JPH06171987A - カーボン被覆光ファイバの製造方法 - Google Patents

カーボン被覆光ファイバの製造方法

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JPH06171987A
JPH06171987A JP4321627A JP32162792A JPH06171987A JP H06171987 A JPH06171987 A JP H06171987A JP 4321627 A JP4321627 A JP 4321627A JP 32162792 A JP32162792 A JP 32162792A JP H06171987 A JPH06171987 A JP H06171987A
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JP
Japan
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carbon
optical fiber
coated
gas
reaction vessel
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Pending
Application number
JP4321627A
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English (en)
Inventor
Shigeo Iino
重雄 飯野
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Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10Coating
    • C03C25/104Coating to obtain optical fibres
    • C03C25/106Single coatings
    • C03C25/1061Inorganic coatings
    • C03C25/1062Carbon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 低コストで、しかも高速での製造が可能なカ
ーボン被覆光ファイバの製造方法を提供する。 【構成】 光ファイバ3aをカーボン被覆反応容器5に
通して、このカーボン被覆反応容器5内で炭化水素ガス
を原料として化学気相法により光ファイバ3aの表面に
カーボン膜を被覆し、カーボン被覆光ファイバを製造す
る。このときカーボン被覆反応容器5のファイバ入口8
aとファイバ出口8bを二酸化炭素ガス又は四塩化炭素
ガスでシールする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバをカーボン
被覆反応容器に通してカーボン被覆光ファイバを得るカ
ーボン被覆光ファイバの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】カーボン被覆光ファイバは、優れた水素
透過防止特性と疲労特性とを持っており、通信用光ファ
イバケーブルの長期信頼性を著しく高めるため、実用的
な光ファイバとして注目を集めている。
【0003】図1は、このようなカーボン被覆光ファイ
バの製造を行うカーボン被覆光ファイバ製造装置の構成
を示したものである。
【0004】この装置では、光ファイバ母材1を線引き
炉2で例えば約2000℃に加熱し、該光ファイバ母材1の
加熱溶融部から外径が例えば125 μm の光ファイバ3a
を線引きする。
【0005】得られた光ファイバ3aを、外径測定器4
を経てカーボン被覆反応容器5に通す。該カーボン被覆
反応容器5では、原料ガス供給口6から供給される炭化
水素ガスを原料として、これを熱分解し、化学気相法
(CVD法)により線引き直後のクリーンな光ファイバ
3aの表面にカーボン膜を被覆し、カーボン被覆光ファ
イバ3bを得る。カーボン被覆反応容器5内の排ガス
は、排気口7から排出する。このときカーボン被覆反応
容器5内で使用している炭化水素ガスは、例えばアセチ
レンガスの如き可燃性のものが多く、該カーボン被覆反
応容器5の上下のファイバ入口8aとファイバ出口8b
から空気が侵入すると、光ファイバ3aの表面温度が高
いため、爆発火災を発生させる恐れがある。そこでカー
ボン被覆反応容器5の上下の上部シール部9a,下部シ
ール部9bからファイバ入口8a,ファイバ出口8bに
Heガスを吹き出してシールを行い、且つ光ファイバ3
aの冷却を行い、爆発火災を防いでいる。即ち、Heガ
スは熱伝導率が他のガスに比べて非常に大きく、冷却効
果が高いため、光ファイバ3aの熱を奪い、炭化水素ガ
スの熱分解を抑制することで、爆発火災を防いでいる。
【0006】カーボン被覆反応容器5から出てくるカー
ボン被覆光ファイバ3bは、樹脂被覆器10に通し紫外
線硬化樹脂の如き樹脂を被覆して、例えば250 μm のカ
ーボン被覆光ファイバ心線3cとする。該カーボン被覆
光ファイバ心線3cは、紫外線硬化炉の如き樹脂硬化器
11に通し、被覆樹脂を硬化させた後、外径測定器12
及び引取りキャプスタン13を経て図示しない巻取機で
巻き取る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなカーボン被覆反応容器5で行う従来のカーボン被覆
光ファイバ3bの製造方法では、シールガスとして高価
なHeガスを使用しているので、コスト高になる問題点
がある。
【0008】また、Heガスは前述したように熱伝導率
が他のガスに比べて非常に大きいため、光ファイバ3a
の熱を奪い過ぎて、カーボン被覆光ファイバの製造を上
げることができない問題点があった。
【0009】本発明の目的は、高価で、しかも製造速度
の高速化を損なうHeガスを使用しないで、低コスト
で、しかも高速での製造が可能なカーボン被覆光ファイ
バの製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明の手段を説明すると、本発明は光ファイバをカーボ
ン被覆反応容器に通して、該カーボン被覆反応容器内で
炭化水素ガスを原料として化学気相法により前記光ファ
イバの表面にカーボン膜を被覆し、カーボン被覆光ファ
イバを得るカーボン被覆光ファイバの製造方法におい
て、前記カーボン被覆反応容器のファイバ入口とファイ
バ出口を二酸化炭素ガス又は四塩化炭素ガスでシールし
つつ前記カーボン被覆光ファイバの製造を行うことを特
徴とする。
【0011】
【作用】このようにカーボン被覆反応容器のファイバ入
口とファイバ出口を二酸化炭素ガス又は四塩化炭素ガス
でシールすると、低コストでカーボン被覆光ファイバの
製造を行うことができる。
【0012】また、これら二酸化炭素ガス又は四塩化炭
素ガスは、熱伝導率がHeガスに比べて低く、光ファイ
バを冷却過ぎることがなく、カーボン被覆光ファイバの
製造を上げることができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例を図を参照して詳細に
説明する。
【0014】まず、図1に示す装置を用いて行う本発明
に係るカーボン被覆光ファイバの製造方法の第1実施例
について説明する。
【0015】本実施例では、カーボン被覆反応容器5の
上下の上部シール部9a,下部シール部9bからファイ
バ入口8a,ファイバ出口8bに二酸化炭素(CO2 )
ガスを吹き出してシールを行いつつ、カーボン被覆反応
容器5内で炭化水素ガスを原料として、これを熱分解
し、化学気相法(CVD法)により光ファイバ3aの表
面にカーボン膜を被覆し、カーボン被覆光ファイバ3b
を得る。
【0016】二酸化炭素ガスは、不活性ガスの中で、炭
化水素ガスの燃焼範囲を著しく狭くすることが知られて
いる。そのために、他の不活性ガスよりもは爆発火災に
対してより安全になる。
【0017】また、二酸化炭素ガスは、熱伝導率が小さ
いので、500 m/分でのカーボン被覆光ファイバ3bの
製造も可能になった。
【0018】更に、ガスのコストは、CO2 :He=
1:7であり、1/7に大幅に削減できた。
【0019】その後の工程は、前述した従来例と同様で
ある。
【0020】次に、図2に示す装置を用いて行う本発明
に係るカーボン被覆光ファイバの製造方法の第2実施例
について説明する。なお、前述した図1と対応する部分
には、同一符号を付けて示している。
【0021】本実施例では、シールガスとして、四塩化
炭素(CCl4 )ガスを用いる例を示したものである。
この場合、四塩化炭素14は、常温で液体であるから、
該四塩化炭素14を貯槽15に収容し、ヒータ16で加
熱してガス化する。得られた四塩化炭素ガスは、ヒータ
16で保温した配管17を経てカーボン被覆反応容器5
の上下の上部シール部9a,下部シール部9bに供給
し、ファイバ入口8a,ファイバ出口8bから吹き出し
てシールを行う。かかる状態で、カーボン被覆反応容器
5内で炭化水素ガスを原料として、これを熱分解し、化
学気相法(CVD法)により光ファイバ3aの表面にカ
ーボン膜を被覆し、カーボン被覆光ファイバ3bを得
る。
【0022】四塩化炭素14は、有機溶剤であり、有害
であるから、カーボン被覆反応容器5の周囲に局所排気
装置18を設置する。
【0023】カーボン被覆反応容器5内に入った四塩化
炭素(CCl4 )ガスも、該カーボン被覆反応容器5内
で熱分解する。このとき、Cはカーボン膜の一部となる
が、ClはHClとなるので、大気汚染防止のため排気
口7には排ガス処理装置19を接続して処理する。
【0024】このようにしてカーボン被覆光ファイバ3
bを製造すると、四塩化炭素ガスは二酸化炭素ガスより
も爆発火災の抑止効果が大きい利点がある。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るカーボ
ン被覆光ファイバの製造方法では、カーボン被覆反応容
器のファイバ入口とファイバ出口を二酸化炭素ガス又は
四塩化炭素ガスでシールするので、低コストでカーボン
被覆光ファイバの製造を行うことができる。
【0026】また、これら二酸化炭素ガス又は四塩化炭
素ガスは、熱伝導率がHeガスに比べて低く、光ファイ
バを冷却過ぎることがなく、カーボン被覆光ファイバの
製造を上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るカーボン被覆光ファイバの製造方
法を実施する装置の第1実施例の概略構成を示す縦断面
である。
【図2】本発明に係るカーボン被覆光ファイバの製造方
法を実施する装置の第2実施例の概略構成を示す縦断面
である。
【符号の説明】
1 光ファイバ母材 2 線引き炉 3a 光ファイバ 3b カーボン被覆光ファイバ 3c カーボン被覆光ファイバ心線 4 外径測定器 5 カーボン被覆反応容器 6 原料ガス供給口 7 排気口 8a ファイバ入口 8b ファイバ出口 9a 上部シール部 9b 下部シール部 10 樹脂被覆器 11 樹脂硬化器 12 外径測定器 13 引取りキャプスタン 14 四塩化炭素 15 貯槽 16 ヒータ 17 配管 18 局所排気装置 19 排ガス処理装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバをカーボン被覆反応容器に通
    して、該カーボン被覆反応容器内で炭化水素ガスを原料
    として化学気相法により前記光ファイバの表面にカーボ
    ン膜を被覆し、カーボン被覆光ファイバを得るカーボン
    被覆光ファイバの製造方法において、 前記カーボン被覆反応容器のファイバ入口とファイバ出
    口を二酸化炭素ガス又は四塩化炭素ガスでシールしつつ
    前記カーボン被覆光ファイバの製造を行うことを特徴と
    するカーボン被覆光ファイバの製造方法。
JP4321627A 1992-12-01 1992-12-01 カーボン被覆光ファイバの製造方法 Pending JPH06171987A (ja)

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