JPH06160142A - 流量センサ - Google Patents
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Abstract
3が、加熱体が温度測定フィーラを加熱するように配置
されている、媒体流中に位置しているセンサ素子6を備
え、温度測定フィーラは流れの方向において加熱体の前
および後に位置しており、温度測定フィーラの信号の測
定によってセンサ信号を形成する評価手段と、加熱体の
過温度、即ち前記媒体流に対して相対的な温度差を調整
する調整手段とを備えている、流量センサの特性曲線を
一層良好に補正できるようにする。 【構成】 調整手段は、加熱体の過温度を媒体流の温度
に依存して調整する。
Description
体および少なくとも2つの温度測定フィーラが、前記加
熱体が前記温度測定フィーラを加熱するように配置され
ている、媒体流中に位置しているセンサ素子を備え、そ
の都度前記少なくとも1つの温度測定フィーラは流れの
方向において前記加熱体の前に位置しておりかつ少なく
とも1つの温度測定フィーラは前記加熱体の後に位置し
ており、かつ前記温度測定フィーラの信号の測定によっ
てセンサ信号を形成する評価手段と、前記加熱体の過温
度、即ち前記媒体流に対する温度差を調整する調整手段
とを備えている、流量センサに関する。
報から、空気流中に位置するセンサ素子を備えた流量セ
ンサは既に公知であり、その際センサ素子上には、1つ
の加熱体および2つの温度測定フィーラが配置されてい
る。2つの温度測定フィーラはその都度、流れの方向に
おいて加熱体の前および後に位置している。2つの温度
測定フィーラを測定ブリッジに配置することによって、
抵抗値の比較によってセンサ信号が形成される。加熱体
の温度は、過温度、即ち加熱体と空気流との温度差が一
定であるように、調整される。しかし一定の過温度は、
センサ特性曲線の温度依存性を完全には補償することが
できないという欠点を有している。
報から、過温度が、センサ特性曲線の温度依存性を補償
するために、空気温度の関数である流量センサが公知で
ある。センサ信号の測定は、加熱体の抵抗の電圧の測定
によって行われる。センサの特性曲線の温度依存性の補
正は、この測定原理に基づいて制限されている。
の構成を有する本発明の流量センサは、センサの特性曲
線の温度依存性を一層良好に補正することができるとい
う利点を有する。
求項1記載の流量センサの有利な実施例および改良例が
可能である。加熱体の過温度を、特性曲線の物理的に回
避し得ない誤差の要因、即ち流れる媒体の熱伝導、熱容
量および粘性の温度依存性が補償されるように追従調整
すると、特別有利である。調整手段が固有の加熱体温度
フィーラを有しているとき、加熱体温度は加熱体の状態
に無関係に測定することができる。媒体温度を確実かつ
センサの別の部分による影響を受けずに測定するため
に、媒体温度フィーラが効果的である。センサが流れの
強度に応答する速度は、加熱体、加熱体温度フィーラ温
度および温度測定フィーラを、低い熱容量を有する薄
い、誘電体の薄膜上に配置することによって、高められ
る。シリコン技術の使用によって、センサの製造は特別
簡単で、ひいてはコストの点で有利である。最も簡単な
実施例において加熱体は、オーミック抵抗として実現さ
れておりかつ温度測定フィーラ、媒体温度フィーラおよ
び加熱体温度フィーラは温度に依存した抵抗として実現
されている。温度を測定するすべての測定抵抗が同じ材
料から製造されているとき、センサ特性曲線の温度依存
性はそもそも小さく保持される。評価手段も調整手段も
アナログブリッジ回路として特別簡単に実現される。調
整ブリッジにおける2つの調整可能な抵抗によって、調
整手段の温度補償の零点および勾配が調整される。
て詳細に説明する。
が示されておりかつ第2図には、図1のI−Iに沿った
断面図が示されている。支持体30には、センサ素子6
が、それが、矢印によって示されている媒体流51中に
位置するように、配置されている。センサ素子6は、単
結晶のシリコンから成るフレーム8および誘電体から成
る薄膜7を有している。薄膜7には、加熱体1、2つの
温度測定フィーラ2,3および加熱体温度フィーラ4が
配置されている。フレーム8には、媒体温度フィーラ5
が設けられている。ボンドパッド33およびボンドワイ
ヤ34を介して、センサ素子6上に配置されている要素
は、支持体30上に配置されている、厚膜導体路31と
厚膜抵抗32とから成る厚膜回路に接続されている。薄
膜7の下面において、支持体30は通気孔35を有して
いる。
によって製造されている。その際例えば、その表面上
に、薄い誘電体層が析出されているシリコンウェファが
考えられる。薄い誘電体層を腐食しない腐食溶液による
シリコンの腐食除去によって、薄膜7はこのウェファか
ら構造が浮き出しにされる。それから鋸または付加的な
腐食ステップを用いた分割によってウェファは、フレー
ム8が生じるように、分割される。薄膜7に対する材料
として例えば、酸化シリコンまたは窒化シリコンが適し
ているが、例えば薄い合成樹脂層のような別の材料が考
えられる。薄膜7の重要な特徴は、それが、その薄い構
造によっても、材料からも、僅かな熱伝導および熱容量
しか有しないことである。加熱体1、温度測定フィーラ
2,3、加熱体温度フィーラ4および媒体温度フィーラ
5は、薄い構造化された金属層から成っている。この金
属層に対する材料として例えば、白金が考えられる。こ
の構造化された金属層の発生のためにまず、センサ素子
6の表面全体が連続した金属膜によって被覆される。そ
れからホトリソグラフィーおよび腐食によって、加熱体
1、温度測定フィーラ2,3、加熱体温度フィーラ4お
よび媒体温度フィーラ5に対する構造が全面におよぶ層
から腐食除去により形成される。この工程において、温
度を測定する要素のすべてが同じ材料から成り、ひいて
はその抵抗の同じ温度依存性を有していることが特別重
要である。このことは殊に、すべての温度測定において
常に2つの要素が相互に差において動作するとき、利用
することができる。というのは、温度変化によって惹き
起こされる抵抗変化が相互に相殺されるからである。更
に、この工程において、すべての要素の相互の幾何学的
間隔、殊に加熱体1における2つの温度測定フィーラ
2,3の相対間隔が、ホトリソグラフィーにおいて使用
されるマスクの場合により生じる誤差によってのみ規定
されることは肯定的である。しかしこれらの誤差は、非
常に簡単に回避することができる。測定効果を高めるた
めに、ここに図示の簡単なループに代わって、ミアンダ
構造を使用するとよい。支持体30上に貼り付けられ
た、導体路31および厚膜抵抗要素32から成る厚膜回
路を有する厚膜サブストレート52は、1つの可能な実
施例としてのみ理解すべきである。それ故に、温度測定
フィーラ2,3の接触接続のためのボンディングワイヤ
34も例示されているにすぎない。加熱体1、加熱体温
度フィーラ4および媒体温度フィーラ5も等価な方法で
接触接続されている。厚膜抵抗要素32の他に更に、例
えば差動増幅器または類似のもののような別の要素を設
けることもできる。更に、例えばフレーム8のシリコン
内に評価回路全体を集積することができる。その場合ボ
ンドパッド33は更に、この回路を外部と電気的に接続
するためにのみ用いられることになる。同様に、別の回
路要素を、支持体30上に薄膜技術において実現するこ
ともできる。2つの温度測定要素2,3はここでは、温
度に敏感な抵抗として実現されており、即ちその抵抗値
の測定によって、この個所における薄膜の温度を推定す
ることができる。2つの温度測定要素2,3は、加熱体
1によって、流れる媒体の温度より上にある温度に加熱
される。媒体と薄膜との間に、薄膜および媒体のそれぞ
れの個所間の温度差に依存している温度交換が行われ
る。従って温度測定フィーラ3は流れの方向において加
熱体1の後に位置しているので、流れる媒体における温
度測定要素3の熱変化は比較的僅かである。というのは
媒体は加熱体1によって既に一層高い温度を有している
からである。このようにして生じる、温度測定フィーラ
2と温度測定フィーラ3との間の温度差は、通過する流
れる媒体の流量に対する尺度である。図3に示された回
路によってこの温度差が評価される。
その際給電電圧10間に2つのブリッジアームが設けら
れている。1つのブリッジアームに、2つの温度測定フ
ィーラ2,3が直列に接続されている。別のブリッジア
ームに、2つの別の抵抗11,12が同様に直列に接続
されている。2つの別の抵抗11,12は例えば、図1
に図示の2つの厚膜抵抗要素32によって実現すること
ができる。2つのブリッジアームの中間タップ13は、
差形成器14に接続されている。差形成器は、2つの回
路点13における電圧差に比例している信号を送出す
る。2つの温度測定フィーラ2,3は、それらが同じ温
度において同じ抵抗値を有するように、実現されてい
る。製造偏差に基づいてそうはならなければ、抵抗1
1,12は相応に調整されなければならず、その結果ブ
リッジは、2つの温度測定フィーラ2,3の同じ温度に
おいて平衡状態をとる。温度測定フィーラ2と温度測定
フィーラ3との間の温度差によって、そこから結果的に
生じる、差形成器14の出力信号を有する相応のブリッ
ジの不平衡が惹き起こされる。
示されている。給電電圧20間に、2つのブリッジアー
ムを有する測定ブリッジが設けられている。ブリッジア
ームには、媒体温度フィーラ5が別の抵抗22と直列に
接続されている。更に、媒体温度フィーラ5に直列に、
別の、調整可能な抵抗24が設けられている。別のブリ
ッジアームにおいて、加熱体温度フィーラ4が別の抵抗
21に直列に接続されている。別の抵抗21は調整可能
である。2つのブリッジアームの中間タップ23は、調
整器25に接続されている。調整器25は、ブリッジア
ームの中間タップ23に加わる2つの電圧の差に依存し
ている出力電圧を発生する。加熱体1は、調整器25の
出力電圧に接続されている。矢印によって示されている
ように、加熱体1および加熱体温度フィーラ4は熱接触
されており、即ち加熱体温度フィーラ4は近似的に加熱
体1の温度を有している。別の抵抗21,22,24は
例えば、支持体52上の厚膜抵抗32によって実現する
ことができる。
れる媒体の温度が変化しないことから出発する。この場
合、媒体温度フィーラ5が設けられているアームの中間
タップ23における電圧は一定にとどまる。それ故に加
熱体温度の調整は、加熱体温度フィーラ4が設けられて
いる別のブリッジアームによってのみ実現される。加熱
体1および加熱体温度フィーラ4は熱接触されており、
即ち加熱体温度フィーラ4は加熱体1の温度を測定す
る。加熱体1の温度の、例えば流量の増加によって惹き
起こされる変化が、加熱体温度フィーラが設けられてい
るブリッジアームの不平衡を生ぜしめ、加熱体1に対す
る加熱電力が高められるようにする。加熱体1の温度が
高められるときも相応のことが当て嵌まる。従ってこの
調整によって、加熱体1の温度が一定の値を有すること
が実現される。その場合この値は、媒体温度フィーラ5
が設けられている第2のブリッジアームの作用を考慮す
ることによって変化される。即ちこのアームによって、
加熱体1の、媒体に対する過温度が調整される。媒体の
温度変化は、媒体温度フィーラ5が設けられているブリ
ッジアームの不平衡を惹き起こす。その際調整可能な抵
抗21および24によって、任意の依存性を選択するこ
とができる。
路は同時に、空気量センサに対する評価回路でもある。
というのは、調整器25の出力信号は、通過する空気量
に対する尺度であるからである。それ故にこの回路は例
えば、西独国特許第3638138号明細書において空
気量センサに対する評価回路としてそのまま使用され
る。しかしこの回路は完全に整合されない。加熱体1
を、媒体が流れていない場合にも、所定の過温度に保持
するために、この場合には既にある程度の不平衡が存在
していなければならない。というのはそうでなければ、
加熱体1に電圧が加わらないからである。加熱体電圧を
センサ出力信号として用いようとするとき、加熱体定常
電圧は、場合によっては温度依存性を有する特性曲線の
オフセットを表している。特性曲線のこの零点オフセッ
トは、調整可能な抵抗21,24が相応に実現されてい
る場合にも、補償可能でない残留誤差を来す。この欠点
は、その特性曲線が使用の測定原理に基づいて零点を正
確に通る、図3のセンサ信号に対する別個の評価回路を
使用することによって取り除かれる。従って図4の温度
調整のための回路と図3の評価のための回路とを組み合
わせることによって、温度に対するセンサの特性曲線
は、それぞれ個々の回路において可能であるより著しく
良好に整合可能である。殊に、粘性、熱伝導性および熱
容量のような、空気の物理的な定数の温度依存性を、そ
の際特性曲線に殆ど補償不可能である零点誤差が生じる
ことなく、考慮することが可能である。更に、差形成器
14および25の温度依存性を考慮することができる。
方法で実現することによって、最適な補償が行われる。
特性曲線の最適な温度補償を来す関数TH=f(TM)
が、図5に示されている。その際温度THは帯状の加熱
体に沿った平均温度であり、TMは媒体の温度である。
依存性は僅かに非直線性でありかつ正の係数を有する2
次の多項式によって申し分なく近似される。
路が、図6に示されている。
供給される給電電圧Ubとアースとの間に設けられてい
る。それは、抵抗41ないし47を有する本来のブリッ
ジを有しており、その際抵抗41,45および47は公
称上温度に無関係な抵抗、例えば市販の膜抵抗および最
大で数百 ppm/Kelvin の値である温度係数を有する厚
膜プレーナ抵抗である。
リード抵抗および抵抗46、所謂媒体温度フィーラ並び
に抵抗44、所謂加熱フィーラは温度フィーラであり、
即ちそれらは、1対1に対応する温度特性、即ち逆方向
でも同じ温度特性を有するオーミック抵抗である。これ
らの抵抗は、媒体温度フィーラとして把握することがで
きる。それらの温度依存性は例えば、抵抗経過: R(T)=R(0°C)(1+aT+gT2) によって表され、ただし係数aは零より大きくかつgは
零より小さく、その値は抵抗材料および製造に依存して
いる。
が付されかつ加熱フィーラ44に、加熱体および加熱フ
ィーラ44が近似的に同じ温度を有するように配属され
ている加熱抵抗が設けられている。抵抗42,43およ
び46は、近似的に媒体温度にある。
は、端子40を介する温度に無関係な定電圧源から電圧
Ubが供給される。ブリッジ差動電圧Udは、その出力が
加熱抵抗48に供給される調整増幅器49において増幅
される。
転入力側に帰還結合されている。素子50は、実または
複素伝達関数によって表すことができかつ図3または図
4の回路においても使用することができる。抵抗42,
43,44および46の、ブリッジ横方向電流Iq1お
よびIq2による独自の加熱は、相応の抵抗選択および
熱放出によって出来るだけ僅かに保持すべきである。
44の加熱によって調整器49は、ブリッジ差動電圧U
dを零に調整する。このことは調整条件である。帰還結
合素子50は、調整回路の申し分ない安定性を考慮す
る。素子50からブリッジに流れる電流I50は、第1近
似において無視することができる。従って調整条件は次
のように決められている: (R41+R42)/R47=(R43+R44)/(R46+R45) 上式中、R41,R42等によってこれらの抵抗に属す
る抵抗値が表されている。
依存性が使用されかつ加熱体温度が解かれると、図5に
示されているように、加熱体温度の、媒体温度に対する
依存性が生じる。即ち次式が成り立つ: TH=a0+a1*TM+a2*TM 2 ただし相応の抵抗値選択によって、係数a0,a1,a
2は零より大きい。
TMに対する所望の依存性である。この依存性は僅かに
非線形性でありかつ近似的に正の係数を有する2次の多
項式である。
にばらついているので、係数a0,a1,a2も同様に
その目標値の周りにばらついている。それ故に、抵抗4
1,45,47は、補償可能な厚膜プレーナ抵抗として
実現されている。特別な利点は、3つすべての係数a
0,a1,a2が、抵抗41,45,47の補整によっ
て実際値からそれぞれの目標値に移行することができる
点にある。それ故に温度フィーラ42,43,44,4
6の補償は省略することができる。
回路が、図7に示されている。その際同じ素子には同じ
参照番号が付されている。その際ブリッジにおいて、加
熱フィーラ44は加熱抵抗に置き換えられている。ブリ
ッジは、調整器出力側を介して直接給電される。その際
ブリッジ横方向電流Iq1およびIq2によるブリッジ
要素41,42,43,44,45,46および47の
加熱は、相応の抵抗値選択および熱放出に基づいて出来
るだけ僅かに保持すべきである。
方向電流Iq1によって加熱される。図6の回路の場合
と同じ調整条件が成り立つので、図7に図示の回路の機
能は、図6に図示の回路と同一である。しかし図7の回
路では、加熱フィーラ44を省略することができる。
を示す特性曲線図である。
を示す回路略図である。
路例を示す回路略図である。
加熱体温度フィーラ、 5 媒体温度フィーラ、 6
センサ素子、 7 薄膜、 8 フレーム、14,2
5,49 調整器、 30,52 支持体
Claims (18)
- 【請求項1】 少なくとも1つの加熱体(1)および少
なくとも2つの温度測定フィーラ(2,3)が、前記加
熱体(1)が前記温度測定フィーラ(2,3)を加熱す
るように配置されている、媒体流中に位置しているセン
サ素子(6)を備え、その都度前記少なくとも1つの温
度測定フィーラ(2)は流れの方向において前記加熱体
(1)の前に位置しておりかつ前記少なくとも1つの温
度測定フィーラ(3)は流れの方向において前記加熱体
(1)の後に位置しており、かつ前記温度測定フィーラ
(2,3)の信号の測定によってセンサ信号を形成する
評価手段と、前記加熱体(1)の過温度、即ち前記媒体
流に対する温度差を調整する調整手段とを備えている、
流量センサにおいて、 前記調整手段は、前記加熱体(1)の過温度を前記媒体
流の温度に依存して調整することを特徴とする流量セン
サ。 - 【請求項2】 調整手段は加熱体(1)の過温度を、流
れる媒体の熱伝導、熱容量および粘性の温度依存性の影
響がセンサ特性曲線に補償されているように、調整する
請求項1記載の流量センサ。 - 【請求項3】 調整手段は、加熱体(1)の温度を測定
する加熱体温度フィーラ(4)を有する請求項1または
2記載の流量センサ。 - 【請求項4】 調整手段は、流れる媒体の温度を測定す
る媒体温度フィーラ(5)を有する請求項1から3まで
のいずれか1項記載の流量センサ。 - 【請求項5】 加熱体(1)、加熱体温度フィーラ
(4)および温度測定フィーラ(2,3)は、単結晶の
シリコンから成るフレーム(8)に固定されている薄
い、誘電体の薄膜(7)上に配置されている請求項1か
ら4までのいずれか1項記載の流量センサ。 - 【請求項6】 加熱体(1)は、オーミック抵抗として
実現されている請求項1から5までのいずれか1項記載
の流量センサ。 - 【請求項7】 温度測定フィーラ(2,3)、媒体温度
フィーラ(5)および加熱体温度フィーラ(4)は、温
度に依存する抵抗として実現されている請求項1から6
までのいずれか1項記載の流量センサ。 - 【請求項8】 温度測定フィーラ(2,3)、媒体温度
フィーラ(5)および加熱体温度フィーラ(4)は、同
一の材料から成る請求項7記載の流量センサ。 - 【請求項9】 評価手段は、給電電圧(10)間に存在
する、2つのブリッジアームを有するブリッジ回路とし
て構成されており、一方のブリッジアームにおいて2つ
の温度測定フィーラ(2,3)が直列に接続されており
かつ他方のブリッジアームにおいて2つの別の抵抗(1
1,12)が直列に接続されており、かつ前記2つのブ
リッジアームの中間タップ(13)の信号から差形成に
よってセンサ信号が形成される接続7または8記載の流
量センサ。 - 【請求項10】 加熱体(1)の温度に対する調整手段
は、給電電圧(20)間に存在する2つの、ブリッジア
ームを有するブリッジ回路として構成されており、かつ
一方のブリッジアームにおいて媒体温度フィーラ(5)
が少なくとも1つの別の抵抗(22)に直列に接続され
ておりかつ他方のブリッジアームにおいて加熱体温度フ
ィーラ(4)が少なくとも1つの別の抵抗(21)に直
列に接続されており、かつ前記2つのブリッジアームの
中間タップ(23)の信号から差形成によって加熱体温
度の制御のための信号を形成する請求項6から9までの
いずれか1項記載の流量センサ。 - 【請求項11】 2つの別の抵抗(21,22)の1つ
は調整可能でありかつ少なくとも1つの付加的な調整可
能な抵抗(24)が媒体温度フィーラ(5)に直列に接
続されている請求項10記載の流量センサ。 - 【請求項12】 媒体温度フィーラ(5)、加熱体温度
フィーラ(4)および別の抵抗(21,22)は、抵抗
値の種々異なった温度依存性を有する請求項10記載の
流量センサ。 - 【請求項13】 正の係数を有する2次の多項式によっ
て近似的に表される、加熱温度(TH)と媒体温度
(TM)との間の関係を発生する回路装置が設けられて
いる請求項1から12までのいずれか1項記載の流量セ
ンサ。 - 【請求項14】 依存性は次式: TH=a0+a1*TM+a2*TM 2 によって表され、ただし係数a0,a1,a2は零より
大きい請求項13記載の流量センサ。 - 【請求項15】 温度に無関係な抵抗(41,45,4
7)は、膜抵抗または厚膜プレーナ抵抗として実現され
ておりかつ残りの抵抗は逆方向においても同じ温度特性
を有するオーミック抵抗として実現されており、その際
温度に無関係な抵抗が整合される請求項13または14
記載の流量センサ。 - 【請求項16】 回路装置は、加熱温度(TH)と媒体
温度(TM)との間の関係を自動的に電子的に調整する
請求項13から15までのいずれか1項記載の流量セン
サ。 - 【請求項17】 加熱温度(TH)と媒体温度(TM)と
の間の所望の関係を発生するための回路装置および評価
手段は、ブリッジ回路を形成しかつ抵抗(41),(4
2),(43),(44)は第1ブリッジアームを形成
しかつ抵抗(45),(46),(47)は第2ブリッ
ジアームを形成し、調整器(49)にブリッジ電圧が供
給されかつ前記調整器(49)の出力側はアースに接続
されておりかつ抵抗(50)を介して反転入力側に帰還
結合されている請求項16記載の流量センサ。 - 【請求項18】 加熱温度(TH)と媒体温度(TM)と
の間の所望の関係を発生するための回路装置および評価
手段は、ブリッジ回路を形成しかつ抵抗(41),(4
2),(43),(48)は第1ブリッジアームを形成
しかつ抵抗(45),(46),(47)は第2ブリッ
ジアームを形成し、調整器(49)にブリッジ電圧が供
給されかつ前記調整器(49)の出力側は前記ブリッジ
アームの抵抗(41),(47)に接続されておりかつ
抵抗(50)を介して反転入力側に帰還結合されている
請求項16記載の流量センサ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4223968 | 1992-07-21 | ||
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