JPH0616173B2 - 感光性樹脂およびそれから作られたエレメント - Google Patents

感光性樹脂およびそれから作られたエレメント

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JPH0616173B2
JPH0616173B2 JP2306964A JP30696490A JPH0616173B2 JP H0616173 B2 JPH0616173 B2 JP H0616173B2 JP 2306964 A JP2306964 A JP 2306964A JP 30696490 A JP30696490 A JP 30696490A JP H0616173 B2 JPH0616173 B2 JP H0616173B2
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は、芳香族ジアゾニウム塩の新規感光性縮合物、
その製法および新規感光性生成物の少なくとも１種を含
有する複製層をその上に有する支持体を具備する感光性
複製材料に関する。
単一コピー、印刷版、スクリーン印刷、カラー校正箔の
製造および複製技術における他の応用に有用である複製
材料を増感するための感光性芳香族ジアゾニウム化合物
を使用することは既知である。
混合ジアゾ縮合物に関する米国特許第３，８６７，１４
７号明細書、第３，６７９，４１９号明細書および第
３，８４９，３９２号明細書は、従来技術のジアゾ化合
物およびそれから作られた複製層の不利を解消する進歩
を記載している。
感光性平版印刷版を作るための感光剤として通常既知の
ジアゾニウム化合物は、特定の性質に応じて２種類に分
けることができる。即ち、一方の種類は、露光または露
出によって親油性物質に分解することができるジアゾニ
ウム化合物であり且つ他方の種類は露光によってアルカ
リ可溶性物質に転化することができるジアゾ化合物であ
る。前者の種類の化合物を含有する組成物を親水性支持
体上に適用し、支持体を透明または半透明ネガ原稿を通
して露光する時に、露光部のみが疎水性および親有機
性、即ち、撥水性およびインキ受容性にされ、そして未
露光部は、水またはホスフェート溶液で容易に除去で
き、それによってネガ画像が得ることができる。このよ
うなシステムは、米国特許第２，７１４，０６６号明細
書に詳述されている。一方、後者の種類の化合物を含有
する組成物を有機溶媒中で溶解し、親水性支持体に適用
し、露光後にアルカリ性溶液によって現像する時には、
露光部は、溶解されてポジ画像を与える。このようなシ
ステムは、米国特許第３，０４６，１２２号明細書およ
び第３，０４６，１２３号明細書に詳述されている。
前記米国特許明細書に記載の化合物は、低分子量化合物
であり、従って、このような化合物を個々に使用するな
らば、結晶性形態で付着し、このことは得られる画像の
機械的強さを下げ且つ長い印刷機走行を達成することを
困難にさせる。従って、フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂、セラック、スチレン−無水マレイン酸樹脂などの
樹脂は、感光性層が結晶化するのを防止し且つ機械的強
さの弱化を補償するために化合物用担体として使用され
ている。しかしながら、感光剤以外の材料を感光性層に
配合するならば、現像に対する感光性層の鮮鋭さを減少
する傾向がある。このような困難を解消するためには、
感光剤自体を高分子量化合物に転化することが、米国特
許第３，０４６，１２０号明細書に開示されている。し
かしながら、アルミニウムプレートを支持体として使用
するならば、前記米国特許の明細書に記載の化合物とア
ルミニウムとの接着性は、低く、このことは画像の機械
的強さを減少し、従って、このようなプレートの実用的
価値は低い。
それゆえ、本発明の目的は、前記欠点を伴わない改良感
光剤を含有する感光性平版印刷版を提供することにあ
る。本発明の他の目的は、他のフィルム形成剤を添加す
る必要なしに十分なフィルム強度を有する被覆物を形成
し並びにアルミニウムプレートとその上の被覆物との間
の接着性を増大することにある。更に他の目的は、高分
子状態に転化することができるのと同時に良好なフィル
ム形成能力を有することができる増感剤を提供すること
にある。
それによって調製される感光性樹脂は、追加の結合性樹
脂の使用を必要とせずに同時に感光性化合物としてと共
に結合剤樹脂としても有効に作用する。
発明の概要 本発明は、式 （式中、ＲはフェニルおよびＣ1〜Ｃ4アルキル置換フェ
ニルからなる群から選ばれ； Ｋは −Ｓ−、−Ｏ−、および−ＣＨ2−からなる群から選ば
れるか不在であり； ＰおよびＰ1はＣ1〜Ｃ4アルキル、メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ、およびＨからなる群から選ばれ； Ｐ1はＰと同じでも異なっていてもよく； Ｘ-はスルホネート陰イオンであり； ｎは約５０〜１５００である） を有する高分子化合物を提供する。
また、本発明は、基体、および該基体上に被覆された感
光性組成物を具備する写真エレメントであって、前記組
成物は前記化合物を含むことを特徴とする写真エレメン
トを提供する。
なお更に、本発明は、式 （式中、ＲはフェニルおよびＣ1〜Ｃ4アルキル置換フェ
ニルからなる群から選ばれ； Ｋは −Ｓ−、−Ｏ−、および−ＣＨ2−からなる群から選ば
れるか不在であり； ＰおよびＰ1はＣ1〜Ｃ4アルキル、メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ、およびＨからなる群から選ばれ； Ｐ1はＰと同じでも異なっていてもよく； Ｘ-はスルホネート陰イオンであり； ｎは約５０〜１５００である） を有する高分子化合物を製造するにあたり、分子量約
５，０００〜約１００，０００および加水分解約７５〜
約９０重量％を有するポリ（ビニルアルコール／酢酸ビ
ニル）共重合体を準備し、前記共重合体を酸の存在下で
十分な量の芳香族アルデヒド塩と反応させて、反応体の
芳香族ケタール酸縮合物を与え、次いで、前記ケタール
縮合物を十分な量の塩基で処理してケタール縮合物塩を
生成し、次いで、前記ケタール縮合物塩を十分な量の感
光性ジアゾニウム塩単量体と反応させて、前記塩類間で
イオン交換を行い、それによってジアゾニウム化合物基
を前記ケタール縮合物の芳香環上に置換することを特徴
とする高分子化合物の製法を提供する。
好ましい態様の具体的な説明 本発明の感光性樹脂の生成において、ポリ（ビニルアル
コール／酢酸ビニル）共重合体で始める。
本発明で有用な結合剤樹脂の生成用出発物質として有用
なポリビニルアルコール／ポリ酢酸ビニル共重合体は、
加水分解約７５〜約９０重量％および好ましくは平均分
子量（ＡＭＷ）約５，０００〜約１００，０００を有す
るものである。本願で使用する加水分解は、重量基準で
あって、モル基準ではない。このような共重合体は、当
業者に既知の方法によって容易に合成されるか、市販さ
れている。好適な共重合体としては、ペンシルベニア州
アレンタウンのエア・プロダクツ・カンパニーから入手
できるビノール（Vinol）５２３（ＡＭＷ ７０，００
０）およびビノール２０５（ＡＭＷ ２６，０００）；
デラウェア州ウィルミングトンのデュポンから入手でき
るエルバノール（Elvanol）５２−２２（ＡＭＷ ７
２，０００）；ミズーリ州セントルイスのモンサント・
カンパニーから入手できるゲルバトール（Gelvatol）２
０−３０（ＡＭＷ １０，０００）、ゲルバトール２０
−６０（ＡＭＷ １０，０００）およびゲルバトール２
０−９０（ＡＭＷ ９０，０００）が挙げられる。好ま
しくは、共重合体は、平均分子量約１０，０００〜約９
５，０００を有する。
前記樹脂を製造するためのプロセス工程は、先ずポリビ
ニルアルコール／ポリ酢酸ビニル共重合体を水と水性酸
との混合物に溶解して反応液を調製することを包含す
る。
酸性化混合物に芳香族アルデヒド塩を加え、それによっ
て環式ケタール縮合物を生成する。次いで、これは、ア
ルカリで再塩基化して反応混合物を急冷し、環式ケター
ル縮合物塩を生成する。次いで、これは、ジアゾニウム
塩と反応させて、イオン交換を行い、それによって樹脂
は感光性ジアゾ機能を獲得する。
縮合は、通常、強酸媒体中で実施する。好適な酸として
は、濃度７０〜１００％のＨ3ＰＯ4、Ｈ2ＳＯ4、ＨＣ
ｌ、ＨＢｒ、ＨＰＦ6、Ｈ3ＰＯ3、ＨＢＦ4が挙げられ
る。好ましい酸は、Ｈ3ＰＯ4およびＨ2ＳＯ4である。
Ｈ2ＳＯ4の場合には、この酸を使用する時には、９６％
ｗ／ｗが好ましい濃度である。
好ましい芳香族アルデヒドとしては、排他的ではなく、
ベンズアルデヒドのｏ−スルホン酸、ベンズアルデヒド
のｐ−スルホン酸およびベンズアルデヒドのｏ−スルホ
ン酸とベンズアルデヒドのｐ−スルホン酸との混合物が
挙げられる。
好ましい態様においては、等モル量は必要とされない
が、大体等モル量のポリ（ビニルアルコール／酢酸ビニ
ル）およびアルデヒドが使用され、即ち、共重合体の反
復単量体基当たり１個のアルデヒド基が使用される。例
えば、或る状況においては、アルデヒドが共重合体鎖に
沿って離間した方式で反応する交互重合体を与えること
が望ましいことがある。このようにして生成された中間
体は、スルホン酸側基によって置換された芳香族アルデ
ヒドの塩を有することが見出される。アルカキ金属水酸
化物などの好適な塩基との反応によって塩に戻す。次い
で、この後者の成分は、塩部位でのイオン交換によって
ジアゾニウム塩と縮合する。好適なジアゾニウム塩の非
排他的例は、式 （式中、ＲはフェニルおよびＣ1〜Ｃ4アルキル置換フェ
ニルからなる群から選ばれ； −Ｋ−は −Ｓ−、−Ｏ−、および−ＣＨ2−からなる群から選ば
れるか不在であり； ＰおよびＰ1はＣ1〜Ｃ4アルキル、メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ、およびＨからなる群から選ばれ； Ｐ1はＰと同じでも異なっていてもよく； Ｙ-は陰イオンである） によって表わすことができる。
Ｒ1が前記式中で置換フェニルである場合には、置換基
は、好ましくはパラ位に配置され且つ好ましい置換基
は、メチルであり、即ち、Ｒ1はｐ−トリルである。
好ましい陰イオンは、ＳＯ4 -、ＳＯ3 -、ＰＯ4 -、Ｃ
ｌ-、Ｂｒ-、Ｆ-、およびＮＯ3 -からなる群から選ばれ
る。
個々の好適なジアゾ単量体としては、制限せずに下記の
ものが挙げられる： 塩化ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム、 臭化ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム、 硫酸ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム、 硫酸３−メトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 塩化３−メトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 臭化３−メトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 塩化３−エトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 臭化３−エトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 硫酸３−エトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 塩化２−メトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 硫酸２−メトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 硫酸４−メトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 塩化４−メトキシ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 塩化４−メチル−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 硫酸４−メチル−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 塩化３−メチル−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 硫酸３−メチル−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 塩化３−エチル−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 塩化３，３′−ビス−メチル−ジフェニルアミン−４−
ジアゾニウム、 塩化３−メチル−６−メトキシ−ジフェニルアミン−４
−ジアゾニウム、 硫酸２−メチル−５−クロロ−ジフェニルアミン−４−
ジアゾニウム、 硫酸３−クロロ−ジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム、 ジフェニルアミン−４−ジアゾニウムクロリド−２−カ
ルボン酸、 塩化３−イソプロピルオキシ−ジフェニルアミン−４−
ジアゾニウム、 塩化４−ｎ−ブチルオキシ−ジフェニルアミン−４−ジ
アゾニウム、 塩化２，５−ジエトキシ−ジフェニルアミン−４−ジア
ゾニウム、 塩化４−メトキシ−２−エトキシ−ジフェニルアミン−
４−ジアゾニウム、 塩化３−イソアミルオキシ−ジフェニルアミン−４−ジ
アゾニウム、 塩化３，４−ジメトキシ−ジフェニルアミン−４−ジア
ゾニウム、 塩化２−ｎ−プロピルオキシ−ジフェニルアミン−４−
ジアゾニウム、 塩化２−ｎ−ブチルオキシ−ジフェニルアミン−４−ジ
アゾニウム、 塩化４−（４−メトキシ−フェニルメルカプト）−２，
５−ジエトキシベンゼンジアゾニウム。
追加の好適なジアゾ単量体としては、下記のものが挙げ
られる： 塩化４−ジアゾ−２，５−ジエトキシ−１−（４−トリ
ルメルカプト）ベンゼン、 硫酸４−ジアゾ−２，５−ジエトキシ−１−（４−トリ
ルメルカプト）ベンゼン、 臭化４−ジアゾ−２，５−ジエトキシ−１−（４−トリ
ルメルカプト）ベンゼン、 塩化ｐ−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルアニリン、 硫酸ｐ−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルアニリン、 臭化ｐ−ジアゾ−Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルアニリン。
本明細書で示す陰イオンは、大抵の場合には、交換でき
且つ前記ジアゾ単量体の場合の一般式で与えた陰イオン
から選んでもよいことを理解すべきである。
縮合反応を実施する際に、ジアゾ単量体は、例えば、リ
ン酸塩、塩化物、臭化物、硫酸塩、硝酸塩またはフッ化
物は、使用される。
例示の反応スキームとして、１つの感光性樹脂は、下記
方法によって調製してもよい。類似であるが異なる出発
物質は、類似の結果を生ずるであろうし且つ特定の反応
の詳細は、当業者に明らかであろう。
（式中、ｎは約５０〜１５００である） 本発明に従って調製した感光性ジアゾニウム重合体は、
常法で複製層で使用してもよい。それらは、水または溶
媒に溶解し、支持体上に被覆して印刷版、カラー校正
箔、印刷回路図用レジストなどを形成してもよい。
ジアゾニウム含有樹脂は、好ましくは、本発明の被覆組
成物に固形分約１〜約２０重量％で存在し且つ最も好ま
しくはジアゾニウム塩は固形分約１％〜約５％で存在す
る。
場合によって本発明の被覆組成物に配合してもよい他の
成分としては、酸安定剤、結合剤、露光指示薬、可塑
剤、光活性剤、湿潤剤および着色剤が挙げられる。
かかるものは、米国特許第３，６７９，４１９号明細書
に記載されている。
本発明の文脈内で有用な好適な酸安定剤としては、リン
酸、クエン酸、安息香酸、ｍ−ニトロ安息香酸、ｐ（ｐ
−アニリノフェニルアゾ）ベンゼンスルホン酸、４，
４′−ジニトロ−２，２′−スチルベンジスルホン酸、
イタコン酸、酒石酸およびｐ−トルエンスルホン酸およ
びそれらの混合物が挙げられる。好ましくは、酸安定剤
は、リン酸である。使用する時には、酸安定剤は、放射
線重合性組成物に存在し、好ましくは組成物の約０．０
２〜約２．０重量％、最も好ましくは約０．０５％〜約
１．０％の量で存在する（当業者は所望ならばそれ以上
またはそれ以下を使用できるけれども）。本発明と協力
して有用であることがある露光指示薬（または光画像形
成剤）としては、４−フェニルアゾジフェニルアミン、
エオシン、アゾベンゼン、カルコジン（Calcozine）フ
クシン染料およびクリスタルバイオレットおよびメチレ
ンブルー染料が挙げられる。好ましくは、露光指示薬
は、４−フェニルアゾジフェニルアミンである。露光指
示薬は、使用する時には、好ましくは組成物に約０．０
１〜約０．３５重量％の量で存在する。より好ましい範
囲は、約０．０２％〜約０．３０％であり且つ最も好ま
しくは露光指示薬は約０．０２％〜約０．２０％の量で
存在する（当業者は所望ならばそれ以上またはそれ以下
を使用できるけれども）。
ここで有用な着色剤としては、ローダミン、カルコジ
ン、ビクトリアブルー、メチルバイオレットなどの染
料、およびアントラキノン、フタロシンニン型などの顔
料が挙げられる。一般に、着色剤は、好適な溶媒または
溶媒の混合物に分散された１種以上の顔料および／また
は１種以上の染料の混合物を含む顔料分散液の形態で存
在する。着色剤を使用する時には、着色剤は、好ましく
は本発明の組成物に約２．０〜約３５．０重量％、より
好ましくは約５．０％〜約３０．０％、最も好ましくは
約５．０％〜約２５．０％の量で存在する（当業者は所
望ならばそれ以上またはそれ以下を使用できるけれど
も）。
写真エレメントの製造用被覆組成物を調製するために
は、本発明の組成物は、溶媒または溶媒の混合物に混合
物で溶解して、組成物の基体への適用を容易にしてもよ
い。この目的で好適な溶媒としては、水、テトラヒドロ
フラン、ブチロラクトン、グリコールエーテル、例え
ば、プロプレングリコールモノメチルエーテルおよびメ
イルセロソルブ、アルコール、例えば、エタノールおよ
びｎ−プロパノール、およびケトン、例えば、メチルエ
チルケトン、またはそれらの混合物が挙げられる。好ま
しくは、溶媒は、テトラヒドロフランとプロピレングリ
コールモノメチルエーテルとブチルラクトンとの混合物
からなる。一般に、溶媒系は、一旦適当な基体上に適用
したら、被覆組成物から蒸発するが、有意ではない若干
の量の溶媒が、残渣として残ることがある。
カラー校正フィルム、フォトレジスト、平版印刷版など
の写真エレメントを形成するために本発明の組成物で被
覆するのに有用な基体としては、透明フィルムのシー
ト、例えば、ポリエステル、アルミニウムおよびその合
金および他の金属、シリコンおよび技術上周知の同様の
材料のシートが挙げられる。好ましくは、基体は、アル
ミニウムからなる。基体は、先ず、技術上周知のような
標準木目塗および／またはエッチングおよび／または陽
極処理技術によって前処理してもよく、そしてまた親水
化剤として使用するのに好適なポリビニルホスホン酸、
ケイ酸ナトリウムなどの組成物で処理しても処理しなく
ともよい。
平版印刷版などの写真エレメントの製造においては、ア
ルミニウム基体は、先ず、好ましくは技術上認められた
方法により、例えば、ワイヤーブラシ、粒状物のスラリ
ーにより、または化学的または電気化学的手段により、
例えば、塩酸を含む電解液中で化学的または電気化学的
手段により木目塗りする。次いで、木目塗りされたプレ
ートは、好ましくは、例えば、技術上周知の方法で硫酸
またはリン酸中で陽極処理する。次いで、木目塗りされ
且つ場合によって陽極処理された表面は、好ましくは当
業者に既知でもある手段によりポリビニルホスホン酸で
の処理によって親水性にさせる。次いで、このようにし
て調製されたプレートは、好ましくは塗布量約０．５ｇ
／ｍ2〜約２．５ｇ／ｍ2、より好ましくは約０．８ｇ／
ｍ2〜約２．０ｇ／ｍ2、最も好ましくは約１．０ｇ／ｍ
2で本発明の組成物で被覆してカラー校正フィルム、フ
ォトレジスト、平版印刷版などの写真エレメントを形成
する。このようなものとしては、透明フィルムのシー
ト、例えば、ポリエステル、アルミニウムおよびその合
金および他の金属、シリコンおよび技術上周知の同様の
材料のシートが挙げられる。好ましくは、基体は、アル
ミニウムからなる。基体は、先ず、技術上周知のような
標準木目塗および／またはエッチングおよび／または陽
極処理技術によって前処理してもよく、そしてまた親水
化剤として使用するのに好適なポリビニルホスホン酸、
ケイ酸ナトリウムなどの組成物で処理しても処理しなく
ともよい。
好ましくは、このようにして調製された写真エレメント
は、ネガ試験フラットを通して化学線に露光して、現像
後に２１ステップスタウファー（Stouffer）露光ウェッ
ジ上のベタ６を形成する。次いで、露光されたプレート
は、下記群の１種以上を含有する水溶液からなる現像液
などの好適な無有機溶媒水性現像液組成物で現像する。
（ａ）オクチルモノ硫酸、デシルモノ硫酸またはドデシ
ルモノ硫酸のナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム
塩、 （ｂ）ナトリウム、リチウム、カリウムまたはアンモニ
ウムのメタケイ酸塩、 （ｃ）リチウム、カリウム、ナトリウムまたはアンモニ
ウムのホウ酸塩、および （ｄ）炭素数２〜無の脂肪族ジカルボン酸、またはその
ナトリウム塩、カリウム塩またはアンモニウム塩、およ
び （ｅ）モノ−、ジ−またはトリ−ナトリウムまたはカリ
ウムのリン酸塩。
他の好適な現像液としては、水、安息香酸または安息香
酸ナトリウム、安息香酸リチウムおよび安息香酸カリウ
ムおよびそれらのヒドロキシ置換類似体並びに米国特許
第４，４３６，８０７号明細書に記載の現像液が挙げら
れる。
通常の用途においては、現像されたプレートは、親水性
重合体などのサブトラクティブ仕上剤（subtractive fi
nisher）で仕上げる。例としては、米国特許第４，２１
３，８８７号明細書によって教示のような冷水可溶性デ
キストリンおよび／またはポリビニルピロリドン、非イ
オン界面活性剤、保湿剤、無機塩および水が挙げられ
る。
前記のように調製されたプレートのプレス性能を改善す
る目的で、露光現像プレートのベーキングは、他の方法
で得ることができるものを超える品質の刷数の増大を生
ずることができることが既知である。プレートを適当に
ベーキングするためには、プレートは、先ずベーキング
時に背景の親水性の損失を防止しようとする溶液で処理
する。有効な溶液の例は、米国特許第４，３５５，０９
６号明細書に開示されている。次いで、このようにして
調製されたプレートは、約１８０℃から基体の焼純温度
まで、最も好ましくは約２４０℃の温度でベーキングす
ることによって熱処理する。有効なベーキング時間は、
温度に反比例し、平均約２〜約１５分である。２４０℃
においては、時間は約７分である。
下記例は、本発明を例示するものであるが、本発明をそ
のに限定するものではないことが理解される。例で調製
されたプレートは、酸素バリヤー層を有しておらず、窒
素バリヤー環境で加工もしなかった。
例１ 加熱しながら、ゲルバトール２０／３０（１４．８ｇ；
０．２モル）およびｏ−ベンズアルデヒドスルホン酸ナ
トリウム１０．４ｇ（０．０５〜モル）を水約２５０ml
に溶解する。濃硫酸５mlを反応混合物に加え、４時間９
０〜９５℃に加熱する。反応混合物を室温に冷却する。
ガム状白色固体をアセトンで沈殿する（塩化ナトリウム
での水相の塩析）。固体は水に再溶解し、水酸化ナトリ
ウムで中和する（わずかに塩基性、pH７．２）。白色固
体は、アセトンで沈殿する。この反応生成物の１０％公
称溶液を調製する。水中の塩化ｐ−ジアゾジフェニルア
ミン塩の１０％溶液も、調製する。２種の溶液を攪拌下
に加え、黄褐色の固体が得られる。過剰の水を注ぎ出
し、反応生成物を溶解して固定分２〜３％溶液を調製す
る。曇った溶液が認められる。ワーラーコーターを使用
して、溶液をエッチングしていない陽極処理されたアル
ミニウムのシート上に被覆し、乾燥し、それによって平
版印刷版を製造する。版を２０ＢＡＵ露光し、水で現像
する。現像は、温和な研磨で約１分で完了して、インキ
受容性である画像を製造する。
比較例１ 純粋な未反応ｐ−ジアゾジフェニルアミン溶液をアルミ
ニウムシート上に被覆する以外は、前記例を繰り返す。
現像を露光後に試みる時には、露光部と未露光部との両
方を含めて全被覆物が除去される。有効な平版印刷版
は、製版できない。
比較例２ ゲルバトール２０／３０との混合物での純粋な未反応ｐ
−ジアゾジフェニルアミン溶液をアルミニウムシート上
に被覆する以外は、前記例を繰り返す。現像を露光後に
試みる時には、露光部と未露光部との両方を含めて全被
覆物が除去される。有効な平版印刷版は、製版できな
い。

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式 （式中、ＲはフェニルおよびＣ1〜Ｃ4アルキル置換フェ
    ニルからなる群から選ばれ； Ｋは −Ｓ−、−Ｏ−、および−ＣＨ2−からなる群から選ば
    れるか不在であり； ＰおよびＰ1はＣ1〜Ｃ4アルキル、メトキシ、エトキ
    シ、ブトキシ、およびＨからなる群から選ばれ； Ｐ1はＰと同じでも異なっていてもよく； Ｘ-はスルホネート陰イオンであり； ｎは約５０〜１５００である） を有する高分子化合物。
  2. 【請求項２】ＫがＮＨであり、Ｒがフェニルであり、Ｐ
    およびＰ1がＨである、請求項１に記載の化合物。
  3. 【請求項３】基体、および該基体上に被覆された感光性
    組成物を具備する写真エレメントであって、前記組成物
    は請求項１に記載の化合物を含むことを特徴とする写真
    エレメント。
  4. 【請求項４】前記組成物が、溶媒、酸安定剤、露光指示
    薬、結合性樹脂、可塑剤、光活性剤および着色剤からな
    る群から選ばれる１種以上の追加成分を更に含む、請求
    項３に記載のエレメント。
  5. 【請求項５】前記基体が、透明フィルム、高分子物質、
    金属、ケイ素および半導体材料からなる群から選ばれる
    １種以上の成分からなる、請求項３に記載のエレメン
    ト。
  6. 【請求項６】前記基体が、ポリエチレンテレフタレート
    からなる、請求項３に記載のエレメント。
  7. 【請求項７】前記基体が、アルミニウムからなる、請求
    項３に記載のエレメント。
  8. 【請求項８】前記アルミニウム基体が、陽極処理、木目
    塗および親水化からなる群から選ばれる１以上のプロセ
    スで処理された表面を有している、請求項７に記載のエ
    レメント。
  9. 【請求項９】ＫがＮＨであり、Ｒがフェニルであり、Ｐ
    およびＰ1がＨである、請求項３に記載のエレメント。
  10. 【請求項１０】式 （式中、ＲはフェニルおよびＣ1〜Ｃ4アルキル置換フェ
    ニルからなる群から選ばれ； Ｋは −Ｓ−、−Ｏ−、および−ＣＨ2−からなる群から選ば
    れるか不在であり； ＰおよびＰ1はＣ1〜Ｃ4アルキル、メトキシ、エトキ
    シ、ブトキシ、およびＨからなる群から選ばれ； Ｐ1はＰと同じでも異なっていてもよく； Ｘ-はスルホネート陰イオンであり； ｎは約５０〜１５００である） を有する高分子化合物を製造するにあたり、分子量約
    ５，０００〜約１００，０００および加水分解約７５〜
    約９０重量％を有するポリ（ビニルアルコール／酢酸ビ
    ニル）共重合体を準備し、前記共重合体を酸の存在下で
    十分な量の芳香族アルデヒド塩と反応させて、反応体の
    芳香族ケタール酸縮合物を生成し、次いで、前記ケター
    ル縮合物を十分な量の塩基で処理してケタール縮合物塩
    を生成し、次いで、前記ケタール縮合物塩を十分な量の
    感光性ジアゾニウム塩単量体と反応させて、前記塩類間
    でイオン交換を行い、それによってジアゾニウム化合物
    基を前記ケタール縮合物の芳香環上に置換することを特
    徴とする高分子化合物の製法。
  11. 【請求項１１】前記酸が、Ｈ2ＳＯ4、Ｈ3ＰＯ4、ＨＣ
    ｌ、ＨＢｒ、ＨＰＦ6、Ｈ3ＰＯ3、およびＨＢＦ4からな
    る群から選ばれる、請求項１０に記載の方法。
  12. 【請求項１２】前記塩基が、アルカリ金属水酸化物であ
    る、請求項１０に記載の方法。
  13. 【請求項１３】前記アルデヒドが、芳香族アルデヒドス
    ルホン酸塩からなる群から選ばれる、請求項１０に記載
    の方法。
  14. 【請求項１４】前記ジアゾニウム塩単量体が、式 （式中、ＲはフェニルおよびＣ1〜Ｃ4アルキル置換フェ
    ニルからなる群から選ばれ； −Ｋ−は −Ｓ−、−Ｏ−、および−ＣＨ2−からなる群から選ば
    れるか不在であり； ＰおよびＰ1はＣ1〜Ｃ4アルキル、メトキシ、エトキ
    シ、ブトキシ、およびＨからなる群から選ばれ； Ｐ1はＰと同じでも異なっていてもよく； Ｙ-は陰イオンである） を有する、請求項１０に記載の方法。
  15. 【請求項１５】陰イオンが、ＳＯ4 -、ＳＯ3 -、ＰＯ4 -、
    Ｃl-、Ｆ-、およびＮＯ3 -からなる群から選ばれる、請
    求項１４に記載の方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3304297A (en) * 1959-02-12 1967-02-14 Ciba Ltd Dyestuffs consisting of organic dyestuffs bound to polyhydroxylated organic polymers
US3720653A (en) * 1965-05-13 1973-03-13 Oreal Colored interpolymers of an epoxy compound,vinylpyrrolidone and vinyl acetate
US4272620A (en) * 1978-08-09 1981-06-09 Agency Of Industrial Science And Technology Polyvinyl alcohol-styrylpyridinium photosensitive resins and method for manufacture thereof
JPS56147804A (en) * 1980-04-17 1981-11-17 Agency Of Ind Science & Technol Photosensitive resin material for forming fluorescent surface of cathode ray tube

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DE69018775D1 (de) 1995-05-24
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