JPH06177531A - 低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法および装置 - Google Patents
低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法および装置Info
- Publication number
- JPH06177531A JPH06177531A JP4351436A JP35143692A JPH06177531A JP H06177531 A JPH06177531 A JP H06177531A JP 4351436 A JP4351436 A JP 4351436A JP 35143692 A JP35143692 A JP 35143692A JP H06177531 A JPH06177531 A JP H06177531A
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- soldering
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プリント基板のはんだ付け時に発生したヒュ
ームによる大気の汚染を防止し、かつチャンバ内の低酸
素雰囲気の安定化を図る。 【構成】 低酸素雰囲気はんだ付け装置１の不活性ガス
を保持するチャンバ２内に、プリント基板３のはんだ付
け時に発生したヒュームを燃焼させるヒータ１１を設
け、このヒータ１１によりヒュームが燃焼した際、生成
する粉体を回収する受け皿１２を設けたことを特徴とし
ている。
ームによる大気の汚染を防止し、かつチャンバ内の低酸
素雰囲気の安定化を図る。 【構成】 低酸素雰囲気はんだ付け装置１の不活性ガス
を保持するチャンバ２内に、プリント基板３のはんだ付
け時に発生したヒュームを燃焼させるヒータ１１を設
け、このヒータ１１によりヒュームが燃焼した際、生成
する粉体を回収する受け皿１２を設けたことを特徴とし
ている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板のはんだ
付け時に発生するヒュームを燃焼させて回収する低酸素
雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法および
装置に関するものである。
付け時に発生するヒュームを燃焼させて回収する低酸素
雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法および
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント基板のはんだ付け時にフ
ラックスから発生した気体状のヒュームは、主としては
んだ付け装置のチャンバに設けたダクトから排出され、
一部はチャンバの入口部および出口部から排出されてい
たが、排出されずに残ったヒュームがチャンバの内壁や
のぞき窓の内面に付着するので、搬送中のプリント基板
に垂れ落ちたり、のぞき窓から内部の監視が行いにくい
ということがあり、これを改善するため、一例としてプ
リヒータやはんだ槽を有するはんだ付け室の外部にヒュ
ーム（溶剤ガス）を酸化させる白金等の触媒を備えた酸
化処理部を設けるとともに、はんだ付け室と酸化処理部
との間に、はんだ付け室内の不活性ガスを循環させる流
体回路を設けたものがある。上記酸化処理部ではヒュー
ムをはんだ付け室内の不活性ガス中に含まれる酸素と化
合させて酸素を除去し、はんだ付け室内を低酸素雰囲気
に保持するものである（特開昭６２ー１０１３７３号公
報参照）。
ラックスから発生した気体状のヒュームは、主としては
んだ付け装置のチャンバに設けたダクトから排出され、
一部はチャンバの入口部および出口部から排出されてい
たが、排出されずに残ったヒュームがチャンバの内壁や
のぞき窓の内面に付着するので、搬送中のプリント基板
に垂れ落ちたり、のぞき窓から内部の監視が行いにくい
ということがあり、これを改善するため、一例としてプ
リヒータやはんだ槽を有するはんだ付け室の外部にヒュ
ーム（溶剤ガス）を酸化させる白金等の触媒を備えた酸
化処理部を設けるとともに、はんだ付け室と酸化処理部
との間に、はんだ付け室内の不活性ガスを循環させる流
体回路を設けたものがある。上記酸化処理部ではヒュー
ムをはんだ付け室内の不活性ガス中に含まれる酸素と化
合させて酸素を除去し、はんだ付け室内を低酸素雰囲気
に保持するものである（特開昭６２ー１０１３７３号公
報参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで上記従来のヒ
ューム除去装置は、ヒュームの酸化処理部がはんだ付け
装置の外部に設けられているため、設備が大掛かりとな
ってコストが増大するという問題点があった。また、は
んだ付け室から酸化処理部への流体回路を形成する配管
部の内面にもヒュームが付着するので、これを取り除く
ための手数が必要であり、かつ、十分な除去効果が得ら
れないという問題点があった。
ューム除去装置は、ヒュームの酸化処理部がはんだ付け
装置の外部に設けられているため、設備が大掛かりとな
ってコストが増大するという問題点があった。また、は
んだ付け室から酸化処理部への流体回路を形成する配管
部の内面にもヒュームが付着するので、これを取り除く
ための手数が必要であり、かつ、十分な除去効果が得ら
れないという問題点があった。
【０００４】本発明は、上記の問題点を解決するために
なされたもので、プリント基板のはんだ付け時に発生し
たヒュームを大気中に排出させることなく、かつ、チャ
ンバ内を低酸素雰囲気に保持することができるようにし
た低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方
法および装置を得ることを目的とする。
なされたもので、プリント基板のはんだ付け時に発生し
たヒュームを大気中に排出させることなく、かつ、チャ
ンバ内を低酸素雰囲気に保持することができるようにし
た低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方
法および装置を得ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる低酸素雰
囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法は、チヤ
ンバ内のフラックスから発生したヒュームを燃焼する燃
焼手段を設け、この燃焼手段により前記チヤンバ内のヒ
ュームを燃焼し、この燃焼により生成した粉体を受け皿
により回収するものである。
囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法は、チヤ
ンバ内のフラックスから発生したヒュームを燃焼する燃
焼手段を設け、この燃焼手段により前記チヤンバ内のヒ
ュームを燃焼し、この燃焼により生成した粉体を受け皿
により回収するものである。
【０００６】また、本発明にかかる低酸素雰囲気はんだ
付け装置におけるヒューム除去装置は、チャンバ内のフ
ラックスから発生したヒュームを燃焼させる燃焼手段
と、この燃焼手段により前記ヒュームが燃焼した際生成
される粉体を回収する受け皿とを備えたものである。
付け装置におけるヒューム除去装置は、チャンバ内のフ
ラックスから発生したヒュームを燃焼させる燃焼手段
と、この燃焼手段により前記ヒュームが燃焼した際生成
される粉体を回収する受け皿とを備えたものである。
【０００７】
【作用】本発明においては、はんだ付け時に発生したヒ
ュームの燃焼により生成した粉体が回収し処理されるの
で、ヒュームが大気中に排出されるのを防止できる。
ュームの燃焼により生成した粉体が回収し処理されるの
で、ヒュームが大気中に排出されるのを防止できる。
【０００８】また、ヒュームの燃焼によりチャンバ内の
酸素が消費されるので、チャンバ内がさらに良好な低酸
素雰囲気に保持できる。
酸素が消費されるので、チャンバ内がさらに良好な低酸
素雰囲気に保持できる。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の一実施例を示す構成図であ
る。この図において、１は低酸素雰囲気はんだ付け装置
（以下はんだ付け装置という）の主要部を示す。２はチ
ャンバで、プリント基板３を保持し搬送する手段として
のコンベア４が貫通して配設され、入口部５と出口部６
とが設けられている。チャンバ２内には予備加熱部を構
成する予備加熱器７と、はんだ付け部を構成するはんだ
槽８とが収容されている。９は不活性ガス供給ノズル
（以下供給ノズルという）で、不活性ガス供給源１０か
らの不活性ガスを噴出してチャンバ２内を不活性ガスで
充填することにより低酸素雰囲気に保持しており、か
つ、はんだ槽８内のはんだ融液（図示せず）の液面を封
止している。１１は前記プリント基板３のはんだ付け時
にフラックスの加熱によって発生した気体状のヒューム
を燃焼させる燃焼手段としてのヒータで、その長手方向
がプリント基板３の走行方向（矢印Ａ方向）に対して紙
面と直角方向に配設されている。１２は前記ヒータ１１
によってヒュームが燃焼して生成された粉体を回収する
Ｌ字形の受け皿で、受け皿１２内におけるヒュームの流
動を良くするための通気孔１３が形成され、かつ、着脱
が容易に設けられている。着脱手段としては、ねじ，引
掛け等、種々の公知のものを採用することができる。
る。この図において、１は低酸素雰囲気はんだ付け装置
（以下はんだ付け装置という）の主要部を示す。２はチ
ャンバで、プリント基板３を保持し搬送する手段として
のコンベア４が貫通して配設され、入口部５と出口部６
とが設けられている。チャンバ２内には予備加熱部を構
成する予備加熱器７と、はんだ付け部を構成するはんだ
槽８とが収容されている。９は不活性ガス供給ノズル
（以下供給ノズルという）で、不活性ガス供給源１０か
らの不活性ガスを噴出してチャンバ２内を不活性ガスで
充填することにより低酸素雰囲気に保持しており、か
つ、はんだ槽８内のはんだ融液（図示せず）の液面を封
止している。１１は前記プリント基板３のはんだ付け時
にフラックスの加熱によって発生した気体状のヒューム
を燃焼させる燃焼手段としてのヒータで、その長手方向
がプリント基板３の走行方向（矢印Ａ方向）に対して紙
面と直角方向に配設されている。１２は前記ヒータ１１
によってヒュームが燃焼して生成された粉体を回収する
Ｌ字形の受け皿で、受け皿１２内におけるヒュームの流
動を良くするための通気孔１３が形成され、かつ、着脱
が容易に設けられている。着脱手段としては、ねじ，引
掛け等、種々の公知のものを採用することができる。
【００１０】次に、動作について説明する。フラックス
処理されたプリント基板３はコンベア４に保持されて矢
印Ａ方向に搬送され、チャンバ２内の不活性ガスによる
低酸素雰囲気中で予備加熱器７により加熱処理され、次
いで、はんだ槽８ではんだ付け処理される。
処理されたプリント基板３はコンベア４に保持されて矢
印Ａ方向に搬送され、チャンバ２内の不活性ガスによる
低酸素雰囲気中で予備加熱器７により加熱処理され、次
いで、はんだ槽８ではんだ付け処理される。
【００１１】一方、フラックス処理されたプリント基板
３が予備加熱器７やはんだ槽８の上方で加熱されると、
ヒュームが発生する。そして発生したヒュームが７００
〜９００℃に加熱されたヒータ１１と接触して燃焼する
と、チャンバ２内の不活性ガス中に含まれる酸素と化合
して粉体が生成され、この粉体が受け皿１２上に落下し
て蓄積される。これによりチャンバ２内の酸素が消費さ
れる。
３が予備加熱器７やはんだ槽８の上方で加熱されると、
ヒュームが発生する。そして発生したヒュームが７００
〜９００℃に加熱されたヒータ１１と接触して燃焼する
と、チャンバ２内の不活性ガス中に含まれる酸素と化合
して粉体が生成され、この粉体が受け皿１２上に落下し
て蓄積される。これによりチャンバ２内の酸素が消費さ
れる。
【００１２】受け皿１２上に蓄積された粉体は、これを
取り出して回収し処理する。したがって、チャンバ２内
のヒュームが大気中に排出されないため大気の汚染を防
止することができる。
取り出して回収し処理する。したがって、チャンバ２内
のヒュームが大気中に排出されないため大気の汚染を防
止することができる。
【００１３】また、ヒューム中の可燃物（イソプロピル
アルコール等）の燃焼に際し、チャンバ２内に残存する
微量の酸素も消費されるので、チャンバ２内の酸素濃度
がさらに減少して良好な低酸素雰囲気を保つことができ
る。
アルコール等）の燃焼に際し、チャンバ２内に残存する
微量の酸素も消費されるので、チャンバ２内の酸素濃度
がさらに減少して良好な低酸素雰囲気を保つことができ
る。
【００１４】
【発明の効果】上記説明したように本発明にかかる低酸
素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法は、
チヤンバ内のヒュームを燃焼する燃焼手段を設け、この
燃焼手段によりチヤンバ内のフラックスから発生したヒ
ュームを燃焼し、この燃焼により生成した粉体を受け皿
により回収するので、チヤンバ内のヒュームが大気中に
排出されず、大気の汚染が防止できるとともに、ヒュー
ムがプリント基板，コンベアおよびチャンバの内壁や搬
送部機構に付着するのを抑制できる。
素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法は、
チヤンバ内のヒュームを燃焼する燃焼手段を設け、この
燃焼手段によりチヤンバ内のフラックスから発生したヒ
ュームを燃焼し、この燃焼により生成した粉体を受け皿
により回収するので、チヤンバ内のヒュームが大気中に
排出されず、大気の汚染が防止できるとともに、ヒュー
ムがプリント基板，コンベアおよびチャンバの内壁や搬
送部機構に付着するのを抑制できる。
【００１５】また、本発明にかかる低酸素雰囲気はんだ
付け装置におけるヒューム除去装置は、チャンバ内のフ
ラックスから発生したヒュームを燃焼させる燃焼手段
と、この燃焼手段によりヒュームが燃焼した際生成され
る粉体を回収する受け皿とを備えたので、はんだ付け時
に発生したヒュームの回収効率が良く、またヒューム中
の可燃物の燃焼によりチャンバ内に残存する酸素が消費
されるため、チャンバ内を良好な低酸素雰囲気に保つこ
とができ、さらに燃焼手段によりチャンバ内の温度分布
が均一になって、プリント基板の下面と上面の温度差を
少なくすることができるので、プリント基板に対する品
質の向上が図れる利点を有する。
付け装置におけるヒューム除去装置は、チャンバ内のフ
ラックスから発生したヒュームを燃焼させる燃焼手段
と、この燃焼手段によりヒュームが燃焼した際生成され
る粉体を回収する受け皿とを備えたので、はんだ付け時
に発生したヒュームの回収効率が良く、またヒューム中
の可燃物の燃焼によりチャンバ内に残存する酸素が消費
されるため、チャンバ内を良好な低酸素雰囲気に保つこ
とができ、さらに燃焼手段によりチャンバ内の温度分布
が均一になって、プリント基板の下面と上面の温度差を
少なくすることができるので、プリント基板に対する品
質の向上が図れる利点を有する。
【図１】本発明の一実施例を示す概略構成図である。
１ 低酸素雰囲気はんだ付け装置 ２ チャンバ ３ プリント基板 ４ コンベア ５ 入口部 ６ 出口部 ７ 予備加熱器 ８ はんだ槽 ９ 不活性ガス供給ノズル １０ 不活性ガス供給源 １１ ヒータ １２ 受け皿 １３ 通気孔
フロントページの続き (72)発明者 金澤 秀 東京都港区虎ノ門１丁目７番12号 沖電気 工業株式会社内 (72)発明者 野末 正仁 東京都港区虎ノ門１丁目７番12号 沖電気 工業株式会社内 (72)発明者 中村 公彦 東京都港区虎ノ門１丁目７番12号 沖電気 工業株式会社内 (72)発明者 安岡 敏一 東京都港区虎ノ門１丁目７番12号 沖電気 工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 チヤンバ内を不活性ガスによる低酸素雰
囲気に保持した中で、プリント基板にはんだ付けをする
低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法
において、前記チヤンバ内のフラックスから発生したヒ
ュームを燃焼する燃焼手段を設け、この燃焼手段により
前記チヤンバ内のヒュームを燃焼し、この燃焼により生
成した粉体を受け皿により回収することを特徴とする低
酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法。 - 【請求項２】 チャンバ内に、プリント基板の搬送手段
と、予備加熱部と、はんだ付け部とが備えられ、前記チ
ャンバ内が不活性ガスによる低酸素雰囲気に保持された
中で、前記プリント基板にはんだ付けをする低酸素雰囲
気はんだ付け装置におけるヒューム除去装置であって、
前記チャンバ内のフラックスから発生したヒュームを燃
焼させる燃焼手段と、この燃焼手段により前記ヒューム
が燃焼した際生成される粉体を回収する受け皿とを備え
たことを特徴とする低酸素雰囲気はんだ付け装置におけ
るヒューム除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4351436A JP2823998B2 (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4351436A JP2823998B2 (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06177531A true JPH06177531A (ja) | 1994-06-24 |
| JP2823998B2 JP2823998B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=18417278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4351436A Expired - Fee Related JP2823998B2 (ja) | 1992-12-08 | 1992-12-08 | 低酸素雰囲気はんだ付け装置におけるヒューム除去方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2823998B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3202328U (ja) | 2015-11-16 | 2016-01-28 | 勝 治郎丸 | チェーンリングカバー |
-
1992
- 1992-12-08 JP JP4351436A patent/JP2823998B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2823998B2 (ja) | 1998-11-11 |
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