JPH06162443A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH06162443A JPH06162443A JP5192202A JP19220293A JPH06162443A JP H06162443 A JPH06162443 A JP H06162443A JP 5192202 A JP5192202 A JP 5192202A JP 19220293 A JP19220293 A JP 19220293A JP H06162443 A JPH06162443 A JP H06162443A
- Authority
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- Japan
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- magnetic head
- head
- magnetic
- head surface
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/102—Manufacture of housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/255—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features comprising means for protection against wear
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/40—Protective measures on heads, e.g. against excessive temperature
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐磨耗性で、耐蝕性のヘッド面を有する磁気
ヘッドを提供する。 【構成】 ヘッド面(5)を有し、且つ薄層で構成される
と共にヘッド面の種々の個所に種々の材料が存在する変
換素子が設けられているヘッド構体を具える磁気ヘッド
のヘッド面に、このヘッド面における材料よりも腐蝕に
対して敏感な材料から成る第１層(31)を設け、且つこの
第１層にこの層の材料よりも腐蝕に対してずっと不感応
な耐摩耗性の材料から成る第２層(33)を設ける。この第
２層が磁気テープ(7)と共働する接触面(35)を構成す
る。
ヘッドを提供する。 【構成】 ヘッド面(5)を有し、且つ薄層で構成される
と共にヘッド面の種々の個所に種々の材料が存在する変
換素子が設けられているヘッド構体を具える磁気ヘッド
のヘッド面に、このヘッド面における材料よりも腐蝕に
対して敏感な材料から成る第１層(31)を設け、且つこの
第１層にこの層の材料よりも腐蝕に対してずっと不感応
な耐摩耗性の材料から成る第２層(33)を設ける。この第
２層が磁気テープ(7)と共働する接触面(35)を構成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ヘッド面を有し、且つ
薄層で構成されると共にヘッド面の種々の個所に種々の
材料が存在する変換素子を設けたヘッド構体を具えてい
る磁気ヘッドに関するものである。本発明は斯種の磁気
ヘッドの製造方法にも関するものである。
薄層で構成されると共にヘッド面の種々の個所に種々の
材料が存在する変換素子を設けたヘッド構体を具えてい
る磁気ヘッドに関するものである。本発明は斯種の磁気
ヘッドの製造方法にも関するものである。
【０００２】
【従来の技術】斯種の磁気ヘッドは特開昭６３−３７８
１１号公報から既知である。この従来の磁気ヘッドは基
板上に設けられる薄膜構体を有し、かつ磁気抵抗素子及
び変換ギャップを有する磁気ユークを具えている。磁気
ヘッドはヘッド面も有しており、このヘッド面にて変換
ギャップ及び磁気抵抗素子の方へと磁気情報を案内する
磁束ガイドが終端する。従来の磁気ヘッドのヘッド面は
磁気記録キャリヤ、特に磁気テープを案内するのに用い
られる。
１１号公報から既知である。この従来の磁気ヘッドは基
板上に設けられる薄膜構体を有し、かつ磁気抵抗素子及
び変換ギャップを有する磁気ユークを具えている。磁気
ヘッドはヘッド面も有しており、このヘッド面にて変換
ギャップ及び磁気抵抗素子の方へと磁気情報を案内する
磁束ガイドが終端する。従来の磁気ヘッドのヘッド面は
磁気記録キャリヤ、特に磁気テープを案内するのに用い
られる。
【０００３】層構体を有する磁気ヘッドでは、軟質材
料、特に磁束ガイドを構成する例えばパーマロイのよう
な軟磁性材料が、比較的硬質の材料、特に基板材料、例
えばＡｌ2 Ｏ3／ＴｉＣ以外に存在する。作動中にヘッ
ド面に沿って移動する記録キャリヤの摩耗作用のため
に、比較的軟質の材料がヘッド面にて摩耗し、このため
にヘッド面の層構体がへこんでしまう。このようにヘッ
ド面がへこむと、記録キャリヤと層構体との間の距離が
大きくなり、記録キャリヤから磁気ヘッドへの転送情報
が低減する。従って、ヘッド面がテープ接触面としても
作用する従来の磁気ヘッドは寿命を長くすることができ
ない。
料、特に磁束ガイドを構成する例えばパーマロイのよう
な軟磁性材料が、比較的硬質の材料、特に基板材料、例
えばＡｌ2 Ｏ3／ＴｉＣ以外に存在する。作動中にヘッ
ド面に沿って移動する記録キャリヤの摩耗作用のため
に、比較的軟質の材料がヘッド面にて摩耗し、このため
にヘッド面の層構体がへこんでしまう。このようにヘッ
ド面がへこむと、記録キャリヤと層構体との間の距離が
大きくなり、記録キャリヤから磁気ヘッドへの転送情報
が低減する。従って、ヘッド面がテープ接触面としても
作用する従来の磁気ヘッドは寿命を長くすることができ
ない。
【０００４】摩耗を抑制するために磁気ヘッドのヘッド
面上に耐摩耗層を設けること自体は既知である。欧州特
許出願公開明細書ＥＰ−ＡＵ１２３８２６には磁気ヘッ
ドのヘッド面に炭化チタン、炭化クロムまたは窒化チタ
ンのスパッタ層を０．２μｍ以下の薄層として設けるこ
とが提案されている。
面上に耐摩耗層を設けること自体は既知である。欧州特
許出願公開明細書ＥＰ−ＡＵ１２３８２６には磁気ヘッ
ドのヘッド面に炭化チタン、炭化クロムまたは窒化チタ
ンのスパッタ層を０．２μｍ以下の薄層として設けるこ
とが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、ヘッ
ド面に耐摩耗層を有している磁気ヘッドでは、記録キャ
リヤから磁気ヘッドへの情報転送が、ヘッド面上に耐摩
耗層がない対応する磁気ヘッドにおけるよりも悪くなる
と云う問題がある。磁気ヘッドの作動中に良好な出力信
号が得られるようにするためには、耐摩耗層を摩耗抑制
機能を維持するのに必要な厚さよりも薄くしないように
する必要がある。特に、１００ｎｍよりも薄い耐摩耗層
は一般に防気及び防湿性でないため、特に記録キャリヤ
からの腐蝕性反応物質が耐摩耗層の細孔を経てヘッド面
に達してしまう。特に、ＮｉＦｅ合金の如き軟磁性材料
は腐蝕性反応物質による影響を受け易いため、磁気テー
プから変換素子への情報転送が低下することになる。多
くの磁気テープは特に塩素を含有しており、こうした磁
気テープの走査中に塩素イオンが磁気テープから磁気ヘ
ッドのヘッド面に拡散して、これらのヘッド面が局所的
に腐蝕することを確かめた。
ド面に耐摩耗層を有している磁気ヘッドでは、記録キャ
リヤから磁気ヘッドへの情報転送が、ヘッド面上に耐摩
耗層がない対応する磁気ヘッドにおけるよりも悪くなる
と云う問題がある。磁気ヘッドの作動中に良好な出力信
号が得られるようにするためには、耐摩耗層を摩耗抑制
機能を維持するのに必要な厚さよりも薄くしないように
する必要がある。特に、１００ｎｍよりも薄い耐摩耗層
は一般に防気及び防湿性でないため、特に記録キャリヤ
からの腐蝕性反応物質が耐摩耗層の細孔を経てヘッド面
に達してしまう。特に、ＮｉＦｅ合金の如き軟磁性材料
は腐蝕性反応物質による影響を受け易いため、磁気テー
プから変換素子への情報転送が低下することになる。多
くの磁気テープは特に塩素を含有しており、こうした磁
気テープの走査中に塩素イオンが磁気テープから磁気ヘ
ッドのヘッド面に拡散して、これらのヘッド面が局所的
に腐蝕することを確かめた。
【０００６】本発明の目的は、耐摩耗性で、しかも耐蝕
性のヘッド面を有するように冒頭にて述べた磁気ヘッド
を改善することにある。
性のヘッド面を有するように冒頭にて述べた磁気ヘッド
を改善することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明による磁気ヘッド
は、前記ヘッド面にこのヘッド面における前記材料より
も腐蝕に対して敏感な材料製の第１層を設け、且つこの
第１層に該第１層の材料よりも腐蝕に対して遙かに不感
応性を呈する耐摩耗性の材料から成る第２層を設けたこ
とを特徴とする。
は、前記ヘッド面にこのヘッド面における前記材料より
も腐蝕に対して敏感な材料製の第１層を設け、且つこの
第１層に該第１層の材料よりも腐蝕に対して遙かに不感
応性を呈する耐摩耗性の材料から成る第２層を設けたこ
とを特徴とする。
【０００８】記録キャリヤと共働する接触面を構成する
前記第２層は本発明による磁気ヘッドが摩損及び腐蝕し
ないようにし、又ヘッド面と第２層との間に存在する第
１層は記録キャリヤから派生する塩素の如き腐蝕性の反
応物質から磁気ヘッドを保護する。ヘッド面に存在する
材料への耐摩耗性材料の付着は第１層の材料を適切に選
定することにより改善することができ、換言するに、第
１層は接着層として作用させることもできる。
前記第２層は本発明による磁気ヘッドが摩損及び腐蝕し
ないようにし、又ヘッド面と第２層との間に存在する第
１層は記録キャリヤから派生する塩素の如き腐蝕性の反
応物質から磁気ヘッドを保護する。ヘッド面に存在する
材料への耐摩耗性材料の付着は第１層の材料を適切に選
定することにより改善することができ、換言するに、第
１層は接着層として作用させることもできる。
【０００９】記録キャリヤから変換素子及び／又は変換
素子から記録キャリヤへ信号を良好に伝送するためには
前記第１及び第２層の厚さを最小とすべきである。本発
明による磁気ヘッドの第１層の厚さを１ｎｍ〜２０ｎｍ
とし、第２層の厚さを１０ｎｍ〜１００ｎｍとすれば良
好な結果が得られる。しかし、磁気ヘッドの第１層の厚
さを５ｎｍ以下とし、且つ第２層の厚さを６０ｎｍ以下
とすれば、出力損がごく僅かとなるから好適である。
素子から記録キャリヤへ信号を良好に伝送するためには
前記第１及び第２層の厚さを最小とすべきである。本発
明による磁気ヘッドの第１層の厚さを１ｎｍ〜２０ｎｍ
とし、第２層の厚さを１０ｎｍ〜１００ｎｍとすれば良
好な結果が得られる。しかし、磁気ヘッドの第１層の厚
さを５ｎｍ以下とし、且つ第２層の厚さを６０ｎｍ以下
とすれば、出力損がごく僅かとなるから好適である。
【００１０】本発明による磁気ヘッドの好適例では、前
記第１層の材料を主としてＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｚｎの群からの金属で構成す
る。これらの非磁性金属の標準還元電位値（米国の概念
規定によるＥ°値）はＦｅよりも低いため、こうした金
属はＦｅよりも腐蝕せず、従ってヘッド面にて終端する
例えばＮｉＦｅ合金（パーマロイ）の軟磁性磁束ガイド
は第１層の材料により腐蝕から防止される。ヘッド面に
は既知の蒸着法、特にスパッタリング又はＣＶＤ法の如
き物理又は化学蒸着法により金属を蒸着させることがで
きる。
記第１層の材料を主としてＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｚｎの群からの金属で構成す
る。これらの非磁性金属の標準還元電位値（米国の概念
規定によるＥ°値）はＦｅよりも低いため、こうした金
属はＦｅよりも腐蝕せず、従ってヘッド面にて終端する
例えばＮｉＦｅ合金（パーマロイ）の軟磁性磁束ガイド
は第１層の材料により腐蝕から防止される。ヘッド面に
は既知の蒸着法、特にスパッタリング又はＣＶＤ法の如
き物理又は化学蒸着法により金属を蒸着させることがで
きる。
【００１１】本発明のさらに他の好適例では、前記第２
層の材料を酸化クロム、窒化クロム、窒化ハフニウム、
窒化チタン、炭化クロム、炭化チタン、炭化タングステ
ン、ダイヤモンドの群からの材料の１つとする。こうし
た材料は良好な耐摩耗特性を呈し、しかも第１層の金属
に良好に付着する。これらの材料はスパッタ法、蒸着法
又はＣＶＤ法の如き既知の技術により第１層上に被着す
ることができる。処理技術の理由からすると、各材料の
組合わせは、チタンと窒化チタン又は炭化チタン；ハフ
ニウムと窒化ハフニウム；クロムと酸化クロム又は窒化
クロム又は炭化クロムとするのが好適である。
層の材料を酸化クロム、窒化クロム、窒化ハフニウム、
窒化チタン、炭化クロム、炭化チタン、炭化タングステ
ン、ダイヤモンドの群からの材料の１つとする。こうし
た材料は良好な耐摩耗特性を呈し、しかも第１層の金属
に良好に付着する。これらの材料はスパッタ法、蒸着法
又はＣＶＤ法の如き既知の技術により第１層上に被着す
ることができる。処理技術の理由からすると、各材料の
組合わせは、チタンと窒化チタン又は炭化チタン；ハフ
ニウムと窒化ハフニウム；クロムと酸化クロム又は窒化
クロム又は炭化クロムとするのが好適である。
【００１２】本発明による磁気ヘッドの他の好適例で
は、クロム酸化物を主としてＣｒ2 Ｏ 3 とし、第１層の
材料をＣｒとする。
は、クロム酸化物を主としてＣｒ2 Ｏ 3 とし、第１層の
材料をＣｒとする。
【００１３】この本発明による磁気ヘッドはＣｒ2 Ｏ3
を主成分とする層により形成される耐摩耗接触面を有
し、この面が記録キャリヤ、特に磁気テープと共働す
る。上記耐摩耗層の厚さを１０ｎｍ〜１００ｎｍとすれ
ば、記録キャリヤと変換素子との間の信号伝送が良好と
なる。前記接触面は５℃〜８５℃の範囲内の温度だけで
なく、５℃〜−２０℃の範囲内の温度でも良好な耐摩耗
性を呈することも確めた。このことは携帯装置及び自動
車のラジオ・カセット・レコーダの如き野外用途向けの
磁気走査装置に用いられる磁気ヘッドにとって特に重要
である。
を主成分とする層により形成される耐摩耗接触面を有
し、この面が記録キャリヤ、特に磁気テープと共働す
る。上記耐摩耗層の厚さを１０ｎｍ〜１００ｎｍとすれ
ば、記録キャリヤと変換素子との間の信号伝送が良好と
なる。前記接触面は５℃〜８５℃の範囲内の温度だけで
なく、５℃〜−２０℃の範囲内の温度でも良好な耐摩耗
性を呈することも確めた。このことは携帯装置及び自動
車のラジオ・カセット・レコーダの如き野外用途向けの
磁気走査装置に用いられる磁気ヘッドにとって特に重要
である。
【００１４】Ｃｒ2 Ｏ3を主成分とする質的にすぐれた
層は、ヘッド面上にこの層をスパッタリングすることに
より得ることができることを実験により確めた。６０ｎ
ｍ以下の層厚でもスパッタリングにより高い耐摩耗性を
達成し得ることを確めた。Ｃｒ2 Ｏ3を主成分とするス
パッターした耐摩耗層の他の利点は、この層を３００℃
以下の温度で形成し得ることにある。従って、層構体中
に存在する磁性材料の磁気特性が、前記耐摩耗層の形成
時に悪影響を受けることがない。ヘッド面上にスパッタ
リングにより形成されるＣｒ2 Ｏ3を主成分とする耐摩
耗層を有する本発明による磁気ヘッドは作動中出力信号
を良好に供給し、比較的低い温度での使用にも好適であ
り、しかも寿命が長い。
層は、ヘッド面上にこの層をスパッタリングすることに
より得ることができることを実験により確めた。６０ｎ
ｍ以下の層厚でもスパッタリングにより高い耐摩耗性を
達成し得ることを確めた。Ｃｒ2 Ｏ3を主成分とするス
パッターした耐摩耗層の他の利点は、この層を３００℃
以下の温度で形成し得ることにある。従って、層構体中
に存在する磁性材料の磁気特性が、前記耐摩耗層の形成
時に悪影響を受けることがない。ヘッド面上にスパッタ
リングにより形成されるＣｒ2 Ｏ3を主成分とする耐摩
耗層を有する本発明による磁気ヘッドは作動中出力信号
を良好に供給し、比較的低い温度での使用にも好適であ
り、しかも寿命が長い。
【００１５】Ｃｒを主成分とし、好ましくはスパッタリ
ングにより形成する約５ｎｍの厚さの層は、ヘッド面の
腐蝕を抑制すると共にＣｒ2 Ｏ3を主成分とする層をヘ
ッド面に満足のゆくように付着させるのに十分であるこ
とを確めた。
ングにより形成する約５ｎｍの厚さの層は、ヘッド面の
腐蝕を抑制すると共にＣｒ2 Ｏ3を主成分とする層をヘ
ッド面に満足のゆくように付着させるのに十分であるこ
とを確めた。
【００１６】本発明は、第１層がＣｒを主成分として構
成され、第２層がＣｒ2 Ｏ3を主成分として構成される
前記本発明による磁気ヘッドをできるだけ簡単に製造す
ることも目的とし、このために本発明方法は、Ｃｒを主
成分とする第１層をヘッド面上の少なくともヘッド構体
の上にスパッタ蒸着により形成し、且つＣｒ2 Ｏ3を主
成分とする第２層を前記第１層の上にスパッタ蒸着によ
り形成することを特徴とする。
成され、第２層がＣｒ2 Ｏ3を主成分として構成される
前記本発明による磁気ヘッドをできるだけ簡単に製造す
ることも目的とし、このために本発明方法は、Ｃｒを主
成分とする第１層をヘッド面上の少なくともヘッド構体
の上にスパッタ蒸着により形成し、且つＣｒ2 Ｏ3を主
成分とする第２層を前記第１層の上にスパッタ蒸着によ
り形成することを特徴とする。
【００１７】本発明の好適例では、前記スパッタリング
を前記第１層が形成されるまでは酸素を添加しないでク
ロムターゲットで行ない、第１層が形成された後に酸素
を供給して、前記第２層を形成する。Ｃｒを主成分とす
る層が数ナノメートルの厚さに形成された後に酸素を供
給することによりＣｒ2 Ｏ3を主成分とする層を形成し
得ることを確めた。酸素の圧力を極端に低くしなけれ
ば、この酸素の圧力がＣｒ2 Ｏ3を主成分とする耐摩耗
層の組成に悪影響を及ぼすことがなく、この耐摩耗層の
特性は処理工程の多少の変動には無関係となることも確
めた。本発明による方法の確実性を期すためには、Ｃｒ
2 Ｏ3を主成分として形成される層の厚さが約６０ｎｍ
となるまでスパッタリングを行なうことのみが必要であ
る。
を前記第１層が形成されるまでは酸素を添加しないでク
ロムターゲットで行ない、第１層が形成された後に酸素
を供給して、前記第２層を形成する。Ｃｒを主成分とす
る層が数ナノメートルの厚さに形成された後に酸素を供
給することによりＣｒ2 Ｏ3を主成分とする層を形成し
得ることを確めた。酸素の圧力を極端に低くしなけれ
ば、この酸素の圧力がＣｒ2 Ｏ3を主成分とする耐摩耗
層の組成に悪影響を及ぼすことがなく、この耐摩耗層の
特性は処理工程の多少の変動には無関係となることも確
めた。本発明による方法の確実性を期すためには、Ｃｒ
2 Ｏ3を主成分として形成される層の厚さが約６０ｎｍ
となるまでスパッタリングを行なうことのみが必要であ
る。
【００１８】なお、耐摩耗層を形成するために耐熱磁気
ヘッド上にフレームメッキによってＣｒ2 Ｏ3を形成す
ることは「ＩＢＭ テクニカル ディスクロージャ ブ
リテン」（IBM Technical Disclosure Bulletin, vol.1
1, No.10, １９６９年３月，第１１９９頁）から既知で
ある。又、特開昭６６―７３９１７号公報には、Ｃｒを
含有しているパーマロイのコアリムに厚さが０．５μｍ
以上のＣｒ酸化物層を設けること、及びＣｒを含有して
いないパーマロイのコアリム上にスパッタリングにより
Ｃｒ酸化物層を形成することが提案されている。
ヘッド上にフレームメッキによってＣｒ2 Ｏ3を形成す
ることは「ＩＢＭ テクニカル ディスクロージャ ブ
リテン」（IBM Technical Disclosure Bulletin, vol.1
1, No.10, １９６９年３月，第１１９９頁）から既知で
ある。又、特開昭６６―７３９１７号公報には、Ｃｒを
含有しているパーマロイのコアリムに厚さが０．５μｍ
以上のＣｒ酸化物層を設けること、及びＣｒを含有して
いないパーマロイのコアリム上にスパッタリングにより
Ｃｒ酸化物層を形成することが提案されている。
【００１９】
【実施例】図１、図２及び図３に示す本発明による薄膜
磁気ヘッドは、本例では磁気材料、即ちＮｉＺｎフェラ
イト製の支持体又は基板１を具え、この基板上に磁性層
と、導電層と、絶縁層とから成るヘッド構体２を設けて
いる。薄膜技法で構成されるヘッド構体２は非磁性材
料、例えばＡｌ2 Ｏ3 ／ＴｉＣ製のカウンタブロック３
により保護される。磁気ヘッドはそのヘッド面５に本例
では１１個の変換ギャップを有している。これら１１個
の変換ギャップの内の９個のギャップＳ１〜Ｓ９のグル
ープは、磁気ヘッドに沿ってｘ方向に移動する記録キャ
リヤ７におけるディジタル形態の情報を読取り、且つ一
対のギャップＳ１０及びＳ１１は前記記録キャリヤ７に
おけるアナログ形態の情報を読取るようにする。ディジ
タル用のギャップＳ１〜Ｓ９のギャップ長は一般にアナ
ログ用のギャップＳ１０及びＳ１１のギャップ長よりも
短くする。さらに、ギャップ長はアナログ及びディジタ
ル情報の双方を全く同一のギャップにより読取れるよう
に選定することができる。
磁気ヘッドは、本例では磁気材料、即ちＮｉＺｎフェラ
イト製の支持体又は基板１を具え、この基板上に磁性層
と、導電層と、絶縁層とから成るヘッド構体２を設けて
いる。薄膜技法で構成されるヘッド構体２は非磁性材
料、例えばＡｌ2 Ｏ3 ／ＴｉＣ製のカウンタブロック３
により保護される。磁気ヘッドはそのヘッド面５に本例
では１１個の変換ギャップを有している。これら１１個
の変換ギャップの内の９個のギャップＳ１〜Ｓ９のグル
ープは、磁気ヘッドに沿ってｘ方向に移動する記録キャ
リヤ７におけるディジタル形態の情報を読取り、且つ一
対のギャップＳ１０及びＳ１１は前記記録キャリヤ７に
おけるアナログ形態の情報を読取るようにする。ディジ
タル用のギャップＳ１〜Ｓ９のギャップ長は一般にアナ
ログ用のギャップＳ１０及びＳ１１のギャップ長よりも
短くする。さらに、ギャップ長はアナログ及びディジタ
ル情報の双方を全く同一のギャップにより読取れるよう
に選定することができる。
【００２０】本発明による磁気ヘッドは基板１上に設け
た絶縁層９を具えており、この絶縁層に本例では変換ギ
ャップ内に延在し得る３つの導体Ｃ１，Ｃ２及びＣ３を
設ける。磁気ヘッドはＭＲ素子とも称される１１個の磁
気抵抗素子Ｅ１〜Ｅ１１も具えており、これらのＭＲ素
子は例えばＮｉＦｅ層で構成し、この層の上には例えば
Ａｕ製の１個以上の等電位細条を設けることができる。
各ＭＲ素子には第１接続面１３ａ及び１３ｂにてそれぞ
れ終端する一対の第１接続トラック１１ａ及び１１ｂを
設ける。第１接続トラック及び第１接続面の双方はＡｕ
製とするのが好適である。なお、等電位細条を設けたＭ
Ｒ素子は本来既知のものであり、例えば米国特許第４，
０５２，７４８号に開示されている。
た絶縁層９を具えており、この絶縁層に本例では変換ギ
ャップ内に延在し得る３つの導体Ｃ１，Ｃ２及びＣ３を
設ける。磁気ヘッドはＭＲ素子とも称される１１個の磁
気抵抗素子Ｅ１〜Ｅ１１も具えており、これらのＭＲ素
子は例えばＮｉＦｅ層で構成し、この層の上には例えば
Ａｕ製の１個以上の等電位細条を設けることができる。
各ＭＲ素子には第１接続面１３ａ及び１３ｂにてそれぞ
れ終端する一対の第１接続トラック１１ａ及び１１ｂを
設ける。第１接続トラック及び第１接続面の双方はＡｕ
製とするのが好適である。なお、等電位細条を設けたＭ
Ｒ素子は本来既知のものであり、例えば米国特許第４，
０５２，７４８号に開示されている。
【００２１】前記導体Ｃ１，Ｃ２及びＣ３はＭＲ素子Ｅ
１〜Ｅ９，Ｅ１０及びＥ１１をバイアスするのに用いら
れ、これらの各導体には第２接続面１７ａ及び１７ｂに
てそれぞれ終端する一対の第２接続トラック１５ａ及び
１５ｂを設ける。
１〜Ｅ９，Ｅ１０及びＥ１１をバイアスするのに用いら
れ、これらの各導体には第２接続面１７ａ及び１７ｂに
てそれぞれ終端する一対の第２接続トラック１５ａ及び
１５ｂを設ける。
【００２２】磁気ヘッドは軟磁性材料、例えばパーマロ
イ製の１１対の磁束ガイドも具えており、これらの各対
は第１、即ち前方磁束ガイド１９ａと、これから離間さ
せた第２、即ち後方磁束ガイド１９ｂとで構成する。前
方磁束ガイド１９ａは磁気記録キャリヤ７と共働するヘ
ッド面５まで延在する。ＭＲ素子Ｅ１〜Ｅ１１は基板１
と磁束ガイドとの間に存在し、各ＭＲ素子は第１磁束ガ
イド１９ａと第２磁束ガイド１９ｂとの間のブリッジを
構成する。所定の構成及び所定の用途によっては、後方
磁束ガイドを省くことができる。非磁性基板から出発し
て、磁束ガイドを特別に設けることもできる。
イ製の１１対の磁束ガイドも具えており、これらの各対
は第１、即ち前方磁束ガイド１９ａと、これから離間さ
せた第２、即ち後方磁束ガイド１９ｂとで構成する。前
方磁束ガイド１９ａは磁気記録キャリヤ７と共働するヘ
ッド面５まで延在する。ＭＲ素子Ｅ１〜Ｅ１１は基板１
と磁束ガイドとの間に存在し、各ＭＲ素子は第１磁束ガ
イド１９ａと第２磁束ガイド１９ｂとの間のブリッジを
構成する。所定の構成及び所定の用途によっては、後方
磁束ガイドを省くことができる。非磁性基板から出発し
て、磁束ガイドを特別に設けることもできる。
【００２３】導体、ＭＲ素子及び磁束ガイドの各々は電
気及び磁気絶縁材料、例えば酸化物又はポリマ製の複数
の絶縁層により互いに電気的に絶縁する。これらの絶縁
層を図２では参照番号２１及び２３にて示してある。共
通磁束ガイド１９ａ及び１９ｂとカウンタブロック３と
の間には、例えば接着層の形態の別の絶縁層２５を設け
る。
気及び磁気絶縁材料、例えば酸化物又はポリマ製の複数
の絶縁層により互いに電気的に絶縁する。これらの絶縁
層を図２では参照番号２１及び２３にて示してある。共
通磁束ガイド１９ａ及び１９ｂとカウンタブロック３と
の間には、例えば接着層の形態の別の絶縁層２５を設け
る。
【００２４】本発明による磁気ヘッドのヘッド面５には
Ｃｒを主成分とする第１層３１を設け、この第１層の上
にはテープ状の記録キャリヤ７と共働する耐摩耗接触面
３５を形成するためにＣｒ2Ｏ3を主成分とする第２層３
３を設ける。第１層３１は第第２層を磁気ヘッドに良好
に付着させる働きをすると共に、ヘッド構体の材料、特
に軟磁性材料が外部の侵攻的な物質により侵されないよ
うにする働きをする。
Ｃｒを主成分とする第１層３１を設け、この第１層の上
にはテープ状の記録キャリヤ７と共働する耐摩耗接触面
３５を形成するためにＣｒ2Ｏ3を主成分とする第２層３
３を設ける。第１層３１は第第２層を磁気ヘッドに良好
に付着させる働きをすると共に、ヘッド構体の材料、特
に軟磁性材料が外部の侵攻的な物質により侵されないよ
うにする働きをする。
【００２５】前記第１及び第２層３１及び３３をヘッド
面上に形成する方法を図４につき説明する。基板１と、
ヘッド構体２と、カウンタブロック３とのアセンブリに
例えば研削及び／又は研磨処理により接触面５を形成し
た後に、このアセンブリをクロムターゲットを具えてい
る既知のスパッタリング装置内に入れる。反応性ＲＦス
パッタリング、例えば１０ｍトルのＡｒでのＲＦダイオ
ードスパッタリングにより、Ｃｒを主成分とする層を変
換ギャップＳ１〜Ｓ１１の個所及びその両側のヘッド面
５上に蒸着する。
面上に形成する方法を図４につき説明する。基板１と、
ヘッド構体２と、カウンタブロック３とのアセンブリに
例えば研削及び／又は研磨処理により接触面５を形成し
た後に、このアセンブリをクロムターゲットを具えてい
る既知のスパッタリング装置内に入れる。反応性ＲＦス
パッタリング、例えば１０ｍトルのＡｒでのＲＦダイオ
ードスパッタリングにより、Ｃｒを主成分とする層を変
換ギャップＳ１〜Ｓ１１の個所及びその両側のヘッド面
５上に蒸着する。
【００２６】Ｃｒ層が所定の厚さ、例えば５ｎｍの厚さ
にスパッタ蒸着されたら、スパッタリグ装置に酸素を供
給して、Ｃｒ2Ｏ3を主成分とする層を例えば１ｍトルで
形成する。この方法の利点は２つの層を同じスパッタリ
ング装置を用いて互いに望みどうりに形成できる点にあ
る。
にスパッタ蒸着されたら、スパッタリグ装置に酸素を供
給して、Ｃｒ2Ｏ3を主成分とする層を例えば１ｍトルで
形成する。この方法の利点は２つの層を同じスパッタリ
ング装置を用いて互いに望みどうりに形成できる点にあ
る。
【００２７】本発明は図示の例のみに限定されるもので
はなく幾多の変更を加え得ること勿論である。例えば、
本発明による磁気ヘッドには記録キャリヤに情報を記録
するための磁気抵抗変換素子の代りか、又はそれに加え
て１個以上の誘導性変換素子を設けることができる。耐
摩耗層としては、Ｃｒ2Ｏ3の耐摩耗層の代りに、酸化ク
ロム、窒化クロム、窒化ハフニウム、窒化チタン、炭化
チタン、炭化タングステン及びダイヤモンドの群からの
種々の材料層を用いることができる。ヘッド面と耐摩耗
層との間に延在する中間層を形成するのには、Ｔｉ，Ｚ
ｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎａ，Ｔａ．Ａｌ及びＺｎの群からの金
属を用いることができる。
はなく幾多の変更を加え得ること勿論である。例えば、
本発明による磁気ヘッドには記録キャリヤに情報を記録
するための磁気抵抗変換素子の代りか、又はそれに加え
て１個以上の誘導性変換素子を設けることができる。耐
摩耗層としては、Ｃｒ2Ｏ3の耐摩耗層の代りに、酸化ク
ロム、窒化クロム、窒化ハフニウム、窒化チタン、炭化
チタン、炭化タングステン及びダイヤモンドの群からの
種々の材料層を用いることができる。ヘッド面と耐摩耗
層との間に延在する中間層を形成するのには、Ｔｉ，Ｚ
ｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎａ，Ｔａ．Ａｌ及びＺｎの群からの金
属を用いることができる。
【図１】本発明による磁気ヘッドの第１実施例のレイア
ウトを示す図である。
ウトを示す図である。
【図２】図１の磁気ヘッドの変換ギャップを通るII−II
線上での断面図である。
線上での断面図である。
【図３】図１の磁気ヘッドの斜視図である。
【図４】図１の磁気ヘッドのヘッド面に耐摩耗層をまだ
被着してない製造段階における斜視図である。
被着してない製造段階における斜視図である。
【符号の説明】 １ 基板 ２ ヘッド構体 ３ カウンタブロック ５ ヘッド面 ９ 絶縁層 １１，１５ 接続トラック １３，１７ 接続面 １９ 磁束ガイド ２１，２３，２５ 絶縁層 ３１ Ｃｒを主成分とする第１層 ３３ Ｃｒ2Ｏ3を主成分とする第２層（耐摩耗層） ３５ テープ接触面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マテイス デ ヨング オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 フレディー ローゼブーム オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ １
Claims (7)
- 【請求項１】 ヘッド面を有し、且つ薄層で構成される
と共にヘッド面の種々の個所に種々の材料が存在する変
換素子を設けたヘッド構体を具えている磁気ヘッドにお
いて、前記ヘッド面にこのヘッド面における前記材料よ
りも腐蝕に対して敏感な材料製の第１層を設け、且つこ
の第１層に該第１層の材料よりも腐蝕に対して遙かに不
感応性を呈する耐摩耗性の材料から成る第２層を設けた
ことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記第１層の厚さを１ｎｍ〜２０ｎｍと
し、且つ前記第２層の厚さを１０ｎｍ〜１００ｎｍとし
たことを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 前記第１層の材料を主としてＴｉ，Ｚ
ｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｚｎの群から
の金属で構成したことを特徴とする請求項１又は２に記
載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記第２層の材料を酸化クロム、窒化ク
ロム、窒化ハフニウム、窒化チタン、炭化クロム、炭化
チタン、炭化タングステン、ダイヤモンドの群からの材
料の１つとしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれ
か一項に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項５】 前記酸化クロムを主としてＣｒ2 Ｏ3と
し、前記第１層の材料をＣｒとしたことを特徴とする請
求項３に記載の磁気ヘッド。 - 【請求項６】 請求項５に記載の磁気ヘッドを製造する
方法において、Ｃｒを主成分とする第１層をヘッド面上
の少なくともヘッド構体の上にスパッタ蒸着により形成
し、且つＣｒ2 Ｏ3を主成分とする第２層を前記第１層
の上にスパッタ蒸着により形成することを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。 - 【請求項７】 前記スパッタリングを前記第１層が形成
されるまでは酸素を添加しないでクロムターゲットで行
ない、第１層が形成された後に酸素を供給して、前記第
２層を形成することを特徴とする請求項６に記載の磁気
ヘッドの製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP92202392 | 1992-08-03 | ||
| NL92202392:4 | 1992-08-03 | ||
| NL93200157:1 | 1993-01-22 | ||
| EP93200157 | 1993-01-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06162443A true JPH06162443A (ja) | 1994-06-10 |
Family
ID=26131607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5192202A Pending JPH06162443A (ja) | 1992-08-03 | 1993-08-03 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6424489B1 (ja) |
| EP (1) | EP0590701B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06162443A (ja) |
| DE (1) | DE69307982T2 (ja) |
| HK (1) | HK1006201A1 (ja) |
| SG (1) | SG55136A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20030074784A1 (en) * | 1999-10-29 | 2003-04-24 | Yoshiyuki Konishi | Method of forming protective film on magnetic head |
| US6587305B2 (en) | 2001-03-28 | 2003-07-01 | Quantum Corporation | Tape head with transducer supports having raised, wear-resistant surfaces at edges of softer core |
| US6937435B2 (en) | 2003-05-16 | 2005-08-30 | Quantum Corporation | Tape head with thin support surface and method of manufacture |
| US7154691B2 (en) | 2003-12-18 | 2006-12-26 | Quantum Corporation | Multi-format thinfilm head and associated methods |
| US7256963B2 (en) | 2004-09-16 | 2007-08-14 | Quantum Corporation | Magnetic head with adaptive data island and mini-outrigger and methods of manufacture |
| US7271983B2 (en) | 2004-09-16 | 2007-09-18 | Quantum Corporation | Magnetic head with mini-outriggers and method of manufacture |
| US7760465B2 (en) * | 2005-10-25 | 2010-07-20 | International Business Machines Corporation | Magnetic head having selectively defined reader gap thicknesses |
| US8934197B2 (en) | 2012-07-16 | 2015-01-13 | Quantum Corporation | Magnetic media access head with metal coating |
| US9449622B2 (en) | 2014-10-29 | 2016-09-20 | International Business Machines Corporation | Differing magnetic read sensors on a magnetic head |
| US9299369B1 (en) | 2014-10-29 | 2016-03-29 | International Business Machines Corporation | Multichannel data storage apparatus having abrasion resistant barrier |
| US9418683B2 (en) | 2014-10-29 | 2016-08-16 | International Business Machines Corporation | Mass production of multichannel current perpendicular to plane head modules via preferred milling |
| US10014010B2 (en) * | 2016-08-30 | 2018-07-03 | International Business Machines Corporation | Apparatus having self-healing current-perpendicular-to-plane read head |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3665436A (en) * | 1970-06-17 | 1972-05-23 | Potter Instrument Co Inc | Long-wearing magnetic head |
| US4052748A (en) | 1974-04-01 | 1977-10-04 | U.S. Philips Corporation | Magnetoresistive magnetic head |
| SU622151A1 (ru) * | 1977-03-18 | 1978-08-02 | Предприятие П/Я А-3103 | Защитный слой рабочей поверхности магнитной головки |
| JPS5570926A (en) * | 1978-11-22 | 1980-05-28 | Hitachi Ltd | Magnetic head of wear proof |
| JPS5573917A (en) | 1978-11-29 | 1980-06-04 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | Magnetic head core with excellent resistance to wear |
| JPS5619517A (en) * | 1979-07-25 | 1981-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
| DE3010348A1 (de) * | 1980-03-18 | 1981-09-24 | Grundig E.M.V. Elektro-Mechanische Versuchsanstalt Max Grundig & Co KG, 8510 Fürth | Gehaeuse in becherform zur aufnahme eines oder mehrerer magnetkopfsysteme |
| DE3307776A1 (de) | 1983-03-04 | 1984-09-06 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Aufzeichnungsanordnung fuer einen magnetschichtspeicher |
| JPS61144728A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-02 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク用保護膜 |
| JPS61211817A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-19 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| JPS6337811A (ja) | 1986-07-30 | 1988-02-18 | Toshiba Corp | ヨ−クタイプ磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘツド |
| JPS6358613A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPH01282711A (ja) * | 1988-05-07 | 1989-11-14 | Tdk Corp | 磁気ヘッド |
| FR2634051B1 (fr) | 1988-07-05 | 1995-02-24 | Thomson Csf | Dispositif en materiau magnetique a couche anti-usure et applications a une tete d'enregistrement-lecture et a un disque d'enregistrement |
| JPH02179917A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0366006A (ja) * | 1989-08-03 | 1991-03-20 | Canon Electron Inc | 磁気ヘッド |
| JPH06159820A (ja) * | 1991-07-12 | 1994-06-07 | Mitsubishi Denki Bill Techno Service Kk | エレベータ用空気冷却装置 |
| NL9101270A (nl) * | 1991-07-19 | 1993-02-16 | Philips Nv | Magneetkopeenheid, magneetkop ten gebruike in de magneetkopeenheid en magneetkopstructuur ten gebruike in de magneetkop. |
-
1993
- 1993-07-28 SG SG1996007468A patent/SG55136A1/en unknown
- 1993-07-28 DE DE69307982T patent/DE69307982T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-07-28 EP EP93202230A patent/EP0590701B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-03 JP JP5192202A patent/JPH06162443A/ja active Pending
-
1996
- 1996-07-31 US US08/690,525 patent/US6424489B1/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-06-12 HK HK98105214A patent/HK1006201A1/en not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-11-30 US US10/022,396 patent/US20020048114A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0590701B1 (en) | 1997-02-05 |
| EP0590701A3 (ja) | 1994-08-31 |
| DE69307982T2 (de) | 1997-07-24 |
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| US6424489B1 (en) | 2002-07-23 |
| SG55136A1 (en) | 1999-05-25 |
| US20020048114A1 (en) | 2002-04-25 |
| DE69307982D1 (de) | 1997-03-20 |
| EP0590701A2 (en) | 1994-04-06 |
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