JPH06156736A - 連続処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】＜第一の発明＞未処理のＬＣＤ（Ｗ）が各葉毎
にヒータ内蔵の治具（５）に挟まれて組をなし、これら
の所定組が積み重ねられて上昇，水平移動，下降して搬
送される。 ＜第二の発明＞未処理のＬＣＤ（Ｗ）が各葉毎にホット
プレート（30）に挟まれて組をなし、これらの所定組が
積み重ねられて実質的に水平に搬送される。 ＜両発明に共通の構成＞前記の積み重ねのための２つの
エレベータ（第一の発明では２Ａ，２Ｂ、第二の発明で
は25Ａ，25Ｂ）と、両エレベータ間を搬送する支持手段
（第一の発明ではエレベータ２Ａ，２Ｂ；中継支持材４
Ａ，４Ｂ；爪16，17、第二の発明では移動ビーム21と固
定ビーム26とからなるウォーキングビーム）とを有す
る。 【効果】 前記の積み重ねが自動的になされ、重量物を
取り扱う労力が省かれる。また、未処理のＬＣＤが搬送
される間に熱処理が遂行されるので、連続熱処理が可能
となり、生産性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、連続処理装置に関し、
例えば所定の治具を用いて熱処理その他の処理を連続的
に施す連続処理装置に関する。

【０００２】

【従来技術】各種計器の表示部等に使用される液晶表示
装置（以下ＬＣＤと言う）の製造工程には加熱，加圧，
硬化の工程がある。これは２枚のガラス基板を数μｍの
間隔を保って周囲をシールする工程である。そしてこの
間隔の精度は±0.05μｍ以下と極めて厳しい精度が要求
される。したがって高い精度の間隔を保つために基板間
にスペーサを配する方法が採られる。

【０００３】図14はＬＣＤ70の概略断面図である。この
ような空セルを液晶溜めの液晶材料に浸漬して、空セル
の毛細管現象を利用して注入口77から基板内部に液晶74
を注入するものである。このような空セルの製造方法
は、面精度の高いガラス基板71を用い、基板の内側周辺
部分にシール材76を印刷，乾燥させ、要部にスペーサ75
を配してから２枚の基板71を貼り合せ、加熱しながら適
度に加圧してシール材を硬化させて形成される。図中、
72はアルカリイオン防止膜、73は所定パターンにガラス
基板71に形成された透明電極、78は注入後の封止材、79
は配向膜である。

【０００４】これに使用されるガラス基板71の厚さは最
大 1.1mmが２枚で１組となる。シール材76，78としては
エポキシ樹脂が用いられ、種類によって一様ではないが
140℃〜180 ℃の温度で40〜80分間加熱し硬化される。

【０００５】このような製造工程は現在種々の方法によ
って実施されているが、多くは数組〜数十組をロットに
治具を用いて処理されている。図15はその一例で、空気
圧による加圧治具の断面図である。治具40は方形のアル
ミ製上部フレーム41と同下部フレーム42を一定間隔で配
し、その四隅を長尺の仮締め用ボルト43で連結し仮に固
定したものである。そして未処理のＬＣＤ（Ｗ）は装置
40の内側で下部フレーム42上に積重ね、上部フレーム41
の下に当接板45，46の間に挟まれたクッション材として
の例えばエアバッグ44を配し、上側の当接板45を上部フ
レーム41に螺合する本締め用ボルト47によってＬＣＤ
（Ｗ）の群を加圧，固定するものである。加圧力の調節
は本締め用ボルト47によってなされる。

【０００６】また、図16は他の例でスプリングによる加
圧治具の断面図である。この場合、治具50の本体構造は
前記例と同じであるが、前例エアバッグに代りコイルス
プリング54を用い、当接板55，56を介してＬＣＤ（Ｗ）
の全部を本締め用ボルト57により同時加圧するものであ
る。そしてこれはスプリング54の効き具合に応じて本締
め用ボルト57で加圧力の調節が可能となっている。

【０００７】前記２例とも700 〜800 kgの加圧能力を有
し、図示の如く組合せたガラス基板（厚さ約2.2 mm）を
10〜20組治具に挟み込み、熱風循環加熱炉に入れて加熱
硬化させる。加熱炉はバッチ式炉又は連続コンベヤ式炉
が使用されているが、ＬＣＤ（Ｗ）共に治具重量が約30
kgもあるため炉への搬出入の作業は容易ではない。治具
への基板のセットはガラス同志の付着防止のために、通
常は組合せガラスごとにシートを挟み込んで行う。然
し、ＬＣＤ（Ｗ）は積み重ねて処理するため均一な加熱
硬化を得るために、昇温時間に２時間以上を要し、その
後所定の温度で加熱し、冷却時間も含め加熱のサイクル
は５時間以上を要する。而も、コンベヤ式炉の場合は多
大の設置面積を必要とし、全体の生産効率を阻害する要
因ともなっている。

【０００８】図17はまた別の例でプレス方式の概略断面
図である。この装置60自体が炉を形づくっていて、本体
の外枠61及び内枠62の間に断熱材65を内蔵している。本
体の内部には、上部にヒータ63ａ及び底部にヒータ63ｂ
を配して、上部のヒータ63ａは図示しないプレス作動機
構のシャフト64に連結されている。これも前例と同じく
未処理のＬＣＤ（Ｗ）を両ヒータの間に積み重ねて加
熱，加圧されるが、この場合、装置の内部高さも１ｍ強
と大きく１回に行う処理量も多い。したがって温風循環
又は赤外線による加熱も併用されるが、熱処理時間が９
時間以上を要し、生産性の悪さと品質のばらつき更に基
板のセッティング取外しが容易でない等の難点を容して
いる。

【０００９】

【発明の目的】本発明は、ＬＣＤ等の板状体製造工程に
おいて、従来技術における問題点を排除し、高品質，高
生産性の連続処理装置を提供することを目的としてい
る。

【００１０】

【発明の構成】第一の発明は、板状の被処理物が各葉毎
に処理手段（例えば後述のヒータを内蔵する治具５）に
挟まれ、前記被処理物が前記処理手段と共に上昇部、水
平移動部及び下降部の領域を搬送されて所定の処理を施
されるように構成され、１枚の前記被処理物を挟む各組
の前記処理手段は、被支持部を互に異なる位置に設けた
２種類が交互に装入され、前記上昇部及び前記下降部に
は、前記被処理物を挟んだ前記処理手段を所定組重ねて
交互に支持する、上下動可能な第一の支持手段（例えば
後述のエレベータ２Ａ，２Ｂ）と前記被支持部の位置に
対応する２種類の第二の支持手段（例えば後述の中継支
持部材４Ａ，４Ｂ）とが設けられ、前記水平移動部に
は、１枚の前記被処理物を挟む１組の前記処理手段を支
持して前記上昇部と前記下降部との間を搬送する往復動
可能な第三の支持手段（例えば後述の爪16，17）が設け
られている連続処理装置に係る。

【００１１】第二の発明は、板状の被処理物が各葉毎に
処理手段（例えば後述のホットプレート30）に挟まれ、
前記被処理物が前記処理手段と共に、実質的に水平に搬
送する搬送領域を搬送されて所定の処理を施されるよう
に構成され、前記搬送領域の上流部には、前記処理手段
と１枚の前記被処理物とからなる１組を、装入手段から
順次受取り所定組を積重ねて１ロットとするための上下
動可能な第一の支持手段（例えば後述のエレベータ25
Ａ）が設けられ、前記搬送領域には、複数ロットの前記
被処理物及び前記処理手段を、１ロットづつ搬送方向に
並べて支持し、かつ前記の搬送を行う第二の支持手段
（例えば後述の移動ビーム21と固定ビーム26とからなる
ウォーキングビーム）が設けられ、前記搬送領域の下流
部には、前記第二の支持手段の最下流に位置し前記の処
理が終了した１ロットの前記被処理物及び前記処理手段
を支持し、この１ロット中の前記の１組を順次排出手段
に移換えるための上下動可能な第三の支持手段（例えば
後述のエレベータ25Ｂ）が設けられ、前記第二の支持手
段が第一の載置部材（例えば後述の固定ビーム26）及び
移動可能な第二の載置部材（例えば後述の移動ビーム2
1）を有し、この第二の載置部材を前記第一の載置部材
に対し反復して変位運動させ、これによりこれら第一及
び第二の載置部材間で複数ロットの前記被処理物及び前
記処理手段を交互に載置させながら前記の搬送を行うよ
うに構成されている連続処理装置に係る。

【００１２】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図１〜図
８は第一の発明に関するものであるが、図１は本例の正
面概略縦断面図である。即ち、搬送機構の横送り部１ａ
から１ｅの間に上昇、横送り及び下降からなる迂回路を
形成し、上昇部１ｂから上部における横送り部１ｃを経
由して、下降部１ｄを通り所要の熱処理等を行うように
なっている。なお、本体部（１ｂ〜１ｄ）の枠には断熱
材が内蔵され熱処理の効率を高める構造になっている。

【００１３】下部における横送りはウォーキングビーム
３Ａ及び３Ｂが設けられているが、上昇及び下降の方法
としては上昇側がエレベータ２Ａ、下降側は同２Ｂによ
りなされる。両エレベータは下部の駆動モータＭの作動
により、支軸２Ａ−１及び２Ｂ−１が夫々伸縮する。そ
して、上昇部１ｂ及び下降部１ｄの内壁下部には、内側
へ向って突出した中継支持材４Ａ及び４Ｂが設置されて
いて、中継支持材４Ａと同４Ｂは交互に突出・収納する
ようになっている。

【００１４】未処理のＬＣＤ（Ｗ）は後述する治具５に
枚葉ごと挟まれ、最初の横送り１ａ部のウォーキングビ
ーム３Ａにより、搬入口１ｂ−１からエレベータ２Ａに
載置される。エレベータ２Ａは治具５を中継支持材４
Ａ，４Ｂの位置まで押し上げ、次は中継支持材４Ａ，４
Ｂが治具５の支持を引継ぐ。中継支持材４Ａと４Ｂは治
具５の支持位置が異り、双方が交互に作用して後続の治
具の進路を妨げない仕組みになっている。したがって、
ウォーキングビーム３Ａから送られてくる治具５はエレ
ベータ２Ａにより次々と治具群に加算されて押上げら
れ、中継支持材４Ａ，４Ｂ上方には治具５が積み上げら
れた状態になる。然し、後続する治具５もなくなれば、
エレベータ２Ａは中継支持材４Ａ，４Ｂの位置を越えて
最上端まで昇り、最後の治具５を横送り機構に移し替え
が終われば再び所定位置まで下降する。

【００１５】上部における中間の横送り部１ｃにおける
横送りの機構については後述するが、上昇部１ｂに送り
込まれた治具５が最上部に達すれば、反対側の下降部１
ｄ側へ横送りされる。ここにおいても上昇側と同じく、
エレベータ２Ｂ及び中継支持材４Ａ，４Ｂが設置され、
上昇側と同じ機能を具備している。然し、ここにおいて
は、エレベータ２Ｂは先ず最上部において、上昇側から
横送りされてくる治具５の受取りから始まる。

【００１６】即ち、上昇側のエレベータ２Ａとは逆の動
作をしている。このようにして、下降側エレベータ２Ｂ
は上昇部１ｂから送られてくる治具５を順次積重ねなが
ら１段づつ下降し、下降部１ｄ側の中継支持材４Ａ，４
Ｂに支持を引き継がせる。

【００１７】ここにおいても中継支持材４Ａ及び４Ｂ
は、前記上昇側と全く同じ構造と機能を備えている。し
たがって、エレベータ２Ｂが中継支持材４Ａ又は４Ｂに
引継いだ時点で、最下部の１個はエレベータ２Ｂに載置
されたまま所定位置まで下降し、再び横送り工程へ移る
こととなる。最後の横送り部１ｅは、該部のウォーキン
グビーム３Ｂが本体の出口１ｄ−１から本体内部へ侵入
し、エレベータ２ｂに載置されている治具５（仮想線）
を取り出す。そして、治具５をウォーキングビーム３Ｂ
に移し終わったエレベータ２Ｂは再び上昇して中継支持
材から次の治具５を受取る動作に変わる。

【００１８】図２は、前記した最初の横送り部１ａから
上昇部１ｂ，横送り部１ｃ，下降部１ｄ，横送り部１ｅ
に至る治具５の動きを治具５のみで示した俯瞰図であ
る。治具５に挟まれたＬＣＤ（Ｗ）はこの間に加熱され
ながら、積層時における治具５及びＬＣＤ（Ｗ）の自重
の合算重量で加圧されて、この間の所要時間の間に所定
の処理が行われるようになっている。

【００１９】図３は前記二通りの治具５の分解斜視図で
ある。図示のとおり、治具５は掛具５ａ及び敷具５ｂか
ら成り、間にＬＣＤ（Ｗ）を挟むようになっている。敷
具５ｂの四隅にはガイド７が設けてあり、対する掛具５
ａの同位置にはガイド孔６が設けられ、常に両者は正確
に組み合うようになっている。そして、両者とも対向す
る２辺部に突起部11，12を設けてあり、図３（ａ）の３
点突起型治具５Ａ及び同図（ｂ）の２点突起型治具５Ｂ
があり、この二通りの治具５Ａ，５Ｂが交互に送り込ま
れる。双方の治具とも敷具５ｂの突起部11及び12が被支
持部となるため、掛具５ａに対し敷具５ｂ側は厚みも２
倍となり補強されている。

【００２０】したがって、前記二通りの治具５Ａ，５Ｂ
を支える中継支持材も、３点支持用４Ａと２点支持用４
Ｂの二通りがある。図４はこの二通りの中継支持材４Ａ
及び４Ｂにより、交互に積まれた二通りの治具５Ａ，５
Ｂの支持状況を示した斜視図、そして図５は要部付近の
部分拡大図である。このようにして、二通りの中継支持
材４Ａと４Ｂも交互に本体１の内壁部から突出して治具
群５を支えている。したがって、ウォーキングビーム３
Ａによって入口１ｂ−１から送り込まれ、エレベータ２
Ａにて押上げられてくる後続の治具５をスムーズに支持
するようになっている。

【００２１】図６は治具５の部分拡大断面図である。即
ち、図６（ａ）は掛具５ａの断面図で、同図（ｂ）は敷
具５ｂの断面図である。両者とも内部に面状ヒータ９を
内蔵し、ＬＣＤ寄り側をアルミニューム板８で覆い、反
対側はステンレス鋼板10で覆われている。面状ヒータ９
は図示しない電源によって通電される。図示のとおり図
６（ｂ）の敷具５ｂ側のステンレス鋼板10が図６（ａ）
の掛具側の同部材に比べて厚いのは、前述の如く被支持
部を構成するためである。

【００２２】図７は、入口側ウォーキングビーム３Ａ及
び上昇側エレベータ２Ａの平面図である。図示のとおり
ウォーキングビーム３Ａの上面は両側部を残して中央部
が凹部３Ａ−１を形成している。これにより治具５を載
せてエレベータ２Ａに載せ替える際も、双方が接触する
ことはない。尚、図１及び図５において、ウォーキング
ビーム部の矢印はウォーキングビームの動作を示してい
る。即ち図５においてＵは上昇を示し、最下部まで降り
たエレベータ２Ａの上面位置よりもウォーキングビーム
３Ａの上面が上り、治具５を載せてＦ方向に前進しても
治具５とエレベータ２ａが接触することはない。

【００２３】エレベータ２Ａ上の仮想線で示す治具５の
位置までウォーキングビーム３Ａが進めば、次にＤ方向
へ下降し治具５はウォーキングビーム３Ａからエレベー
タ２Ａに載せ替えられる。更にウォーキングビーム３Ａ
はＢ方向に後退して、次の治具５の載置搬送態勢へ変わ
る。この動作の繰り返しによって治具５は搬送されるこ
とになる。他方、出口側の横送り部１ｅにおいても、前
記入口側１ａにおけるウォーキングビーム３Ａと同じ機
能のウォーキングビーム３Ｂが、正反対に向いて逆の動
作で下降エレベータ２Ｂから治具５を搬出している。

【００２４】最初の横送り部１ａから最後の横送り部１
ｅの全工程のうち、未説明の上部における水平移動１ｃ
の工程を示すのが図８であり、その機構の概要を示す斜
視図である。該部においては、治具５を両側から支承し
て水平移動する一組のアーム15が、工程の進行方向に対
して本体１の内側壁からオーバーハング状に設けられて
いる。

【００２５】そして、このアーム15は図示しない作動機
構により、上昇部１ｂから下降部１ｄの間を直線矢印の
如く往復動するようになっている。双方のアーム15には
前記治具５の二通りの突起、即ち２突起及び３突起に合
わせて二通りの爪が向かい合って設置されている。治具
５の３突起に対しては爪16が、治具５の２突起に対して
は爪17が対応するようになっている。

【００２６】同図は治具５Ｂの２突起タイプに対する爪
17がこれを支承している状態を示している。図において
円弧の矢印は爪16，17の作動を示している。このように
して交互に送られてくる二通りの治具５の被支持部を二
通りの爪が交互に作用してこの工程における搬送は行わ
れる。

【００２７】以上、第一の発明についての実施例を詳細
に説明したが、個々のＬＣＤ（Ｗ）が治具５にセットさ
れて全工程を終了するまでの所要時間は約210 分であ
る。そして、交互に搬送される二通りの治具に対する各
部の対応や、搬送速度に対応した各部の作動のタイミン
グ等は全て図示しない制御装置によってコントロールさ
れている。

【００２８】図９〜図13は第二の発明に関するものであ
る。先ず、図９は本例の正面縦断図の概略図、図10は全
工程におけるＬＣＤの動きを示す俯瞰図である。図10で
明らかなように前例と異なり、本例はＬＣＤを載置した
ホットプレート30が上の方から本体内の工程に搬入され
て、又、上から取出される。

【００２９】本例は装置20の入口20ｂ−１の横送り部20
ａと、ロットごとに処理を行う本体20ｂ及び出口20ｂ−
２における横送り部20ｃから成っている。ホットプレー
ト30はウォーキングビーム24Ａに載置されて入口20ｂ−
１から本体20ｂ内へ搬入される。本体20ｂ内には入口側
にエレベータ25Ａが、出口側にエレベータ25Ｂが設置さ
れている。両エレベータ25Ａ，25Ｂは下部のモータの作
動により、支軸25Ａ−１及び25Ｂ−１が伸縮する。

【００３０】入口側エレベータ25Ａは、まず台板22を載
置（載置機構は図示せず）して入口20ｂ−１の位置まで
上昇し、前記ウォーキングビーム24Ａによって搬入され
たホットプレート30を台板22の上に載置する。ウォーキ
ングビーム24Ａは前例において詳述した如く、一連の動
作を繰り返しながら次々とホットプレート30を送り込
む。したがって、ホットプレートを受取る毎にエレベー
タ25Ａは１ステップずつ下降する。

【００３１】順次所定数のホットプレート30を積み重ね
てエレベータ25ａが最下部に達すれば、本体20ｂ内に設
置されていて後に詳述する長尺の移動ビーム21が図９に
おける仮想線で示す位置に移動してきて、台板22と共に
上部に積み重ねられたホットプレートの１ロットを受け
取る。移動ビーム21に載せ替えられた１ロットのホット
プレート群30は、移動ビーム21が元の位置へ戻ると共に
出口20ｂ−２側へ一段階移動する。この時点で図示しな
い機構により加圧具23がロット上に載せられて全体の加
圧が開始される。

【００３２】前記一連の各部の動作により、新たなロッ
トが移動ビーム21によって移動させられる。然し移動ビ
ームは前例において詳述のとおり、上昇Ｕ→前進Ｆ→下
降Ｄ→後退Ｂの動作を繰り返すので、本例においては移
動ビームが下がった位置から始まるように利用してい
る。したがって、先ずエレベータ25Ａの位置へ戻り、次
は上がって台板22と共にロットを持ち上げ、次に進んで
出口側へ載置したロットを移動させて、又、下ることに
なる。

【００３３】そして、下る際に別設された長尺の固定ビ
ーム26に載置してきたロットを台板ごと載せ替える。し
たがって、新たなロットが搬送されるときには、この長
尺の移動ビーム21によって、新たなロットの搬送と共
に、前送されていたロットも共に１段階横送される。即
ち、移動ビーム21と固定ビーム26とによってウォーキン
グビームが構成される。

【００３４】このようにして本体20ｂの中には複数のロ
ットが並ぶことになる。本例においては計５つのロット
を容するようになっている。第１段階目のロットはエレ
ベータ25Ａによってロットを構成するもの、第２から第
４段階が処理中のもの、最後の第５段階目が処理後の被
処理物を取り出すもの、に分かれている。加圧具23は第
４段階が終了し、第５段階へ移る前に外されて第２段階
目のロット上に移送されて循環している。

【００３５】そして出口20ｂ−２側のエレベータ25Ｂも
前例と同じく、入口20ｂ−１側のエレベータ25Ａと向か
い合って逆の動作を繰り返して被処理物30を搬出してい
る。

【００３６】ＬＣＤ（Ｗ）はホットプレート30に枚葉ご
とに載置されて一組となり炉20内へ搬入される。図11は
この一組の平面図で、図12はその側面図である。ホット
プレート30は図12に示す如く、プレート32の中に面状ヒ
ータ31が内設されている。そして面状ヒータは図11に見
られるように内部を蛇行して、両端子33は外部に露出し
ている。この両端子33には夫々その上下にコイルスプリ
ング35が接続され、その先端には各々接触子34が取り付
けられている。このようなホットプレート30の上に１個
の基板が載置されて一組となっている。ホットプレート
30は、面状ヒータ31に替えてシーズヒータを埋込んだ構
造としても良い。

【００３７】前記のような組になったホットプレート30
が積層されて、ロットとして本体20ｂ内の工程では処理
されている。図13は本体20ｂ内における本体20ｂを除く
積層された状態各部の横断面である。このように積層さ
れた状態においては、接触子24同志が接触し合って通電
が可能になる。通電（通電機構は図示せず）は前記第２
段階において、加圧具23による加圧開始と同時に始まり
加熱され、第４段階終了時点で通電は停止される。加熱
は主として通電に伴うホットプレート30によるものであ
るが、炉本体20ｂ自体も断熱材を内蔵しているので内部
の温度も約140〜180 ℃に保たれている。第２段階から
第４段階終了までの加熱時間帯は約120分である。

【００３８】図13において明らかなように、本体20ｂ内
のウォーキングビーム21は両側部にビームが配されて連
動するようになっている。そして固定ビーム26は両ビー
ム間の中央部に間隔を保って設けられている。したがっ
て、ウォーキングビーム21は固定ビーム26と接触するこ
ともなく作動し、エレベータ25Ａ及び25Ｂの位置に移動
したときも、エレベータ25Ａ及び25Ｂの外側から台板22
の両側端部を支持して移動させる。

【００３９】以上、第二の発明について詳細を説明した
が、個々のＬＣＤ（Ｗ）がホットプレート30と組になっ
て本体20ｂに搬入され、全工程を終了するまでの所要時
間は約210 分である。そして、搬送速度や各部の対応動
作のタイミング等は全て図示しない制御装置によってコ
ントロールされている。

【００４０】以上の如く、本発明に基づく二つの実施例
は、何れも従来技術に見られるような重い重量の特殊な
治具は不要なため、全体の作業が簡易で簡素化される。
そして自動化された生産ラインにより生産性が良く、高
品質と品質の均一性が保てる。更に工場内における装置
の所要面積が少なくてすみ、敷地の効率化が期待され
る。

【００４１】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明の技術思想により、このほかにも各種の変形
が考えられる。例えば、第二の発明の実施例におけるホ
ットプレート端子の接触方法は、コイルスプリングと接
触子に代えて、板バネを用いることも可能であり、その
他のものについても実施例に代わる方法が可能である。

【００４２】また、被処理物は、ＬＣＤ以外の板状体で
あって良く、熱処理以外の処理にも本発明が適用可能で
ある。

【００４３】

【発明の効果】本発明は、被処理物を各葉毎に処理手段
に挟んで組とし、これらの組を所定組積み重ねるための
２つの支持手段を設け、これら支持手段の間を搬送する
別の支持手段を設けているので、上記の積み重ねが自動
的になされる。従って、重量物を取り扱う労力が省かれ
る。また、前記の別の支持手段によって被処理物が搬送
される間に所定の処理が遂行されるので、連続処理が可
能となり、生産性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】第一の発明の実施例の連続処理装置の概略正面
中央縦断面図である。

【図２】同、全工程における治具のみの動きを示す俯瞰
図である。

【図３】治具と基板の分解斜視図で、（ａ）は３突起型
治具、（ｂ）は２突起型治具である。

【図４】中継支持材による治具の支持状態を示す斜視図
である。

【図５】搬入口付近要部の拡大断面図である。

【図６】治具の部分拡大断面図である。

【図７】ウォーキングビームと上昇エレベータの平面図
である。

【図８】上部における水平移動装置の概略斜視図であ
る。

【図９】第二の発明の実施例の連続処理装置の正面中央
縦断面図である。

【図10】同、全工程におけるホットプレートのみの動き
を示す俯瞰図である。

【図11】ホットプレートの平面図である。

【図12】ホットプレートの側面図である。

【図13】炉内部における積層状態のホットプレート等の
横断面図である。

【図14】液晶表示装置の概略断面図である。

【図15】従来装置の縦断面図である。

【図16】同、縦断面図である。

【図17】同、縦断面図である。

【符号の説明】

１，20 連続処理炉 １ａ，１ｃ，１ｅ，20ａ，20ｃ 横送り部 １ｂ 上昇部 １ｄ 下降部 ２Ａ，２Ｂ，25Ａ，25Ｂ エレベータ ３Ａ，３Ｂ，24Ａ，24Ｂ ウォーキングビーム ４Ａ，４Ｂ 中継支持材 ５，５Ａ，５Ｂ 治具（ヒータ内蔵） ５ａ 掛具 ５ｂ 敷具 ６ ガイド孔 ７ ガイド ８ アルミニューム板 ９，31 面状ヒータ 10 ステンレス鋼板 11，12 被支持部 15 アーム 16，17 爪 21 移動ビーム 22 台板 23 加圧具 26 固定ビーム 30 ホットプレート 32 プレート 33 端子 34 接触子 35 コイルスプリング Ｗ ＬＣＤ

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成５年１０月１日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図３

【補正方法】変更

【補正内容】

【図３】治具と基板の分解斜視図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 板状の被処理物が各葉毎に処理手段に挟
   まれ、前記被処理物が前記処理手段と共に上昇部、水平
   移動部及び下降部の領域を搬送されて所定の処理を施さ
   れるように構成され、 １枚の前記被処理物を挟む各組の前記処理手段は、被支
   持部を互に異なる位置に設けた２種類が交互に装入さ
   れ、 前記上昇部及び前記下降部には、前記被処理物を挟んだ
   前記処理手段を所定組重ねて交互に支持する、上下動可
   能な第一の支持手段と前記被支持部の位置に対応する２
   種類の第二の支持手段とが設けられ、 前記水平移動部には、１枚の前記被処理物を挟む１組の
   前記処理手段を支持して前記上昇部と前記下降部との間
   を搬送する往復動可能な第三の支持手段が設けられてい
   る連続処理装置。
2. 【請求項２】 板状の被処理物が各葉毎に処理手段に挟
   まれ、前記被処理物が前記処理手段と共に、実質的に水
   平に搬送する搬送領域を搬送されて所定の処理を施され
   るように構成され、 前記搬送領域の上流部には、前記処理手段と１枚の前記
   被処理物とからなる１組を、装入手段から順次受取り所
   定組を積重ねて１ロットとするための上下動可能な第一
   の支持手段が設けられ、 前記搬送領域には、複数ロットの前記被処理物及び前記
   処理手段を、１ロットづつ搬送方向に並べて支持し、か
   つ前記の搬送を行う第二の支持手段が設けられ、 前記搬送領域の下流部には、前記第二の支持手段の最下
   流に位置し前記の処理が終了した１ロットの前記被処理
   物及び前記処理手段を支持し、この１ロット中の前記の
   １組を順次排出手段に移換えるための上下動可能な第三
   の支持手段が設けられ、 前記第二の支持手段が第一の載置部材及び移動可能な第
   二の載置部材を有し、この第二の載置部材を前記第一の
   載置部材に対し反復して変位運動させ、これによりこれ
   ら第一及び第二の載置部材間で複数ロットの前記被処理
   物及び前記処理手段を交互に載置させながら前記の搬送
   を行うように構成されている連続処理装置。