JPH06173047A - 化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法 - Google Patents
化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法Info
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- JPH06173047A JPH06173047A JP4340989A JP34098992A JPH06173047A JP H06173047 A JPH06173047 A JP H06173047A JP 4340989 A JP4340989 A JP 4340989A JP 34098992 A JP34098992 A JP 34098992A JP H06173047 A JPH06173047 A JP H06173047A
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- cleaned
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被洗浄物をできるだけ酸素に触れさせないよ
うにする。 【構成】 洗浄室内を窒素ガスでパージし、室内にある
水溶性洗剤槽で洗浄し、すすぎ槽ですずぎ、温水槽で多
数の中空糸を束ねた純水用脱気装置にて酸素を取り除
き、３０〜５０℃に加熱した脱気水を用いで加熱し、前
記窒素ガス及び熱風槽内に多数の中空糸を束ねた窒素ガ
ス発生装置に圧縮空気を送って発生させた窒素を送って
乾燥させる化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法。
うにする。 【構成】 洗浄室内を窒素ガスでパージし、室内にある
水溶性洗剤槽で洗浄し、すすぎ槽ですずぎ、温水槽で多
数の中空糸を束ねた純水用脱気装置にて酸素を取り除
き、３０〜５０℃に加熱した脱気水を用いで加熱し、前
記窒素ガス及び熱風槽内に多数の中空糸を束ねた窒素ガ
ス発生装置に圧縮空気を送って発生させた窒素を送って
乾燥させる化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は化学的に活性アルミニュ
ウム加工部品等の洗浄方法に関するものである。
ウム加工部品等の洗浄方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のアルミニュウム加工品は、１，
１，１−トリクロロエタン、フロンＣＦＣ−１１３等の
溶剤を使用して洗浄を行っていた。しかし、これ等の物
質が使用禁止物質になるため、代替の洗浄方法として、
水溶性洗浄剤＋温純水乾燥を行う手段が採用されている
ようになってきた。
１，１−トリクロロエタン、フロンＣＦＣ−１１３等の
溶剤を使用して洗浄を行っていた。しかし、これ等の物
質が使用禁止物質になるため、代替の洗浄方法として、
水溶性洗浄剤＋温純水乾燥を行う手段が採用されている
ようになってきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、水系洗
浄には下記のような欠点がある。即ち、アルミニュウム
加工品の表層が非常に活性な状態のため、１度表面がぬ
れた状態になると、水の層を通してアルミニュウムの表
面と空気中の酸素が結合し、アルミニュウムの表面に酸
化膜が析出してしまう。又、加熱した純水中にアルミニ
ュウムの加工品を入れると、純水中の酸素や水酸基と結
びつき、酸化膜、水酸化膜が析出してしまう。このよう
に析出した酸化膜や水酸化膜が、アルミニュウム表面の
変色や後工程の不具合を引きおこすという問題があっ
た。そこで、本発明においては、アルミニュウム等の化
学的に活性な材質の物品において、表面をできるだけ空
気中、純水中に含まれる酸素に接触させないように処理
するのが目的である。
浄には下記のような欠点がある。即ち、アルミニュウム
加工品の表層が非常に活性な状態のため、１度表面がぬ
れた状態になると、水の層を通してアルミニュウムの表
面と空気中の酸素が結合し、アルミニュウムの表面に酸
化膜が析出してしまう。又、加熱した純水中にアルミニ
ュウムの加工品を入れると、純水中の酸素や水酸基と結
びつき、酸化膜、水酸化膜が析出してしまう。このよう
に析出した酸化膜や水酸化膜が、アルミニュウム表面の
変色や後工程の不具合を引きおこすという問題があっ
た。そこで、本発明においては、アルミニュウム等の化
学的に活性な材質の物品において、表面をできるだけ空
気中、純水中に含まれる酸素に接触させないように処理
するのが目的である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明においては、洗浄室内にある水溶性洗剤槽で洗
浄し、すすぎ槽ですずぎ、温水槽で加熱して熱風槽で乾
燥させる洗浄方法において、洗浄室内を窒素ガスにてパ
ージし、温水槽の温純水を酸素を取り除いた脱気水を使
用し、３０〜５０℃の範囲内において加温した化学的に
活性な被洗浄物の洗浄方法を構成する。
に本発明においては、洗浄室内にある水溶性洗剤槽で洗
浄し、すすぎ槽ですずぎ、温水槽で加熱して熱風槽で乾
燥させる洗浄方法において、洗浄室内を窒素ガスにてパ
ージし、温水槽の温純水を酸素を取り除いた脱気水を使
用し、３０〜５０℃の範囲内において加温した化学的に
活性な被洗浄物の洗浄方法を構成する。
【０００５】又、窒素ガスを工場内に設備されているエ
アーコンプレッサーにより圧縮した空気を多数の中空糸
を束ねた窒素ガス発生装置に送って発生させた窒素を用
いる化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法を構成する。
アーコンプレッサーにより圧縮した空気を多数の中空糸
を束ねた窒素ガス発生装置に送って発生させた窒素を用
いる化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法を構成する。
【０００６】又、温水槽に使用する温純水は純水を多数
の中空糸を束ねた純水脱気装置において酸素を取り除い
たものを使用する化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法を
構成する。
の中空糸を束ねた純水脱気装置において酸素を取り除い
たものを使用する化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法を
構成する。
【０００７】又、熱風槽にて被洗浄物を乾燥する際に加
熱した窒素を用いる化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法
を構成する。
熱した窒素を用いる化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法
を構成する。
【０００８】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、被洗浄
物は窒素雰囲気中を移動し、洗浄、すすぎをした後に酸
素を取り除いた温純水で加温された後に、加熱されてい
る窒素で乾燥させる。
物は窒素雰囲気中を移動し、洗浄、すすぎをした後に酸
素を取り除いた温純水で加温された後に、加熱されてい
る窒素で乾燥させる。
【０００９】
【実施例】本発明方法を説明する前に方法に用いる装置
について説明すると、密閉された洗浄室１内に水溶性洗
浄槽２、すすぎ槽３，４、温水槽５及び熱風槽６を直列
に配置し、温水槽５は中空糸膜で形成した純水用脱気装
置７に純水供給管８で接続している。この純水脱気装置
７は公知のものを用いるが、キャビネット内に何千本も
の中空糸が束ねせれて収納された円筒型の膜モジュール
が設置されており、加圧した純水をモジュール内に送り
込むと、透過速度の速い酸素がまず中空糸外に出され、
結果として中空糸内に残された、脱気した純水がモジュ
ールの最終出口から取り出され、図示を省略した加熱装
置を、通過して加熱された温純水を純水供給管８で温水
槽５に送るようになっている。
について説明すると、密閉された洗浄室１内に水溶性洗
浄槽２、すすぎ槽３，４、温水槽５及び熱風槽６を直列
に配置し、温水槽５は中空糸膜で形成した純水用脱気装
置７に純水供給管８で接続している。この純水脱気装置
７は公知のものを用いるが、キャビネット内に何千本も
の中空糸が束ねせれて収納された円筒型の膜モジュール
が設置されており、加圧した純水をモジュール内に送り
込むと、透過速度の速い酸素がまず中空糸外に出され、
結果として中空糸内に残された、脱気した純水がモジュ
ールの最終出口から取り出され、図示を省略した加熱装
置を、通過して加熱された温純水を純水供給管８で温水
槽５に送るようになっている。
【００１０】又、熱風槽６側には２又状になった窒素供
給管９を取付け中空糸膜で形成した窒素ガス発生装置１
０に導入した圧縮空気から取り出した窒素を洗浄室１と
熱風槽６に供給するようになっている。尚、窒素ガス発
生装置１０は前記純水用脱気装置７と同一構成で、工場
内に設備されているエアー用コンプレッサにより圧縮し
た圧縮空気を送入して酸素と窒素とに分離し、濃縮され
た窒素を加熱装置（図示省略）により加熱して熱風とな
し、洗浄室１及び熱風槽６に送るようになっている。
給管９を取付け中空糸膜で形成した窒素ガス発生装置１
０に導入した圧縮空気から取り出した窒素を洗浄室１と
熱風槽６に供給するようになっている。尚、窒素ガス発
生装置１０は前記純水用脱気装置７と同一構成で、工場
内に設備されているエアー用コンプレッサにより圧縮し
た圧縮空気を送入して酸素と窒素とに分離し、濃縮され
た窒素を加熱装置（図示省略）により加熱して熱風とな
し、洗浄室１及び熱風槽６に送るようになっている。
【００１１】次に、前記装置を用して本発明方法を説明
すると、被洗浄物にアルミニュウム製の電子複写器用の
感光ドラムを用いた。そして、洗浄室１と熱風槽６には
約６０℃に加熱された窒素を送り込んでいる。被洗浄物
は密閉された洗浄室１内において、まず、水溶性洗浄槽
２内で洗浄され、すすぎ槽３，４ですすぎを行なって洗
剤を落して清浄化した後に３０℃〜５０℃で加熱されて
いる脱気水を収納している温水槽５内に被洗浄物を挿入
して加熱する。尚、温純水の温度は３０℃以下だと加熱
が不十分で、十分に乾燥させることができず、５０℃以
上だと酸化膜、水酸化膜か析出しやすくなる。被洗浄物
は十分に加熱された後に、熱風槽６内に送られ約６０℃
に加熱された窒素により熱風乾燥する。
すると、被洗浄物にアルミニュウム製の電子複写器用の
感光ドラムを用いた。そして、洗浄室１と熱風槽６には
約６０℃に加熱された窒素を送り込んでいる。被洗浄物
は密閉された洗浄室１内において、まず、水溶性洗浄槽
２内で洗浄され、すすぎ槽３，４ですすぎを行なって洗
剤を落して清浄化した後に３０℃〜５０℃で加熱されて
いる脱気水を収納している温水槽５内に被洗浄物を挿入
して加熱する。尚、温純水の温度は３０℃以下だと加熱
が不十分で、十分に乾燥させることができず、５０℃以
上だと酸化膜、水酸化膜か析出しやすくなる。被洗浄物
は十分に加熱された後に、熱風槽６内に送られ約６０℃
に加熱された窒素により熱風乾燥する。
【００１２】前記方法にて温純水の温度を４０℃にした
場合と従来方法とを表１にて比較すると下記のようにな
る。
場合と従来方法とを表１にて比較すると下記のようにな
る。
【表１】 前記表１からも明らかなように、酸化膜、水酸化膜の析
出を防止することができる。
出を防止することができる。
【００１３】
【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るもので、被洗浄物に酸素に触れる機会が非常に少ない
ので、酸化膜や水酸化合物の析出が少なくなる。又、低
温にて処理するので酸化膜や水酸化膜が析出しにくい。
更に、窒素ガスを用いて乾燥するので、空気に比べ露点
が低いため乾燥時間が短縮され、更に酸化膜の析出も抑
制される。
るもので、被洗浄物に酸素に触れる機会が非常に少ない
ので、酸化膜や水酸化合物の析出が少なくなる。又、低
温にて処理するので酸化膜や水酸化膜が析出しにくい。
更に、窒素ガスを用いて乾燥するので、空気に比べ露点
が低いため乾燥時間が短縮され、更に酸化膜の析出も抑
制される。
【００１４】
【図１】本発明に係る化学的に活性な被洗浄物の洗浄方
法に用いる装置の一例を示す断面図。
法に用いる装置の一例を示す断面図。
１ 洗浄室 ２ 水溶性洗浄槽 ３ すすぎ槽 ４ すすぎ槽 ５ 温水槽 ６ 熱風槽 ７ 純水用脱気装置 ８ 純水供給管 ９ 窒素供給管 １０ 窒素ガス発生装置
Claims (4)
- 【請求項１】 洗浄室内にある水溶性洗剤槽で洗浄し、
すすぎ槽ですずぎ、温水槽で加熱して熱風槽で乾燥させ
る洗浄方法において、洗浄室内を窒素ガスにてパージ
し、温水槽の温純水を酸素を取り除いた脱気水を使用
し、３０〜５０℃の範囲内において加温したことを特徴
とする化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法。 - 【請求項２】 窒素ガスを工場内に設備されているエア
ーコンプレッサーにより圧縮した空気を多数の中空糸を
束ねた窒素ガス発生装置に送って発生させた窒素を用い
ることを特徴とする請求項１記載の化学的に活性な被洗
浄物の洗浄方法。 - 【請求項３】 温水槽に使用する温純水は純水を多数の
中空糸を束ねた純水脱気装置において酸素を取り除いた
ものを使用することを特徴とする請求項１記載の化学的
に活性な被洗浄物の洗浄方法。 - 【請求項４】 熱風槽にて被洗浄物を乾燥する際に加熱
した窒素を用いることを特徴とする請求項１記載の化学
的に活性な被洗浄物の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340989A JPH06173047A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4340989A JPH06173047A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06173047A true JPH06173047A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18342175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4340989A Pending JPH06173047A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 化学的に活性な被洗浄物の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06173047A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07108233A (ja) * | 1993-10-13 | 1995-04-25 | Iwatani Internatl Corp | 洗浄液使用の洗浄装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03234021A (ja) * | 1990-02-09 | 1991-10-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエハの洗浄装置及びその洗浄方法 |
| JPH04124825A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-24 | Sharp Corp | 半導体ウエハの洗浄方法 |
| JPH04176303A (ja) * | 1990-11-07 | 1992-06-24 | Toray Ind Inc | 液中溶存ガスの除去方法 |
-
1992
- 1992-11-30 JP JP4340989A patent/JPH06173047A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03234021A (ja) * | 1990-02-09 | 1991-10-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエハの洗浄装置及びその洗浄方法 |
| JPH04124825A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-24 | Sharp Corp | 半導体ウエハの洗浄方法 |
| JPH04176303A (ja) * | 1990-11-07 | 1992-06-24 | Toray Ind Inc | 液中溶存ガスの除去方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07108233A (ja) * | 1993-10-13 | 1995-04-25 | Iwatani Internatl Corp | 洗浄液使用の洗浄装置 |
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