims (7)
- 【請求項1】 インクジェット記録ヘッドのノズル開口
面を粗面化し得られた粗面に含弗素重合体をコーティン
グする撥水処理方法であって、前記粗面化が陰極電流密
度が0.5〜4A/dm2の範囲からなる電解メッキよ
る粗面化である事を特徴とするインクジェット記録ヘッ
ドの撥水処理方法。 - 【請求項2】 前記メッキによる粗面化により得られる
メッキ層が少なくともNiを含有する事を特徴とする請
求項1記載のインクジェット記録ヘッドの撥水処理方
法。 - 【請求項3】 前記含弗素重合体が、非晶質含弗素重合
体である事を特徴とする請求項1記載のインクジェット
記録ヘッドの撥水処理方法。 - 【請求項4】 前記コーティングの方法が、ディッピン
グによる方法である事を特徴とする請求項1記載のイン
クジェット記録ヘッドの撥水処理方法。 - 【請求項5】 前記コーティングの方法が、含弗素重合
体を溶解させてなる重合体溶液を水面上に展開させて溶
媒を揮発させた後、得られた展開膜をメッキ層上に転写
させてコーティング層を形成する方法である事を特徴と
する請求項1記載のインクジェット記録ヘッドの撥水処
理方法。 - 【請求項6】 前記コーティングの方法が、含弗素重合
体を溶解させてなる重合体溶液を水面上に展開させて溶
媒を揮発させた後、バリアーを移動させて展開膜をラン
グミュアー膜とし、得られたラングミュアー膜をメッキ
層上に1回以上接触させてコーティング層を形成する方
法である事を特徴とする請求項1記載のインクジェット
記録ヘッドの撥水処理方法。 - 【請求項7】 前記コーティングの方法が、鏡平面を有
する転写用媒体の前記鏡平面に含弗素重合体を溶解させ
てなる重合体溶液からなる重合体層を形成し、次いで前
記転写用媒体表面上の重合体層をメッキ層上に転写する
方法である事を特徴とする請求項1記載のインクジェッ
ト記録ヘッドの撥水処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31053892A JPH06155752A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | インクジェット記録ヘッドの撥水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31053892A JPH06155752A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | インクジェット記録ヘッドの撥水処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06155752A true JPH06155752A (ja) | 1994-06-03 |
Family
ID=18006446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31053892A Pending JPH06155752A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | インクジェット記録ヘッドの撥水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06155752A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08207291A (ja) * | 1994-07-14 | 1996-08-13 | Hitachi Koki Co Ltd | インク噴射記録ヘッドの製造方法および記録装置 |
| JPH1071721A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法並びにインクジェット記録装置 |
| US6243112B1 (en) | 1996-07-01 | 2001-06-05 | Xerox Corporation | High density remote plasma deposited fluoropolymer films |
| JP2014043029A (ja) * | 2012-08-25 | 2014-03-13 | Ricoh Co Ltd | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
-
1992
- 1992-11-19 JP JP31053892A patent/JPH06155752A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08207291A (ja) * | 1994-07-14 | 1996-08-13 | Hitachi Koki Co Ltd | インク噴射記録ヘッドの製造方法および記録装置 |
| US6243112B1 (en) | 1996-07-01 | 2001-06-05 | Xerox Corporation | High density remote plasma deposited fluoropolymer films |
| US6444275B1 (en) | 1996-07-01 | 2002-09-03 | Xerox Corporation | Method for remote plasma deposition of fluoropolymer films |
| JPH1071721A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法並びにインクジェット記録装置 |
| JP2014043029A (ja) * | 2012-08-25 | 2014-03-13 | Ricoh Co Ltd | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
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