JPH06167305A - 光変位計 - Google Patents
光変位計Info
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- JPH06167305A JPH06167305A JP31889192A JP31889192A JPH06167305A JP H06167305 A JPH06167305 A JP H06167305A JP 31889192 A JP31889192 A JP 31889192A JP 31889192 A JP31889192 A JP 31889192A JP H06167305 A JPH06167305 A JP H06167305A
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 8
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- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、被測定体の変位を光学的に検出する
光変位計に関し、被測定体の表面状態の如何に拘らず精
確な変位計測を行う。 【構成】投光と受光を同じ光レンズ３を経由させる。ま
た、遮光板３５の穿孔３５ａ，３５ｂを通った光のスポ
ットをＰＳＤ３８ａ，３８ｂ上に形成して距離ｄを測定
する。
光変位計に関し、被測定体の表面状態の如何に拘らず精
確な変位計測を行う。 【構成】投光と受光を同じ光レンズ３を経由させる。ま
た、遮光板３５の穿孔３５ａ，３５ｂを通った光のスポ
ットをＰＳＤ３８ａ，３８ｂ上に形成して距離ｄを測定
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被測定体の変位を光学
的に検出する光変位計に関する。
的に検出する光変位計に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より電気的，磁気的，光学的手段に
より被測定体の変位を検出する手法が種々知られてお
り、光学的手段に限定しても例えば以下に示すような各
種の手法が用いられている。図３は、三角測量の原理を
応用した従来の光変位計の概略構成図である。
より被測定体の変位を検出する手法が種々知られてお
り、光学的手段に限定しても例えば以下に示すような各
種の手法が用いられている。図３は、三角測量の原理を
応用した従来の光変位計の概略構成図である。
【０００３】光源１０から射出された光１１は、投光レ
ンズ１２により被測定体１００の表面に所定のスポット
を形成するように調整されて被測定体１００に照射され
る。被測定体１００で反射した光１３は、受光レンズ１
４により集光され、光スポットの照射位置を検出するこ
とのできる、例えばＰＳＤ（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｓｅｎ
ｓｉｔｉｖｅ Ｄｅｖｉｃｅ）等の光センサ１５を照射
する。ここで被測定体１００がＡ，Ｂ方向に変位する
と、投光側と受光側が所定の角度θを有していることか
ら、光センサ１５上をスポットが移動する。したがって
この光センサ１５を照射する光スポットの位置を検出す
ることにより被測定体１００の変位量を計測することが
できる。
ンズ１２により被測定体１００の表面に所定のスポット
を形成するように調整されて被測定体１００に照射され
る。被測定体１００で反射した光１３は、受光レンズ１
４により集光され、光スポットの照射位置を検出するこ
とのできる、例えばＰＳＤ（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｓｅｎ
ｓｉｔｉｖｅ Ｄｅｖｉｃｅ）等の光センサ１５を照射
する。ここで被測定体１００がＡ，Ｂ方向に変位する
と、投光側と受光側が所定の角度θを有していることか
ら、光センサ１５上をスポットが移動する。したがって
この光センサ１５を照射する光スポットの位置を検出す
ることにより被測定体１００の変位量を計測することが
できる。
【０００４】図４は、光量変化を利用した従来の光変位
計の概略構成図である。光源２０から射出された光２１
は、ハーフミラー２２，レンズ２３を経由して被測定体
１００上に所定径のスポット光として照射される。被測
定体１００から反射した光は、再度レンズ２３を経由
し、ハーフミラー２２で反射されて、光の強度を測定す
る光センサ２４に入射する。ここで被測定体１００が
Ａ，Ｂ方向に変化すると、光センサ２４に入射する光の
光量が変化する。したがってこの光センサ２４を照射す
る光の光量を検出することにより、被測定体１００の変
位量を知ることができる。
計の概略構成図である。光源２０から射出された光２１
は、ハーフミラー２２，レンズ２３を経由して被測定体
１００上に所定径のスポット光として照射される。被測
定体１００から反射した光は、再度レンズ２３を経由
し、ハーフミラー２２で反射されて、光の強度を測定す
る光センサ２４に入射する。ここで被測定体１００が
Ａ，Ｂ方向に変化すると、光センサ２４に入射する光の
光量が変化する。したがってこの光センサ２４を照射す
る光の光量を検出することにより、被測定体１００の変
位量を知ることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】図３に例示した光変位
計は、投光側とは所定の角度θだけ異なる方向に光を反
射させる必要があり、したがって被測定体１００の表面
が鏡面の場合受光側には十分な光量の光が反射されず、
被測定体１００の変位が計測できないという問題があ
る。
計は、投光側とは所定の角度θだけ異なる方向に光を反
射させる必要があり、したがって被測定体１００の表面
が鏡面の場合受光側には十分な光量の光が反射されず、
被測定体１００の変位が計測できないという問題があ
る。
【０００６】また図４に例示した光変位計は光量を検出
するものであるため、被測定体１００の表面状態に大き
く依存し、各被測定体１００毎に、変位計測に先立って
校正を行う必要があり、測定の手間が大変であるという
問題がある。本発明は、上記問題点を解決し、被測定体
の表面状態の如何に拘らず精確な変位計測を行うことの
できる光変位計を提供することを第１の目的とする。
するものであるため、被測定体１００の表面状態に大き
く依存し、各被測定体１００毎に、変位計測に先立って
校正を行う必要があり、測定の手間が大変であるという
問題がある。本発明は、上記問題点を解決し、被測定体
の表面状態の如何に拘らず精確な変位計測を行うことの
できる光変位計を提供することを第１の目的とする。
【０００７】また図３に示す従来例の場合、被測定体１
００は鏡面ではないにしても、通常、所定の方向に強く
反射し、また光センサ１５に照射される光スポットも完
全な点ではなくある広がりをもっている。したがって光
センサ１５では、通常、ある広がりをもった光スポット
の重心の位置が検出される。したがって被測定体１００
が斜めに傾くと光スポットの重心位置が変化し大きな検
出誤差を生じる結果となる。
００は鏡面ではないにしても、通常、所定の方向に強く
反射し、また光センサ１５に照射される光スポットも完
全な点ではなくある広がりをもっている。したがって光
センサ１５では、通常、ある広がりをもった光スポット
の重心の位置が検出される。したがって被測定体１００
が斜めに傾くと光スポットの重心位置が変化し大きな検
出誤差を生じる結果となる。
【０００８】本発明は、上記事情に鑑み、上記第１の目
的を達成するとともに、被測定体の傾きをも許容する光
変位計を提供することを第２の目的とする。
的を達成するとともに、被測定体の傾きをも許容する光
変位計を提供することを第２の目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の光変位計は、 （１）光源 （２）光源と共役な位置を通る光軸上の所定の検出位置
における、照射された光点の光軸からの偏差を検出する
センサ （３）上記光源から射出され被測定体で反射した反射光
を上記検出位置に向けて偏向する偏向光学系 （４）上記光源から射出された光を被測定体上に集光さ
せるとともに上記反射光を上記共役な位置に集光させる
集光光学系 （５）上記偏向光学系と上記センサとの間に配置され
た、通過光が上記光センサを照射するように光軸から偏
倚した位置に穿孔を有する遮光板を備えたことを特徴と
する。
における、照射された光点の光軸からの偏差を検出する
センサ （３）上記光源から射出され被測定体で反射した反射光
を上記検出位置に向けて偏向する偏向光学系 （４）上記光源から射出された光を被測定体上に集光さ
せるとともに上記反射光を上記共役な位置に集光させる
集光光学系 （５）上記偏向光学系と上記センサとの間に配置され
た、通過光が上記光センサを照射するように光軸から偏
倚した位置に穿孔を有する遮光板を備えたことを特徴と
する。
【００１０】ここで上記穿孔は、上記遮光板の、光軸を
挟んだ両側に設けられていることが好ましい。また、本
発明の光変位計は、上記遮光板に代えて、 （６）上記偏向光学系と上記センサとの間の光軸から偏
倚した位置に、通過光をセンサに照射させるプリズムを
備えたものであってもよい。
挟んだ両側に設けられていることが好ましい。また、本
発明の光変位計は、上記遮光板に代えて、 （６）上記偏向光学系と上記センサとの間の光軸から偏
倚した位置に、通過光をセンサに照射させるプリズムを
備えたものであってもよい。
【００１１】このプリズムは、上記遮光板の穿孔と同様
に、光軸を挟んだ両側に備えられることが好ましい。
に、光軸を挟んだ両側に備えられることが好ましい。
【００１２】
【作用】本発明の光変位計は、図４に示す従来例におけ
るレンズ２３と同様に、その集光光学系が、光源から射
出された光を被測定体上に集光させる投光系と、被測定
体で反射した光を受ける受光系の双方の役割を担ってお
り、被測定体上に投光した光をその正反射方向で受光す
ることになり、したがって被測定体の表面が鏡面であっ
ても検出が可能となる。
るレンズ２３と同様に、その集光光学系が、光源から射
出された光を被測定体上に集光させる投光系と、被測定
体で反射した光を受ける受光系の双方の役割を担ってお
り、被測定体上に投光した光をその正反射方向で受光す
ることになり、したがって被測定体の表面が鏡面であっ
ても検出が可能となる。
【００１３】また本発明の光変位計は、照射された光点
の光軸からの偏差を検出するセンサと、通過光が光セン
サを照射するように光軸から偏倚した位置に穿孔を有す
る遮光板、ないし、通過光が光センサを照射するように
光軸から偏倚した位置に配置されたプリズムを備えたも
のであるため、図３に示す従来例の場合と同様、光量で
はなく光点の位置の検出により被測定体の変位量が検出
され、したがって被測定体表面の反射率にも依存しない
変位計測が可能となる。
の光軸からの偏差を検出するセンサと、通過光が光セン
サを照射するように光軸から偏倚した位置に穿孔を有す
る遮光板、ないし、通過光が光センサを照射するように
光軸から偏倚した位置に配置されたプリズムを備えたも
のであるため、図３に示す従来例の場合と同様、光量で
はなく光点の位置の検出により被測定体の変位量が検出
され、したがって被測定体表面の反射率にも依存しない
変位計測が可能となる。
【００１４】また、上記本発明の光変位計において、光
軸を挟んだ両側に穿孔を有する遮光板を備えるか、もし
くは光軸を挟んだ両側にプリズムを備えると、被測定体
が傾いても、これらの両穿孔もしくは両プリズムによっ
て光センサ上に形成される２つの光スポットの重心位置
が互いに同じ方向にずれ、このため被測定体が傾いても
２つの光スポットの重心位置どうしの間隔はほとんど変
化せず、したがって被測定体の傾きも許容された光変位
計が実現される。
軸を挟んだ両側に穿孔を有する遮光板を備えるか、もし
くは光軸を挟んだ両側にプリズムを備えると、被測定体
が傾いても、これらの両穿孔もしくは両プリズムによっ
て光センサ上に形成される２つの光スポットの重心位置
が互いに同じ方向にずれ、このため被測定体が傾いても
２つの光スポットの重心位置どうしの間隔はほとんど変
化せず、したがって被測定体の傾きも許容された光変位
計が実現される。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
１は、本発明の光変位計の一実施例の概略構成図であ
る。半導体レーザ３０から射出されたレーザ光３１は偏
光ビームスプリッタ３２に入射する。レーザ光３１は所
定の方向に直線偏光しており、偏光ビームスプリッタ３
２はその偏光方向の光を通過させるよう配置されてい
る。したがって半導体レーザ３０から射出されたレーザ
光３１は偏光ビームスプリッタ３２を通過し、１／４波
長板を経由し、さらに集光レンズ３４を経由して被測定
体１００の表面に集光される。被測定体１００で反射し
た光は、再度集光レンズ３４を経由しさらに１／４波長
板３３を経由して偏光ビームスプリッタ３２に入射す
る。レーザ光３１は、１／４波長板３３を２回通過した
ことになるためその偏光方向が９０°回転しており、し
たがって偏光ビームスプリッタ３２に入射した反射光
は、今度はこの偏光ビームスプリッタ３２で反射され、
この偏光ビームスプリッタ３２からこの図１の右方に射
出される。この偏光ビームスプリッタ３２の射出側には
遮光板３５が配置されており、この遮光板３５には、光
軸３６から偏倚した、その光軸３６を挟んだ上下の位置
に穿孔３５ａ，３５ｂを有している。このため偏光ビー
ムスプリッタ３２から射出された反射光のうち、穿孔３
５ａ，３５ｂを通過した部分だけが、半導体レーザ３０
と共役な位置３７を経由し、所定の検出位置に配置され
た光センサ３８を照射する。この光センサ３８は２つの
ＰＳＤ３８ａ，３８ｂから構成されており、各ＰＳＤ３
８ａ，３８ｂにより各光スポットの重心位置が検出され
る。これら２つのＰＳＤ３８ａ，３８ｂの配置位置は既
知であるため、この重心位置の検出により２つの光スポ
ットの重心位置間の距離ｄが求められる。
１は、本発明の光変位計の一実施例の概略構成図であ
る。半導体レーザ３０から射出されたレーザ光３１は偏
光ビームスプリッタ３２に入射する。レーザ光３１は所
定の方向に直線偏光しており、偏光ビームスプリッタ３
２はその偏光方向の光を通過させるよう配置されてい
る。したがって半導体レーザ３０から射出されたレーザ
光３１は偏光ビームスプリッタ３２を通過し、１／４波
長板を経由し、さらに集光レンズ３４を経由して被測定
体１００の表面に集光される。被測定体１００で反射し
た光は、再度集光レンズ３４を経由しさらに１／４波長
板３３を経由して偏光ビームスプリッタ３２に入射す
る。レーザ光３１は、１／４波長板３３を２回通過した
ことになるためその偏光方向が９０°回転しており、し
たがって偏光ビームスプリッタ３２に入射した反射光
は、今度はこの偏光ビームスプリッタ３２で反射され、
この偏光ビームスプリッタ３２からこの図１の右方に射
出される。この偏光ビームスプリッタ３２の射出側には
遮光板３５が配置されており、この遮光板３５には、光
軸３６から偏倚した、その光軸３６を挟んだ上下の位置
に穿孔３５ａ，３５ｂを有している。このため偏光ビー
ムスプリッタ３２から射出された反射光のうち、穿孔３
５ａ，３５ｂを通過した部分だけが、半導体レーザ３０
と共役な位置３７を経由し、所定の検出位置に配置され
た光センサ３８を照射する。この光センサ３８は２つの
ＰＳＤ３８ａ，３８ｂから構成されており、各ＰＳＤ３
８ａ，３８ｂにより各光スポットの重心位置が検出され
る。これら２つのＰＳＤ３８ａ，３８ｂの配置位置は既
知であるため、この重心位置の検出により２つの光スポ
ットの重心位置間の距離ｄが求められる。
【００１６】ここで被測定体１００がＡ，Ｂ方向に変位
すると、ＰＳＤ３８ａ，３８ｂを照射する２つの光スポ
ットの重心位置間の距離ｄが変化する。したがってこの
距離ｄを測定することにより被測定体１００の変位量が
計測される。ここで集光レンズ３４から被測定体１００
側に射出されたレーザ光は、被測定体１００で反射され
て再度集光レンズ３４に入射される構成であるため、被
測定体１００の表面が鏡面であって拡散面であっても被
測定体１００の変位量が計測される。また、光センサ３
８は、各スポットの光軸３６からの偏差を検出するもの
であるため、被測定体１００の反射率の相違も誤差要因
とはならない。さらに、被測定体１００が傾いた他場
合、通常各センサ３８ａ，３８ｂを照射する各光スポッ
トの重心位置は移動するがその移動の方向は通常同一方
向であり、したがって被測定体１００が傾いても２つの
光スポットの各重心間の距離ｄはほとんど変化しない。
このように図１に示す光変位計を採用することにより、
被測定体１００の表面状態に因らず、被測定体１００の
変位を精確に計測することができ、さらに被測定体１０
０が傾いてもそれが大きな誤差要因となることもない。
すると、ＰＳＤ３８ａ，３８ｂを照射する２つの光スポ
ットの重心位置間の距離ｄが変化する。したがってこの
距離ｄを測定することにより被測定体１００の変位量が
計測される。ここで集光レンズ３４から被測定体１００
側に射出されたレーザ光は、被測定体１００で反射され
て再度集光レンズ３４に入射される構成であるため、被
測定体１００の表面が鏡面であって拡散面であっても被
測定体１００の変位量が計測される。また、光センサ３
８は、各スポットの光軸３６からの偏差を検出するもの
であるため、被測定体１００の反射率の相違も誤差要因
とはならない。さらに、被測定体１００が傾いた他場
合、通常各センサ３８ａ，３８ｂを照射する各光スポッ
トの重心位置は移動するがその移動の方向は通常同一方
向であり、したがって被測定体１００が傾いても２つの
光スポットの各重心間の距離ｄはほとんど変化しない。
このように図１に示す光変位計を採用することにより、
被測定体１００の表面状態に因らず、被測定体１００の
変位を精確に計測することができ、さらに被測定体１０
０が傾いてもそれが大きな誤差要因となることもない。
【００１７】尚、この図１に示す実施例では偏光ビーム
スプリッタ３２，１／４波長板３３を用いたが、光量の
低下が許容される場合は、偏光ビームスプリッタ３２に
代えて通常のビームスプリッタないしハーフミラー等を
配置し、かつ１／４波長板を取り外した構成としてもよ
い。図２は、本発明の光変位計の他の実施例の概略構成
図である。
スプリッタ３２，１／４波長板３３を用いたが、光量の
低下が許容される場合は、偏光ビームスプリッタ３２に
代えて通常のビームスプリッタないしハーフミラー等を
配置し、かつ１／４波長板を取り外した構成としてもよ
い。図２は、本発明の光変位計の他の実施例の概略構成
図である。
【００１８】図１に示す実施例の各構成要素に対応する
構成要素には、図１に付した番号と同一の番号を付して
示し、相違点についてのみ説明する。この図２に示す実
施例では、図１に示す実施例における遮光板３５に代え
て、遮光板３５の２つの穿孔３５ａ，３５ｂにそれぞれ
対応する位置にウェッジプリズム４０ａ，４０ｂが備え
られている。また、この図に示す実施例では半導体レー
ザ３０と共役な位置３７に光センサ３８（ＰＳＤ３８
ａ，３８ｂ）が配置されている。
構成要素には、図１に付した番号と同一の番号を付して
示し、相違点についてのみ説明する。この図２に示す実
施例では、図１に示す実施例における遮光板３５に代え
て、遮光板３５の２つの穿孔３５ａ，３５ｂにそれぞれ
対応する位置にウェッジプリズム４０ａ，４０ｂが備え
られている。また、この図に示す実施例では半導体レー
ザ３０と共役な位置３７に光センサ３８（ＰＳＤ３８
ａ，３８ｂ）が配置されている。
【００１９】各ウェッジプリズム４０ａ，４０ｂを通過
した光は、それぞれ各ＰＳＤ３８ａ，３８ｂ上に光スポ
ットを形成し、各ＰＳＤ３８ａ，３８ｂにより各光スポ
ットの重心位置が求められ、これにより距離ｄが求めら
れる。このように穿孔された遮光板に代えてプリズムを
用いてもよい。尚、上記各実施例は遮光板３５の穿孔３
５ａ，３５ｂ、もしくはウェッジプリズム４０ａ，４０
ｂを２つ有する例であるが、傾きの生じないあるいは傾
きを許容限界内に押えることのできる被測定体１００の
変位を計測する場合は、遮光板３５の穿孔もしくはウェ
ッジプリズムは１つでもよい。また光センサは光点の光
軸からの偏差を検出できるものであればよく、ＰＳＤに
限らず、例えばＣＣＤセンサアレイ等であってもよい。
また上記実施例では光源として半導体レーザを用いた場
合を例示したが、本発明における光源は半導体レーザに
限られるものでないことはもちろんである。
した光は、それぞれ各ＰＳＤ３８ａ，３８ｂ上に光スポ
ットを形成し、各ＰＳＤ３８ａ，３８ｂにより各光スポ
ットの重心位置が求められ、これにより距離ｄが求めら
れる。このように穿孔された遮光板に代えてプリズムを
用いてもよい。尚、上記各実施例は遮光板３５の穿孔３
５ａ，３５ｂ、もしくはウェッジプリズム４０ａ，４０
ｂを２つ有する例であるが、傾きの生じないあるいは傾
きを許容限界内に押えることのできる被測定体１００の
変位を計測する場合は、遮光板３５の穿孔もしくはウェ
ッジプリズムは１つでもよい。また光センサは光点の光
軸からの偏差を検出できるものであればよく、ＰＳＤに
限らず、例えばＣＣＤセンサアレイ等であってもよい。
また上記実施例では光源として半導体レーザを用いた場
合を例示したが、本発明における光源は半導体レーザに
限られるものでないことはもちろんである。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光変位計
は、前述した構成を備えたものであるため、従来と比べ
被測定体の表面状態が測定結果に影響を及ぼす割合が小
さく、高精度の光変位計が実現する。また本発明の光変
位計において、遮光板の穿孔もしくはプリズムを複数備
えた構成とすることにより被測定体の傾きの影響も低減
化される。
は、前述した構成を備えたものであるため、従来と比べ
被測定体の表面状態が測定結果に影響を及ぼす割合が小
さく、高精度の光変位計が実現する。また本発明の光変
位計において、遮光板の穿孔もしくはプリズムを複数備
えた構成とすることにより被測定体の傾きの影響も低減
化される。
【図１】本発明の光変位計の一実施例の概略構成図であ
る。
る。
【図２】本発明の光変位計の他の実施例の概略構成図で
ある。
ある。
【図３】三角測量の原理を応用した従来の光変位計の概
略構成図である。
略構成図である。
【図４】光量変化を利用した従来の光変位計の概略構成
図である。
図である。
３０ 半導体レーザ ３１ レーザ光 ３２ 偏光ビームスプリッタ ３３ １／４波長板 ３４ 集光レンズ ３５ 遮光板 ３５ａ，３５ｂ 穿孔 ３６ 光軸 ３７ 半導体レーザと共役な位置 ３８ 光センサ ３８ａ，３８ｂ ＰＳＤ ４０ａ，４０ｂ ウェッジプリズム １００ 被測定体
Claims (4)
- 【請求項１】 光源と、該光源と共役な位置を通る光軸
上の所定の検出位置における、照射された光点の該光軸
からの偏差を検出するセンサと、前記光源から射出され
被測定体で反射した反射光を前記検出位置に向けて偏向
する偏向光学系と、前記光源から射出された光を被測定
体上に集光させるとともに前記反射光を前記共役な位置
に集光させる集光光学系と、前記偏向光学系と前記セン
サとの間に配置された、通過光が前記光センサを照射す
るように光軸から偏倚した位置に穿孔を有する遮光板と
を備えたことを特徴とする光変位計。 - 【請求項２】 前記穿孔が、光軸を挟んだ両側に設けら
れてなることを特徴とする請求項１記載の光変位計。 - 【請求項３】 前記遮光板に代えて、前記偏向光学系と
上記センサとの間の光軸から偏倚した位置に、通過光を
前記センサに照射させるプリズムを備えたことを特徴と
する光変位計。 - 【請求項４】 前記プリズムが、光軸を挟んだ両側に備
えられてなることを特徴とする請求項３記載の光変位
計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31889192A JPH06167305A (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 光変位計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31889192A JPH06167305A (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 光変位計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06167305A true JPH06167305A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=18104124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31889192A Pending JPH06167305A (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | 光変位計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06167305A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012029113A1 (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | 株式会社 東芝 | 変位検出装置 |
| EP1901028A4 (en) * | 2005-07-06 | 2014-06-04 | Japan Science & Tech Agency | METHOD AND DEVICE FOR OBSERVING A THREE-DIMENSIONAL POSITION |
| US10222199B2 (en) | 2014-12-02 | 2019-03-05 | Mitsubishi Electric Corporation | Displacement sensor, displacement detection apparatus, and displacement detection method |
| US11217619B2 (en) | 2017-06-06 | 2022-01-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Sensor device and method of manufacturing the same |
-
1992
- 1992-11-27 JP JP31889192A patent/JPH06167305A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1901028A4 (en) * | 2005-07-06 | 2014-06-04 | Japan Science & Tech Agency | METHOD AND DEVICE FOR OBSERVING A THREE-DIMENSIONAL POSITION |
| WO2012029113A1 (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | 株式会社 東芝 | 変位検出装置 |
| US8514410B2 (en) | 2010-08-30 | 2013-08-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Displacement detection device and method |
| US10222199B2 (en) | 2014-12-02 | 2019-03-05 | Mitsubishi Electric Corporation | Displacement sensor, displacement detection apparatus, and displacement detection method |
| US11217619B2 (en) | 2017-06-06 | 2022-01-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Sensor device and method of manufacturing the same |
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