JPH06167592A - プロセス計装ラック - Google Patents
プロセス計装ラックInfo
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- JPH06167592A JPH06167592A JP4319605A JP31960592A JPH06167592A JP H06167592 A JPH06167592 A JP H06167592A JP 4319605 A JP4319605 A JP 4319605A JP 31960592 A JP31960592 A JP 31960592A JP H06167592 A JPH06167592 A JP H06167592A
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- JP
- Japan
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- pressure
- calibration
- sensor
- reference pressure
- valve
- Prior art date
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Monitoring And Testing Of Nuclear Reactors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、計測用センサの校正を行なう場合
に、校正のための水抜き，水張りを不要とし、かつ実際
の測定と同じ静圧下で校正を行ない、校正作業時間の短
縮化ならびに校正精度の向上を図れることを最も主要な
目的としている。 【構成】本発明は、圧力信号に変換された水位，流量等
のプロセス信号を、プロセス流体を介して入力し測定す
る計測用センサを収納して成るプロセス計装ラックにお
いて、計測用センサの校正時に当該計測用センサに対し
て校正用の基準圧力を加える基準圧力発生手段を備えた
ことを特徴としている。
に、校正のための水抜き，水張りを不要とし、かつ実際
の測定と同じ静圧下で校正を行ない、校正作業時間の短
縮化ならびに校正精度の向上を図れることを最も主要な
目的としている。 【構成】本発明は、圧力信号に変換された水位，流量等
のプロセス信号を、プロセス流体を介して入力し測定す
る計測用センサを収納して成るプロセス計装ラックにお
いて、計測用センサの校正時に当該計測用センサに対し
て校正用の基準圧力を加える基準圧力発生手段を備えた
ことを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば原子力発電所に
おける、圧力信号に変換された原子炉水位，主蒸気流量
等のプロセス信号を、プロセス流体を介して入力し測定
する計測用センサを収納して成るプロセス計装ラックに
係り、特に計測用センサの校正を行なう場合に、校正の
ための水抜き，水張りを不要とし、かつ実際の測定と同
じ静圧下で校正を行ない、校正作業時間の短縮化ならび
に校正精度の向上を図るようにしたプロセス計装ラック
に関するものである。
おける、圧力信号に変換された原子炉水位，主蒸気流量
等のプロセス信号を、プロセス流体を介して入力し測定
する計測用センサを収納して成るプロセス計装ラックに
係り、特に計測用センサの校正を行なう場合に、校正の
ための水抜き，水張りを不要とし、かつ実際の測定と同
じ静圧下で校正を行ない、校正作業時間の短縮化ならび
に校正精度の向上を図るようにしたプロセス計装ラック
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、例えば原子力発電所において
は、原子炉水位，主蒸気流量等のプロセス信号を、圧力
信号としてプロセス流体を介して入力し測定する計測用
センサを収納して成るプロセス計装ラックが備えられて
いる。図４は、この種の従来のプロセス計装ラックの構
成例を示す概要図である。
は、原子炉水位，主蒸気流量等のプロセス信号を、圧力
信号としてプロセス流体を介して入力し測定する計測用
センサを収納して成るプロセス計装ラックが備えられて
いる。図４は、この種の従来のプロセス計装ラックの構
成例を示す概要図である。
【０００３】図４において、原子力発電所における原子
炉水位レベル，主蒸気流量等のプロセス信号は、圧力信
号ＰH ，ＰL としてプロセス流体を介して、計測用セン
サである圧力センサ１に入力され、この圧力センサ１で
圧力差（差圧＝ＰH −ＰL ）に比例した電気信号に変換
されて、図示しない指示計等へ伝送される。また、圧力
センサ１の回りには、５個の弁、すなわち高圧側元弁Ｖ
1 ，低圧側元弁Ｖ2 ，均圧弁Ｖ3 ，高圧側ドレン弁
Ｖ4 ，低圧側ドレン弁Ｖ5 が設置されている。
炉水位レベル，主蒸気流量等のプロセス信号は、圧力信
号ＰH ，ＰL としてプロセス流体を介して、計測用セン
サである圧力センサ１に入力され、この圧力センサ１で
圧力差（差圧＝ＰH −ＰL ）に比例した電気信号に変換
されて、図示しない指示計等へ伝送される。また、圧力
センサ１の回りには、５個の弁、すなわち高圧側元弁Ｖ
1 ，低圧側元弁Ｖ2 ，均圧弁Ｖ3 ，高圧側ドレン弁
Ｖ4 ，低圧側ドレン弁Ｖ5 が設置されている。
【０００４】かかるプロセス計装ラックにおいて、通常
測定時には、高圧側元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2 は開状
態、均圧弁Ｖ3 ，高圧側ドレン弁Ｖ4 ，低圧側ドレン弁
Ｖ5 は閉状態で使用され、プロセス流体を介して入力さ
れる圧力信号ＰH ，ＰL を圧力センサ１により測定す
る。
測定時には、高圧側元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2 は開状
態、均圧弁Ｖ3 ，高圧側ドレン弁Ｖ4 ，低圧側ドレン弁
Ｖ5 は閉状態で使用され、プロセス流体を介して入力さ
れる圧力信号ＰH ，ＰL を圧力センサ１により測定す
る。
【０００５】一方、圧力センサ１の精度を維持するため
に、年１回程度の割合で校正を行なう必要がある。そし
て、この圧力センサ１の校正を行なう場合には、高圧側
元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2 を閉状態、高圧側ドレン弁Ｖ
4 を開状態として、図示“ａ”点より校正用の圧力を加
え、基準圧力に対して基準出力となるように圧力センサ
１の調整を行なう。また、均圧弁Ｖ3 ，低圧側ドレン弁
Ｖ5 は、零点校正時開状態として、圧力センサ１入口の
圧力ＰH ，ＰL を零点圧力（大気圧）にする。さらに、
均圧弁Ｖ3 ，低圧側ドレン弁Ｖ5 は、プロセス流体が液
体の場合、この液体をドレンアウトする場合に開状態と
する。しかしながら、このようなプロセス計装ラックで
は、次のような種々の問題がある。
に、年１回程度の割合で校正を行なう必要がある。そし
て、この圧力センサ１の校正を行なう場合には、高圧側
元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2 を閉状態、高圧側ドレン弁Ｖ
4 を開状態として、図示“ａ”点より校正用の圧力を加
え、基準圧力に対して基準出力となるように圧力センサ
１の調整を行なう。また、均圧弁Ｖ3 ，低圧側ドレン弁
Ｖ5 は、零点校正時開状態として、圧力センサ１入口の
圧力ＰH ，ＰL を零点圧力（大気圧）にする。さらに、
均圧弁Ｖ3 ，低圧側ドレン弁Ｖ5 は、プロセス流体が液
体の場合、この液体をドレンアウトする場合に開状態と
する。しかしながら、このようなプロセス計装ラックで
は、次のような種々の問題がある。
【０００６】（ａ）通常、上記基準圧力としては圧縮空
気が使われるが、プロセス流体が液体（通常は水）の場
合には、内部の液体を完全に除去しないと校正誤差とな
ることから、内部の液体を完全に取り去る必要があるた
めに時間を要し、かつ完全に抜けたかどうかの確認が困
難である。
気が使われるが、プロセス流体が液体（通常は水）の場
合には、内部の液体を完全に除去しないと校正誤差とな
ることから、内部の液体を完全に取り去る必要があるた
めに時間を要し、かつ完全に抜けたかどうかの確認が困
難である。
【０００７】（ｂ）校正終了後は再び液体を封入する
が、内部に空気が残っている場合は測定誤差となるた
め、完全に空気抜きを行なうために時間を要し、かつ完
全に抜けたかどうかの確認が困難である。
が、内部に空気が残っている場合は測定誤差となるた
め、完全に空気抜きを行なうために時間を要し、かつ完
全に抜けたかどうかの確認が困難である。
【０００８】（ｃ）校正は大気圧を零点として行なう
が、実際の測定では全体がある圧力下（静圧下）での差
圧（ＰH −ＰL ）を測定する場合があり、この場合には
正確な校正とはならない（静圧誤差を持つ）。
が、実際の測定では全体がある圧力下（静圧下）での差
圧（ＰH −ＰL ）を測定する場合があり、この場合には
正確な校正とはならない（静圧誤差を持つ）。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
プロセス計装ラックにおいては、計測用センサの校正を
行なう場合に、校正作業に時間がかかるばかりでなく、
校正精度が低いという問題があった。
プロセス計装ラックにおいては、計測用センサの校正を
行なう場合に、校正作業に時間がかかるばかりでなく、
校正精度が低いという問題があった。
【００１０】本発明の目的は、計測用センサの校正を行
なう場合に、校正のための水抜き，水張りを不要とし、
かつ実際の測定と同じ静圧下で校正を行ない、校正作業
時間の短縮化ならびに校正精度の向上を図ることが可能
な極めて信頼性の高いプロセス計装ラックを提供するこ
とにある。
なう場合に、校正のための水抜き，水張りを不要とし、
かつ実際の測定と同じ静圧下で校正を行ない、校正作業
時間の短縮化ならびに校正精度の向上を図ることが可能
な極めて信頼性の高いプロセス計装ラックを提供するこ
とにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明では、圧力信号に変換された水位，流量等の
プロセス信号を、プロセス流体を介して入力し測定する
計測用センサを収納して成るプロセス計装ラックにおい
て、計測用センサの校正時に当該計測用センサに対して
校正用の基準圧力を加える基準圧力発生手段を備えて構
成している。
めに本発明では、圧力信号に変換された水位，流量等の
プロセス信号を、プロセス流体を介して入力し測定する
計測用センサを収納して成るプロセス計装ラックにおい
て、計測用センサの校正時に当該計測用センサに対して
校正用の基準圧力を加える基準圧力発生手段を備えて構
成している。
【００１２】ここで、特に上記基準圧力発生手段として
は、校正用の基準圧力を発生する基準圧力発生器と、基
準圧力発生器と計測用センサとの間を接続するための圧
力アダプタと、基準圧力発生器と圧力アダプタとの間に
配設され、計測用センサの校正時に開される弁体とから
なっている。
は、校正用の基準圧力を発生する基準圧力発生器と、基
準圧力発生器と計測用センサとの間を接続するための圧
力アダプタと、基準圧力発生器と圧力アダプタとの間に
配設され、計測用センサの校正時に開される弁体とから
なっている。
【００１３】
【作用】従って、本発明のプロセス計装ラックにおいて
は、校正用の基準圧力を加える基準圧力発生手段を備え
ることにより、計測用センサの校正を行なう場合に、単
に基準圧力発生手段から校正用の基準圧力を加えるだけ
で、計測用センサの校正を行なうことが可能となる。
は、校正用の基準圧力を加える基準圧力発生手段を備え
ることにより、計測用センサの校正を行なう場合に、単
に基準圧力発生手段から校正用の基準圧力を加えるだけ
で、計測用センサの校正を行なうことが可能となる。
【００１４】これにより、従来実施していた水抜き、水
張りが不要となるため、校正に要する作業時間を短縮す
ることができ、また実際の測定と同じ静圧下での校正が
可能となるため、校正精度を向上することができる。
張りが不要となるため、校正に要する作業時間を短縮す
ることができ、また実際の測定と同じ静圧下での校正が
可能となるため、校正精度を向上することができる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して詳細に説明する。
して詳細に説明する。
【００１６】図１は、本発明によるプロセス計装ラック
の構成例を示す概要図であり、図４と同一要素には同一
符号を付してその説明を省略し、ここでは異なる部分に
ついてのみ述べる。
の構成例を示す概要図であり、図４と同一要素には同一
符号を付してその説明を省略し、ここでは異なる部分に
ついてのみ述べる。
【００１７】すなわち、本実施例のプロセス計装ラック
は、図１に示すように、図４におけるプロセス計装ラッ
クに、圧力校正用の基準圧力発生器２、圧力アダプタ
３、校正用元弁Ｖ6 からなる基準圧力発生手段を付加し
た構成としている。ここで、基準圧力発生器２は、校正
用の基準圧力を発生するものである。また、圧力アダプ
タ３は、基準圧力発生器２と前記圧力センサ１との間を
接続するためのものである。さらに、校正用元弁Ｖ
6 は、基準圧力発生器２と圧力アダプタ３との間に配設
され、圧力センサ１の校正時に開されるものである。図
２は、上記基準圧力発生手段の詳細な構成例を示す概要
図である。
は、図１に示すように、図４におけるプロセス計装ラッ
クに、圧力校正用の基準圧力発生器２、圧力アダプタ
３、校正用元弁Ｖ6 からなる基準圧力発生手段を付加し
た構成としている。ここで、基準圧力発生器２は、校正
用の基準圧力を発生するものである。また、圧力アダプ
タ３は、基準圧力発生器２と前記圧力センサ１との間を
接続するためのものである。さらに、校正用元弁Ｖ
6 は、基準圧力発生器２と圧力アダプタ３との間に配設
され、圧力センサ１の校正時に開されるものである。図
２は、上記基準圧力発生手段の詳細な構成例を示す概要
図である。
【００１８】図２において、基準圧力発生器２は、容器
２１内に、加圧用流体２２および可動蓋２３を設け、容
器２１と可動蓋２３の間を、“Ｏ”リング等の可動自在
なシール材で密封する構成としている。そして、可動蓋
２３の上に錘２４を載置することにより、この重力を加
圧用流体２２に加えて、校正用の基準圧力を得るように
なっている。
２１内に、加圧用流体２２および可動蓋２３を設け、容
器２１と可動蓋２３の間を、“Ｏ”リング等の可動自在
なシール材で密封する構成としている。そして、可動蓋
２３の上に錘２４を載置することにより、この重力を加
圧用流体２２に加えて、校正用の基準圧力を得るように
なっている。
【００１９】また、圧力アダプタ３は、容器３１内に、
加圧用流体２２、プロセス流体３２、および加圧用流体
２２とプロセス流体３２とを隔離する隔壁３３を設けた
構成とし、上記基準圧力発生器２からの基準圧力を、加
圧用流体２２、プロセス流体３２により、上記圧力セン
サ１へ伝達するようになっている。
加圧用流体２２、プロセス流体３２、および加圧用流体
２２とプロセス流体３２とを隔離する隔壁３３を設けた
構成とし、上記基準圧力発生器２からの基準圧力を、加
圧用流体２２、プロセス流体３２により、上記圧力セン
サ１へ伝達するようになっている。
【００２０】ここで、加圧用流体２２としては、例えば
シリコンオイル等が使用される。また、隔壁３２として
は、加圧用流体２２の圧力を忠実にプロセス流体３２に
伝達し、かつ完全に隔離されるように、例えば金属製の
ダイアフラムが使用される。次に、以上のように構成し
た本実施例のプロセス計装ラックの作用について説明す
る。
シリコンオイル等が使用される。また、隔壁３２として
は、加圧用流体２２の圧力を忠実にプロセス流体３２に
伝達し、かつ完全に隔離されるように、例えば金属製の
ダイアフラムが使用される。次に、以上のように構成し
た本実施例のプロセス計装ラックの作用について説明す
る。
【００２１】図１および図２において、通常測定時に
は、高圧側元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2は開状態、均圧弁
Ｖ3 ，高圧側ドレン弁Ｖ4 ，低圧側ドレン弁Ｖ5 ，校正
用元弁Ｖ6 は閉状態で使用され、プロセス流体を介して
入力される圧力信号ＰH ，ＰLを圧力センサ１により測
定する。
は、高圧側元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2は開状態、均圧弁
Ｖ3 ，高圧側ドレン弁Ｖ4 ，低圧側ドレン弁Ｖ5 ，校正
用元弁Ｖ6 は閉状態で使用され、プロセス流体を介して
入力される圧力信号ＰH ，ＰLを圧力センサ１により測
定する。
【００２２】一方、圧力センサ１の校正を行なう場合に
は、まず高圧側元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2 を閉状態と
し、次に均圧弁Ｖ3 を開状態にして圧力センサ１の高圧
側，低圧側の圧力を等しく（均圧）し、圧力センサ１の
出力が“零”となるように調整する（零点校正）。すな
わち、この場合、高圧側元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2 の閉
によって、静圧がそのまま圧力センサ１に伝達され、均
圧弁Ｖ3 の開によってＰH ＝ＰL となり、圧力センサ１
の出力が零となるように静圧下での調整を行なう。
は、まず高圧側元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2 を閉状態と
し、次に均圧弁Ｖ3 を開状態にして圧力センサ１の高圧
側，低圧側の圧力を等しく（均圧）し、圧力センサ１の
出力が“零”となるように調整する（零点校正）。すな
わち、この場合、高圧側元弁Ｖ1 ，低圧側元弁Ｖ2 の閉
によって、静圧がそのまま圧力センサ１に伝達され、均
圧弁Ｖ3 の開によってＰH ＝ＰL となり、圧力センサ１
の出力が零となるように静圧下での調整を行なう。
【００２３】次に、校正用元弁Ｖ6 を開状態として、基
準圧力発生器２より校正用の１００％基準圧力を加え、
圧力センサ１の出力が“１００％”となるように調整す
る（スパン調整）。さらに、必要に応じて、０〜１００
％間の代表点の調整を行ない、圧力センサ１の出力調整
（校正）を行なう。
準圧力発生器２より校正用の１００％基準圧力を加え、
圧力センサ１の出力が“１００％”となるように調整す
る（スパン調整）。さらに、必要に応じて、０〜１００
％間の代表点の調整を行ない、圧力センサ１の出力調整
（校正）を行なう。
【００２４】この場合、基準圧力発生器２からの基準圧
力は、校正用元弁Ｖ6 を通して圧力アダプタ３の容器３
１内に入り、加圧用流体２２により伝達され、さらに隔
壁３３、プロセス流体３２により忠実に圧力センサ１へ
伝達される。なお、上記において、通常測定時には、プ
ロセス流体３２の静圧が基準圧力発生器２に加わらない
ように、校正用元弁Ｖ6 を閉状態にしておく。
力は、校正用元弁Ｖ6 を通して圧力アダプタ３の容器３
１内に入り、加圧用流体２２により伝達され、さらに隔
壁３３、プロセス流体３２により忠実に圧力センサ１へ
伝達される。なお、上記において、通常測定時には、プ
ロセス流体３２の静圧が基準圧力発生器２に加わらない
ように、校正用元弁Ｖ6 を閉状態にしておく。
【００２５】上述したように、本実施例では、圧力信号
ＰH ，ＰL に変換された、原子力発電所における原子炉
水位レベル，主蒸気流量等のプロセス信号をプロセス流
体を介して入力し、その圧力差（差圧＝ＰH −ＰL ）に
比例した電気信号に変換して指示計等へ伝送する圧力セ
ンサ１を収納して成るプロセス計装ラックにおいて、校
正用の基準圧力を発生する基準圧力発生器２と、基準圧
力発生器２と圧力センサ１との間を接続するための圧力
アダプタ３と、基準圧力発生器２と圧力アダプタ３との
間に配設され、圧力センサ１の校正時に開される校正用
元弁Ｖ6 とからなる基準圧力発生手段を備えて構成した
ものである。従って、圧力センサ１の校正を行なう場
合、単に基準圧力発生手段から校正用の基準圧力を加え
るだけで、圧力センサ１の校正を行なうことができる。
ＰH ，ＰL に変換された、原子力発電所における原子炉
水位レベル，主蒸気流量等のプロセス信号をプロセス流
体を介して入力し、その圧力差（差圧＝ＰH −ＰL ）に
比例した電気信号に変換して指示計等へ伝送する圧力セ
ンサ１を収納して成るプロセス計装ラックにおいて、校
正用の基準圧力を発生する基準圧力発生器２と、基準圧
力発生器２と圧力センサ１との間を接続するための圧力
アダプタ３と、基準圧力発生器２と圧力アダプタ３との
間に配設され、圧力センサ１の校正時に開される校正用
元弁Ｖ6 とからなる基準圧力発生手段を備えて構成した
ものである。従って、圧力センサ１の校正を行なう場
合、単に基準圧力発生手段から校正用の基準圧力を加え
るだけで、圧力センサ１の校正を行なうことができる。
【００２６】これにより、従来実施していた校正のため
の水抜き、水張りが不要となるため、校正に要する作業
時間を短縮することが可能となる。また、実際の測定と
同じ静圧下での校正ができるため、校正の精度を向上す
ることが可能となる。
の水抜き、水張りが不要となるため、校正に要する作業
時間を短縮することが可能となる。また、実際の測定と
同じ静圧下での校正ができるため、校正の精度を向上す
ることが可能となる。
【００２７】さらに、基準圧力発生器２は、容器２１内
に、加圧用流体２２と可動蓋２３を設けて、容器２１と
可動蓋２３の間を“Ｏ”リング等の可動自在なシール材
で密封し、可動蓋２３の上に錘２４を載置することによ
って、その重力を加圧用流体２２に加えて校正用の基準
圧力を得るようにしているため、可動蓋２３の上に錘２
４を置くだけで、校正用の標準圧力を簡単に発生するこ
とができる。よって、各種圧力センサ１のレンジに合わ
せて錘２４を準備しておけば、単に錘２４を乗せるだけ
で容易に校正を行なうことが可能となる。
に、加圧用流体２２と可動蓋２３を設けて、容器２１と
可動蓋２３の間を“Ｏ”リング等の可動自在なシール材
で密封し、可動蓋２３の上に錘２４を載置することによ
って、その重力を加圧用流体２２に加えて校正用の基準
圧力を得るようにしているため、可動蓋２３の上に錘２
４を置くだけで、校正用の標準圧力を簡単に発生するこ
とができる。よって、各種圧力センサ１のレンジに合わ
せて錘２４を準備しておけば、単に錘２４を乗せるだけ
で容易に校正を行なうことが可能となる。
【００２８】尚、上記実施例では、圧力センサ１として
差圧伝送器を使用した例で説明したが、これに限らず、
原子炉圧力等を測定する圧力伝送器を使用した場合につ
いても、本発明を同様に適用できるものである。
差圧伝送器を使用した例で説明したが、これに限らず、
原子炉圧力等を測定する圧力伝送器を使用した場合につ
いても、本発明を同様に適用できるものである。
【００２９】図３は、圧力センサとして圧力伝送器を使
用した場合のプロセス計装ラックの構成例を示す概要図
であり、図１および図２と同一要素には同一符号を付し
て示している。また、上記実施例において、基準圧力発
生器２、および圧力アダプタ３の構成は、前述した構成
に限定されるものではない。
用した場合のプロセス計装ラックの構成例を示す概要図
であり、図１および図２と同一要素には同一符号を付し
て示している。また、上記実施例において、基準圧力発
生器２、および圧力アダプタ３の構成は、前述した構成
に限定されるものではない。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、圧
力信号に変換された水位，流量等のプロセス信号を、プ
ロセス流体を介して入力し測定する計測用センサを収納
して成るプロセス計装ラックにおいて、計測用センサの
校正時に当該計測用センサに対して校正用の基準圧力を
加える基準圧力発生手段を備えるようにしたので、計測
用センサの校正を行なう場合に、校正のための水抜き，
水張りを不要とし、かつ実際の測定と同じ静圧下で校正
を行ない、校正作業時間の短縮化ならびに校正精度の向
上を図ることが可能な極めて信頼性の高いプロセス計装
ラックが提供できる。
力信号に変換された水位，流量等のプロセス信号を、プ
ロセス流体を介して入力し測定する計測用センサを収納
して成るプロセス計装ラックにおいて、計測用センサの
校正時に当該計測用センサに対して校正用の基準圧力を
加える基準圧力発生手段を備えるようにしたので、計測
用センサの校正を行なう場合に、校正のための水抜き，
水張りを不要とし、かつ実際の測定と同じ静圧下で校正
を行ない、校正作業時間の短縮化ならびに校正精度の向
上を図ることが可能な極めて信頼性の高いプロセス計装
ラックが提供できる。
【図１】本発明によるプロセス計装ラックの一実施例を
示す概要図。
示す概要図。
【図２】同実施例における基準圧力発生手段の詳細な構
成例を示す概要図。
成例を示す概要図。
【図３】本発明によるプロセス計装ラックの他の実施例
を示す概要図。
を示す概要図。
【図４】従来のプロセス計装ラックの構成例を示す概要
図。
図。
１…圧力センサ、２…基準圧力発生器、３…圧力アダプ
タ、２１…容器、２２…加圧用流体、２３…可動蓋、３
１…容器、３２…プロセス流体、３３…隔壁、Ｖ1 …高
圧側元弁、Ｖ2 …低圧側元弁、Ｖ3 …均圧弁、Ｖ4 …高
圧側ドレン弁、Ｖ5 …低圧側ドレン弁、Ｖ6 …校正用元
弁、ＰH ，ＰL …圧力信号。
タ、２１…容器、２２…加圧用流体、２３…可動蓋、３
１…容器、３２…プロセス流体、３３…隔壁、Ｖ1 …高
圧側元弁、Ｖ2 …低圧側元弁、Ｖ3 …均圧弁、Ｖ4 …高
圧側ドレン弁、Ｖ5 …低圧側ドレン弁、Ｖ6 …校正用元
弁、ＰH ，ＰL …圧力信号。
Claims (2)
- 【請求項１】 圧力信号に変換された水位，流量等のプ
ロセス信号を、プロセス流体を介して入力し測定する計
測用センサを収納して成るプロセス計装ラックにおい
て、 前記計測用センサの校正時に当該計測用センサに対して
校正用の基準圧力を加える基準圧力発生手段を備えて成
ることを特徴とするプロセス計装ラック。 - 【請求項２】 前記基準圧力発生手段としては、校正用
の基準圧力を発生する基準圧力発生器と、前記基準圧力
発生器と前記計測用センサとの間を接続するための圧力
アダプタと、前記基準圧力発生器と圧力アダプタとの間
に配設され、前記計測用センサの校正時に開される弁体
とからなることを特徴とする請求項１に記載のプロセス
計装ラック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4319605A JPH06167592A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | プロセス計装ラック |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4319605A JPH06167592A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | プロセス計装ラック |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06167592A true JPH06167592A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=18112142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4319605A Pending JPH06167592A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | プロセス計装ラック |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06167592A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008014817A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Nagano Keiki Co Ltd | 圧力発生装置 |
| CN107860441A (zh) * | 2017-11-24 | 2018-03-30 | 中山市铧禧电子科技有限公司 | 一种水流传感器测试台 |
| CN109857164A (zh) * | 2017-11-30 | 2019-06-07 | 福建宁德核电有限公司 | 一种乏燃料水池液位监测系统校验平台及校验方法 |
| DE102021132433A1 (de) | 2021-12-09 | 2023-06-15 | Vega Grieshaber Kg | Druckmesszelle und Verfahren zur Kalibrierung einer Druckmesszelle |
| CN116465545A (zh) * | 2023-04-13 | 2023-07-21 | 中国核动力研究设计院 | 一种压力、差压变送器自动原位校准系统及方法 |
-
1992
- 1992-11-30 JP JP4319605A patent/JPH06167592A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008014817A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Nagano Keiki Co Ltd | 圧力発生装置 |
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