JPH06173082A - 連続めっき装置 - Google Patents
連続めっき装置Info
- Publication number
- JPH06173082A JPH06173082A JP34100192A JP34100192A JPH06173082A JP H06173082 A JPH06173082 A JP H06173082A JP 34100192 A JP34100192 A JP 34100192A JP 34100192 A JP34100192 A JP 34100192A JP H06173082 A JPH06173082 A JP H06173082A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal strip
- plating solution
- plating
- prevent
- width
- Prior art date
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- Pending
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】コンダクタロ−ルと金属ストリップの接触部に
めっき液が流れることを防止するとともに、金属ストリ
ップの両端エッジ部にめっきがオ−バコ−トすることを
防ぐ。 【構成】金属ストリップ１の幅方向を垂直にして水平方
向に通板し、金属ストリップ１とアノ−ド３ａ，３ｂと
の間に上部からめっき液を流してめっきする。金属スト
リップ１とアノ−ド３ａ，３ｂとの間に流しためっき液
を金属ストリップ１の幅方向下端部から流出させ、通板
している金属ストリップ１の表面にめっき液が残留する
ことを防ぎ、かつ液切れ効果を高める。めっき液を供給
する噴流ヘッダ４を通板する金属ストリップ１の幅に応
じて昇降し、金属ストリップ１の両端エッジ部に電流が
集中することを防ぐ。
めっき液が流れることを防止するとともに、金属ストリ
ップの両端エッジ部にめっきがオ−バコ−トすることを
防ぐ。 【構成】金属ストリップ１の幅方向を垂直にして水平方
向に通板し、金属ストリップ１とアノ−ド３ａ，３ｂと
の間に上部からめっき液を流してめっきする。金属スト
リップ１とアノ−ド３ａ，３ｂとの間に流しためっき液
を金属ストリップ１の幅方向下端部から流出させ、通板
している金属ストリップ１の表面にめっき液が残留する
ことを防ぎ、かつ液切れ効果を高める。めっき液を供給
する噴流ヘッダ４を通板する金属ストリップ１の幅に応
じて昇降し、金属ストリップ１の両端エッジ部に電流が
集中することを防ぐ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は金属ストリップの表面
に連続して電気めっきを施す連続めっき装置に関するも
のである。
に連続して電気めっきを施す連続めっき装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】鉄鋼等の金属ストリップに連続して電気
めっきする装置としては水平型，竪型等種々の装置があ
る。従来の水平型の連続電気めっき装置は、図４のライ
ン構成図に示すように、金属ストリップ１の幅方向と通
板方向を水平にした搬送路に設けられたコンダクタロ−
ル２で金属ストリップ１をカソ−ドにしながら、アノ−
ド３ａ，３ｂと金属ストリップ１との間の空間に噴流ヘ
ッダ４ａ，４ｂのノズルからめっき液を流し、コンダク
タロ−ル２にめっき液が流れるのをダムロ−ル５で防ぎ
ながら金属ストリップ１の両面に電気めっきを行なって
いる。竪型の連続めっき装置は、図５に示すように金属
ストリップ１の幅方向を水平にし、通板方向を垂直方
向、すなわち竪型タンク６の下部に設けたボトムロ−ル
７で進行方向を下方向と上方向に反転させながら、竪型
タンク６にめっき液を満たしたり（特開昭60−56092号
公報）、図６に示すように、アノ−ド３ａ，３ｂと金属
ストリップ１との間の空間に噴流ヘッダ４ａ，４ｂから
めっき液を流したりして（特開昭61−190096号公報）、
金属ストリップ１の両面に電気めっきを行なっている。
また、図７に示すように、金属ストリップ１の幅方向を
垂直にし、めっき液を満たしためっき槽８内を水平方向
に通板しながら金属ストリップ１の両面にめっきする垂
直型めっき装置も使用されている（特開平１−168890号
公報）。
めっきする装置としては水平型，竪型等種々の装置があ
る。従来の水平型の連続電気めっき装置は、図４のライ
ン構成図に示すように、金属ストリップ１の幅方向と通
板方向を水平にした搬送路に設けられたコンダクタロ−
ル２で金属ストリップ１をカソ−ドにしながら、アノ−
ド３ａ，３ｂと金属ストリップ１との間の空間に噴流ヘ
ッダ４ａ，４ｂのノズルからめっき液を流し、コンダク
タロ−ル２にめっき液が流れるのをダムロ−ル５で防ぎ
ながら金属ストリップ１の両面に電気めっきを行なって
いる。竪型の連続めっき装置は、図５に示すように金属
ストリップ１の幅方向を水平にし、通板方向を垂直方
向、すなわち竪型タンク６の下部に設けたボトムロ−ル
７で進行方向を下方向と上方向に反転させながら、竪型
タンク６にめっき液を満たしたり（特開昭60−56092号
公報）、図６に示すように、アノ−ド３ａ，３ｂと金属
ストリップ１との間の空間に噴流ヘッダ４ａ，４ｂから
めっき液を流したりして（特開昭61−190096号公報）、
金属ストリップ１の両面に電気めっきを行なっている。
また、図７に示すように、金属ストリップ１の幅方向を
垂直にし、めっき液を満たしためっき槽８内を水平方向
に通板しながら金属ストリップ１の両面にめっきする垂
直型めっき装置も使用されている（特開平１−168890号
公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記図４〜図６に示す
ように、アノ−ド３ａ，３ｂと金属ストリップ１との間
の空間にめっき液を流す水平型又は竪型めっき装置にお
いては、走行する金属ストリップ１の蛇行や処理する金
属ストリップ１の幅が変わっても金属ストリップの表面
に良好なめっきができるように、通常はアノ−ド３ａ，
３ｂの幅を通板する金属ストリップ１の最大幅よりも広
くして、金属ストリップ１の両端エッジ部もめっき液で
完全に覆った状態でアノ−ド３ａ，３ｂからカソ−ドで
ある金属ストリップ１に電流が流される。このため金属
ストリップ１の両端エッジ部に電流が集中し、両端エッ
ジ部にめっきがオ−バコ−トされてしまう。このオ−バ
コ−トを防止するために、金属ストリップ１の両端エッ
ジ部に絶縁体からなるエッジマスクを付けて余分な電流
をカットする必要がある。このようにエッジマスクを付
けると装置が複雑になり、メンテナンス性が悪いという
短所があった。
ように、アノ−ド３ａ，３ｂと金属ストリップ１との間
の空間にめっき液を流す水平型又は竪型めっき装置にお
いては、走行する金属ストリップ１の蛇行や処理する金
属ストリップ１の幅が変わっても金属ストリップの表面
に良好なめっきができるように、通常はアノ−ド３ａ，
３ｂの幅を通板する金属ストリップ１の最大幅よりも広
くして、金属ストリップ１の両端エッジ部もめっき液で
完全に覆った状態でアノ−ド３ａ，３ｂからカソ−ドで
ある金属ストリップ１に電流が流される。このため金属
ストリップ１の両端エッジ部に電流が集中し、両端エッ
ジ部にめっきがオ−バコ−トされてしまう。このオ−バ
コ−トを防止するために、金属ストリップ１の両端エッ
ジ部に絶縁体からなるエッジマスクを付けて余分な電流
をカットする必要がある。このようにエッジマスクを付
けると装置が複雑になり、メンテナンス性が悪いという
短所があった。
【０００４】また、コンダクタロ−ル２と金属ストリッ
プ１との接触部には電流が流れており、コンダクタロ−
ル２はコンダクタロ−ル２と金属ストリップ１の接触抵
抗の分だけ金属ストリップ１より陰極になる、この接触
部にもめっき液が流れるのでコンダクタロ−ル２の表面
もめっきされる。このめっきの付着量は金属ストリップ
１の板幅に応じた接触面に流れる電流密度に比例し、コ
ンダクタロ−ル２の表面に金属ストリップ１の板幅に応
じた段差を生じる。このような段差が生じると通板する
金属ストリップ１の板幅が大きくなった場合には、コン
ダクタロ−ル２と金属ストリップ１とが幅方向に均一に
接触せず、金属ストリップ１に均一なめっきができなく
なってしまう。これを防止するために研磨装置を設けて
コンダクタロ−ル２を研磨する必要がある。このため装
置が複雑になるとともに、研磨のため余分な時間を要す
るという短所があった。
プ１との接触部には電流が流れており、コンダクタロ−
ル２はコンダクタロ−ル２と金属ストリップ１の接触抵
抗の分だけ金属ストリップ１より陰極になる、この接触
部にもめっき液が流れるのでコンダクタロ−ル２の表面
もめっきされる。このめっきの付着量は金属ストリップ
１の板幅に応じた接触面に流れる電流密度に比例し、コ
ンダクタロ−ル２の表面に金属ストリップ１の板幅に応
じた段差を生じる。このような段差が生じると通板する
金属ストリップ１の板幅が大きくなった場合には、コン
ダクタロ−ル２と金属ストリップ１とが幅方向に均一に
接触せず、金属ストリップ１に均一なめっきができなく
なってしまう。これを防止するために研磨装置を設けて
コンダクタロ−ル２を研磨する必要がある。このため装
置が複雑になるとともに、研磨のため余分な時間を要す
るという短所があった。
【０００５】また、図７に示すような垂直型めっき装置
は幅の狭い材料について低速で通板するものに限定され
る装置であるとともに上記の短所に対してはなんら解決
がされていなかった。
は幅の狭い材料について低速で通板するものに限定され
る装置であるとともに上記の短所に対してはなんら解決
がされていなかった。
【０００６】この発明はかかる短所を解決するためにな
されたものであり、コンダクタロ−ルと金属ストリップ
の接触部にめっき液が流れることを防止するとともに、
金属ストリップの両端エッジ部にめっきがオ−バコ−ト
することを防止することができる連続めっき装置を得る
ことを目的とするものである。
されたものであり、コンダクタロ−ルと金属ストリップ
の接触部にめっき液が流れることを防止するとともに、
金属ストリップの両端エッジ部にめっきがオ−バコ−ト
することを防止することができる連続めっき装置を得る
ことを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る連続めっ
き装置は、金属ストリップの幅方向を垂直にして水平方
向に通板する搬送路と、金属ストリップのそれぞれの面
に対向して設けられたアノ−ドと、上記搬送路の上部に
設けられ、通板する金属ストリップの幅に応じて電極間
を昇降する噴流ヘッダとを備えたことを特徴とする。
き装置は、金属ストリップの幅方向を垂直にして水平方
向に通板する搬送路と、金属ストリップのそれぞれの面
に対向して設けられたアノ−ドと、上記搬送路の上部に
設けられ、通板する金属ストリップの幅に応じて電極間
を昇降する噴流ヘッダとを備えたことを特徴とする。
【０００８】
【作用】この発明においては、金属ストリップの幅方向
を垂直にして水平方向に通板し、金属ストリップと電極
との間に上部からめっき液を流してめっきする。この金
属ストリップと電極との間に流しためっき液を金属スト
リップの幅方向下端部から流出させ、通板している金属
ストリップの表面にめっき液が残留することを防ぎ、か
つ液切れ効果を高めて、めっき液がコンダクタロ−ルと
金属ストリップの接触部に流れることを防ぐ。
を垂直にして水平方向に通板し、金属ストリップと電極
との間に上部からめっき液を流してめっきする。この金
属ストリップと電極との間に流しためっき液を金属スト
リップの幅方向下端部から流出させ、通板している金属
ストリップの表面にめっき液が残留することを防ぎ、か
つ液切れ効果を高めて、めっき液がコンダクタロ−ルと
金属ストリップの接触部に流れることを防ぐ。
【０００９】また、めっき液を供給する噴流ヘッダを通
板する金属ストリップの幅に応じて昇降させて、金属ス
トリップ１の両端エッジ部に電流が集中することを防
ぐ。
板する金属ストリップの幅に応じて昇降させて、金属ス
トリップ１の両端エッジ部に電流が集中することを防
ぐ。
【００１０】
【実施例】図１，図２はこの発明の一実施例のライン構
成図を示し、図１は正面図、図２は上面断面図である。
図に示すように、金属ストリップ１を走行させる搬送路
には複数のコンダクタロ−ル２とアノ−ド３ａ，３ｂと
が水平方向に連設されている。コンダクタロ−ル２は軸
心が垂直方向に配置され、金属ストリップ１の幅方向を
垂直にして水平方向に走行させる。アノ−ド３ａ，３ｂ
は電極面が走行する金属ストリップ１を挾んで垂直に設
けられ、アノ−ド３ａ，３ｂの前端部と後端部及び下端
部には、例えばラビリンスパッキンからなる遮蔽部１０
ａ，１０ｂ，１０ｃがそれぞれ取り付けられている。
成図を示し、図１は正面図、図２は上面断面図である。
図に示すように、金属ストリップ１を走行させる搬送路
には複数のコンダクタロ−ル２とアノ−ド３ａ，３ｂと
が水平方向に連設されている。コンダクタロ−ル２は軸
心が垂直方向に配置され、金属ストリップ１の幅方向を
垂直にして水平方向に走行させる。アノ−ド３ａ，３ｂ
は電極面が走行する金属ストリップ１を挾んで垂直に設
けられ、アノ−ド３ａ，３ｂの前端部と後端部及び下端
部には、例えばラビリンスパッキンからなる遮蔽部１０
ａ，１０ｂ，１０ｃがそれぞれ取り付けられている。
【００１１】このアノ−ド３ａ，３ｂの上部には昇降装
置１１に取り付けられた噴流ヘッダ４が設置してある。
噴流ヘッダ４は、図３の側面断面図に示すように、アノ
−ド３ａ，３ｂと金属ストリップ１との間の空間にめっ
き液を噴出させる一対のノズル１２ａ、１２ｂを有す
る。
置１１に取り付けられた噴流ヘッダ４が設置してある。
噴流ヘッダ４は、図３の側面断面図に示すように、アノ
−ド３ａ，３ｂと金属ストリップ１との間の空間にめっ
き液を噴出させる一対のノズル１２ａ、１２ｂを有す
る。
【００１２】上記のように構成された連続電気めっき装
置において、幅方向を垂直にした金属ストリップ１の下
端部をアノ−ド３ａ，３ｂの下端部に位置合わせしなが
ら、金属ストリップ１を水平方向に走行させる。この走
行する金属ストリップ１の幅に応じて昇降装置１１を駆
動し、噴流ヘッダ４のノズル１２ａ、１２ｂの位置を可
変する。そして走行する金属ストリップ１をコンダクタ
ロ−ル２でカソ−ドにしながら、噴流ヘッダ４のノズル
１２ａ，１２ｂからめっき液を噴出する。このように幅
方向が垂直で水平方向に走行する金属ストリップ１に上
部からめっき液を噴出するから、１個の噴流ヘッダ４で
金属ストリップ１の両面にめっき液を噴出することがで
きる。
置において、幅方向を垂直にした金属ストリップ１の下
端部をアノ−ド３ａ，３ｂの下端部に位置合わせしなが
ら、金属ストリップ１を水平方向に走行させる。この走
行する金属ストリップ１の幅に応じて昇降装置１１を駆
動し、噴流ヘッダ４のノズル１２ａ、１２ｂの位置を可
変する。そして走行する金属ストリップ１をコンダクタ
ロ−ル２でカソ−ドにしながら、噴流ヘッダ４のノズル
１２ａ，１２ｂからめっき液を噴出する。このように幅
方向が垂直で水平方向に走行する金属ストリップ１に上
部からめっき液を噴出するから、１個の噴流ヘッダ４で
金属ストリップ１の両面にめっき液を噴出することがで
きる。
【００１３】ノズル１２ａ，１２ｂから噴出されためっ
き液はアノ−ド３ａ，３ｂの前後に設けられた遮蔽部１
０ａ，１０ｂによりアノ−ド３ａ，３ｂの前後に流出す
ることを抑えられて、アノ−ド３ａ，３ｂと金属ストリ
ップ１との間の空間に供給される。この供給されためっ
き液はアノ−ド３ａ，３ｂの下端部に設けられた遮蔽部
１０ｃから一定量ずつ回収パン１３に流れ落ちながら、
アノ−ド３ａ，３ｂと金属ストリップ１との間を流れ、
金属ストリップ１の両面をめっきする。
き液はアノ−ド３ａ，３ｂの前後に設けられた遮蔽部１
０ａ，１０ｂによりアノ−ド３ａ，３ｂの前後に流出す
ることを抑えられて、アノ−ド３ａ，３ｂと金属ストリ
ップ１との間の空間に供給される。この供給されためっ
き液はアノ−ド３ａ，３ｂの下端部に設けられた遮蔽部
１０ｃから一定量ずつ回収パン１３に流れ落ちながら、
アノ−ド３ａ，３ｂと金属ストリップ１との間を流れ、
金属ストリップ１の両面をめっきする。
【００１４】この幅方向を垂直にした金属ストリップ１
をめっきするときに、金属ストリップ１の下端部をアノ
−ド３ａ，３ｂの下端部に位置合わせし、かつ噴流ヘッ
ダ４のノズル１２ａ、１２ｂの位置を金属ストリップ１
の幅に応じて昇降装置１１で可変して、めっき液が金属
ストリップ１の板幅分だけ存在するように調節する。こ
のように噴流ヘッダ４のノズル１２ａ、１２ｂの位置を
調節することにより、アノ−ド３ａ，３ｂはめっき液が
存在する部分においてのみ陽極として作用する。このた
めアノ−ド３ａ，３ｂの金属ストリップ１の板幅より外
側の部分からは電流が流れず、金属ストリップ１のエッ
ジ部に電流が集中することを防ぎ、金属ストリップ１に
は全面にほぼ均一な電流が流れる。したがって、エッジ
マスクを使用しなくても金属ストリップ１のエッジ部に
めっきがオ−バコ−トすることを防ぐことができる。
をめっきするときに、金属ストリップ１の下端部をアノ
−ド３ａ，３ｂの下端部に位置合わせし、かつ噴流ヘッ
ダ４のノズル１２ａ、１２ｂの位置を金属ストリップ１
の幅に応じて昇降装置１１で可変して、めっき液が金属
ストリップ１の板幅分だけ存在するように調節する。こ
のように噴流ヘッダ４のノズル１２ａ、１２ｂの位置を
調節することにより、アノ−ド３ａ，３ｂはめっき液が
存在する部分においてのみ陽極として作用する。このた
めアノ−ド３ａ，３ｂの金属ストリップ１の板幅より外
側の部分からは電流が流れず、金属ストリップ１のエッ
ジ部に電流が集中することを防ぎ、金属ストリップ１に
は全面にほぼ均一な電流が流れる。したがって、エッジ
マスクを使用しなくても金属ストリップ１のエッジ部に
めっきがオ−バコ−トすることを防ぐことができる。
【００１５】また、アノ−ド３ａ，３ｂと金属ストリッ
プ１との間の空間に供給されためっき液の一部は金属ス
トリップ１に沿ってアノ−ド３ａ，３ｂの前後に設けら
れた遮蔽部１０ａ，１０ｂから流出するが、金属ストリ
ップ１は幅方向が垂直になっているから、金属ストリッ
プ１に付着しためっき液は重力により直ちに落下するた
め液切れが良く、金属ストリップ１とコンダクタロ−ル
２の接触部までめっき液が流れることを防ぐことができ
る。したがってコンダクタロ−ル２の表面がめっきされ
たり腐食することを防ぐことができる。
プ１との間の空間に供給されためっき液の一部は金属ス
トリップ１に沿ってアノ−ド３ａ，３ｂの前後に設けら
れた遮蔽部１０ａ，１０ｂから流出するが、金属ストリ
ップ１は幅方向が垂直になっているから、金属ストリッ
プ１に付着しためっき液は重力により直ちに落下するた
め液切れが良く、金属ストリップ１とコンダクタロ−ル
２の接触部までめっき液が流れることを防ぐことができ
る。したがってコンダクタロ−ル２の表面がめっきされ
たり腐食することを防ぐことができる。
【００１６】さらに垂直な金属ストリップ１に沿ってめ
っき液を流すから、60〜200ｃｍ程度の広幅の金属スト
リップであっても、めっき液のあわ抜けが良くなるとと
もに、カソ−ドである金属ストリップ１への金属イオン
の補給が円滑になり緻密なめっきをすることができる。
っき液を流すから、60〜200ｃｍ程度の広幅の金属スト
リップであっても、めっき液のあわ抜けが良くなるとと
もに、カソ−ドである金属ストリップ１への金属イオン
の補給が円滑になり緻密なめっきをすることができる。
【００１７】
【発明の効果】この発明は以上説明したように、金属ス
トリップの幅方向を垂直にして水平方向に通板し、金属
ストリップと電極との間に上部からめっき液を流してめ
っきするようにしたから、通板している金属ストリップ
の表面にめっき液が残留することを防ぎ、かつ液切れ効
果を高めることができ、めっき液がコンダクタロ−ルと
金属ストリップの接触部に流れることを防ぐことができ
る。したがってコンタクトロ−ルのめっきや腐食をダム
ロ−ラ等を必要とせずに防止することができる。
トリップの幅方向を垂直にして水平方向に通板し、金属
ストリップと電極との間に上部からめっき液を流してめ
っきするようにしたから、通板している金属ストリップ
の表面にめっき液が残留することを防ぎ、かつ液切れ効
果を高めることができ、めっき液がコンダクタロ−ルと
金属ストリップの接触部に流れることを防ぐことができ
る。したがってコンタクトロ−ルのめっきや腐食をダム
ロ−ラ等を必要とせずに防止することができる。
【００１８】また、めっき液を供給する噴流ヘッダを通
板する金属ストリップの幅に応じて昇降させて、金属ス
トリップ１の両端エッジ部に電流が集中することを防ぐ
ことができるから、エッジマスクを使用しなくても金属
ストリップのエッジ部にめっきがオ−バコ−トすること
を防止することができ、均一なめっきをすることができ
る。
板する金属ストリップの幅に応じて昇降させて、金属ス
トリップ１の両端エッジ部に電流が集中することを防ぐ
ことができるから、エッジマスクを使用しなくても金属
ストリップのエッジ部にめっきがオ−バコ−トすること
を防止することができ、均一なめっきをすることができ
る。
【００１９】また、ダムロ−ラやエッジマスクを必要と
せずに良質なめっきを均一にすることができるから、め
っき設備の構成を簡単にすることができる。
せずに良質なめっきを均一にすることができるから、め
っき設備の構成を簡単にすることができる。
【００２０】さらに、金属ストリップの幅方向を垂直に
して水平方向に通板するから、めっき設備の設置面積を
小さくすることもできる。
して水平方向に通板するから、めっき設備の設置面積を
小さくすることもできる。
【図１】この発明の実施例のライン構成図を示す正面図
である。
である。
【図２】上記実施例の上面断面図である。
【図３】上記実施例の側面断面図である。
【図４】従来の水平型めっき装置のライン構成図を示す
正面図である。
正面図である。
【図５】従来の竪型連続めっき装置を示す断面図であ
る。
る。
【図６】従来の他の竪型連続めっき装置を示す断面図で
ある。
ある。
【図７】従来の垂直型めっき装置を示す斜視図である。
【符号の説明】 １ 金属ストリップ ２ コンダクタロ−ル ３ａ，３ｂ アノ−ド ４ 噴流ヘッダ １１ 昇降装置 １２ａ，１２ｂ ノズル
Claims (1)
- 【請求項１】 金属ストリップの幅方向を垂直にして水
平方向に通板する搬送路と、上記金属ストリップのそれ
ぞれの面に対向して設けられたアノ−ドと、上記搬送路
の上部に設けられ、通板する金属ストリップの幅に応じ
て電極間を昇降する噴流ヘッダとを備えたことを特徴と
する連続めっき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34100192A JPH06173082A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 連続めっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34100192A JPH06173082A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 連続めっき装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06173082A true JPH06173082A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18342290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34100192A Pending JPH06173082A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 連続めっき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06173082A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100352620B1 (ko) * | 1998-12-29 | 2002-12-26 | 주식회사 에스아이테크 | 리드프레임도금조의드레인배관연결구조 |
-
1992
- 1992-11-30 JP JP34100192A patent/JPH06173082A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100352620B1 (ko) * | 1998-12-29 | 2002-12-26 | 주식회사 에스아이테크 | 리드프레임도금조의드레인배관연결구조 |
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