JPH06174448A - 液晶パネルの位置決め装置及びパターン検査装置 - Google Patents
液晶パネルの位置決め装置及びパターン検査装置Info
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- JPH06174448A JPH06174448A JP32961792A JP32961792A JPH06174448A JP H06174448 A JPH06174448 A JP H06174448A JP 32961792 A JP32961792 A JP 32961792A JP 32961792 A JP32961792 A JP 32961792A JP H06174448 A JPH06174448 A JP H06174448A
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、液晶パネルの透明導電膜やその他
のコーティング膜の膜厚や膜質の変動に対しても、安定
して位置決め用マーク及び透明導電膜のパターンを検出
することのできる位置決め装置、パターン検査装置を提
供するところにある。 【構成】 本発明は、ガラス基板面に垂直に照明する落
射照明の光源からの光の波長域を限定する波長限定手段
を有する、あるいはその波長限定手段において、波長を
限定しない場合を含め複数の波長域を選択できるような
切り換え機構を設けたもの、あるいはその波長域を決定
するために輝度のヒストグラム算出手段、あるいは膜厚
測定手段を有する。
のコーティング膜の膜厚や膜質の変動に対しても、安定
して位置決め用マーク及び透明導電膜のパターンを検出
することのできる位置決め装置、パターン検査装置を提
供するところにある。 【構成】 本発明は、ガラス基板面に垂直に照明する落
射照明の光源からの光の波長域を限定する波長限定手段
を有する、あるいはその波長限定手段において、波長を
限定しない場合を含め複数の波長域を選択できるような
切り換え機構を設けたもの、あるいはその波長域を決定
するために輝度のヒストグラム算出手段、あるいは膜厚
測定手段を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶パネルの製造工程
においてガラス基板上の透明導電膜により形成された位
置決め用マークを検出することにより位置ずれ量を計測
し補正する位置決め装置と透明導電膜により形成された
パターンの欠陥を検査するパターン検査装置に関する。
においてガラス基板上の透明導電膜により形成された位
置決め用マークを検出することにより位置ずれ量を計測
し補正する位置決め装置と透明導電膜により形成された
パターンの欠陥を検査するパターン検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルの製造工程において、例えば
上ガラス基板と下ガラス基板の貼合せを行う場合、ある
いはパネルを組み上げたあとにフレキシブル回路基板の
電極との接合を行う場合などに両者の相対的な位置ずれ
量を検出し補正する。この様な場合、ＩＴＯ膜などの透
明導電膜で形成された位置決め用マークの位置を正確に
検出する必要があり、特開平３−８０２１７でみられる
ように光学系の部分では、同軸落射照明による顕微鏡が
一般に用いられている。
上ガラス基板と下ガラス基板の貼合せを行う場合、ある
いはパネルを組み上げたあとにフレキシブル回路基板の
電極との接合を行う場合などに両者の相対的な位置ずれ
量を検出し補正する。この様な場合、ＩＴＯ膜などの透
明導電膜で形成された位置決め用マークの位置を正確に
検出する必要があり、特開平３−８０２１７でみられる
ように光学系の部分では、同軸落射照明による顕微鏡が
一般に用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、透明導電膜の
反射率はその膜厚や膜質により大きく変化し、前述の従
来技術では光源波長域を限定する手段を持たないため、
透明導電膜やその他のコーティング膜の膜厚や膜質の変
動による位置決め用マークや透明導電膜パターンのコン
トラストの劣化に対し改善の手段が無く、結果的に位置
決め用マークの位置を正確に測定ができなかったり、パ
ターンの切り出しが正確にできずその検査をすることが
できない場合が生ずる。
反射率はその膜厚や膜質により大きく変化し、前述の従
来技術では光源波長域を限定する手段を持たないため、
透明導電膜やその他のコーティング膜の膜厚や膜質の変
動による位置決め用マークや透明導電膜パターンのコン
トラストの劣化に対し改善の手段が無く、結果的に位置
決め用マークの位置を正確に測定ができなかったり、パ
ターンの切り出しが正確にできずその検査をすることが
できない場合が生ずる。
【０００４】そこで本発明はこのような問題点を解決す
るもので、その目的とするところは透明導電膜やその他
のコーティング膜の膜厚や膜質の変動に対しても、安定
して位置決め用マーク及び透明導電膜のパターンを検出
することのできる位置決め装置、パターン検査装置を提
供するところにある。
るもので、その目的とするところは透明導電膜やその他
のコーティング膜の膜厚や膜質の変動に対しても、安定
して位置決め用マーク及び透明導電膜のパターンを検出
することのできる位置決め装置、パターン検査装置を提
供するところにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶パネルの位
置決め装置およびパターン検査装置は、ガラス基板面に
垂直に照明する落射照明の光源からの光の波長域を限定
する波長限定手段を有する、あるいはその波長限定手段
において、波長を限定しない場合を含め複数の波長域を
選択できるような切り換え機構を設けたもの、あるいは
その波長域を決定するために輝度のヒストグラム算出手
段、あるいは膜厚測定手段を有することを特徴とする。
置決め装置およびパターン検査装置は、ガラス基板面に
垂直に照明する落射照明の光源からの光の波長域を限定
する波長限定手段を有する、あるいはその波長限定手段
において、波長を限定しない場合を含め複数の波長域を
選択できるような切り換え機構を設けたもの、あるいは
その波長域を決定するために輝度のヒストグラム算出手
段、あるいは膜厚測定手段を有することを特徴とする。
【０００６】
【作用】図２に示すような屈折率がｎ0，ｎ1，ｎ2から
なる３層の透明体の系を考える。ここでｎ1層の厚さを
ｄとし、波長λの平行光線がｎ0の側から垂直入射した
とすると、屈折率の大小関係がｎ0＜ｎ1＞ｎ2の場合、
ｎ1層を１往復する毎に生ずる位相差Ｄは、Ｄ＝４πｎ1
ｄ／λ （第１式） エネルギー反射率は、Ｄ＝（２ｍ＋１）πのとき 極大
になる。（ｍ＝0,1,2,---）すなわち、λ0＝４ｎ1ｄ／
（２ｍ＋１） （第２式）なる波長λ0を照明光として
用いれば、高い反射率が得られることになる。
なる３層の透明体の系を考える。ここでｎ1層の厚さを
ｄとし、波長λの平行光線がｎ0の側から垂直入射した
とすると、屈折率の大小関係がｎ0＜ｎ1＞ｎ2の場合、
ｎ1層を１往復する毎に生ずる位相差Ｄは、Ｄ＝４πｎ1
ｄ／λ （第１式） エネルギー反射率は、Ｄ＝（２ｍ＋１）πのとき 極大
になる。（ｍ＝0,1,2,---）すなわち、λ0＝４ｎ1ｄ／
（２ｍ＋１） （第２式）なる波長λ0を照明光として
用いれば、高い反射率が得られることになる。
【０００７】ここで、ｎ0層を空気、ｎ1層を透明導電
膜、ｎ2層をガラスに置き換えて考えると、位置決め用
マークあるいは透明導電膜パターンの部分ととらえるこ
とができる。屈折率は、空気が１、透明導電膜のＩＴＯ
の場合１．７〜２．０、ガラスは１．５程度であるか
ら、上記の条件をみたす。一般的にガラスのみの反射の
場合、反射率は、光の波長が可視光域ならば、波長依存
性はほとんど無く、また透明導電膜よりも反射率は低い
と考えられる。従って、透明導電膜からの反射強度を上
げてやること、すなわち前述の（第２式）の波長λ0の
付近の波長域の照明をもちいることにより、透明導電膜
とガラスの反射強度の差が大きくなる。しかし、厚さｄ
の値が固定されている場合あるいは変動幅が小さい場合
は上記に基づく波長をあらかじめ干渉フィルタなどの波
長限定手段で得ておけば良いが、厚さｄが不明の場合や
工程での変動が大きい場合は、複数の波長域から最適な
波長域を選択して用いる。
膜、ｎ2層をガラスに置き換えて考えると、位置決め用
マークあるいは透明導電膜パターンの部分ととらえるこ
とができる。屈折率は、空気が１、透明導電膜のＩＴＯ
の場合１．７〜２．０、ガラスは１．５程度であるか
ら、上記の条件をみたす。一般的にガラスのみの反射の
場合、反射率は、光の波長が可視光域ならば、波長依存
性はほとんど無く、また透明導電膜よりも反射率は低い
と考えられる。従って、透明導電膜からの反射強度を上
げてやること、すなわち前述の（第２式）の波長λ0の
付近の波長域の照明をもちいることにより、透明導電膜
とガラスの反射強度の差が大きくなる。しかし、厚さｄ
の値が固定されている場合あるいは変動幅が小さい場合
は上記に基づく波長をあらかじめ干渉フィルタなどの波
長限定手段で得ておけば良いが、厚さｄが不明の場合や
工程での変動が大きい場合は、複数の波長域から最適な
波長域を選択して用いる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明について図面に基づいて詳細に
説明する。図１は本発明の一実施例を示す構成図であ
る。
説明する。図１は本発明の一実施例を示す構成図であ
る。
【０００９】液晶パネルのガラス基板１上には、ＩＴＯ
膜により位置決め用マーク２が形成されている。このガ
ラス基板１が、テーブル９上に外形基準で仮位置決めさ
れ供給される。通常ガラス基板１の外形精度は、目的と
する位置合わせに対して十分な精度でできていない。そ
のため、さらに精度よく合わせ込む必要がある。仮位置
決めの状態で位置決め用マークが、同軸落射顕微鏡５の
視野に必ず入るように顕微鏡の倍率を設定しておく。一
方、落射照明の光源３から出た光は、波長限定手段であ
る干渉フィルタ４により波長域を限定され、同軸落射顕
微鏡５をへてガラス基板１に照射される。反射光は、再
び同軸落射顕微鏡５を通り撮像手段のＴＶカメラ６で光
電変換され、位置決め用マークの座標位置と基準位置と
のずれ量が、ずれ量算出手段である画像処理装置７にお
いて計算され、ずれ量分だけ位置補正手段であるテーブ
ル駆動装置８により位置の補正がなされる。
膜により位置決め用マーク２が形成されている。このガ
ラス基板１が、テーブル９上に外形基準で仮位置決めさ
れ供給される。通常ガラス基板１の外形精度は、目的と
する位置合わせに対して十分な精度でできていない。そ
のため、さらに精度よく合わせ込む必要がある。仮位置
決めの状態で位置決め用マークが、同軸落射顕微鏡５の
視野に必ず入るように顕微鏡の倍率を設定しておく。一
方、落射照明の光源３から出た光は、波長限定手段であ
る干渉フィルタ４により波長域を限定され、同軸落射顕
微鏡５をへてガラス基板１に照射される。反射光は、再
び同軸落射顕微鏡５を通り撮像手段のＴＶカメラ６で光
電変換され、位置決め用マークの座標位置と基準位置と
のずれ量が、ずれ量算出手段である画像処理装置７にお
いて計算され、ずれ量分だけ位置補正手段であるテーブ
ル駆動装置８により位置の補正がなされる。
【００１０】液晶パネルの貼合せを行う場合において
は、上記のずれ量は、上ガラス基板（図１には描かれて
いない）と下ガラス基板との相対的なずれを意味し、ま
たフレキシブル回路基板（図１には描かれていない）と
液晶パネルとの接合においては、フレキシブル回路基板
と液晶パネルとの相対的位置ずれを意味する。従って、
位置の補正に関しても両者のどちらを動かしてもよく、
また両方を動かして補正してもよい。
は、上記のずれ量は、上ガラス基板（図１には描かれて
いない）と下ガラス基板との相対的なずれを意味し、ま
たフレキシブル回路基板（図１には描かれていない）と
液晶パネルとの接合においては、フレキシブル回路基板
と液晶パネルとの相対的位置ずれを意味する。従って、
位置の補正に関しても両者のどちらを動かしてもよく、
また両方を動かして補正してもよい。
【００１１】ガラス基板にＩＴＯ膜がついている場合の
分光反射率の一例を図３に示す。ＩＴＯ膜の膜厚が変わ
ると分光反射率の極大となる波長λ0の値も変化する。
またＩＴＯ膜などの透明導電膜以外に絶縁や配向などの
目的で透明膜がコーティングされる場合があるが、この
様な場合も分光反射率において波長依存性を示すケース
が多い。膜厚や膜質の変動が小さい場合は、あらかじめ
この様な分光反射率を計測しておき、反射率の高い波長
域（図３の場合はλ0付近）だけを透過させる干渉フィ
ルタを波長限定手段として利用すれば、良いコントラス
トの画像が得られる。しかしながら変動が大きい場合
は、各種の波長域の干渉フィルタを用意しておき、図１
のようにそれを切り換えるためのモータ１０を設け、干
渉フィルタ４を選択する必要がある。膜厚など情報が外
部から入手できる場合は、そのデータに基づき干渉フィ
ルタ４を選択する。そのような情報が外部から入手でき
ない場合には、ＴＶカメラ６から得られた画像データの
輝度のヒストグラムを画像処理装置７により算出し、Ｉ
ＴＯ膜およびガラスからの反射の各々の輝度の差を、干
渉フィルタ４を切り換えながら求め、最も差の大きい干
渉フィルタ４を選べばよい。この時、各々の輝度の差が
少ない場合にはヒストグラムからＩＴＯ膜とガラスの輝
度データの分離が難しいので、ヒストグラムの輝度幅が
最も広いものを選択してもよいし、輝度のばらつき（標
準偏差など）を求めてその値の最も大きい干渉フィルタ
を選んでもよい。
分光反射率の一例を図３に示す。ＩＴＯ膜の膜厚が変わ
ると分光反射率の極大となる波長λ0の値も変化する。
またＩＴＯ膜などの透明導電膜以外に絶縁や配向などの
目的で透明膜がコーティングされる場合があるが、この
様な場合も分光反射率において波長依存性を示すケース
が多い。膜厚や膜質の変動が小さい場合は、あらかじめ
この様な分光反射率を計測しておき、反射率の高い波長
域（図３の場合はλ0付近）だけを透過させる干渉フィ
ルタを波長限定手段として利用すれば、良いコントラス
トの画像が得られる。しかしながら変動が大きい場合
は、各種の波長域の干渉フィルタを用意しておき、図１
のようにそれを切り換えるためのモータ１０を設け、干
渉フィルタ４を選択する必要がある。膜厚など情報が外
部から入手できる場合は、そのデータに基づき干渉フィ
ルタ４を選択する。そのような情報が外部から入手でき
ない場合には、ＴＶカメラ６から得られた画像データの
輝度のヒストグラムを画像処理装置７により算出し、Ｉ
ＴＯ膜およびガラスからの反射の各々の輝度の差を、干
渉フィルタ４を切り換えながら求め、最も差の大きい干
渉フィルタ４を選べばよい。この時、各々の輝度の差が
少ない場合にはヒストグラムからＩＴＯ膜とガラスの輝
度データの分離が難しいので、ヒストグラムの輝度幅が
最も広いものを選択してもよいし、輝度のばらつき（標
準偏差など）を求めてその値の最も大きい干渉フィルタ
を選んでもよい。
【００１２】更に、別ステーションにＩＴＯ膜の膜厚測
定手段、例えばシート抵抗測定や触針法や干渉色の計測
装置を設け、そこから得られたデータから反射率の大き
い波長域を求め、干渉フィルタ４を選択することもでき
る。
定手段、例えばシート抵抗測定や触針法や干渉色の計測
装置を設け、そこから得られたデータから反射率の大き
い波長域を求め、干渉フィルタ４を選択することもでき
る。
【００１３】干渉フィルタ４の波長域は、単に１つの波
長領域を透過させる場合だけでなく、例えばマゼンタフ
ィルタのように複数の波長領域を透過させるものでも良
いし、全ての波長を透過させるものであっても良い。
長領域を透過させる場合だけでなく、例えばマゼンタフ
ィルタのように複数の波長領域を透過させるものでも良
いし、全ての波長を透過させるものであっても良い。
【００１４】前述の位置決め用マークは、そのために特
別設定したものでなくともよく、既存の透明導電膜で形
成されたパターンの一部であってもよい。
別設定したものでなくともよく、既存の透明導電膜で形
成されたパターンの一部であってもよい。
【００１５】以上の説明では、液晶パネルの位置決め装
置の一実施例として述べてきたが、パターン検査装置の
場合も同様に考えることができる。すなわち、ガラス基
板上にフォト工程で形成された透明導電膜のパターンの
欠陥（切れ、欠け、ピンホール、ぽつなど）を画像処理
により検出しようとしたとき、パターン自身を正確に切
り出せなくては後の処理ができない。従って、前述と同
様の構成を取ることにより、パターンの安定した切り出
しができれば、検査装置としての安定性も確保できる。
置の一実施例として述べてきたが、パターン検査装置の
場合も同様に考えることができる。すなわち、ガラス基
板上にフォト工程で形成された透明導電膜のパターンの
欠陥（切れ、欠け、ピンホール、ぽつなど）を画像処理
により検出しようとしたとき、パターン自身を正確に切
り出せなくては後の処理ができない。従って、前述と同
様の構成を取ることにより、パターンの安定した切り出
しができれば、検査装置としての安定性も確保できる。
【００１６】さらに、選択されたフィルタ情報やヒスト
グラムデータあるいは膜厚測定手段により得られたデー
タを利用すれば、膜厚や膜質の変動情報として工程管理
上有効なものとすることもできる。
グラムデータあるいは膜厚測定手段により得られたデー
タを利用すれば、膜厚や膜質の変動情報として工程管理
上有効なものとすることもできる。
【００１７】
【発明の効果】以上述べたように、落射照明の光の波長
域を最適化することにより透明導電膜やその他のコーテ
ィング膜の膜厚や膜質の変動に対しても、安定して位置
決め用マーク及び透明導電膜のパターンを検出すること
ができるという効果を有する。
域を最適化することにより透明導電膜やその他のコーテ
ィング膜の膜厚や膜質の変動に対しても、安定して位置
決め用マーク及び透明導電膜のパターンを検出すること
ができるという効果を有する。
【図１】本発明の液晶パネルの位置決め装置の一実施例
を示す構成図。
を示す構成図。
【図２】３層の屈折率を持つモデルの反射状態を示す
図。
図。
【図３】ガラス基板にある膜厚のＩＴＯ膜がついている
場合とガラス基板のみの場合の分光反射率グラフ。
場合とガラス基板のみの場合の分光反射率グラフ。
１ 液晶パネルのガラス基板 ２ 位置決め用マーク ３ 落射照明用光源 ４ 干渉フィルタ ５ 同軸落射顕微鏡 ６ ＴＶカメラ ７ 画像処理装置 ８ テーブル駆動装置 ９ テーブル １０ 干渉フィルタ切り換え用モータ
Claims (8)
- 【請求項１】 ガラス基板上の透明導電膜により形成さ
れた位置決め用マークを検出することにより位置ずれ量
を計測し補正する装置において、前記ガラス基板面に垂
直に照明する落射照明手段と、その光源からの光の波長
域を限定する波長限定手段と、前記位置決めマークを撮
像する撮像手段と、位置ずれ量を算出するずれ量算出手
段と、このずれ量に従って位置の補正を行う位置補正手
段とを有することを特徴とする液晶パネルの位置決め装
置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の波長限定手段におい
て、波長を限定しない場合を含め複数の波長域を選択で
きるような切り換え機構を設けたことを特徴とする液晶
パネルの位置決め装置。 - 【請求項３】 請求項１，２に記載の位置決め装置であ
って、前記撮像手段から得られた画像データの輝度のヒ
ストグラムを算出するヒストグラム算出手段を有するこ
とを特徴とする液晶パネルの位置決め装置。 - 【請求項４】 請求項１，２に記載の位置決め装置であ
って、前記透明導電膜の膜厚を測定する膜厚測定手段を
有することを特徴とする液晶パネルの位置決め装置。 - 【請求項５】 ガラス基板上の透明導電膜により形成さ
れたパターンの欠陥を検査する装置において、前記ガラ
ス基板面に垂直に照明する落射照明手段と、その光源か
らの光の波長域を限定する波長限定手段と、前記パター
ンを撮像する撮像手段と、撮像されたパターンから欠陥
を検出する欠陥検出手段とを有することを特徴とする液
晶パネルのパターン検査装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載の波長限定手段におい
て、波長を限定しない場合を含め複数の波長域を選択で
きるような切り換え機構を設けたことを特徴とする液晶
パネルのパターン検査装置。 - 【請求項７】 請求項５，６に記載のパターン検査装置
であって、前記撮像手段から得られた画像データの輝度
のヒストグラムを算出するヒストグラム算出手段を有す
ることを特徴とする液晶パネルの位置決め装置。 - 【請求項８】 請求項５，６に記載のパターン検査装置
であって、前記透明導電膜の膜厚を測定する膜厚測定手
段を有することを特徴とする液晶パネルのパターン検査
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32961792A JPH06174448A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 液晶パネルの位置決め装置及びパターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32961792A JPH06174448A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 液晶パネルの位置決め装置及びパターン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06174448A true JPH06174448A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18223359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32961792A Withdrawn JPH06174448A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 液晶パネルの位置決め装置及びパターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06174448A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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