JPH06183965A - 免疫機能抑制剤 - Google Patents
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Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は免疫機能の異常亢進によって惹起さ
れる疾患、たとえば慢性関節リウマチ、全身性エリテマ
トーデス、慢性腎炎、慢性甲状腺炎、自己免疫性溶血性
貧血等のいわゆる自己免疫疾患の治療並びに臓器移植時
の拒絶反応抑制のための治療、さらにはアレルギー性疾
患、炎症性疾患などの治療、とくに慢性関節リウマチな
どの自己免疫疾患の治療に有効な免疫機能抑制剤を提供
する。 【構成】 免疫機能抑制剤の有効成分としては一般式
(I) 【化1】
れる疾患、たとえば慢性関節リウマチ、全身性エリテマ
トーデス、慢性腎炎、慢性甲状腺炎、自己免疫性溶血性
貧血等のいわゆる自己免疫疾患の治療並びに臓器移植時
の拒絶反応抑制のための治療、さらにはアレルギー性疾
患、炎症性疾患などの治療、とくに慢性関節リウマチな
どの自己免疫疾患の治療に有効な免疫機能抑制剤を提供
する。 【構成】 免疫機能抑制剤の有効成分としては一般式
(I) 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(I)で表される
エノピラノース誘導体を有効成分として含有する免疫機
能抑制剤に関する。
エノピラノース誘導体を有効成分として含有する免疫機
能抑制剤に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、免疫機能抑制剤は、免疫機能の
異常冗進によって惹起される疾患、たとえば慢性関節リ
ウマチ、全身性エリテマトーデス、慢性腎炎、慢性甲状
腺炎、自己免疫性溶血性貧血などのいわゆる自己免疫疾
患の治療並びに臓器移植時の拒絶反応の抑制のための治
療に用いられる。従来からの免疫機能抑制剤としては、
ステロイドホルモン、アザチオプリン、シクロホスファ
ミドなどが用いられている。
異常冗進によって惹起される疾患、たとえば慢性関節リ
ウマチ、全身性エリテマトーデス、慢性腎炎、慢性甲状
腺炎、自己免疫性溶血性貧血などのいわゆる自己免疫疾
患の治療並びに臓器移植時の拒絶反応の抑制のための治
療に用いられる。従来からの免疫機能抑制剤としては、
ステロイドホルモン、アザチオプリン、シクロホスファ
ミドなどが用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
免疫機能抑制剤は、免疫細胞だけでなく、非選択的に広
い範囲の細胞にも作用してその機能・増殖に対して影響
を与えるため、顆粒球減少症、腎機能障害などの重篤な
副作用が問題視されている。従って、免疫機能の抑制活
性が強く、かつ副作用ができるだけ少ない薬剤の出現が
希求されている。
免疫機能抑制剤は、免疫細胞だけでなく、非選択的に広
い範囲の細胞にも作用してその機能・増殖に対して影響
を与えるため、顆粒球減少症、腎機能障害などの重篤な
副作用が問題視されている。従って、免疫機能の抑制活
性が強く、かつ副作用ができるだけ少ない薬剤の出現が
希求されている。
【0004】
【発明の開示】本発明者達は従来の免疫機能抑制剤の有
効成分とは全く化学構造の異なるエノピラノース誘導体
が免疫機能抑制作用を示すことを見出し、本発明を提案
するに至った。すなわち、本発明は、一般式(I)
効成分とは全く化学構造の異なるエノピラノース誘導体
が免疫機能抑制作用を示すことを見出し、本発明を提案
するに至った。すなわち、本発明は、一般式(I)
【0005】
【化3】
【0006】(式中、R1は水素原子、置換されてもよ
いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、−OSO
2R7基、ハロゲン原子、−OCOR7基、−NHCO
R8基、アルコキシ基、置換されてもよいフェニル基又
は糖誘導体残基であり、R2は水素原子又はアルキル基
であり、R3は水素原子又はハロゲン原子であり、R4
は水素原子、−COR9基、置換されてもよいシリル基
又は置換されてもよいアルキル基であり、R5及びR6
は、一方がヒドロキシル基、置換されてもよいアルコキ
シ基、糖誘導体残基、置換されてもよいシクロアルキル
オキシ基又は−OCOR10基であり、他方が水素原子
又は置換されてもよいアルキル基であり、R4及びR5
は一緒になって単結合を形成してもよく、その場合R6
は水素原子又は置換されてもよいアルキル基であり、R
7、R9及びR10はそれぞれアルキル基又は置換され
てもよいフェニル基であり、R8はアルキル基、置換さ
れてもよいフェニル基又はベンジルオキシ基であり、X
は水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されて
もよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、
置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよい
フェニル基、置換されてもよいピリジル基、置換されて
もよいフラニル基又は置換されてもよいチエニル基、ホ
ルミル基、−COR11基、−C(W1)W2R11基
又は−SO2R11基であり、R11は置換されてもよ
い鎖式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭化水素
基、置換されてもよい多環式炭化水素基、置換されても
よい単環式複素環基又は置換されてもよい多環式複素環
基であり、W1は酸素原子又は硫黄原子であり、W2は
酸素原子、硫黄原子又は−NH−基であり、Yは水素原
子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいア
ルケニル基又は置換されてもよいアルキニル基である)
で表わされるエノピラノース誘導体又はその塩を有効成
分として含有することを特徴とする免疫機能抑制剤又は
抗炎症剤に関する。
いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、−OSO
2R7基、ハロゲン原子、−OCOR7基、−NHCO
R8基、アルコキシ基、置換されてもよいフェニル基又
は糖誘導体残基であり、R2は水素原子又はアルキル基
であり、R3は水素原子又はハロゲン原子であり、R4
は水素原子、−COR9基、置換されてもよいシリル基
又は置換されてもよいアルキル基であり、R5及びR6
は、一方がヒドロキシル基、置換されてもよいアルコキ
シ基、糖誘導体残基、置換されてもよいシクロアルキル
オキシ基又は−OCOR10基であり、他方が水素原子
又は置換されてもよいアルキル基であり、R4及びR5
は一緒になって単結合を形成してもよく、その場合R6
は水素原子又は置換されてもよいアルキル基であり、R
7、R9及びR10はそれぞれアルキル基又は置換され
てもよいフェニル基であり、R8はアルキル基、置換さ
れてもよいフェニル基又はベンジルオキシ基であり、X
は水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されて
もよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、
置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよい
フェニル基、置換されてもよいピリジル基、置換されて
もよいフラニル基又は置換されてもよいチエニル基、ホ
ルミル基、−COR11基、−C(W1)W2R11基
又は−SO2R11基であり、R11は置換されてもよ
い鎖式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭化水素
基、置換されてもよい多環式炭化水素基、置換されても
よい単環式複素環基又は置換されてもよい多環式複素環
基であり、W1は酸素原子又は硫黄原子であり、W2は
酸素原子、硫黄原子又は−NH−基であり、Yは水素原
子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいア
ルケニル基又は置換されてもよいアルキニル基である)
で表わされるエノピラノース誘導体又はその塩を有効成
分として含有することを特徴とする免疫機能抑制剤又は
抗炎症剤に関する。
【0007】一般式(I)のR1、R2、R4、
5R6、R7、R8、R9、R10、X及びYで表わさ
れるアルキル基或は官能基を構成するアルキル部分とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、テト
ラデシル、ペンタデシル、オクタデシル、ノナデシルな
どのC1〜C20のものがあげられ、また、それらは直
鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものを含む。R1、X
及びYで表わされるアルケニル基としては、エテニル、
プロペニル、ブテニルなどのC2〜C20のものがあげ
られ、それらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のもの
を含む。R1、X及びYで表わされるアルキニル基とし
ては、エチニル、プロピニル、ブチニルなどのC2〜C
20のものがあげられ、これらも直鎖又は枝分れ脂肪鎖
の構造異性のものを含む。
5R6、R7、R8、R9、R10、X及びYで表わさ
れるアルキル基或は官能基を構成するアルキル部分とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、テト
ラデシル、ペンタデシル、オクタデシル、ノナデシルな
どのC1〜C20のものがあげられ、また、それらは直
鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものを含む。R1、X
及びYで表わされるアルケニル基としては、エテニル、
プロペニル、ブテニルなどのC2〜C20のものがあげ
られ、それらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のもの
を含む。R1、X及びYで表わされるアルキニル基とし
ては、エチニル、プロピニル、ブチニルなどのC2〜C
20のものがあげられ、これらも直鎖又は枝分れ脂肪鎖
の構造異性のものを含む。
【0008】一般式(I)のR1及びR3で表わされる
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子があげられる。一般式(I)のR1、R5
及びR6で表わされる糖誘導体残基としては、
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子があげられる。一般式(I)のR1、R5
及びR6で表わされる糖誘導体残基としては、
【0009】
【化4】
【0010】などがあげられる。一般式(I)のR5、
R6及びXで表わされるシクロアルキル基或はシクロア
ルキルオキシ基のシクロアルキル部分としては、シクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどのC3〜C
8のものがあげられる。
R6及びXで表わされるシクロアルキル基或はシクロア
ルキルオキシ基のシクロアルキル部分としては、シクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどのC3〜C
8のものがあげられる。
【0011】一般式(I)のR1、R7、R8、R9、
及びR10で表わされる置換されてもよいフェニル基の
置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素などのハロゲン
原子、メチル、エチルなどのアルキル基、ニトロ基があ
げられる。
及びR10で表わされる置換されてもよいフェニル基の
置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素などのハロゲン
原子、メチル、エチルなどのアルキル基、ニトロ基があ
げられる。
【0012】一般式(I)のR4で表わされる置換され
てもよいシリル基の置換基としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル基があげ
られる。
てもよいシリル基の置換基としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル基があげ
られる。
【0013】一般式(I)のR1、R4、R5、及びR
6で表わされる置換されてもよいアルキル基、置換され
てもよいアルコキシ基又は置換されてもよいシクロアル
キルオキシ基の置換基としては、メトキシ、エトキシな
どのアルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシル基があげ
られる。
6で表わされる置換されてもよいアルキル基、置換され
てもよいアルコキシ基又は置換されてもよいシクロアル
キルオキシ基の置換基としては、メトキシ、エトキシな
どのアルコキシ基、フェニル基、ヒドロキシル基があげ
られる。
【0004】これらの置換基は1ケ又は2ケ以上置換さ
れていてもよく、2ケ以上の場合互いに同一であっても
異っていてもよい。また、前記一般式(I)のX及びY
の定義中、置換されてもよいアルキル基、置換されても
よいアルケニル基並びに置換されてもよいアルキニル基
の置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素などのハロゲ
ン原子、ヒドロキシル基、フェニル基、トルイル、キシ
リルなどのアルキル置換フェニル基、ピリジル基、フラ
ニル基、チエニル基、アセトキシ、バレロキシなどのア
シルオキシ基、アジド基又はアミノ基があげられ、また
Xの定義中、置換されてもよいシクロアルキル基、置換
されてもよいフェニル基、置換されてもよいピリジル
基、置換されてもよいフラニル基又は置換されてもよい
チエニル基の置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素な
どのハロゲン原子、ヒドロキシル基、メチル、エチルな
どのアルキル基、アセトキシ、バレロキシなどのアシル
オキシ基、ニトロ基又はアミノ基があげられる。これら
の置換基は1ケ又は2ケ以上置換されていてもよく、そ
れらが2ケ以上の場合互いに同一であっても異なってい
てもよい。
れていてもよく、2ケ以上の場合互いに同一であっても
異っていてもよい。また、前記一般式(I)のX及びY
の定義中、置換されてもよいアルキル基、置換されても
よいアルケニル基並びに置換されてもよいアルキニル基
の置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素などのハロゲ
ン原子、ヒドロキシル基、フェニル基、トルイル、キシ
リルなどのアルキル置換フェニル基、ピリジル基、フラ
ニル基、チエニル基、アセトキシ、バレロキシなどのア
シルオキシ基、アジド基又はアミノ基があげられ、また
Xの定義中、置換されてもよいシクロアルキル基、置換
されてもよいフェニル基、置換されてもよいピリジル
基、置換されてもよいフラニル基又は置換されてもよい
チエニル基の置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素な
どのハロゲン原子、ヒドロキシル基、メチル、エチルな
どのアルキル基、アセトキシ、バレロキシなどのアシル
オキシ基、ニトロ基又はアミノ基があげられる。これら
の置換基は1ケ又は2ケ以上置換されていてもよく、そ
れらが2ケ以上の場合互いに同一であっても異なってい
てもよい。
【0015】一般式(I)中、R11に含まれる前記鎖
式炭化水素基としてはアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基などが挙げられ、前記単環式炭化水素基として
はシクロアルキル基、シクロアルケニル基、フェニル基
などが挙げられ、前記多環式炭化水素基としては、ナフ
チル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基のよう
な縮合型多環式炭化水素基又はアダマンチル基、ノルア
ダマンチル基、ノルボルナニル基、ノルボルナノニル基
のような架橋型多環式炭化水素基が挙げられ、前記単環
式複素環基としてはピロリル基、フラニル基、チエニル
基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、
イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル
基、チアジアゾリル基、ピロリニル基、ピロリジニル
基、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基、ジ
ヒドロチエニル基、テトラヒドロチエニル基、ピラゾリ
ニル基、ヒダントイニル基、オキサゾリニル基、イソオ
キサゾリニル基、イソオキサゾリジニル基、チアゾリニ
ル基、チアゾリジニル基、ジオキソラニル基、ジチアラ
ニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル
基、ピラジニル基、ジヒドロピリジル基、テトラヒドロ
ピリジル基、ピペリジニル基、ジヒドロオキソピリダジ
ニル基、テトラヒドロオキソピリダジニル基、ジヒドロ
オキソピリミジニル基、テトラヒドロオキソピリミジニ
ル基、ピペラジニル基、ジヒドロピラニル基、テトラヒ
ドロピラニル基、ジオキサニル基、ジヒドロジチイニル
基、ジチアニル基、モルホリニル基などが挙げられ、前
記多環式複素環基としては、チエノチエニル基、ジヒド
ロシクロペンタチエニル基、インドリル基、ベンゾフラ
ニル基、ベンゾチエニル基、ベンズオキサゾリル基、ベ
ンズイソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズ
イミダゾリル基、テトラヒドロベンゾチエニル基、ジヒ
ドロベンゾフラニル基、テトラヒドロベンズイソオキサ
ゾリル基、ベンゾジオキソリル基、キノリニル基、イソ
キノリニル基、ベンゾジオキサニル基、キノキサリニル
基のような縮合型多環式複素環基又はキヌクリジニル基
のような架橋型多環式複素環基が挙げられる。
式炭化水素基としてはアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基などが挙げられ、前記単環式炭化水素基として
はシクロアルキル基、シクロアルケニル基、フェニル基
などが挙げられ、前記多環式炭化水素基としては、ナフ
チル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基のよう
な縮合型多環式炭化水素基又はアダマンチル基、ノルア
ダマンチル基、ノルボルナニル基、ノルボルナノニル基
のような架橋型多環式炭化水素基が挙げられ、前記単環
式複素環基としてはピロリル基、フラニル基、チエニル
基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、
イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル
基、チアジアゾリル基、ピロリニル基、ピロリジニル
基、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基、ジ
ヒドロチエニル基、テトラヒドロチエニル基、ピラゾリ
ニル基、ヒダントイニル基、オキサゾリニル基、イソオ
キサゾリニル基、イソオキサゾリジニル基、チアゾリニ
ル基、チアゾリジニル基、ジオキソラニル基、ジチアラ
ニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル
基、ピラジニル基、ジヒドロピリジル基、テトラヒドロ
ピリジル基、ピペリジニル基、ジヒドロオキソピリダジ
ニル基、テトラヒドロオキソピリダジニル基、ジヒドロ
オキソピリミジニル基、テトラヒドロオキソピリミジニ
ル基、ピペラジニル基、ジヒドロピラニル基、テトラヒ
ドロピラニル基、ジオキサニル基、ジヒドロジチイニル
基、ジチアニル基、モルホリニル基などが挙げられ、前
記多環式複素環基としては、チエノチエニル基、ジヒド
ロシクロペンタチエニル基、インドリル基、ベンゾフラ
ニル基、ベンゾチエニル基、ベンズオキサゾリル基、ベ
ンズイソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズ
イミダゾリル基、テトラヒドロベンゾチエニル基、ジヒ
ドロベンゾフラニル基、テトラヒドロベンズイソオキサ
ゾリル基、ベンゾジオキソリル基、キノリニル基、イソ
キノリニル基、ベンゾジオキサニル基、キノキサリニル
基のような縮合型多環式複素環基又はキヌクリジニル基
のような架橋型多環式複素環基が挙げられる。
【0016】R11に含まれる置換されてもよい鎖式炭
化水素基の置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ
基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキ
ル基、シクロアルコキシ基、シクロアルケニル基、シク
ロアルケニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、カル
ボキシル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニ
ルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリール
チオ基、アミノ基、アルキル基で置換されたアミノ基な
どが挙げられ、それらの置換基又はそれらの置換基に付
随する置換基の数は1ケであっても2ケ以上であっても
よく、2ケ以上の場合それらの置換基は同一であっても
異なってもよい。
化水素基の置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ
基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキ
ル基、シクロアルコキシ基、シクロアルケニル基、シク
ロアルケニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、カル
ボキシル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニ
ルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリール
チオ基、アミノ基、アルキル基で置換されたアミノ基な
どが挙げられ、それらの置換基又はそれらの置換基に付
随する置換基の数は1ケであっても2ケ以上であっても
よく、2ケ以上の場合それらの置換基は同一であっても
異なってもよい。
【0017】また、R11に含まれる置換されてもよい
単環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素
基、置換されてもよい単環式複素環基及び置換されても
よい多環式複素環基の置換基としてはハロゲン原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコ
キシ基、アルキルチオ基、シクロアルキル基、シクロア
ルコキシ基、シクロアルケニル基、シクロアルケニルオ
キシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル
基、アルキルカルボニルオキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキル基で
置換されたアミノ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ
ル基などが挙げられ、それら置換基又はそれらの置換基
に付随する置換基の数は1ケであっても2ケ以上であっ
てもよく、2ケ以上の場合それらの置換基は同一であっ
ても異なってもよい。
単環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素
基、置換されてもよい単環式複素環基及び置換されても
よい多環式複素環基の置換基としてはハロゲン原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコ
キシ基、アルキルチオ基、シクロアルキル基、シクロア
ルコキシ基、シクロアルケニル基、シクロアルケニルオ
キシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル
基、アルキルカルボニルオキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキル基で
置換されたアミノ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ
ル基などが挙げられ、それら置換基又はそれらの置換基
に付随する置換基の数は1ケであっても2ケ以上であっ
てもよく、2ケ以上の場合それらの置換基は同一であっ
ても異なってもよい。
【0018】一般式(I)中、R11に含まれるアルキ
ル基並びにアルキル部分としては、炭素数1〜18のも
の、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、デシル基、ノナデシル基などが挙げられ、それらは
直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。R11
に含まれるアルケニル基としては、炭素数が2〜18の
もの、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、デセニル基、ノナデセニル
基などが挙げられ、またそれらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖
の構造異性のものも含む。R11に含まれるアルキニル
基としては、炭素数が2〜18のもの、例えばエチニル
基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシ
ニル基、デシニル基、ノナデシニル基などが挙げられ、
またそれらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも
含む。R11に含まれるシクロアルキル基並びにシクロ
アルキル部分としては、炭素数3〜8のもの、例えば、
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げら
れる。R11に含まれるシクロアルケニル基並びにシク
ロアルケニル部分としては、炭素数5〜8のもの、例え
ば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロ
オクテニル基などが挙げられる。更にR11に含まれる
ハロゲン原子としては弗素原子、塩素原子、臭素原子、
沃素原子が挙げられる。R11に含まれるアリール基並
びにアリール部分としては、フェニル基、チエニル基、
フラニル基、ピリジル基、ナフチル基、ベンゾチエニル
基、ベンゾフラニル基、キノリニル基などが挙げられ
る。
ル基並びにアルキル部分としては、炭素数1〜18のも
の、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、デシル基、ノナデシル基などが挙げられ、それらは
直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。R11
に含まれるアルケニル基としては、炭素数が2〜18の
もの、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、デセニル基、ノナデセニル
基などが挙げられ、またそれらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖
の構造異性のものも含む。R11に含まれるアルキニル
基としては、炭素数が2〜18のもの、例えばエチニル
基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシ
ニル基、デシニル基、ノナデシニル基などが挙げられ、
またそれらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも
含む。R11に含まれるシクロアルキル基並びにシクロ
アルキル部分としては、炭素数3〜8のもの、例えば、
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げら
れる。R11に含まれるシクロアルケニル基並びにシク
ロアルケニル部分としては、炭素数5〜8のもの、例え
ば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロ
オクテニル基などが挙げられる。更にR11に含まれる
ハロゲン原子としては弗素原子、塩素原子、臭素原子、
沃素原子が挙げられる。R11に含まれるアリール基並
びにアリール部分としては、フェニル基、チエニル基、
フラニル基、ピリジル基、ナフチル基、ベンゾチエニル
基、ベンゾフラニル基、キノリニル基などが挙げられ
る。
【0019】前記一般式(I)で表されるエノピラノー
ス誘導体には、ピラノース環の1位、2位及び5位の炭
素原子が不斉炭素であることに基づく立体異性体が存在
するが、本発明ではそれらも対象とする。さらに前記一
般式(I)で表されるエノピラノース誘導体の塩として
は塩酸、、硫酸などの鉱酸との酸付加塩があげられる。
ス誘導体には、ピラノース環の1位、2位及び5位の炭
素原子が不斉炭素であることに基づく立体異性体が存在
するが、本発明ではそれらも対象とする。さらに前記一
般式(I)で表されるエノピラノース誘導体の塩として
は塩酸、、硫酸などの鉱酸との酸付加塩があげられる。
【0020】前記一般式(I)で表わされるエノピラノ
ース誘導体は以下のものであることが望ましい。 (1)エノピラノース誘導体が、下記一般式(I−1)
又は(I−2)で表わされる立体異性体であるもの。
ース誘導体は以下のものであることが望ましい。 (1)エノピラノース誘導体が、下記一般式(I−1)
又は(I−2)で表わされる立体異性体であるもの。
【0021】
【化5】
【0022】(式中R1〜R6、X及びYは前述の通り
である。但し、式(I−2)の場合Yは水素原子であ
る。) (2)一般式(I−1)又は(I−2)において、R1
が水素原子、置換されてもよいアルキル基、アルケニル
基又はアルキニル基であり、R2が水素原子又はアルキ
ル基であり、R3及びR6がそれぞれ水素原子であり、
R4及びR5が一緒になって単結合を形成し、そしてX
及びYは前述の通りであるエノピラノース誘導体。
である。但し、式(I−2)の場合Yは水素原子であ
る。) (2)一般式(I−1)又は(I−2)において、R1
が水素原子、置換されてもよいアルキル基、アルケニル
基又はアルキニル基であり、R2が水素原子又はアルキ
ル基であり、R3及びR6がそれぞれ水素原子であり、
R4及びR5が一緒になって単結合を形成し、そしてX
及びYは前述の通りであるエノピラノース誘導体。
【0023】前記一般式(I)で表わされるエノピラノ
ース誘導体には新規な化合物が含まれる。本発明は、ま
た、以下に挙げられるそれらの化合物に関する。一般式
(I−1)又は(I−2)において、R1は水素原子、
置換されてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、−OSO2R7基、ハロゲン原子、−OCOR7
基、−NHCOR8基、アルコキシ基、置換されてもよ
いフェニル基又は糖誘導体残基であり、R2は水素原子
又はアルキル基であり、R3は水素原子又はハロゲン原
子であり、R4及びR5は一緒になって単結合を形成
し、R6は水素原子又は置換されてもよいアルキル基で
あり、R7はアルキル基又は置換されてもよいフェニル
基であり、R8はアルキル基、置換されてもよいフェニ
ル基又はベンジルオキシ基であり、Xは水素原子、置換
されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル
基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよい
シクロアルキル基、置換されてもよいフェニル基、置換
されてもよいピリジル基、置換されてもよいフラニル
基、置換されてもよいチエニル基、ホルミル基、−CO
R11基、−C(W1)W2R11基又は−SO2R
11基であり、R11は置換されてもよい鎖式炭化水素
基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置換されても
よい多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環
基又は置換されてもよい多環式複素環基であり、W1は
酸素原子又は硫黄原子であり、W2は酸素原子、硫黄原
子又は−NH−基であり、Yは水素原子、置換されても
よいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基又は置
換されてもよいアルキニル基である化合物。但し以下の
場合を除く。 (I−1)において、R1、R2、R3、R6及びX
が水素原子であり、Yが水素原子又は置換されてもよい
アルキル基である場合、 (I−1)において、R1、R2、R3、R6及びY
が水素原子であり、Xがアセチル、3,5−ジニトロベ
ンゾイル又はp−トルエンスルホニルである場合、 (I−1)において、R1、R2、R3及びYが水素
原子であり、R6が置換されてもよいアルキル基であ
り、Xが水素原子又はアセチルである場合、 (I−2)において、R1、R2、R3、R6及びY
が水素原子であり、Xが水素原子、メチル、ベンジル、
ホルミル、アセチル、ベンゾイル、4−クロロベンゾイ
ル、3,5−ジクロロベンゾイル、4−ニトロベンゾイ
ル、3,5−ジニトロベンゾイル、4−メトキシベンゾ
イル、3,5−ジメトキシベンゾイル、メチルスルホニ
ル又はp−トルエンスルホニルである場合、及び (I−2)において、R1がp−トルエンスルホニル
オキシであり、R2、R3、R6及びYが水素原子であ
り、Xが水素原子、アセチル又はp−トルエンスルホニ
ルである場合。
ース誘導体には新規な化合物が含まれる。本発明は、ま
た、以下に挙げられるそれらの化合物に関する。一般式
(I−1)又は(I−2)において、R1は水素原子、
置換されてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、−OSO2R7基、ハロゲン原子、−OCOR7
基、−NHCOR8基、アルコキシ基、置換されてもよ
いフェニル基又は糖誘導体残基であり、R2は水素原子
又はアルキル基であり、R3は水素原子又はハロゲン原
子であり、R4及びR5は一緒になって単結合を形成
し、R6は水素原子又は置換されてもよいアルキル基で
あり、R7はアルキル基又は置換されてもよいフェニル
基であり、R8はアルキル基、置換されてもよいフェニ
ル基又はベンジルオキシ基であり、Xは水素原子、置換
されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル
基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよい
シクロアルキル基、置換されてもよいフェニル基、置換
されてもよいピリジル基、置換されてもよいフラニル
基、置換されてもよいチエニル基、ホルミル基、−CO
R11基、−C(W1)W2R11基又は−SO2R
11基であり、R11は置換されてもよい鎖式炭化水素
基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置換されても
よい多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環
基又は置換されてもよい多環式複素環基であり、W1は
酸素原子又は硫黄原子であり、W2は酸素原子、硫黄原
子又は−NH−基であり、Yは水素原子、置換されても
よいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基又は置
換されてもよいアルキニル基である化合物。但し以下の
場合を除く。 (I−1)において、R1、R2、R3、R6及びX
が水素原子であり、Yが水素原子又は置換されてもよい
アルキル基である場合、 (I−1)において、R1、R2、R3、R6及びY
が水素原子であり、Xがアセチル、3,5−ジニトロベ
ンゾイル又はp−トルエンスルホニルである場合、 (I−1)において、R1、R2、R3及びYが水素
原子であり、R6が置換されてもよいアルキル基であ
り、Xが水素原子又はアセチルである場合、 (I−2)において、R1、R2、R3、R6及びY
が水素原子であり、Xが水素原子、メチル、ベンジル、
ホルミル、アセチル、ベンゾイル、4−クロロベンゾイ
ル、3,5−ジクロロベンゾイル、4−ニトロベンゾイ
ル、3,5−ジニトロベンゾイル、4−メトキシベンゾ
イル、3,5−ジメトキシベンゾイル、メチルスルホニ
ル又はp−トルエンスルホニルである場合、及び (I−2)において、R1がp−トルエンスルホニル
オキシであり、R2、R3、R6及びYが水素原子であ
り、Xが水素原子、アセチル又はp−トルエンスルホニ
ルである場合。
【0024】本発明の化合物としては、以下のものが望
ましい。 (1)一般式(I−1)において、R1が水素原子、置
換されてもよいアルキル基、アルケニル基又はアルキニ
ル基であり、R2が水素原子又はアルキル基であり、R
1及びR2の少なくとも一方は水素原子以外の置換基で
あり、R3及びR6がそれぞれ水素原子であり、R4及
びR5が一緒になって単結合を形成する化合物。 (2)一般式(I−1)において、Xがフランカルボニ
ル又はフルフリルである化合物。 (3)一般式(I−1)において、Yが置換されてもよ
いアルキニル基である化合物。
ましい。 (1)一般式(I−1)において、R1が水素原子、置
換されてもよいアルキル基、アルケニル基又はアルキニ
ル基であり、R2が水素原子又はアルキル基であり、R
1及びR2の少なくとも一方は水素原子以外の置換基で
あり、R3及びR6がそれぞれ水素原子であり、R4及
びR5が一緒になって単結合を形成する化合物。 (2)一般式(I−1)において、Xがフランカルボニ
ル又はフルフリルである化合物。 (3)一般式(I−1)において、Yが置換されてもよ
いアルキニル基である化合物。
【0025】前記一般式(I)で表わされるエノピラノ
ース誘導体又はその塩は種々の方法により製造すること
ができる。例えば1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオ
キシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース
−2−ウロースを還元して1,6−アンヒドロ−3,4
−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラ
ノースを一旦製造した後、このものを常法によりアシル
化、カーボネート化、カルバミドエステル化、エーテル
化又はスルホニル化して所望の化合物を生成する。ま
た、1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D
−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロー
スの2位を常法によりアルキル化、アルケニル化又はア
ルキニル化して所望の化合物を生成する。更にこの2位
反応物を前述のアシル化、カーボネート化、カルバミド
エステル化、エーテル化又はスルホニル化して所望の化
合物を生成する。一方、1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−β−D−エリスロ−ヘキソ−3−エノピラ
ノースは、前述の還元反応でも得られるが、前記スレオ
体の異性化によっても製造することができる。更にこの
ものを常法によりアシル化、カーボネート化、カルバミ
ドエステル化、エーテル化又はスルホニル化して所望の
化合物を生成することができる。
ース誘導体又はその塩は種々の方法により製造すること
ができる。例えば1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオ
キシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース
−2−ウロースを還元して1,6−アンヒドロ−3,4
−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラ
ノースを一旦製造した後、このものを常法によりアシル
化、カーボネート化、カルバミドエステル化、エーテル
化又はスルホニル化して所望の化合物を生成する。ま
た、1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D
−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロー
スの2位を常法によりアルキル化、アルケニル化又はア
ルキニル化して所望の化合物を生成する。更にこの2位
反応物を前述のアシル化、カーボネート化、カルバミド
エステル化、エーテル化又はスルホニル化して所望の化
合物を生成する。一方、1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−β−D−エリスロ−ヘキソ−3−エノピラ
ノースは、前述の還元反応でも得られるが、前記スレオ
体の異性化によっても製造することができる。更にこの
ものを常法によりアシル化、カーボネート化、カルバミ
ドエステル化、エーテル化又はスルホニル化して所望の
化合物を生成することができる。
【0026】また、1,6−アンヒドロ−3,4−ジデ
オキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノー
ス−2−ウロースの代わりに、一般式(II)で表わさ
れる以下の化合物を用いることができる。一般式(I
I)
オキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノー
ス−2−ウロースの代わりに、一般式(II)で表わさ
れる以下の化合物を用いることができる。一般式(I
I)
【0027】
【化6】
【0028】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及
びR6は前述の通りである)一般式(II)で表わされ
る化合物を還元し或は常法によりアルキル化、アルケニ
ル化又はアルキニル化し、常法によりアシル化、カーボ
ネート化、カルバミドエステル化、エーテル化又はスル
ホニル化して所望の化合物を精製する。また、 一般式
(II)で表わされる化合物を還元した後に異性化し、
常法によりアシル化、カーボネート化、カルバミドエス
テル化、エーテル化又はスルホニル化して所望の化合物
を生成することができる。
びR6は前述の通りである)一般式(II)で表わされ
る化合物を還元し或は常法によりアルキル化、アルケニ
ル化又はアルキニル化し、常法によりアシル化、カーボ
ネート化、カルバミドエステル化、エーテル化又はスル
ホニル化して所望の化合物を精製する。また、 一般式
(II)で表わされる化合物を還元した後に異性化し、
常法によりアシル化、カーボネート化、カルバミドエス
テル化、エーテル化又はスルホニル化して所望の化合物
を生成することができる。
【0029】一般式(II)で表わされる化合物にはエ
ナンチオマー(L体)が存在するが、このものを用いて
前記と同様の反応を行うことができる。これら反応の実
施に際しては通常窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガ
スなどの不活性雰囲気下に反応を行うことにより、副反
応及び収率の低下を防止することができる。以下にこれ
ら反応を用いた一般的製造方法を記載する。
ナンチオマー(L体)が存在するが、このものを用いて
前記と同様の反応を行うことができる。これら反応の実
施に際しては通常窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガ
スなどの不活性雰囲気下に反応を行うことにより、副反
応及び収率の低下を防止することができる。以下にこれ
ら反応を用いた一般的製造方法を記載する。
【0030】A.還元 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースを
含む乾燥エーテル溶液或はそれを含む水若しくはメタノ
ール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール
溶液を、0.3当量以上望ましくは0.4〜0.5当量
のリチウムアルミニウムハイドライド或はナトリウムボ
ロハイドライドに、それぞれ徐々に加える。反応混合物
を室温以下、望ましくは−10〜0℃で0.5〜2時間
攪拌して反応を行う。反応生成物に少量の水を加えた
後、常法により後処理して精製、分離を行う。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースを
含む乾燥エーテル溶液或はそれを含む水若しくはメタノ
ール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール
溶液を、0.3当量以上望ましくは0.4〜0.5当量
のリチウムアルミニウムハイドライド或はナトリウムボ
ロハイドライドに、それぞれ徐々に加える。反応混合物
を室温以下、望ましくは−10〜0℃で0.5〜2時間
攪拌して反応を行う。反応生成物に少量の水を加えた
後、常法により後処理して精製、分離を行う。
【0031】B.アシル化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を含む乾燥ピリジン溶液に適
当なアシルハライドを1当量以上、望ましくは1.5〜
2当量を、徐々に加える。反応混合物を室温以下、望ま
しくは−10〜0℃で0.5〜2時間攪拌して反応を行
う。反応生成物に少量の水を加えた後、減圧下濃縮し粗
生成物を得、常法により精製、分離を行う。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を含む乾燥ピリジン溶液に適
当なアシルハライドを1当量以上、望ましくは1.5〜
2当量を、徐々に加える。反応混合物を室温以下、望ま
しくは−10〜0℃で0.5〜2時間攪拌して反応を行
う。反応生成物に少量の水を加えた後、減圧下濃縮し粗
生成物を得、常法により精製、分離を行う。
【0032】アシルハライドの代りにカルボン酸を用い
て直接アシル化を行う場合には、1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エ
ノピラノースを含む乾燥塩化メチレン溶液に対し、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド、ジエチルカルボジイミド
など1.5〜2当量、適当なカルボン酸1.5〜2当
量、触媒としてN,N−ジメチルアミノピリジン、ジイ
ソプロピルエチルアミンなど0.1〜0.2当量を加
え、0〜30℃望ましくは10〜20℃で6〜12時間
攪拌下に反応を行う。常法により後処理して精製、分離
を行う。
て直接アシル化を行う場合には、1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エ
ノピラノースを含む乾燥塩化メチレン溶液に対し、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド、ジエチルカルボジイミド
など1.5〜2当量、適当なカルボン酸1.5〜2当
量、触媒としてN,N−ジメチルアミノピリジン、ジイ
ソプロピルエチルアミンなど0.1〜0.2当量を加
え、0〜30℃望ましくは10〜20℃で6〜12時間
攪拌下に反応を行う。常法により後処理して精製、分離
を行う。
【0033】C.カーボネート化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を含む乾燥ピリジン溶液に、
適当なクロロカーボネートを2当量以上、望ましくは2
〜3当量を徐々に加え、反応混合物を0〜30℃、望ま
しくは10〜20℃で6〜12時間攪拌して反応を行
う。反応生成物に少量の水を加えた後、常法により後処
理して精製、分離を行う。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を含む乾燥ピリジン溶液に、
適当なクロロカーボネートを2当量以上、望ましくは2
〜3当量を徐々に加え、反応混合物を0〜30℃、望ま
しくは10〜20℃で6〜12時間攪拌して反応を行
う。反応生成物に少量の水を加えた後、常法により後処
理して精製、分離を行う。
【0034】D.カルバミド酸エステル化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を含む乾燥トルエン溶液に対
し、適当なイソシアネート或はイソチオシアネートを
1.3当量以上、望ましくは1.5〜2当量を徐々に加
え、10〜15分間攪拌し、ジイソプロピルエチルアミ
ン、トリエチルアミンなど0.1〜0.2当量或は水素
化ナトリウム、水素化カリウムなど0.8〜1.2当量
をそれぞれ加え、さらに攪拌して反応させる。トリエチ
ルアミンなどを加えた場合の反応は、加熱下に還流する
ことが必要である。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を含む乾燥トルエン溶液に対
し、適当なイソシアネート或はイソチオシアネートを
1.3当量以上、望ましくは1.5〜2当量を徐々に加
え、10〜15分間攪拌し、ジイソプロピルエチルアミ
ン、トリエチルアミンなど0.1〜0.2当量或は水素
化ナトリウム、水素化カリウムなど0.8〜1.2当量
をそれぞれ加え、さらに攪拌して反応させる。トリエチ
ルアミンなどを加えた場合の反応は、加熱下に還流する
ことが必要である。
【0035】フェニルイソシアネートを用いた場合には
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミンなどが
望ましく、その他の場合には水素化カリウム、水素化ナ
トリウムなどが望ましい。反応終了後、反応生成物を常
法により後処理して精製、分離を行う。
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミンなどが
望ましく、その他の場合には水素化カリウム、水素化ナ
トリウムなどが望ましい。反応終了後、反応生成物を常
法により後処理して精製、分離を行う。
【0036】E.エーテル化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を、水素化ナトリウム又は水
素化カリウムなどの塩基1.0〜1.5当量、望ましく
は1.3当量の乾燥テトラヒドロフラン懸濁液に徐々に
加える。反応混合物を0〜20℃、望ましくは0〜10
℃で10〜15分間攪拌した後、適当な有機ハライドを
1当量以上、望ましくは1.3〜1.5当量加え、10
〜30℃、望ましくは20〜30℃で6〜12時間攪拌
して反応を行う。前述の有機ハライドとしては所望の目
的物に応じて選択され、例えばヨウ化メチル、ヨウ化ブ
チル、臭化ベンジルなどが使用できる。反応生成物に少
量の水を加えた後、減圧下濃縮し粗生成物を得、常法に
より精製、分離を行う。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を、水素化ナトリウム又は水
素化カリウムなどの塩基1.0〜1.5当量、望ましく
は1.3当量の乾燥テトラヒドロフラン懸濁液に徐々に
加える。反応混合物を0〜20℃、望ましくは0〜10
℃で10〜15分間攪拌した後、適当な有機ハライドを
1当量以上、望ましくは1.3〜1.5当量加え、10
〜30℃、望ましくは20〜30℃で6〜12時間攪拌
して反応を行う。前述の有機ハライドとしては所望の目
的物に応じて選択され、例えばヨウ化メチル、ヨウ化ブ
チル、臭化ベンジルなどが使用できる。反応生成物に少
量の水を加えた後、減圧下濃縮し粗生成物を得、常法に
より精製、分離を行う。
【0037】F.スルホニル化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を含む乾燥ピリジン溶液に1
当量以上、望ましくは1.5〜2当量の適当なスルホニ
ルハライドを徐々に加え、反応混合物を10〜30℃、
望ましくは20〜30℃で6〜12時間攪拌して反応を
行う。前述のスルホニルハライドとしては所望の目的物
に応じて選択され、例えばトシルクロライド、メシルク
ロライドなどが使用できる。反応生成物に少量の水を加
えた後、トルエンなどの溶媒で抽出し、溶媒を減圧下濃
縮し粗生成物を得、常法により精製、分離を行う。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物を含む乾燥ピリジン溶液に1
当量以上、望ましくは1.5〜2当量の適当なスルホニ
ルハライドを徐々に加え、反応混合物を10〜30℃、
望ましくは20〜30℃で6〜12時間攪拌して反応を
行う。前述のスルホニルハライドとしては所望の目的物
に応じて選択され、例えばトシルクロライド、メシルク
ロライドなどが使用できる。反応生成物に少量の水を加
えた後、トルエンなどの溶媒で抽出し、溶媒を減圧下濃
縮し粗生成物を得、常法により精製、分離を行う。
【0038】G.アルキル化、アルケニル化又はアルキ
ニル化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースを
含む乾燥テトラヒドロフラン溶液に適当なアルキル、ア
ルケニル又はアルキニルリチウム或はアルキル、アルケ
ニル又はアルキニルマグネシウムブロミドなどのアルキ
ル化、アルケニル化又はアルキニル化の各有機金属試薬
1.2〜1.5当量を徐々に加える。反応混合物を−7
8〜0℃、望ましくは−10〜0℃で0.5〜1時間攪
拌して反応させる。反応混合物に少量の水を加え減圧下
濃縮し、粗生成物を得、常法により精製、分離を行う。
ニル化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースを
含む乾燥テトラヒドロフラン溶液に適当なアルキル、ア
ルケニル又はアルキニルリチウム或はアルキル、アルケ
ニル又はアルキニルマグネシウムブロミドなどのアルキ
ル化、アルケニル化又はアルキニル化の各有機金属試薬
1.2〜1.5当量を徐々に加える。反応混合物を−7
8〜0℃、望ましくは−10〜0℃で0.5〜1時間攪
拌して反応させる。反応混合物に少量の水を加え減圧下
濃縮し、粗生成物を得、常法により精製、分離を行う。
【0039】H.異性化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物のトシルエステルの乾燥ジメ
チルホルムアミド溶液に、安息香酸ナトリウムなどのカ
ルボン酸の金属塩1〜2当量、望ましくは2当量を加
え、100〜150℃、望ましくは還流温度で30分間
攪拌して反応を行う。反応混合物を常法により後処理
し、溶媒を除去した後、乾燥メタノールに溶解し、塩基
を1〜2当量、望ましくは1.5当量加え、0〜30
℃、望ましくは20〜30℃で30分間攪拌して反応を
行う。前述の塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、ナトリウムメトキシドなどが使用できる。反応
終了後、常法により後処理して精製、分離を行う。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの
還元体又はその2位反応物のトシルエステルの乾燥ジメ
チルホルムアミド溶液に、安息香酸ナトリウムなどのカ
ルボン酸の金属塩1〜2当量、望ましくは2当量を加
え、100〜150℃、望ましくは還流温度で30分間
攪拌して反応を行う。反応混合物を常法により後処理
し、溶媒を除去した後、乾燥メタノールに溶解し、塩基
を1〜2当量、望ましくは1.5当量加え、0〜30
℃、望ましくは20〜30℃で30分間攪拌して反応を
行う。前述の塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、ナトリウムメトキシドなどが使用できる。反応
終了後、常法により後処理して精製、分離を行う。
【0040】前記一般式(II)で表わされる化合物は
種々の方法により製造することができる。例えば、1,
6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グリセ
ロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの3位
をハロゲン化して所望の化合物を生成し、更にこの3位
反応物をカップリング反応によりアルキル化、アルケニ
ル化、アルキニル化、アリール化して所望の化合物を生
成することができる。また、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノ
ピラノース−2−ウロース或はその3位、4位又は5位
置換誘導体を酸条件で処理し、アセタールの開環と同時
に1位をエーテル化し、或は1位及び6位をアシル化し
て所望の化合物を生成することができる。更に1位をエ
ーテル化した化合物の6位をエーテル化、アシル化、シ
リル化して所望の化合物を生成することができる。生成
した化合物は加水分解によって1位或は1位及び6位を
脱アシル化することができる。一方グルコース、ガラク
トース、マンノースなどの天然型糖を原料として酸化反
応により2−ケトン誘導体とし、3位に酸素或は窒素官
能基を持つ所望のエノン誘導体を生成することができ
る。
種々の方法により製造することができる。例えば、1,
6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グリセ
ロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースの3位
をハロゲン化して所望の化合物を生成し、更にこの3位
反応物をカップリング反応によりアルキル化、アルケニ
ル化、アルキニル化、アリール化して所望の化合物を生
成することができる。また、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノ
ピラノース−2−ウロース或はその3位、4位又は5位
置換誘導体を酸条件で処理し、アセタールの開環と同時
に1位をエーテル化し、或は1位及び6位をアシル化し
て所望の化合物を生成することができる。更に1位をエ
ーテル化した化合物の6位をエーテル化、アシル化、シ
リル化して所望の化合物を生成することができる。生成
した化合物は加水分解によって1位或は1位及び6位を
脱アシル化することができる。一方グルコース、ガラク
トース、マンノースなどの天然型糖を原料として酸化反
応により2−ケトン誘導体とし、3位に酸素或は窒素官
能基を持つ所望のエノン誘導体を生成することができ
る。
【0041】これら反応の実施に際しては通常窒素ガ
ス、ヘリウムガス、アルゴンガスなどの不活性雰囲気下
に反応を行うことにより、副反応及び収率の低下を防止
することができる。以下にこれらの反応を用いた一般的
製造方法を記載する。
ス、ヘリウムガス、アルゴンガスなどの不活性雰囲気下
に反応を行うことにより、副反応及び収率の低下を防止
することができる。以下にこれらの反応を用いた一般的
製造方法を記載する。
【0042】A.ハロゲン化反応 (A−1)臭素化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースを
含む乾燥四塩化炭素、クロロホルムなどのハロゲン化炭
素溶液に、0.9当量以上望ましくは1.5〜2当量の
臭素を0℃以下望ましくは−10〜−15℃でゆっくり
加える。反応混合物を0℃以下望ましくは−10〜−1
5℃で10〜30分撹拌して反応を行う。ここへピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンな
どの塩基を5当量以上望ましくは8〜10当量加え12
時間撹拌して反応を行う。反応溶液に水を加えた後、常
法により後処理して精製、分離を行う。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースを
含む乾燥四塩化炭素、クロロホルムなどのハロゲン化炭
素溶液に、0.9当量以上望ましくは1.5〜2当量の
臭素を0℃以下望ましくは−10〜−15℃でゆっくり
加える。反応混合物を0℃以下望ましくは−10〜−1
5℃で10〜30分撹拌して反応を行う。ここへピリジ
ン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンな
どの塩基を5当量以上望ましくは8〜10当量加え12
時間撹拌して反応を行う。反応溶液に水を加えた後、常
法により後処理して精製、分離を行う。
【0043】(A−2)沃素化 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースを
含む乾燥ピリジン−四塩化炭素溶液に、5当量以上望ま
しくは8〜10当量の沃素の乾燥ピリジン−四塩化炭素
溶液を5℃以下、望ましくは0〜5℃で徐々に加える。
反応混合物を室温望ましくは15〜25℃で2時間撹拌
して反応を行う。酢酸エチルを加えた後、常法により後
処理して精製、分離を行う。この方法についてはCar
l R.Johnsonらの方法に従って合成した〔T
etrahedron Lett.33.917−91
8.(1992)〕。エノンから直接のα−沃素誘導体
の合成については他にJohn M.McIntosh
の方法〔Can.J.Chem.49,3045−30
47,(1971)〕或はT.H.Kimらの方法〔C
hem.Express 5,221,(1990)〕
がある。
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロースを
含む乾燥ピリジン−四塩化炭素溶液に、5当量以上望ま
しくは8〜10当量の沃素の乾燥ピリジン−四塩化炭素
溶液を5℃以下、望ましくは0〜5℃で徐々に加える。
反応混合物を室温望ましくは15〜25℃で2時間撹拌
して反応を行う。酢酸エチルを加えた後、常法により後
処理して精製、分離を行う。この方法についてはCar
l R.Johnsonらの方法に従って合成した〔T
etrahedron Lett.33.917−91
8.(1992)〕。エノンから直接のα−沃素誘導体
の合成については他にJohn M.McIntosh
の方法〔Can.J.Chem.49,3045−30
47,(1971)〕或はT.H.Kimらの方法〔C
hem.Express 5,221,(1990)〕
がある。
【0044】B.カップリング反応 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−3−ヨード
−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2
−ウロースを含む乾燥N−メチルピロリジノン溶液に、
0.01〜0.3当量望ましくは0.05〜0.15当
量の第一沃化銅、0.01〜0.3当量望ましくは0.
05〜0.15当量のトリフェニル砒素、0.01〜
0.1当量望ましくは0.03〜0.07当量の塩化ビ
ス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)などのパラジ
ウム系触媒を用いて反応を行う。反応混合物に有機錫化
合物或は有機亜鉛化合物を加え、0〜100℃望ましく
は25−80℃で1〜10時間望ましくは2〜6時間反
応を行う。酢酸エチルを加えた後、常法により後処理し
て精製、分離を行う。この方法についてはC.R.Jo
hnsonらの方法〔Tetrahedron Let
t.33,919−922,(1992)〕に従って合
成できる。
−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2
−ウロースを含む乾燥N−メチルピロリジノン溶液に、
0.01〜0.3当量望ましくは0.05〜0.15当
量の第一沃化銅、0.01〜0.3当量望ましくは0.
05〜0.15当量のトリフェニル砒素、0.01〜
0.1当量望ましくは0.03〜0.07当量の塩化ビ
ス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)などのパラジ
ウム系触媒を用いて反応を行う。反応混合物に有機錫化
合物或は有機亜鉛化合物を加え、0〜100℃望ましく
は25−80℃で1〜10時間望ましくは2〜6時間反
応を行う。酢酸エチルを加えた後、常法により後処理し
て精製、分離を行う。この方法についてはC.R.Jo
hnsonらの方法〔Tetrahedron Let
t.33,919−922,(1992)〕に従って合
成できる。
【0045】また、一般式(II)中のR1が置換され
てもよいアルキル基である場合には次の方法を用いるこ
とができる。即ち、1,6−アンヒドロ−3−ブロモ−
3,4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−
エノピラノース−2−ウロースを1当量以上のエチレン
グリコール及び触媒量のパラトルエンスルホン酸ととも
にベンゼン又はトルエンなどの溶媒の還流温度で反応さ
せて、ピラノース環2位のカルボニル基を保護した1,
6−アンヒドロ−3−ブロモ−3,4−ジデオキシ−β
−D,グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウ
ロース エチレン アセタールを得、次にこのものをテ
トラヒドロフランなどの溶媒中で1当量以上のn−ブチ
ルリチウム及び1当量以上のヨウ化アルキルと−60〜
−80℃の反応温度で反応させる。反応後にピラノース
環2位の保護基を触媒量のパラトルエンスルホン酸とと
もにテトラヒドロフラン及び水の還流温度で脱離させ
る。前述のヨウ化アルキルに換えて各種のケトン又はア
ルデヒドを用いることができる。その場合には、R1と
してヒドロキシル基で置換されたアルキル基を持つ化合
物が得られる。更に保護基を脱離させる反応において溶
媒にメタノールなどのアルコールを用いればヒドロキシ
ル基で置換されたアルキル基のヒドロキシ部分をメトキ
シなどのアルコキシ基に変換することができる。また、
ヒドロキシル基で置換されたアルキル基のヒドロキシ部
分は公知の方法によってアミノ化することもできる。
てもよいアルキル基である場合には次の方法を用いるこ
とができる。即ち、1,6−アンヒドロ−3−ブロモ−
3,4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−
エノピラノース−2−ウロースを1当量以上のエチレン
グリコール及び触媒量のパラトルエンスルホン酸ととも
にベンゼン又はトルエンなどの溶媒の還流温度で反応さ
せて、ピラノース環2位のカルボニル基を保護した1,
6−アンヒドロ−3−ブロモ−3,4−ジデオキシ−β
−D,グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウ
ロース エチレン アセタールを得、次にこのものをテ
トラヒドロフランなどの溶媒中で1当量以上のn−ブチ
ルリチウム及び1当量以上のヨウ化アルキルと−60〜
−80℃の反応温度で反応させる。反応後にピラノース
環2位の保護基を触媒量のパラトルエンスルホン酸とと
もにテトラヒドロフラン及び水の還流温度で脱離させ
る。前述のヨウ化アルキルに換えて各種のケトン又はア
ルデヒドを用いることができる。その場合には、R1と
してヒドロキシル基で置換されたアルキル基を持つ化合
物が得られる。更に保護基を脱離させる反応において溶
媒にメタノールなどのアルコールを用いればヒドロキシ
ル基で置換されたアルキル基のヒドロキシ部分をメトキ
シなどのアルコキシ基に変換することができる。また、
ヒドロキシル基で置換されたアルキル基のヒドロキシ部
分は公知の方法によってアミノ化することもできる。
【0046】C.アセタールの開環反応 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース或
はその1位、3位、4位又は5位置換誘導体を含む適当
な酸無水物或は対応する酸無水物の乾燥クロロホルム溶
液に、−20℃〜15℃望ましくは−10℃〜0℃で硫
酸、或は三フッ化ホウ素・エチレートなどのルイス酸を
0.05〜0.5当量望ましくは0.08〜0.15当
量を徐々に加える。反応混合物を10分〜2時間望まし
くは15〜30分攪拌した後、反応溶液を氷−飽和炭酸
水素ナトリウム水に加えた後、常法により処理して精
製、分離を行う。〔Carbohydr,Res.7
1,169−191(1979)〕
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース或
はその1位、3位、4位又は5位置換誘導体を含む適当
な酸無水物或は対応する酸無水物の乾燥クロロホルム溶
液に、−20℃〜15℃望ましくは−10℃〜0℃で硫
酸、或は三フッ化ホウ素・エチレートなどのルイス酸を
0.05〜0.5当量望ましくは0.08〜0.15当
量を徐々に加える。反応混合物を10分〜2時間望まし
くは15〜30分攪拌した後、反応溶液を氷−飽和炭酸
水素ナトリウム水に加えた後、常法により処理して精
製、分離を行う。〔Carbohydr,Res.7
1,169−191(1979)〕
【0047】一方、1−アルコキシ誘導体を合成する場
合には、対応する乾燥メタノール、エタノール、プロパ
ノールなどのアルコール溶液に濃硫酸1〜5%望ましく
は3〜4%を加え、10〜30℃望ましくは15〜25
℃で5〜48時間望ましくは12〜36時間攪拌する。
反応溶液を炭酸水素ナトリウムなどの塩基で中和した
後、常法により処理して精製、分離を行う。この時生じ
た6位のアルコールは常法によりエーテル化、アシル化
などを行い対応する誘導体に変換することができる。
合には、対応する乾燥メタノール、エタノール、プロパ
ノールなどのアルコール溶液に濃硫酸1〜5%望ましく
は3〜4%を加え、10〜30℃望ましくは15〜25
℃で5〜48時間望ましくは12〜36時間攪拌する。
反応溶液を炭酸水素ナトリウムなどの塩基で中和した
後、常法により処理して精製、分離を行う。この時生じ
た6位のアルコールは常法によりエーテル化、アシル化
などを行い対応する誘導体に変換することができる。
【0048】D.加水分解 1,6−ジ−O−アシル−3,4−ジデオキシ−α−D
−グリセロ−ヘキソー3−エノピラノース−2−ウロー
ス或はその1位、3位、4位又は5位置換誘導体を含む
水もしくはメタノール、エタノール、イソプロパノール
などのアルコール溶液に水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムなどの塩基を0.05〜0.3当
量望ましくは0.1〜0.15当量加え、10〜30℃
望ましくは15〜25℃で10〜45分望ましくは20
〜30分撹拌する。反応生成物に酢酸エチルを加えた
後、沈澱を濾過して除き、減圧下濃縮し生成物を得、常
法により精製、分離を行う。
−グリセロ−ヘキソー3−エノピラノース−2−ウロー
ス或はその1位、3位、4位又は5位置換誘導体を含む
水もしくはメタノール、エタノール、イソプロパノール
などのアルコール溶液に水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムなどの塩基を0.05〜0.3当
量望ましくは0.1〜0.15当量加え、10〜30℃
望ましくは15〜25℃で10〜45分望ましくは20
〜30分撹拌する。反応生成物に酢酸エチルを加えた
後、沈澱を濾過して除き、減圧下濃縮し生成物を得、常
法により精製、分離を行う。
【0049】E.酸化反応 3,4−ジデオキシ−ヘキソ−3−エノピラノース或は
その誘導体を含む乾燥塩化メチレン溶液に、ピリジニウ
ムクロロクロメートを1〜10当量望ましくは2〜5当
量を加え、0〜40℃望ましくは10〜20℃で1〜2
0時間望ましくは2〜12時間撹拌して反応させる。ジ
エチルエーテルを加え、シリカゲルで濾過した後濾液を
濃縮し、粗生成物を得、常法により精製、分離を行う。
一般式(II)で表わされる化合物には文献未記載の化
合物が含まれる。たとえば、一般式(II′)
その誘導体を含む乾燥塩化メチレン溶液に、ピリジニウ
ムクロロクロメートを1〜10当量望ましくは2〜5当
量を加え、0〜40℃望ましくは10〜20℃で1〜2
0時間望ましくは2〜12時間撹拌して反応させる。ジ
エチルエーテルを加え、シリカゲルで濾過した後濾液を
濃縮し、粗生成物を得、常法により精製、分離を行う。
一般式(II)で表わされる化合物には文献未記載の化
合物が含まれる。たとえば、一般式(II′)
【0050】
【化7】
【0051】(式中、R1′は置換されてもよいアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、−OSO2R
7基、ハロゲン原子、置換されてもよいフェニル基又は
糖誘導体残基であり、R4、R5、R6及びR7は前述
の通りである。但し、R1′が臭素原子であり、R4及
びR5が単結合を形成し、かつR6が水素原子である場
合を除く。)で表わされる化合物又はその塩は、新規化
合物である。
ル基、アルケニル基、アルキニル基、−OSO2R
7基、ハロゲン原子、置換されてもよいフェニル基又は
糖誘導体残基であり、R4、R5、R6及びR7は前述
の通りである。但し、R1′が臭素原子であり、R4及
びR5が単結合を形成し、かつR6が水素原子である場
合を除く。)で表わされる化合物又はその塩は、新規化
合物である。
【0052】また、一般式(II)で表わされる化合物
についても免疫機能抑制効果が認められる。次に前記一
般式(II)で表わされるエノン誘導体を表1及び表2
に例示する。
についても免疫機能抑制効果が認められる。次に前記一
般式(II)で表わされるエノン誘導体を表1及び表2
に例示する。
【0053】
【表1】
【0054】
【表2】
【0055】中間体合成例1 1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−3−ヨード−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.5)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノ
ピラノース−2−ウロース(米国特許第3,926,9
47号明細書に記載)5gの乾燥ピリジン−四塩化炭素
(1:1)150mlの溶液に沃素40gの乾燥ピリジ
ン−四塩化炭素(1:1)150mlの溶液を0℃でゆ
っくり加えた。室温で2時間撹拌した後、薄層クロマト
グラフィーで原料物質の消失を確認し、200mlの酢
酸エチルを加えた。200mlの飽和食塩水で2回、2
0%チオ硫酸ナトリウム200mlで1回洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒
を留去した。得られたシロップ状の粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:3)で精製し、目的物(中間体No.5)を淡黄色
結晶として6.1gを得た。このもののNMRの分析値
及び物性値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.81
(1H,d,J=6.8Hz);3,87(1H,d
d,J=6.8,5.0Hz);4.93(1H,t,
J=5.0Hz);5.57(1H,s);7.96
(1H,d,J=5.0Hz) m.p.66−67℃
3,4−ジデオキシ−3−ヨード−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.5)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノ
ピラノース−2−ウロース(米国特許第3,926,9
47号明細書に記載)5gの乾燥ピリジン−四塩化炭素
(1:1)150mlの溶液に沃素40gの乾燥ピリジ
ン−四塩化炭素(1:1)150mlの溶液を0℃でゆ
っくり加えた。室温で2時間撹拌した後、薄層クロマト
グラフィーで原料物質の消失を確認し、200mlの酢
酸エチルを加えた。200mlの飽和食塩水で2回、2
0%チオ硫酸ナトリウム200mlで1回洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒
を留去した。得られたシロップ状の粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:3)で精製し、目的物(中間体No.5)を淡黄色
結晶として6.1gを得た。このもののNMRの分析値
及び物性値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.81
(1H,d,J=6.8Hz);3,87(1H,d
d,J=6.8,5.0Hz);4.93(1H,t,
J=5.0Hz);5.57(1H,s);7.96
(1H,d,J=5.0Hz) m.p.66−67℃
【0056】中間体合成例2 1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−3−メチル−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.2)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−3−ヨード−β−D−グリセロ−ヘキ
ソ−3−エノピラノース−2−ウロース5g、第一沃化
銅0.4g、トリフェニル砒素0.6g及び塩化ビス
(ベンゾニトリル)パラジウム(II)0.4gの混合
物を含む20mlの乾燥N−メチルピロリジノン溶液に
テトラメチル錫5.3gを加え、80℃で4時間撹拌し
た。酢酸エチル200mlを加え、10%フッ化カリウ
ム水溶液100mlで3回洗浄した。有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した。得
られたシロップ状の生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)で精製し
た後、減圧下で蒸留を行い目的物(中間体No.2)を
無色透明な液体として1.61g得た。このもののNM
Rの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.79
(3H,s);3.68(1H,d,J=6.8H
z);3.83(1H,dd,J=6.8,4.8H
z);4.95(1H,t,J=4.8Hz);5.3
6(1H,s);6.96(1H,dq,J=4.8,
1.6Hz) b.p.150−170℃(40mmHg) 前記中間体合成例2の場合に準じて下記の化合物が合成
されたが、それらの物性を記載する。
3,4−ジデオキシ−3−メチル−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.2)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−3−ヨード−β−D−グリセロ−ヘキ
ソ−3−エノピラノース−2−ウロース5g、第一沃化
銅0.4g、トリフェニル砒素0.6g及び塩化ビス
(ベンゾニトリル)パラジウム(II)0.4gの混合
物を含む20mlの乾燥N−メチルピロリジノン溶液に
テトラメチル錫5.3gを加え、80℃で4時間撹拌し
た。酢酸エチル200mlを加え、10%フッ化カリウ
ム水溶液100mlで3回洗浄した。有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した。得
られたシロップ状の生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)で精製し
た後、減圧下で蒸留を行い目的物(中間体No.2)を
無色透明な液体として1.61g得た。このもののNM
Rの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.79
(3H,s);3.68(1H,d,J=6.8H
z);3.83(1H,dd,J=6.8,4.8H
z);4.95(1H,t,J=4.8Hz);5.3
6(1H,s);6.96(1H,dq,J=4.8,
1.6Hz) b.p.150−170℃(40mmHg) 前記中間体合成例2の場合に準じて下記の化合物が合成
されたが、それらの物性を記載する。
【0057】中間体No.421 H NMR(CDCl3,400MHz):2.36
(3H,s);3.85(1H,d,J=6.8H
z);3.95(1H,dd,J=6.6,4.8H
z);5.15(1H,t,J=4.8Hz);5.5
0(1H,s);719(2H,br,d,J=8.1
Hz);7.23(1H,d,J=4.8Hz);7.
32(2H,br,d,J=8.1Hz) m.p.117−119℃
(3H,s);3.85(1H,d,J=6.8H
z);3.95(1H,dd,J=6.6,4.8H
z);5.15(1H,t,J=4.8Hz);5.5
0(1H,s);719(2H,br,d,J=8.1
Hz);7.23(1H,d,J=4.8Hz);7.
32(2H,br,d,J=8.1Hz) m.p.117−119℃
【0058】中間体No.91 H NMR(CDCl3,400MHz):1.82
(1H,dt,J=11.5,4.8Hz);1.90
(1H,m);1.98(1H,dt,J=11.5,
3.3Hz);2.22(1H,m);2.64(1
H,dddd,J=20.0,3.5,3.5,3.5
Hz);3.15(1H,m);3.62(1H,d,
J=6.9Hz);3.88(1H,d,J=7.3H
z);3.79(1H,dd,J=7.3,4.7H
z);3.87(1H,dd,J=6.9,4.3H
z);4.40(1H,d,J=4.7Hz);5.0
1(1H,t,J=4.7Hz);5.17(1H,
s);5.35(1H,s);6.80(1H,dd,
J=4.7,1.2Hz);6,93(1H,q,J=
3.5Hz)
(1H,dt,J=11.5,4.8Hz);1.90
(1H,m);1.98(1H,dt,J=11.5,
3.3Hz);2.22(1H,m);2.64(1
H,dddd,J=20.0,3.5,3.5,3.5
Hz);3.15(1H,m);3.62(1H,d,
J=6.9Hz);3.88(1H,d,J=7.3H
z);3.79(1H,dd,J=7.3,4.7H
z);3.87(1H,dd,J=6.9,4.3H
z);4.40(1H,d,J=4.7Hz);5.0
1(1H,t,J=4.7Hz);5.17(1H,
s);5.35(1H,s);6.80(1H,dd,
J=4.7,1.2Hz);6,93(1H,q,J=
3.5Hz)
【0059】中間体合成例3 メチル 3,4−ジデオ
キシ−3−メチル−α−D−グリセロ−ヘキソ−3−エ
ノピラノース−2−ウロース(中間体No.20)の合
成 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−3−メチル
−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2
−ウロース(中間体No.2)500mgの乾燥メタノ
ール溶液30mlに濃硫酸0.1mlを加え、室温で4
8時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水30mlを
加え、室温で15分撹拌した後減圧下で濃縮した。ここ
に、酢酸エチル200mlを加え飽和食塩水200ml
で3回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去した。得られたシロップ状の粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン=2:3)で精製し、目的とする化合物
(中間体No.20)350mgを無色液体として得
た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.86
(3H,m);1.95(1H,t,J=6.0H
z);3.54(3H,s);3.76(1H,dd
d,J=11.2,6.8,6.0Hz);3.84
(1H,ddd,J=11.2,6.0,3.6H
z);4.83(1H,m,);4.80(1H,
s);6.68(1H,m)
キシ−3−メチル−α−D−グリセロ−ヘキソ−3−エ
ノピラノース−2−ウロース(中間体No.20)の合
成 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−3−メチル
−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2
−ウロース(中間体No.2)500mgの乾燥メタノ
ール溶液30mlに濃硫酸0.1mlを加え、室温で4
8時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水30mlを
加え、室温で15分撹拌した後減圧下で濃縮した。ここ
に、酢酸エチル200mlを加え飽和食塩水200ml
で3回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去した。得られたシロップ状の粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン=2:3)で精製し、目的とする化合物
(中間体No.20)350mgを無色液体として得
た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.86
(3H,m);1.95(1H,t,J=6.0H
z);3.54(3H,s);3.76(1H,dd
d,J=11.2,6.8,6.0Hz);3.84
(1H,ddd,J=11.2,6.0,3.6H
z);4.83(1H,m,);4.80(1H,
s);6.68(1H,m)
【0060】中間体合成例4 1,6−ジ−O−プロピ
オニル−3,4−ジデオキシ−α−D−グリセロ−ヘキ
ソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体No.
19)の合成 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセローヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース1
00mgを無水プロピオン酸3mlに溶かし、−20℃
にまで冷却した。ここに濃硫酸0.06mlを加え30
分撹拌した後、反応混合物を氷−飽和炭酸水素ナトリウ
ム水100mlに加えた。30分撹拌した後、酢酸エチ
ル100mlで抽出し飽和食塩水100mlで3回洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で
溶媒を留去した。得られたシロップ状の粗生成物をシリ
カゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:2)で精製することにより目的物(中間体No.1
9)を無色透明な液体として100mgを得た。このも
ののNMRの分析値は次のとおり。
オニル−3,4−ジデオキシ−α−D−グリセロ−ヘキ
ソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体No.
19)の合成 1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グ
リセローヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース1
00mgを無水プロピオン酸3mlに溶かし、−20℃
にまで冷却した。ここに濃硫酸0.06mlを加え30
分撹拌した後、反応混合物を氷−飽和炭酸水素ナトリウ
ム水100mlに加えた。30分撹拌した後、酢酸エチ
ル100mlで抽出し飽和食塩水100mlで3回洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で
溶媒を留去した。得られたシロップ状の粗生成物をシリ
カゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:2)で精製することにより目的物(中間体No.1
9)を無色透明な液体として100mgを得た。このも
ののNMRの分析値は次のとおり。
【0061】中間体No.191 H NMR(CDCl3,400MHz):1.14
(3H,t,J=5.2Hz);1.16(3H.t,
J=5.2Hz);2.38(4H,m);4.22
(1H,dd,J=11.4,4.6Hz);4.41
(1H,dd,J=11.4,4.7Hz);4.81
(1H,m,);6.20(1H,s);6.28(1
H,dd,J=10.6,2.4Hz);7.05(1
H,dd,J=10.6,1.9Hz) 前記合成例4の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、それらの物性を記載する。
(3H,t,J=5.2Hz);1.16(3H.t,
J=5.2Hz);2.38(4H,m);4.22
(1H,dd,J=11.4,4.6Hz);4.41
(1H,dd,J=11.4,4.7Hz);4.81
(1H,m,);6.20(1H,s);6.28(1
H,dd,J=10.6,2.4Hz);7.05(1
H,dd,J=10.6,1.9Hz) 前記合成例4の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、それらの物性を記載する。
【0062】中間体No.161 H NMR(CDCl3,400MHz):2.10
(3H,s);2.13(3H,s);4.20(1
H,dd,J=11.4,5.0Hz);4.38(1
H,dd,J=11.4,5.0Hz);4.88(1
H,td,J=5.0,1.9Hz);6.34(1
H,s);7.43(1H,d,J=1.9Hz)
(3H,s);2.13(3H,s);4.20(1
H,dd,J=11.4,5.0Hz);4.38(1
H,dd,J=11.4,5.0Hz);4.88(1
H,td,J=5.0,1.9Hz);6.34(1
H,s);7.43(1H,d,J=1.9Hz)
【0063】中間体合成例5 6−O−アセチル−3−
ブロモ−3,4−ジデオキシ−D−グリセロ−ヘキソ−
3−エノピラノース−2−ウロース(中間体No.1
8)の合成 Carbohydrate Research 198
1年、93巻、284−287頁に記載の方法によって
得られた1,6−アンヒドロ−3−ブロモ−3,4−ジ
デオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノ
ース−2−ウロース(中間体No.4)から前記合成例
4に準じて合成された1,6−ジ−O−アセチル−3−
ブロモ−3,4−ジデオキシ−α−D−グリセロ−ヘキ
ソ−3−エノピラノース−2−ウロース200mgをテ
トラヒドロフラン−水(5:1)6mlに溶解し、水酸
化リチウム一水和物70mgを加え室温で30分撹拌し
た。反応溶液に酢酸エチル100mlを加え、飽和食塩
水100mlで3回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた
シロップ状の粗生成物を分取用薄層クロマトグラフィー
(メルク社、NO−5744、酢酸エチル:ヘキサン=
1:1)で精製することにより目的物(中間体No.1
8)を淡黄色な液体として40mg得た。このもののN
MRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.12
(0.9H,s);2.13(0.1H,s);4.2
4(0.1H,dd,J=11.2,5.0Hz);
4.26(0.9H,dd,J=11.5,5.0H
z);4.35(0.9H,dd,J=11.5,5.
0Hz);4.47(0.1H,dd,J=11.2,
6,5Hz);4.78(0.1H,dddd,J=
6.5,5.0,1.9,1.0Hz);5.00
(0.9H.td,J=5.0,2.2Hz);5.3
1(0.1H,br,s);5.46(0.9H,b
r,s);7.38(0.9H,d,J=2.2H
z);7.44(0.1H,d,J=1.9Hz) 前記合成例5に準じて下記化合物が合成されたが、それ
らの物性を記載する。
ブロモ−3,4−ジデオキシ−D−グリセロ−ヘキソ−
3−エノピラノース−2−ウロース(中間体No.1
8)の合成 Carbohydrate Research 198
1年、93巻、284−287頁に記載の方法によって
得られた1,6−アンヒドロ−3−ブロモ−3,4−ジ
デオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノ
ース−2−ウロース(中間体No.4)から前記合成例
4に準じて合成された1,6−ジ−O−アセチル−3−
ブロモ−3,4−ジデオキシ−α−D−グリセロ−ヘキ
ソ−3−エノピラノース−2−ウロース200mgをテ
トラヒドロフラン−水(5:1)6mlに溶解し、水酸
化リチウム一水和物70mgを加え室温で30分撹拌し
た。反応溶液に酢酸エチル100mlを加え、飽和食塩
水100mlで3回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた
シロップ状の粗生成物を分取用薄層クロマトグラフィー
(メルク社、NO−5744、酢酸エチル:ヘキサン=
1:1)で精製することにより目的物(中間体No.1
8)を淡黄色な液体として40mg得た。このもののN
MRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.12
(0.9H,s);2.13(0.1H,s);4.2
4(0.1H,dd,J=11.2,5.0Hz);
4.26(0.9H,dd,J=11.5,5.0H
z);4.35(0.9H,dd,J=11.5,5.
0Hz);4.47(0.1H,dd,J=11.2,
6,5Hz);4.78(0.1H,dddd,J=
6.5,5.0,1.9,1.0Hz);5.00
(0.9H.td,J=5.0,2.2Hz);5.3
1(0.1H,br,s);5.46(0.9H,b
r,s);7.38(0.9H,d,J=2.2H
z);7.44(0.1H,d,J=1.9Hz) 前記合成例5に準じて下記化合物が合成されたが、それ
らの物性を記載する。
【0064】中間体No.171 H NMR(CDCl3,400MHz):2.09
(2.25,s);2.10(0.75H,s);4.
26(0.25H,dd,J=11.5,5.0H
z);4.27(0.75H,dd,J=11.5,
4.3Hz);4.34(0.75H,dd,J=1
1.5,5.3Hz);4.42(0.25H,dd,
J=11.5,6.2Hz);4.79(0.25H,
m);4.93(0.75H,m);5.19(0.2
5H,br,d,J=5.7Hz);5.26(0.7
5H,br,d,J=3.3Hz);6.19(0.7
5H,dd,J=10.4,2.5Hz);627
(0.25H,dd,J=10.0,2.8Hz)=
6.99(0.75H,dd,J=10.4,1.7H
z);6.99(0.25H,dd,J=10.0,
1.9Hz)
(2.25,s);2.10(0.75H,s);4.
26(0.25H,dd,J=11.5,5.0H
z);4.27(0.75H,dd,J=11.5,
4.3Hz);4.34(0.75H,dd,J=1
1.5,5.3Hz);4.42(0.25H,dd,
J=11.5,6.2Hz);4.79(0.25H,
m);4.93(0.75H,m);5.19(0.2
5H,br,d,J=5.7Hz);5.26(0.7
5H,br,d,J=3.3Hz);6.19(0.7
5H,dd,J=10.4,2.5Hz);627
(0.25H,dd,J=10.0,2.8Hz)=
6.99(0.75H,dd,J=10.4,1.7H
z);6.99(0.25H,dd,J=10.0,
1.9Hz)
【0065】中間体合成例6 1,6−アンヒドロ−3
−O−p−トルエンスルホニル−4−デオキシ−β−D
−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロー
ス(中間体No.3)の合成 1,6−アンヒドロ−3−O−p−トルエンスルホニル
−4−デオキシ−β−D−エリスロ−ヘキソ−3−エノ
ピラノース50mgの乾燥塩化メチレン溶液20ml
に、ピリジニウムクロロクロメート360mgを加え、
室温で48時間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで原
料物質の消失を確認し、60mlのジェチルエーテルを
加えた。室温で更に15分撹拌した後、反応混合物をシ
リカゲルで濾過し、200mlのジエチルエーテルで洗
浄した。洗浄液は濾液とともに減圧下に濃縮した。得ら
れたシロップ状の粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製
し、目的物(中間体No.3)34mgを無色透明な液
体として得た。このもののNMRの分析値は次のとお
り。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.45
(3H,s);3.83(1H,d,J=7.2H
z);3.92(1H,dd,J=7.2,4.8H
z);5.14(1H,t,J=4.8Hz);5.3
6(1H,s);7.17(1H,d,J=4.8H
z);7.35(2H,br,d,J=80Hz);
7.82(2H,dt,J=8.8,2.0Hz) m.p.81−86℃
−O−p−トルエンスルホニル−4−デオキシ−β−D
−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロー
ス(中間体No.3)の合成 1,6−アンヒドロ−3−O−p−トルエンスルホニル
−4−デオキシ−β−D−エリスロ−ヘキソ−3−エノ
ピラノース50mgの乾燥塩化メチレン溶液20ml
に、ピリジニウムクロロクロメート360mgを加え、
室温で48時間撹拌した。薄層クロマトグラフィーで原
料物質の消失を確認し、60mlのジェチルエーテルを
加えた。室温で更に15分撹拌した後、反応混合物をシ
リカゲルで濾過し、200mlのジエチルエーテルで洗
浄した。洗浄液は濾液とともに減圧下に濃縮した。得ら
れたシロップ状の粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製
し、目的物(中間体No.3)34mgを無色透明な液
体として得た。このもののNMRの分析値は次のとお
り。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.45
(3H,s);3.83(1H,d,J=7.2H
z);3.92(1H,dd,J=7.2,4.8H
z);5.14(1H,t,J=4.8Hz);5.3
6(1H,s);7.17(1H,d,J=4.8H
z);7.35(2H,br,d,J=80Hz);
7.82(2H,dt,J=8.8,2.0Hz) m.p.81−86℃
【0066】中間体合成例7 1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−4−メチル−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.43)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、ジイソプロピルアミン0.
45ml(mmol)とブチルリチウム1.75mlよ
り、無水テトラヒドロフラン25ml中で常法により調
製したリチウムアミド溶液に1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−4−C−メチル−β−D−エリスロ−
ヘキソピラノース−2−ウロース(Carbohydr
ate Res.71,(1979)169に記載)3
00mgの1mlテトラヒドロフラン溶液を−78℃で
加えた。1時間撹拌したあと、フェニルセレニルクロラ
イド500mg(mmol)と燐酸ヘキサメチルトリア
ミド0.75mlのテトラヒドロフラン溶液3mlを加
え、−78℃で30分撹拌した。飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、減圧下で溶媒を留去した後酢酸エチルで
抽出した。飽和食塩水で2回洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧下で溶媒を除くことによりシロッ
プ状の粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で精
製することによりセレン誘導体を106mgを得た。
3,4−ジデオキシ−4−メチル−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.43)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、ジイソプロピルアミン0.
45ml(mmol)とブチルリチウム1.75mlよ
り、無水テトラヒドロフラン25ml中で常法により調
製したリチウムアミド溶液に1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−4−C−メチル−β−D−エリスロ−
ヘキソピラノース−2−ウロース(Carbohydr
ate Res.71,(1979)169に記載)3
00mgの1mlテトラヒドロフラン溶液を−78℃で
加えた。1時間撹拌したあと、フェニルセレニルクロラ
イド500mg(mmol)と燐酸ヘキサメチルトリア
ミド0.75mlのテトラヒドロフラン溶液3mlを加
え、−78℃で30分撹拌した。飽和塩化アンモニウム
水溶液を加え、減圧下で溶媒を留去した後酢酸エチルで
抽出した。飽和食塩水で2回洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧下で溶媒を除くことによりシロッ
プ状の粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:10)で精
製することによりセレン誘導体を106mgを得た。
【0067】上記反応で得られたセレン誘導体を窒素ガ
スの不活性雰囲気下、20mlの乾燥塩化メチレンに溶
解し、−78℃でm−クロロ過安息香酸60mgを加え
た。20分撹拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え塩化メチレンで2回抽出した。有機層をあわせて
飽和食塩水で2回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られたシロップ状の
粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(塩化メ
チレン)で精製すると目的とする1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−4−メチル−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.43)1.7mgを無色透明な液体として得た。こ
のもののNMRの分析値は次の通り。1 H NMR(CDCl3’400MHz):2.08
(3H,d,J=1.2Hz);3.71(1H,d,
J=6.8Hz);3.91(1H,dd,J=6.
8,4.8Hz);4.80(1H,d,J=4.8H
z);5.32(1H,d,J=1.2Hz):5.8
7(1H,m)
スの不活性雰囲気下、20mlの乾燥塩化メチレンに溶
解し、−78℃でm−クロロ過安息香酸60mgを加え
た。20分撹拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え塩化メチレンで2回抽出した。有機層をあわせて
飽和食塩水で2回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られたシロップ状の
粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(塩化メ
チレン)で精製すると目的とする1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−4−メチル−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.43)1.7mgを無色透明な液体として得た。こ
のもののNMRの分析値は次の通り。1 H NMR(CDCl3’400MHz):2.08
(3H,d,J=1.2Hz);3.71(1H,d,
J=6.8Hz);3.91(1H,dd,J=6.
8,4.8Hz);4.80(1H,d,J=4.8H
z);5.32(1H,d,J=1.2Hz):5.8
7(1H,m)
【0068】中間体合成例8 1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−3−エチル−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.46)の合成 [1] 1,6−アンヒドロ−3−ブロモ−3,4−ジ
デオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノ
ース−2−ウロース22gを乾燥ベンゼン500mlに
溶解し、エチレングリコール66g及びp−トルエンス
ルホン酸一水塩3gを加え、生成する水を除きながら加
熱還流を行った。19時間後、TLCで原料の消失を確
認し反応混合物を室温にまで冷却した。ここへ酢酸エチ
ル500mlを加え、飽和食塩水200mlで3回洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧
下で溶媒を留去した。得られた粗結晶をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:
1)で精製し、1,6−アンヒドロ−3−プロモ−3,
4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノ
ピラノース−2−ウロース エチレン アセタール20
gを白色結晶として得た。このもののNMR分析値は次
のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.71
(1H,dd,J=6.8,4.4Hz);3.79
(1H,d,J=6.8Hz);4.04(1H,
m);4.17(1H,m);4.28(2H,m);
4.75(1H,t,J=4.4Hz);5.28(1
H,s);6.60(1H,d,J=4.4Hz) m.p.111−112℃
3,4−ジデオキシ−3−エチル−β−D−グリセロ−
ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース(中間体N
o.46)の合成 [1] 1,6−アンヒドロ−3−ブロモ−3,4−ジ
デオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノ
ース−2−ウロース22gを乾燥ベンゼン500mlに
溶解し、エチレングリコール66g及びp−トルエンス
ルホン酸一水塩3gを加え、生成する水を除きながら加
熱還流を行った。19時間後、TLCで原料の消失を確
認し反応混合物を室温にまで冷却した。ここへ酢酸エチ
ル500mlを加え、飽和食塩水200mlで3回洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧
下で溶媒を留去した。得られた粗結晶をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:
1)で精製し、1,6−アンヒドロ−3−プロモ−3,
4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノ
ピラノース−2−ウロース エチレン アセタール20
gを白色結晶として得た。このもののNMR分析値は次
のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.71
(1H,dd,J=6.8,4.4Hz);3.79
(1H,d,J=6.8Hz);4.04(1H,
m);4.17(1H,m);4.28(2H,m);
4.75(1H,t,J=4.4Hz);5.28(1
H,s);6.60(1H,d,J=4.4Hz) m.p.111−112℃
【0069】[2] 前記[1]で得られた1,6−ア
ンヒドロ−3−プロモ−3,4−ジデオキシ−β−D−
グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース
エチレン アセタール3gを乾燥テトラヒドロフラン
200mlに溶解し、窒素雰囲気下−78度で1.2等
量のn−ブチルリチウムを撹拌しながら加えた。20分
撹拌した後、得られた混合物にヨウ化エチル1.9ml
及びヘキサメチルホスホアミド5.2mlの無水テトラ
ヒドロフラン溶液10mlを加えた。30分撹拌した
後、徐々に室温にまで昇温した。反応の終了をTLCで
確認した後、少量の水を加え減圧下で溶媒を留去した。
残さに酢酸エチル300mlを加え100mlの飽和食
塩水で3回洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧下で溶媒を留去した後、得られたシロップ状
の粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製することにより
1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−3−エチル
−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2
−ウロース エチレン アセタールを白色結晶として
1.48g得た。このもののNMR分析値は次のとお
り。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.03
(3H,t,J=7.2Hz);2.03(1H,
m);2.11(1H,dqd,J=16.6,7.
2,2.0Hz);3.70(2H,m);4.00−
4.10(3H,m);4.16(1H,m);4.7
4(1H,m);5.19(1H,s);5.94(1
H,dt,J=4.4,2.0Hz)
ンヒドロ−3−プロモ−3,4−ジデオキシ−β−D−
グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース
エチレン アセタール3gを乾燥テトラヒドロフラン
200mlに溶解し、窒素雰囲気下−78度で1.2等
量のn−ブチルリチウムを撹拌しながら加えた。20分
撹拌した後、得られた混合物にヨウ化エチル1.9ml
及びヘキサメチルホスホアミド5.2mlの無水テトラ
ヒドロフラン溶液10mlを加えた。30分撹拌した
後、徐々に室温にまで昇温した。反応の終了をTLCで
確認した後、少量の水を加え減圧下で溶媒を留去した。
残さに酢酸エチル300mlを加え100mlの飽和食
塩水で3回洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧下で溶媒を留去した後、得られたシロップ状
の粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製することにより
1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−3−エチル
−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2
−ウロース エチレン アセタールを白色結晶として
1.48g得た。このもののNMR分析値は次のとお
り。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.03
(3H,t,J=7.2Hz);2.03(1H,
m);2.11(1H,dqd,J=16.6,7.
2,2.0Hz);3.70(2H,m);4.00−
4.10(3H,m);4.16(1H,m);4.7
4(1H,m);5.19(1H,s);5.94(1
H,dt,J=4.4,2.0Hz)
【0070】[3] 前記[2]で得られた1,6−ア
ンヒドロ−3,4−ジデオキシ−3−エチル−β−D−
グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース
エチレン アセタール1.47gを乾燥テトラヒドロ
フラン−水(2:1)150mlに溶解しp−トルエン
スルホン酸一水塩2gを加えた。得られた混合物を2時
間加熱還流した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた
シロップ状の粗生成物を酢酸エチル200mlに溶解
し、飽和食塩水100mlで3回洗浄した後、有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去
し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製し目的
物(中間体No.46)1.1gを得た。このもののN
MR分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.16
(3H,t,J=7.6Hz);2.35(2H,q
d,J=7.6,1.5Hz);3.81(1H,d,
J=6.6Hz);3.95(1H,dd,J=6.
6,4.6Hz);5.12(1H,t,J=4.6H
z);5.48(1H,s);7.03(1H,dt,
J=4.6,1.5Hz) 前記中間体合成例8に準じて、下記化合物が合成された
がそれらの物性値を記載する。
ンヒドロ−3,4−ジデオキシ−3−エチル−β−D−
グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース
エチレン アセタール1.47gを乾燥テトラヒドロ
フラン−水(2:1)150mlに溶解しp−トルエン
スルホン酸一水塩2gを加えた。得られた混合物を2時
間加熱還流した後、減圧下で溶媒を留去した。得られた
シロップ状の粗生成物を酢酸エチル200mlに溶解
し、飽和食塩水100mlで3回洗浄した後、有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去
し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製し目的
物(中間体No.46)1.1gを得た。このもののN
MR分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.16
(3H,t,J=7.6Hz);2.35(2H,q
d,J=7.6,1.5Hz);3.81(1H,d,
J=6.6Hz);3.95(1H,dd,J=6.
6,4.6Hz);5.12(1H,t,J=4.6H
z);5.48(1H,s);7.03(1H,dt,
J=4.6,1.5Hz) 前記中間体合成例8に準じて、下記化合物が合成された
がそれらの物性値を記載する。
【0071】中間体No.47 1H NMR(CDCl3,400MHz):0.90
(3H,t,J=7.2Hz);1.30−150(4
H,m);2.17(1Hddd,J=14.4,6.
8,1.6Hz);2.23(1H,dd,J=14.
4,6.8Hz);3.69(1H,d,J=6.8H
z);3.86(1H,dd,J=6.8,4.4H
z);4.98(1H,t,J=4.4Hz);5.3
6(1H,s);6.92(1H,dt,J=4.4,
1.6Hz)
(3H,t,J=7.2Hz);1.30−150(4
H,m);2.17(1Hddd,J=14.4,6.
8,1.6Hz);2.23(1H,dd,J=14.
4,6.8Hz);3.69(1H,d,J=6.8H
z);3.86(1H,dd,J=6.8,4.4H
z);4.98(1H,t,J=4.4Hz);5.3
6(1H,s);6.92(1H,dt,J=4.4,
1.6Hz)
【0072】中間体合成例9 1,6−アンヒドロ−
3,4−ジデオキシ−3−メトキシメチル−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース
(中間体No.48)の合成 [1] 前記中間体合成例8[1]で得られた1,6−
アンヒドロ−3−ブロモ−3,4−ジデオキシ−β−D
−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロー
ス エチレン アセタール1.65gを乾燥テトラヒド
ロフラン200mlに溶解し、−78度まで冷却した。
ここへn−ブチルリチウム5ml(1.6N)を徐々に
加えさらに20分撹拌した。得られた反応混合物にホル
ムアルデヒドを大過剰加えた後、室温にまで昇温した。
反応の終了をTLCで確認した後、セライトで濾過する
ことにより沈澱を除いた。濾液を減圧下で濃縮し、得ら
れたシロップ状の組成生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)で精製
することにより1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキ
シ−3−ヒドロキシメチル−β−D−グリセロ−ヘキソ
−3−エノピラノース−2−ウロース エチレン アセ
タールを0.7g得た。このもののNMR分析値は次の
とおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.04
(1H,br.s);3.73(2H,m);4.00
−4.20(5H,m);4.17(1H,dd,J=
12.0,1.2Hz);4.79(1H,m);5.
19(1H,s);6.32(1H,dt,J=4.
8,1.2Hz)
3,4−ジデオキシ−3−メトキシメチル−β−D−グ
リセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロース
(中間体No.48)の合成 [1] 前記中間体合成例8[1]で得られた1,6−
アンヒドロ−3−ブロモ−3,4−ジデオキシ−β−D
−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロー
ス エチレン アセタール1.65gを乾燥テトラヒド
ロフラン200mlに溶解し、−78度まで冷却した。
ここへn−ブチルリチウム5ml(1.6N)を徐々に
加えさらに20分撹拌した。得られた反応混合物にホル
ムアルデヒドを大過剰加えた後、室温にまで昇温した。
反応の終了をTLCで確認した後、セライトで濾過する
ことにより沈澱を除いた。濾液を減圧下で濃縮し、得ら
れたシロップ状の組成生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)で精製
することにより1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキ
シ−3−ヒドロキシメチル−β−D−グリセロ−ヘキソ
−3−エノピラノース−2−ウロース エチレン アセ
タールを0.7g得た。このもののNMR分析値は次の
とおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.04
(1H,br.s);3.73(2H,m);4.00
−4.20(5H,m);4.17(1H,dd,J=
12.0,1.2Hz);4.79(1H,m);5.
19(1H,s);6.32(1H,dt,J=4.
8,1.2Hz)
【0073】前記[1]で得られた1,6−アンヒドロ
−3,4−ジデオキシ−3−ヒドロキシメチル−β−D
−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロー
ス2.8gのメタノール溶液150mlにp−トルエン
スルホン酸一水塩2gを加え1時間加熱還流した。TL
Cで原料の消失を確認した後、減圧下で溶媒を留去し
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製し、目
的物(中間体No.48)を0.8g得た。このものの
NMR分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.40
(3H,s);3.73(1H,d,J=6.8H
z);3.89(1H,dd,J=6.8,4.4H
z);4.07(1H,br,d,J=15Hz);
4.11(1H,dd,J=14.4,1.6Hz);
5.06(1H,t,J=4.4Hz);5.36(1
H,s);7.20(1H,dt,J=4.4,1.
6) 次に一般式(I)で表わされる化合物の具体的合成例を
記載する。
−3,4−ジデオキシ−3−ヒドロキシメチル−β−D
−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2−ウロー
ス2.8gのメタノール溶液150mlにp−トルエン
スルホン酸一水塩2gを加え1時間加熱還流した。TL
Cで原料の消失を確認した後、減圧下で溶媒を留去し
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)で精製し、目
的物(中間体No.48)を0.8g得た。このものの
NMR分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.40
(3H,s);3.73(1H,d,J=6.8H
z);3.89(1H,dd,J=6.8,4.4H
z);4.07(1H,br,d,J=15Hz);
4.11(1H,dd,J=14.4,1.6Hz);
5.06(1H,t,J=4.4Hz);5.36(1
H,s);7.20(1H,dt,J=4.4,1.
6) 次に一般式(I)で表わされる化合物の具体的合成例を
記載する。
【0074】合成例1 1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノ
ース(化合物No.1)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下0℃で、リチウムアルミニウ
ムハイドライド3.0gの乾燥ジエチルエーテル懸濁液
500mlに1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ
−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2
−ウロース20gの乾燥ジエチルエーテル溶液50ml
を徐々に滴下した。滴下終了後、直ちに室温に戻し30
分間撹拌を続けた。薄層クロマトグラフィーで原料物質
の消失を確認し、少量の水を加えて過剰のリチウムアル
ミニウムハイドライドを不活性化させた。さらに30分
間撹拌し、反応混合物をセライトでろ過し沈澱物を除去
した。沈澱物は数回ジエチルエーテルで洗浄し、洗浄液
はろ液とともに減圧下に濃縮した。析出した粗結晶をジ
エチルエーテルより再結晶し目的物(化合物No.1)
を14.5g得た。このもののNMRの分析値及び物性
は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.73
(1H,dd,J=6.4,4.0Hz);3.82
(1H,d,J=6.4Hz);4.32(1H,b
r.s);4.65(1H,t,J=4.0Hz);
5.51(1H,t,J=2.2Hz);5.69(1
H,dt,J=10.0,2.2Hz);6.09(1
H,dd,J=10.0,4.0Hz) m.p.69−71℃
ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノ
ース(化合物No.1)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下0℃で、リチウムアルミニウ
ムハイドライド3.0gの乾燥ジエチルエーテル懸濁液
500mlに1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ
−β−D−グリセロ−ヘキソ−3−エノピラノース−2
−ウロース20gの乾燥ジエチルエーテル溶液50ml
を徐々に滴下した。滴下終了後、直ちに室温に戻し30
分間撹拌を続けた。薄層クロマトグラフィーで原料物質
の消失を確認し、少量の水を加えて過剰のリチウムアル
ミニウムハイドライドを不活性化させた。さらに30分
間撹拌し、反応混合物をセライトでろ過し沈澱物を除去
した。沈澱物は数回ジエチルエーテルで洗浄し、洗浄液
はろ液とともに減圧下に濃縮した。析出した粗結晶をジ
エチルエーテルより再結晶し目的物(化合物No.1)
を14.5g得た。このもののNMRの分析値及び物性
は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.73
(1H,dd,J=6.4,4.0Hz);3.82
(1H,d,J=6.4Hz);4.32(1H,b
r.s);4.65(1H,t,J=4.0Hz);
5.51(1H,t,J=2.2Hz);5.69(1
H,dt,J=10.0,2.2Hz);6.09(1
H,dd,J=10.0,4.0Hz) m.p.69−71℃
【0075】合成例2 1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−2−O−イソバレリル−β−D−スレオ−
ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.2;化合物
No.1のイソバレリン酸エステル)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下0℃で、前記合成例1で得ら
れた1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D
−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース0.5gの乾燥
ピリジン溶液30mlにイソバレリルクロライド0.7
gを徐々に加えた。約10分間攪拌した後、氷浴を取り
除き室温でさらに2時間撹拌した。反応混合物に少量の
水を加え、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物を
酢酸エチル200mlに溶解し、飽和食塩水200ml
で3回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下で溶媒を留去した。得られたシロップ状の粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン=1:5)で精製し、目的物(化合物N
o.2)の0.85gを無色液体として得た。このもの
のNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.97
(6H,d,J=6.9Hz);2.12(1H,qq
t J=6.9,6.9,6.9Hz);2.27(2
H,d,J=6.9Hz);3.79(1H,dd,J
=6.6,4.0Hz);3.97(1H,d,J=
6.6Hz);4.68(1H,t,J=4.0H
z);5.53(1H,br.s);5.61(1H,
dt,J=9.6,2.0Hz);5.63(1H,
m);6.19(1H,ddd,J=9.6,4.0,
1.2Hz) 前記合成例2の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、それらの物性を記載する。
ジデオキシ−2−O−イソバレリル−β−D−スレオ−
ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.2;化合物
No.1のイソバレリン酸エステル)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下0℃で、前記合成例1で得ら
れた1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D
−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース0.5gの乾燥
ピリジン溶液30mlにイソバレリルクロライド0.7
gを徐々に加えた。約10分間攪拌した後、氷浴を取り
除き室温でさらに2時間撹拌した。反応混合物に少量の
水を加え、減圧下溶媒を留去した。得られた粗生成物を
酢酸エチル200mlに溶解し、飽和食塩水200ml
で3回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下で溶媒を留去した。得られたシロップ状の粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン=1:5)で精製し、目的物(化合物N
o.2)の0.85gを無色液体として得た。このもの
のNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.97
(6H,d,J=6.9Hz);2.12(1H,qq
t J=6.9,6.9,6.9Hz);2.27(2
H,d,J=6.9Hz);3.79(1H,dd,J
=6.6,4.0Hz);3.97(1H,d,J=
6.6Hz);4.68(1H,t,J=4.0H
z);5.53(1H,br.s);5.61(1H,
dt,J=9.6,2.0Hz);5.63(1H,
m);6.19(1H,ddd,J=9.6,4.0,
1.2Hz) 前記合成例2の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、それらの物性を記載する。
【0076】化合物No.3(化合物No.1のクロト
ン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.95
(3H,dd,J=6.8,1.6Hz);3.80
(1H,ddd,J=6.5,4.2,1.2Hz);
3.98(1H,d,J=6.5Hz);4.69(1
H,t,J=4.2Hz);5.55(1H,m);
5.65(1H,dt,J=9.2,2.3Hz);
5.66(1H,m);5.92(1H,dq,J=1
5.5,1.6Hz);6.19(1H,ddt,J=
9.2,4.2,1.2Hz);7.04(1H,d
q,J=15.5,6.8Hz)
ン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.95
(3H,dd,J=6.8,1.6Hz);3.80
(1H,ddd,J=6.5,4.2,1.2Hz);
3.98(1H,d,J=6.5Hz);4.69(1
H,t,J=4.2Hz);5.55(1H,m);
5.65(1H,dt,J=9.2,2.3Hz);
5.66(1H,m);5.92(1H,dq,J=1
5.5,1.6Hz);6.19(1H,ddt,J=
9.2,4.2,1.2Hz);7.04(1H,d
q,J=15.5,6.8Hz)
【0077】化合物No.4(化合物No.1のシクロ
ヘキサン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.15
−1.30(3H,m);1.43(2H,m);1.
61(1H,m);1.73(2H,m);1.90
(2H,m);2.37(1H,tt,J=11.4,
3.3Hz);3.76(1H,ddd,J=6.5,
4.1,1.2Hz);3.94(1H,d,J=6.
5Hz);4.66(1H,t,J=4.1Hz);
5.47(1H,m);5.58(1H,dt,J=
9.7,2.2Hz);5.60(1H,m);6.1
7(1H,ddd,J=9.7,3.7,1.2Hz)
ヘキサン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.15
−1.30(3H,m);1.43(2H,m);1.
61(1H,m);1.73(2H,m);1.90
(2H,m);2.37(1H,tt,J=11.4,
3.3Hz);3.76(1H,ddd,J=6.5,
4.1,1.2Hz);3.94(1H,d,J=6.
5Hz);4.66(1H,t,J=4.1Hz);
5.47(1H,m);5.58(1H,dt,J=
9.7,2.2Hz);5.60(1H,m);6.1
7(1H,ddd,J=9.7,3.7,1.2Hz)
【0078】化合物No.5(化合物No.1の安息香
酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.84
(1H,ddd,J=6.5,4.2,1.1Hz);
4.03(1H,d,J=6.5Hz);4.74(1
H,t,J=4.2Hz);5.74(2H,m);
5.78(1H,m);6.26(1H,dd,J=
9.2,4.2Hz);7.44(2H,t,J=7.
5Hz);7.57(1H,tt,J=7.5,1.5
Hz);8.09(2H,m)m.p.116−117
℃
酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.84
(1H,ddd,J=6.5,4.2,1.1Hz);
4.03(1H,d,J=6.5Hz);4.74(1
H,t,J=4.2Hz);5.74(2H,m);
5.78(1H,m);6.26(1H,dd,J=
9.2,4.2Hz);7.44(2H,t,J=7.
5Hz);7.57(1H,tt,J=7.5,1.5
Hz);8.09(2H,m)m.p.116−117
℃
【0079】化合物No.6(化合物No.1のn−ヘ
キサン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=6.6Hz);1.32(4H,
m);1.64(2H,m);2.38(2H,t,J
=7.7Hz);3.80(1H,m);3.98(1
H,d,J=7.1Hz);4.68(1H,t,J=
4.8Hz);5.52(1H,br.s);5.61
(1H,m);5.64(1H,br.s);6.19
(1H,dd,J=11.1,4.8Hz)
キサン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=6.6Hz);1.32(4H,
m);1.64(2H,m);2.38(2H,t,J
=7.7Hz);3.80(1H,m);3.98(1
H,d,J=7.1Hz);4.68(1H,t,J=
4.8Hz);5.52(1H,br.s);5.61
(1H,m);5.64(1H,br.s);6.19
(1H,dd,J=11.1,4.8Hz)
【0080】化合物No.7(化合物No.1のパルミ
チン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=6.8Hz);1.25(24H,b
r.s);1.60−1.70(2H,m);2.38
(2H,dd,J=7.6,6.8Hz);3.80
(1H,ddd,J=6.4,4.0,1.0Hz);
3.98(1H,d,J=6.4Hz);4.69(1
H,t,J=4.0Hz);5.52(1H,m);
5.62(1H,dt,J=10.0,2.2Hz);
5.64(1H,m);6.20(1H,m) m.p.39−41℃ 〔α〕20 D=−17.4(c=0.402,クロロホ
ルム)
チン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=6.8Hz);1.25(24H,b
r.s);1.60−1.70(2H,m);2.38
(2H,dd,J=7.6,6.8Hz);3.80
(1H,ddd,J=6.4,4.0,1.0Hz);
3.98(1H,d,J=6.4Hz);4.69(1
H,t,J=4.0Hz);5.52(1H,m);
5.62(1H,dt,J=10.0,2.2Hz);
5.64(1H,m);6.20(1H,m) m.p.39−41℃ 〔α〕20 D=−17.4(c=0.402,クロロホ
ルム)
【0081】化合物No.109(化合物No.103
のパルミチン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=6.8Hz);1.25(24H,b
r.s);1.63(2H,quin,J=7.2H
z);2.35(2H,t,J=7.2Hz);3.7
2(2H,m);4.76(1H,t,J=4.4H
z);4.78(1H,br.d,J=4.0Hz);
5.53(1H,m);5.78(1H,ddd,J=
9.6,4.0,2.0Hz);6.31(1H,dd
d,J=9.6,4.4,0.8Hz)
のパルミチン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=6.8Hz);1.25(24H,b
r.s);1.63(2H,quin,J=7.2H
z);2.35(2H,t,J=7.2Hz);3.7
2(2H,m);4.76(1H,t,J=4.4H
z);4.78(1H,br.d,J=4.0Hz);
5.53(1H,m);5.78(1H,ddd,J=
9.6,4.0,2.0Hz);6.31(1H,dd
d,J=9.6,4.4,0.8Hz)
【0082】化合物No.8(化合物No.1のオレイ
ン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.90
(3H,t,J=7.6Hz);1.35−1.23
(20H,m);1.64(2H,m);1.98(4
H,m);2.38(2H,t,J=7.7Hz);
3.79(1H,ddd,J=6.5,4.2,1.5
Hz);3.97(1H,d,J=6.5Hz);4.
68(1H,t,J=4.2Hz);5.85(2H,
m);5.52(1H,br.s);5.62(1H,
dt,J=9.9,1.6Hz);5.63(1H,
m);6.29(1H,dd,J=9.9,4.2H
z)
ン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.90
(3H,t,J=7.6Hz);1.35−1.23
(20H,m);1.64(2H,m);1.98(4
H,m);2.38(2H,t,J=7.7Hz);
3.79(1H,ddd,J=6.5,4.2,1.5
Hz);3.97(1H,d,J=6.5Hz);4.
68(1H,t,J=4.2Hz);5.85(2H,
m);5.52(1H,br.s);5.62(1H,
dt,J=9.9,1.6Hz);5.63(1H,
m);6.29(1H,dd,J=9.9,4.2H
z)
【0083】化合物No.9(化合物No.1の酢酸エ
ステル)1 H NMR(CDCl3400MHz):2.14
(3H,s);3.80(1H,ddd,J=6.8,
4.4,0.8Hz);3.98(1H,d,J=6.
8Hz);4.69(1H,t,J=4.4Hz);
5.52(1H,m);5.63(1H,m);5.6
5(1H,d,J=2.8HZ);6.20(1H,d
dt,J=9.2,4.4,0.8Hz)
ステル)1 H NMR(CDCl3400MHz):2.14
(3H,s);3.80(1H,ddd,J=6.8,
4.4,0.8Hz);3.98(1H,d,J=6.
8Hz);4.69(1H,t,J=4.4Hz);
5.52(1H,m);5.63(1H,m);5.6
5(1H,d,J=2.8HZ);6.20(1H,d
dt,J=9.2,4.4,0.8Hz)
【0084】化合物No.10(化合物No.1のα−
クロロ酢酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.81
(1H,ddd,6.8,4.0,1.0Hz);3.
97(1H,d,J=6.8Hz);4.13(1H,
d,J=15.2Hz);4.17(1H,d,J=1
5.2Hz);4.71(1H,t,J=4.0H
z);5.59(1H,m);5.64(1H,dt,
J=10.0,2.2Hz);5.67(1H,t,J
=2.2Hz);6.25(1H,ddd,J=10.
0,4.0,1.0HZ) 〔α〕20 D=−43.1(c=0.627,クロロホ
ルム)
クロロ酢酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.81
(1H,ddd,6.8,4.0,1.0Hz);3.
97(1H,d,J=6.8Hz);4.13(1H,
d,J=15.2Hz);4.17(1H,d,J=1
5.2Hz);4.71(1H,t,J=4.0H
z);5.59(1H,m);5.64(1H,dt,
J=10.0,2.2Hz);5.67(1H,t,J
=2.2Hz);6.25(1H,ddd,J=10.
0,4.0,1.0HZ) 〔α〕20 D=−43.1(c=0.627,クロロホ
ルム)
【0085】化合物No.11(化合物No.1のO−
アセチルサリチル酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.36
(3H,s);3.83(1H,ddd,J=6.8,
4.4,1.6Hz);3.98(1H,d,J=6.
8Hz);4.72(1H,t,J=4.4Hz);
5.72(3H,m);6.24(1H,ddd,J=
10.8,4.4,1.6Hz);7.10(1H,d
d,J=7.6,1.2Hz);7.31(1H,t
d,J=7.6,1.2Hz);7.56(1H,t
d,J=7.6,12Hz);8.08(1H,dd,
J=7.6,1.2Hz)
アセチルサリチル酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.36
(3H,s);3.83(1H,ddd,J=6.8,
4.4,1.6Hz);3.98(1H,d,J=6.
8Hz);4.72(1H,t,J=4.4Hz);
5.72(3H,m);6.24(1H,ddd,J=
10.8,4.4,1.6Hz);7.10(1H,d
d,J=7.6,1.2Hz);7.31(1H,t
d,J=7.6,1.2Hz);7.56(1H,t
d,J=7.6,12Hz);8.08(1H,dd,
J=7.6,1.2Hz)
【0086】合成例3 1,6−アンヒドロ−2−O−
デカノイル−3,4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘ
キソ−3−エノピラノース(化合物No.12;化合物
No.1のデカン酸エステル)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下撹拌しながら、前記合成例1
で得られた1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−
β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース0.3g
の乾燥塩化メチレン溶液50mlにデカン酸0.6g、
ジシクロヘキシルカルボジイミド0.97g及びN,N
−ジメチルアミノピリジン28mgを加えた。反応混合
物を12時間室温で撹拌した後、生じた沈澱をセライト
でろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。得られたシロップ
状の粗生成物をシリカゲル上のカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)で精製することに
より目的物(化合物No.12)を0.38g得た。こ
のもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.87
(3H,t,J=68Hz);1.26(12H,
m);1.64(2H,quin,J=7.5Hz);
2.36(1H,dt,J=16.8,7.5Hz);
2.40(1H,dt,J=16.8,7.5Hz);
3.97(1H,ddd,J=6.4,4.0,1.0
Hz);3.98(1H,d,J=6.4Hz);4.
69(1H,t,J=4.0Hz);5.52(1H,
m);5.63(1H,dt,J=9.6,2.2H
z);5.65(1H,m);6.19(1H,dd
d,J=9.6,4.0,1.0Hz) 前記合成例3の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、それらの物性を記載する。
デカノイル−3,4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘ
キソ−3−エノピラノース(化合物No.12;化合物
No.1のデカン酸エステル)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下撹拌しながら、前記合成例1
で得られた1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−
β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース0.3g
の乾燥塩化メチレン溶液50mlにデカン酸0.6g、
ジシクロヘキシルカルボジイミド0.97g及びN,N
−ジメチルアミノピリジン28mgを加えた。反応混合
物を12時間室温で撹拌した後、生じた沈澱をセライト
でろ過し、ろ液を減圧下で濃縮した。得られたシロップ
状の粗生成物をシリカゲル上のカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)で精製することに
より目的物(化合物No.12)を0.38g得た。こ
のもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.87
(3H,t,J=68Hz);1.26(12H,
m);1.64(2H,quin,J=7.5Hz);
2.36(1H,dt,J=16.8,7.5Hz);
2.40(1H,dt,J=16.8,7.5Hz);
3.97(1H,ddd,J=6.4,4.0,1.0
Hz);3.98(1H,d,J=6.4Hz);4.
69(1H,t,J=4.0Hz);5.52(1H,
m);5.63(1H,dt,J=9.6,2.2H
z);5.65(1H,m);6.19(1H,dd
d,J=9.6,4.0,1.0Hz) 前記合成例3の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、それらの物性を記載する。
【0087】化合物No.13(化合物No.1の6−
ブロモヘキサン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.49
(2H,tt,J=8.0,6.8Hz);1.68
(2H,quin.J=8.0Hz);1.88(2
H,quin.J=6.8Hz);2.41(2H,t
d,J=8.0,1.6Hz);3.40(2H,t,
J=6.8Hz);3.79(1H,ddd,J=6.
8,4.4,1.6Hz);3.97(1H,d,J=
6.8Hz);4.69(1H,t,J=4.4H
z);5.52(1H,m);5.62(1H,dt,
J=10.0,2.0Hz);5.64(1H,m);
6.20(1H,ddd,J=10.0,4.4,1.
6Hz)
ブロモヘキサン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.49
(2H,tt,J=8.0,6.8Hz);1.68
(2H,quin.J=8.0Hz);1.88(2
H,quin.J=6.8Hz);2.41(2H,t
d,J=8.0,1.6Hz);3.40(2H,t,
J=6.8Hz);3.79(1H,ddd,J=6.
8,4.4,1.6Hz);3.97(1H,d,J=
6.8Hz);4.69(1H,t,J=4.4H
z);5.52(1H,m);5.62(1H,dt,
J=10.0,2.0Hz);5.64(1H,m);
6.20(1H,ddd,J=10.0,4.4,1.
6Hz)
【0088】化合物No.14(化合物No.1の2−
チオフェンカルボン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.83
(1H,ddd,J=6.8,4.5,1.0Hz);
4.02(1H,d,J=6.8Hz);4.73(1
H,t,J=4.5Hz);5.69(1H,m);
5.75(1H,dt,J=9.9,2.3Hz);
5.77(1H,m);6.25(1H,ddd,J=
9.9,4.5,1.0Hz);7.11(1H,d
d,J=4.8,3.8Hz);7.59(1H,d
d,J=4.8,0.9Hz);7.86(1H,d
d,J=3.8,0.9Hz) m.p.69−71℃
チオフェンカルボン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.83
(1H,ddd,J=6.8,4.5,1.0Hz);
4.02(1H,d,J=6.8Hz);4.73(1
H,t,J=4.5Hz);5.69(1H,m);
5.75(1H,dt,J=9.9,2.3Hz);
5.77(1H,m);6.25(1H,ddd,J=
9.9,4.5,1.0Hz);7.11(1H,d
d,J=4.8,3.8Hz);7.59(1H,d
d,J=4.8,0.9Hz);7.86(1H,d
d,J=3.8,0.9Hz) m.p.69−71℃
【0089】化合物No.15(化合物No.1のニコ
チン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.84
(1H,ddd,J=6.4,4.4,1.2Hz);
4.02(1H,d,J=6.4Hz);4.75(1
H,t,J=4.4Hz);5.74(2H,m);
5.77(1H,dt,J=9.6,2.4Hz);
6.29(1H,ddd,J=9.6,4.4,1.2
Hz);7.40(1H,ddd,J=8.0,5.
0,1.2Hz);8.35(1H,dt,J=8.
0,1.2Hz);8.79(1H,dd,J=5.
0,1.2Hz);9.27(1H,br.d,J=
1.2Hz)m.p.76−81℃
チン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.84
(1H,ddd,J=6.4,4.4,1.2Hz);
4.02(1H,d,J=6.4Hz);4.75(1
H,t,J=4.4Hz);5.74(2H,m);
5.77(1H,dt,J=9.6,2.4Hz);
6.29(1H,ddd,J=9.6,4.4,1.2
Hz);7.40(1H,ddd,J=8.0,5.
0,1.2Hz);8.35(1H,dt,J=8.
0,1.2Hz);8.79(1H,dd,J=5.
0,1.2Hz);9.27(1H,br.d,J=
1.2Hz)m.p.76−81℃
【0090】化合物No.16(化合物No.1のp−
クロロ安息香酸エステル)1 H NMR(CDCl3400MHz):3.83
(1H,ddd,J=6.4,4.0,1.2Hz);
4.02(1H,d,J=6.4Hz);4.74(1
H,t,J=4.0Hz);5.72(1H,m);
5.74(1H,dt,J=9.2,2.4Hz);
5.76(1H,m);6.26(1H,ddd,J=
9.2,4.0,1.2Hz);7.41(2H,d
t,J=8.8,2.0Hz);8.02(2H,d
t,J=8.8,2.0Hz) m.p. 57−59℃
クロロ安息香酸エステル)1 H NMR(CDCl3400MHz):3.83
(1H,ddd,J=6.4,4.0,1.2Hz);
4.02(1H,d,J=6.4Hz);4.74(1
H,t,J=4.0Hz);5.72(1H,m);
5.74(1H,dt,J=9.2,2.4Hz);
5.76(1H,m);6.26(1H,ddd,J=
9.2,4.0,1.2Hz);7.41(2H,d
t,J=8.8,2.0Hz);8.02(2H,d
t,J=8.8,2.0Hz) m.p. 57−59℃
【0091】化合物No.17(化合物No.1の2−
フランカルボン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.82
(1H,dd,J=6.4,4.4Hz))4.02
(1H,d,J=6.4Hz);4.72(1H,t,
J=4.4Hz);5.71(1H,m);5.72
(1H,m);5.75(1H,m);6.25(1
H,dd,J=9.6,4.4Hz);6.51(1
H,dd,J=3.4,2.0Hz);7.26(1
H,dd,J=3.4,1.0Hz);7.59(1
H,m) m.p.86−88℃
フランカルボン酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.82
(1H,dd,J=6.4,4.4Hz))4.02
(1H,d,J=6.4Hz);4.72(1H,t,
J=4.4Hz);5.71(1H,m);5.72
(1H,m);5.75(1H,m);6.25(1
H,dd,J=9.6,4.4Hz);6.51(1
H,dd,J=3.4,2.0Hz);7.26(1
H,dd,J=3.4,1.0Hz);7.59(1
H,m) m.p.86−88℃
【0092】化合物No.18(化合物No.1の桂皮
酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.83
(1H,ddd,J=6.8,4.2,1.6Hz);
4.02(1H,d,J=6.8Hz);4.73(1
H,t,J=4.2Hz);5.66(1H,m);
5.71(1H,dt,J=10.0,2.2Hz);
5.73(1H,m);6.24(1H,ddd,J=
10.0,4.4,1.6Hz);6.54(1H,
d,J=16.0Hz);7.39(3H,m);7.
53(2H,m);7.25(1H,d,J=16.0
Hz) m.p.147−153℃
酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.83
(1H,ddd,J=6.8,4.2,1.6Hz);
4.02(1H,d,J=6.8Hz);4.73(1
H,t,J=4.2Hz);5.66(1H,m);
5.71(1H,dt,J=10.0,2.2Hz);
5.73(1H,m);6.24(1H,ddd,J=
10.0,4.4,1.6Hz);6.54(1H,
d,J=16.0Hz);7.39(3H,m);7.
53(2H,m);7.25(1H,d,J=16.0
Hz) m.p.147−153℃
【0093】化合物No.19(化合物No.1のアン
スラニル酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.83
(1H,ddd,J=6.8,4.2,0.8Hz);
4.02(1H,d,J=6.8Hz);4.73(1
H,t,J=4.2Hz);5.71(1H,m);
5.75(2H,m);6.25(1H,ddd,J=
10.2,4.2,0.8Hz);6.66(1H,d
dd,J=8.4,6.8,1.6Hz);6.67
(1H,br,d,J=8.4Hz);7.28(1
H,ddd,J=8.4,6.8,1.6Hz);7.
94(1H,dd,J=8.4,1.6Hz) m.p.95−100℃
スラニル酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.83
(1H,ddd,J=6.8,4.2,0.8Hz);
4.02(1H,d,J=6.8Hz);4.73(1
H,t,J=4.2Hz);5.71(1H,m);
5.75(2H,m);6.25(1H,ddd,J=
10.2,4.2,0.8Hz);6.66(1H,d
dd,J=8.4,6.8,1.6Hz);6.67
(1H,br,d,J=8.4Hz);7.28(1
H,ddd,J=8.4,6.8,1.6Hz);7.
94(1H,dd,J=8.4,1.6Hz) m.p.95−100℃
【0094】化合物No.20(化合物No.1のアラ
チジル酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=7.2Hz);1.26(32H,b
r.s);1.65(2H,m);2.38(2H,
t,J=7.8Hz);3.80(1H,ddd,J=
6.4,4.3,1.0Hz);3.98(1H,d,
J=6.4Hz);4.69(1H,t,J=4.3H
z);5.52(1H,m);5.62(1H,dt,
J=9.6,2.2Hz);5.64(1H,m);
6.19(1H,dddd,J=9.6,4.3,1.
2,1.0Hz)
チジル酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=7.2Hz);1.26(32H,b
r.s);1.65(2H,m);2.38(2H,
t,J=7.8Hz);3.80(1H,ddd,J=
6.4,4.3,1.0Hz);3.98(1H,d,
J=6.4Hz);4.69(1H,t,J=4.3H
z);5.52(1H,m);5.62(1H,dt,
J=9.6,2.2Hz);5.64(1H,m);
6.19(1H,dddd,J=9.6,4.3,1.
2,1.0Hz)
【0095】化合物No.50(化合物No.1のo−
メチル安息香酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.61
(3H,s);3.83(1H,m);4.01(1
H,d,J=6.4Hz);4.73(1H,t,J=
4.1Hz);5.72(1H,m);5.76(1
H,dt,J=9.5,2.2Hz);5.79(1
H,m);6.25(1H,dd,J=9.5,4.1
Hz);7.24(2H,m);7.40(1H,t
d,J=7.4,1.4Hz);7.97(1H,d
d,J=8.3,1.4Hz)
メチル安息香酸エステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.61
(3H,s);3.83(1H,m);4.01(1
H,d,J=6.4Hz);4.73(1H,t,J=
4.1Hz);5.72(1H,m);5.76(1
H,dt,J=9.5,2.2Hz);5.79(1
H,m);6.25(1H,dd,J=9.5,4.1
Hz);7.24(2H,m);7.40(1H,t
d,J=7.4,1.4Hz);7.97(1H,d
d,J=8.3,1.4Hz)
【0096】合成例4 1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−2−O−メトキシカルボニル−β−D−ス
レオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.2
1;化合物No.1のメチルカーボネートエステル)の
合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピ
ラノース0.3gの乾燥ピリジン溶液30mlにメチル
クロロカーボネート0.33gを徐々に加えた。反応混
合物を室温で12時間撹拌し、更にメチルクロロカーボ
ネート0.33gを加え、30分間撹した。少量の水を
加えて過剰のメチルクロロカーボネートを不活性化した
後、減圧下溶媒を留去した。残渣に酢酸エチル200m
lを加え、飽和食塩水200mlで3回洗浄し、有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去
したあと、得られたシロップ状の粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ヘキサン=
1:3)で精製し、目的物(化合物No.21)を0.
33g得た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.80
(1H,m);3.81(3H,s);3.96(1
H,d,J=6.8Hz);4.70(1H,t,J=
4.4Hz);5.37(1H,m);5.68(1
H,dt,J=10.0,2.0Hz);5.71(1
H,t,J=2.2Hz);6.23(1H,ddd,
J=10.0,4.4,0.2Hz) 前記合成例4の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、それらの物性を記載する。
ジデオキシ−2−O−メトキシカルボニル−β−D−ス
レオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.2
1;化合物No.1のメチルカーボネートエステル)の
合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピ
ラノース0.3gの乾燥ピリジン溶液30mlにメチル
クロロカーボネート0.33gを徐々に加えた。反応混
合物を室温で12時間撹拌し、更にメチルクロロカーボ
ネート0.33gを加え、30分間撹した。少量の水を
加えて過剰のメチルクロロカーボネートを不活性化した
後、減圧下溶媒を留去した。残渣に酢酸エチル200m
lを加え、飽和食塩水200mlで3回洗浄し、有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去
したあと、得られたシロップ状の粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ヘキサン=
1:3)で精製し、目的物(化合物No.21)を0.
33g得た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.80
(1H,m);3.81(3H,s);3.96(1
H,d,J=6.8Hz);4.70(1H,t,J=
4.4Hz);5.37(1H,m);5.68(1
H,dt,J=10.0,2.0Hz);5.71(1
H,t,J=2.2Hz);6.23(1H,ddd,
J=10.0,4.4,0.2Hz) 前記合成例4の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、それらの物性を記載する。
【0097】化合物No.22(化合物No.1のフェ
ニルカーボネートエステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.85
(1H,ddd,J=6.8,4.3,1.3Hz);
4.02(1H,d,J=6.8Hz);4.74(1
H,t,J=4.3Hz);5.47(1H,m);
5.77(1H,dt,J=9.3,2.4Hz);
5.79(1H,m);6.29(1H,ddt,J=
9.3,4.3,1.3Hz);7.20(2H,
m);7.26(1H,m);7.39(2H,m) m.p.98−99℃
ニルカーボネートエステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.85
(1H,ddd,J=6.8,4.3,1.3Hz);
4.02(1H,d,J=6.8Hz);4.74(1
H,t,J=4.3Hz);5.47(1H,m);
5.77(1H,dt,J=9.3,2.4Hz);
5.79(1H,m);6.29(1H,ddt,J=
9.3,4.3,1.3Hz);7.20(2H,
m);7.26(1H,m);7.39(2H,m) m.p.98−99℃
【0098】化合物No.26(化合物No.1のフェ
ニルチオカーボネートエステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.86
(1H,ddd,J=6.8,4.0,1.0Hz);
4.05(1H,d,J=6.8Hz);4.76(1
H,t,J=4.0Hz);5.84(1H,dt,J
=10.0,2.4Hz);5.86(1H,m);
6.05(1H,m);6.31(1H,ddd,J=
10.0,4.0,1.0Hz);7.31(2H
m,;7.30(1H,tt,J=7.6,1.1H
z);7.42(2H,tt,J=7.6,2.2H
z)
ニルチオカーボネートエステル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.86
(1H,ddd,J=6.8,4.0,1.0Hz);
4.05(1H,d,J=6.8Hz);4.76(1
H,t,J=4.0Hz);5.84(1H,dt,J
=10.0,2.4Hz);5.86(1H,m);
6.05(1H,m);6.31(1H,ddd,J=
10.0,4.0,1.0Hz);7.31(2H
m,;7.30(1H,tt,J=7.6,1.1H
z);7.42(2H,tt,J=7.6,2.2H
z)
【0099】合成例5 1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−2−O−フェニルカルバモイル−β−D−
スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.2
3;化合物No.1のフェニルカルバミン酸エステル)
の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピ
ラノース0.3gの乾燥トルエン溶液30mlにフェニ
ルイソシアナート0.56gを室温にて加えた。さらに
トリエチルアミン0.1mlを加え、反応混合物を2時
間加熱下に還流した。反応終了を薄層クロマトグラフィ
ーで確認したあと直ちに減圧下に溶媒を留去しシロップ
状の粗生成物を得た。これをシリカゲル上でクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)を行い、目
的物(化合物No.23)を0.5g得た。このものの
NMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.83
(1H,ddd,J=7.6,5.2,1.9Hz);
3.99(1H,d,J=7.6Hz);4.73(1
H,t,J=5.2,Hz);5.57(1H,m);
5.71(1H,m);5.73(1H,dt,J=1
0.0,2.7Hz);6.23(1H,ddd,J=
10.0,5.2,1.9Hz);6.83(1H,b
r.s)=7.08(1H,tt,J=7.6,1.0
Hz);7.32(2H,t,J=7.6Hz);7.
37(2H,d,J=7.6Hz) m.p.107−109℃
ジデオキシ−2−O−フェニルカルバモイル−β−D−
スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.2
3;化合物No.1のフェニルカルバミン酸エステル)
の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピ
ラノース0.3gの乾燥トルエン溶液30mlにフェニ
ルイソシアナート0.56gを室温にて加えた。さらに
トリエチルアミン0.1mlを加え、反応混合物を2時
間加熱下に還流した。反応終了を薄層クロマトグラフィ
ーで確認したあと直ちに減圧下に溶媒を留去しシロップ
状の粗生成物を得た。これをシリカゲル上でクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)を行い、目
的物(化合物No.23)を0.5g得た。このものの
NMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.83
(1H,ddd,J=7.6,5.2,1.9Hz);
3.99(1H,d,J=7.6Hz);4.73(1
H,t,J=5.2,Hz);5.57(1H,m);
5.71(1H,m);5.73(1H,dt,J=1
0.0,2.7Hz);6.23(1H,ddd,J=
10.0,5.2,1.9Hz);6.83(1H,b
r.s)=7.08(1H,tt,J=7.6,1.0
Hz);7.32(2H,t,J=7.6Hz);7.
37(2H,d,J=7.6Hz) m.p.107−109℃
【0100】合成例6 1,6−アンヒドロ−3,4,
ジデオキシ−2−O−メチルチオカルバモイル−β−D
−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.
24;化合物No.1のメチルチオカーボネートエステ
ル)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピ
ラノース0.35gの乾燥トルエン溶液30mlにメチ
ルチオイソシアネート0.4gを加え、次に水素化ナト
リウム(ミネラルオイル中の60%分散液、1.3当
量)を徐々に加えた。水素の発生が終了したことを確認
した後(5−10分)、さらに1時間撹拌を続けた。薄
層クロマトグラフィーで反応の終了を確認した後、少量
の水を加えて過剰の水素化ナトリウムを不活性化し、生
じた沈澱物をセライト−無水硫酸ナトリウムでろ過する
ことにより除去した。ろ液を減圧下濃縮し得られたシロ
ップ状の粗生成物をシリカゲル上、カラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:3)で精製し、目
的物(化合物No.24)を0.45g得た。このもの
のNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.92
(0.9H,d,J=4.6Hz);3.07(2.1
H,d,J=4.6Hz);3.79(1H,m);
3.94(0.7H,d,J=6.5Hz);3.97
(0.3H,d,J=6.5Hz);4.70(0.7
H,t,J=3.7Hz);4.71(0.3H,t,
J=3.7Hz);5.72(2H,m);6.19
(2H,m);6.61(0.7H,br.s);6.
79(0.3H,br.s) 前記合成例6の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、その物性を記載する。
ジデオキシ−2−O−メチルチオカルバモイル−β−D
−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.
24;化合物No.1のメチルチオカーボネートエステ
ル)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピ
ラノース0.35gの乾燥トルエン溶液30mlにメチ
ルチオイソシアネート0.4gを加え、次に水素化ナト
リウム(ミネラルオイル中の60%分散液、1.3当
量)を徐々に加えた。水素の発生が終了したことを確認
した後(5−10分)、さらに1時間撹拌を続けた。薄
層クロマトグラフィーで反応の終了を確認した後、少量
の水を加えて過剰の水素化ナトリウムを不活性化し、生
じた沈澱物をセライト−無水硫酸ナトリウムでろ過する
ことにより除去した。ろ液を減圧下濃縮し得られたシロ
ップ状の粗生成物をシリカゲル上、カラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:3)で精製し、目
的物(化合物No.24)を0.45g得た。このもの
のNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.92
(0.9H,d,J=4.6Hz);3.07(2.1
H,d,J=4.6Hz);3.79(1H,m);
3.94(0.7H,d,J=6.5Hz);3.97
(0.3H,d,J=6.5Hz);4.70(0.7
H,t,J=3.7Hz);4.71(0.3H,t,
J=3.7Hz);5.72(2H,m);6.19
(2H,m);6.61(0.7H,br.s);6.
79(0.3H,br.s) 前記合成例6の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、その物性を記載する。
【0101】化合物No.25(化合物No.1のN−
tert−ブチルカーバメイト)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.31
(9H,s);3.79(1H,ddd,J=6.4,
4.4,1.5Hz);3.95(1H,d,J=6.
4Hz);4.68(1H,t,J=4.4Hz);
4.87(1H,br.s);5.41(1H,br.
s);5.65(1H,m);5.66(1H,dt,
J=9.6,2.2Hz);6.16(1H,ddd,
J=9.6,4.4,1.5Hz) m.p.113−115℃
tert−ブチルカーバメイト)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.31
(9H,s);3.79(1H,ddd,J=6.4,
4.4,1.5Hz);3.95(1H,d,J=6.
4Hz);4.68(1H,t,J=4.4Hz);
4.87(1H,br.s);5.41(1H,br.
s);5.65(1H,m);5.66(1H,dt,
J=9.6,2.2Hz);6.16(1H,ddd,
J=9.6,4.4,1.5Hz) m.p.113−115℃
【0102】合成例7 1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−2−ビニル−β−D−スレオ−ヘキソ−3
−エノピラノース(化合物No.27)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下0℃で撹拌された1,6−ア
ンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘ
キソ−3−エノピラノース−2−ウロース1gの乾燥テ
トラヒドロフラン溶液50mlにビニルマグネシウムブ
ロミド9.5ml(1モル)を徐々に加えた。30分
後、氷浴を取り除き室温でさらに30分間攪拌を続け
た。薄層クロマトグラフィーで反応が終了したことを確
認した後、少量の水を加え過剰のグリニヤール試薬を不
活性化し、減圧下に溶媒を留去した。得られた粗成生物
を酢酸エチル200mlに溶解し、飽和食塩水200m
lで3回洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下に溶媒を留去し、得られたシロップ状の生成
物をシリカゲル上、カラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン=1:2)により精製することで目的物
(化合物No.27)を0.9g得た。このもののNM
Rの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.73
(1H,dd,J=6.4,3.9Hz);3.82
(1H,d,J=6.4Hz);4.68(1H,t,
J=3.9Hz);5.19(1H,br.s);5.
26(1H,dt,J=10.5,1.3Hz);5.
36(1H,dt,J=17.7,1.3Hz);5.
53(1H,dt,J=9.4,1.3Hz);5.9
2(1H,ddd,J=17.7,10.5,1.0H
z);6.09(1H,dd,J=9.4,3.9H
z) 前記合成例7の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、その物性を記載する。
ジデオキシ−2−ビニル−β−D−スレオ−ヘキソ−3
−エノピラノース(化合物No.27)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下0℃で撹拌された1,6−ア
ンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘ
キソ−3−エノピラノース−2−ウロース1gの乾燥テ
トラヒドロフラン溶液50mlにビニルマグネシウムブ
ロミド9.5ml(1モル)を徐々に加えた。30分
後、氷浴を取り除き室温でさらに30分間攪拌を続け
た。薄層クロマトグラフィーで反応が終了したことを確
認した後、少量の水を加え過剰のグリニヤール試薬を不
活性化し、減圧下に溶媒を留去した。得られた粗成生物
を酢酸エチル200mlに溶解し、飽和食塩水200m
lで3回洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧下に溶媒を留去し、得られたシロップ状の生成
物をシリカゲル上、カラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル:ヘキサン=1:2)により精製することで目的物
(化合物No.27)を0.9g得た。このもののNM
Rの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.73
(1H,dd,J=6.4,3.9Hz);3.82
(1H,d,J=6.4Hz);4.68(1H,t,
J=3.9Hz);5.19(1H,br.s);5.
26(1H,dt,J=10.5,1.3Hz);5.
36(1H,dt,J=17.7,1.3Hz);5.
53(1H,dt,J=9.4,1.3Hz);5.9
2(1H,ddd,J=17.7,10.5,1.0H
z);6.09(1H,dd,J=9.4,3.9H
z) 前記合成例7の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、その物性を記載する。
【0103】化合物No.281 H NMR(CDCl3,400MHz):1.26
(3H,s):3.69(1H,dd,J=7.0,
4.6Hz);3.76(1H,d,J=7.0H
z);4.62(1H,t,J=4.6Hz);5.1
7(1H,d,J=2.2Hz);5.67(1H,d
d,J=10.0,2.2Hz):5.94(1H,d
d,J=10.0,4.6Hz)
(3H,s):3.69(1H,dd,J=7.0,
4.6Hz);3.76(1H,d,J=7.0H
z);4.62(1H,t,J=4.6Hz);5.1
7(1H,d,J=2.2Hz);5.67(1H,d
d,J=10.0,2.2Hz):5.94(1H,d
d,J=10.0,4.6Hz)
【0104】化合物No.291 H NMR(CDCl3,400MHz):2.69
(1H,s);3.76(1H,dd,J=6.8,
4.4Hz);3.82(1H,d,J=6.8H
z);4.73(1H,t,J=4.4Hz);5.4
9(1H,d,J=2.0Hz);5.75(1H,d
d,J=9.8,2.0Hz);6.12(1H,d
d,J=9.8,4.4Hz) m.p.64−67℃ 〔α〕20 D=−214.8(c=0.433,クロロ
ホルム)
(1H,s);3.76(1H,dd,J=6.8,
4.4Hz);3.82(1H,d,J=6.8H
z);4.73(1H,t,J=4.4Hz);5.4
9(1H,d,J=2.0Hz);5.75(1H,d
d,J=9.8,2.0Hz);6.12(1H,d
d,J=9.8,4.4Hz) m.p.64−67℃ 〔α〕20 D=−214.8(c=0.433,クロロ
ホルム)
【0105】化合物No.301 H NMR(CDCl3,400MHz):0.90
(3H,t,J=7.0Hz);1.35−1.50
(4H,m);1.60−1.75(2H,m);3.
70(1H,dd,J=6.8,4.4Hz);3.7
7(1H,d,J=68Hz);4.64(1H,t,
J=4.4Hz);5.22(1H,d,J=2.0H
z);5.61(1H,dd,J=10.0,2.0H
z);6.00(1H,dd,J=10.0,4.4H
z) m.p.31−33℃
(3H,t,J=7.0Hz);1.35−1.50
(4H,m);1.60−1.75(2H,m);3.
70(1H,dd,J=6.8,4.4Hz);3.7
7(1H,d,J=68Hz);4.64(1H,t,
J=4.4Hz);5.22(1H,d,J=2.0H
z);5.61(1H,dd,J=10.0,2.0H
z);6.00(1H,dd,J=10.0,4.4H
z) m.p.31−33℃
【0106】化合物No.311 H NMR(CDCl3,400MHz):0.97
(3H,t,J=7.2Hz);1.55(2H,si
x,J=7.2Hz);2.23(2H,t,J=7.
2Hz);2.26(1H,br.s);3.74(1
H,dd,J=6.8,4.4Hz);3.80(1
H,d,J=6.8Hz);4.71(1H,t,J=
4.4Hz);5.44(1H,d,J=2.4H
z);5.74(1H,dd,10.0,2.4H
z);6.05(1H,dd,J=10.0,4.4H
z) m.p.43−46℃
(3H,t,J=7.2Hz);1.55(2H,si
x,J=7.2Hz);2.23(2H,t,J=7.
2Hz);2.26(1H,br.s);3.74(1
H,dd,J=6.8,4.4Hz);3.80(1
H,d,J=6.8Hz);4.71(1H,t,J=
4.4Hz);5.44(1H,d,J=2.4H
z);5.74(1H,dd,10.0,2.4H
z);6.05(1H,dd,J=10.0,4.4H
z) m.p.43−46℃
【0107】合成例8 2−O−アセチル−1,6−ア
ンヒドロ−3,4−ジデオキシ−2−メチル−β−D−
スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.3
2)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下0℃で撹拌された1,6−ア
ンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘ
キソ−3−エノピラノース−2−ウロース0.3gの乾
燥テトラヒドロフラン溶液30mlにメチルリチウム
2.4ml(1.5モル)を徐々に加え、薄層クロマト
グラフィーで反応の終了を確認した後、アセチルクロラ
イド0.25mlを添加した。氷浴を取り除き反応液を
室温に戻し、さらに1時間撹拌を続けた。溶媒を減圧下
に留去し、残渣に酢酸エチル200mlを加えた。飽和
食塩水200mlで3回洗浄した後、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た粗生成物をシリカゲル上、カラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル−ヘキサン=1:5)で精製することによ
り目的物(化合物No.32)を0.29g得た。この
もののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.59
(3H,s);2.05(3H,s);3.76(1
H,dd,J=6.8,4.4Hz);3.89(1
H,d,J=6.8Hz);4.63(1H,t,J=
4.4Hz);5.78(1H,dd,J=9.6,
1.6Hz);5.89(1H,d,J=1.6H
z);6.06(1H,dd,J=9.6,4.4H
z) 〔α〕20 D=−114.7(c=0.654,クロロ
ホルム) 前記合成例8の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、その物性を記載する。
ンヒドロ−3,4−ジデオキシ−2−メチル−β−D−
スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物No.3
2)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下0℃で撹拌された1,6−ア
ンヒドロ−3,4−ジデオキシ−β−D−グリセロ−ヘ
キソ−3−エノピラノース−2−ウロース0.3gの乾
燥テトラヒドロフラン溶液30mlにメチルリチウム
2.4ml(1.5モル)を徐々に加え、薄層クロマト
グラフィーで反応の終了を確認した後、アセチルクロラ
イド0.25mlを添加した。氷浴を取り除き反応液を
室温に戻し、さらに1時間撹拌を続けた。溶媒を減圧下
に留去し、残渣に酢酸エチル200mlを加えた。飽和
食塩水200mlで3回洗浄した後、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た粗生成物をシリカゲル上、カラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル−ヘキサン=1:5)で精製することによ
り目的物(化合物No.32)を0.29g得た。この
もののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.59
(3H,s);2.05(3H,s);3.76(1
H,dd,J=6.8,4.4Hz);3.89(1
H,d,J=6.8Hz);4.63(1H,t,J=
4.4Hz);5.78(1H,dd,J=9.6,
1.6Hz);5.89(1H,d,J=1.6H
z);6.06(1H,dd,J=9.6,4.4H
z) 〔α〕20 D=−114.7(c=0.654,クロロ
ホルム) 前記合成例8の場合に準じて下記の化合物が合成された
が、その物性を記載する。
【0108】化合物No.331 H NMR(CDCl3,400MHz):0.88
(3H,t,J=7.2Hz);1.25(24H,b
r.s);1.57(2H,m);1.59(3H,
s);2.29(2H,td,J=8.0,1.0H
z);3.76(1H,dd,J=6.4,4.4H
z);3.87(1H,d,J=6.4Hz);4.6
2(1H,t,J=4.4Hz);5.77(1H,d
d,J=9.6,2.0Hz);5.90(1H,d,
J=2.0Hz);6.06(1H,dd,J=9.
6,4.4Hz)
(3H,t,J=7.2Hz);1.25(24H,b
r.s);1.57(2H,m);1.59(3H,
s);2.29(2H,td,J=8.0,1.0H
z);3.76(1H,dd,J=6.4,4.4H
z);3.87(1H,d,J=6.4Hz);4.6
2(1H,t,J=4.4Hz);5.77(1H,d
d,J=9.6,2.0Hz);5.90(1H,d,
J=2.0Hz);6.06(1H,dd,J=9.
6,4.4Hz)
【0109】合成例9 1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−β−D−エリスロ−ヘキソ−3−エノピラ
ノース(化合物No.103)の合成 (1)窒素ガスの不活性雰囲気下室温で、前記合成例1
で得られた1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−
β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース5gの乾
燥ピリジン溶液50mlに15gのトシルクロライドを
加えた。12時間攪拌した後、少量の水を加え300m
lのトルエンで抽出した。1Nの塩酸200mlで1回
洗浄した後、200mlの飽和食塩水で3回洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで有機層を乾燥した。減圧下で溶媒を
留去した後、得られたシロップ状の粗生成物をシリカゲ
ル上のカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサ
ン=1:1)で精製し、1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−2−O−(p−トルエン)スルホニル−β
−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物N
o.46)を10.5g得た。このもののNMRの分析
値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.45
(3H,s);3.76(1H,ddd,J=6.8,
4.0,12Hz);3.94(1H,d,J=6.8
Hz);4,65(1H,t,J=4.0Hz);5.
22(1H,m);5.45(1H,t,J=2.4H
z);5.52(1H,dt,J=10.4,2.4H
z);6.19(1H,ddd,J=10.4,4.
0,1.2Hz)=7.35(2H,br.d,J=
8.4Hz);7.83(2H,dt,J=8.4,
2.0Hz) m.p.81−83℃
ジデオキシ−β−D−エリスロ−ヘキソ−3−エノピラ
ノース(化合物No.103)の合成 (1)窒素ガスの不活性雰囲気下室温で、前記合成例1
で得られた1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−
β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース5gの乾
燥ピリジン溶液50mlに15gのトシルクロライドを
加えた。12時間攪拌した後、少量の水を加え300m
lのトルエンで抽出した。1Nの塩酸200mlで1回
洗浄した後、200mlの飽和食塩水で3回洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで有機層を乾燥した。減圧下で溶媒を
留去した後、得られたシロップ状の粗生成物をシリカゲ
ル上のカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサ
ン=1:1)で精製し、1,6−アンヒドロ−3,4−
ジデオキシ−2−O−(p−トルエン)スルホニル−β
−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノース(化合物N
o.46)を10.5g得た。このもののNMRの分析
値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):2.45
(3H,s);3.76(1H,ddd,J=6.8,
4.0,12Hz);3.94(1H,d,J=6.8
Hz);4,65(1H,t,J=4.0Hz);5.
22(1H,m);5.45(1H,t,J=2.4H
z);5.52(1H,dt,J=10.4,2.4H
z);6.19(1H,ddd,J=10.4,4.
0,1.2Hz)=7.35(2H,br.d,J=
8.4Hz);7.83(2H,dt,J=8.4,
2.0Hz) m.p.81−83℃
【0110】(2)上記の反応で得られた10.5gの
1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−2−O−
(p−トルエン)スルホニル−β−D−スレオ−ヘキソ
−3−エノピラノースを100mlの乾燥ジメチルホル
ムアミドに溶解し、6gの安息香酸ナトリウムを加え、
30分加熱還流を行った。減圧下で溶媒を留去し、20
0mlの水を加え300mlのクロロホルムで抽出し
た。有機層を200mlの飽和炭酸水素ナトリウム水で
1回洗浄し、200mlの飽和食塩水で2回洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留
去した後、得られたシロップ状の粗生成物を100ml
の乾燥メタノールに溶解し、2mlのナトリウムメトキ
シドのメタノール溶液(28wt.%)を加え、25分
間室温で攪拌した。反応溶液を20%のクエン酸水溶液
で中和した後、セライトでろ過し沈澱物を除いた。ろ液
を減圧下で濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:
2)で精製し、目的物(化合物No.103)を1.1
g得た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.50
(1H,br.d,J=3.6Hz);3.64(2
H,m);4.69(1H,ddd,J=5.0,4.
0,1.8Hz);5.53(1H,t,J=1.8H
z);5.82(1H,ddd,J=9.6,4.0,
1.8Hz);6.19(1H,ddd,J=9.6,
5.0,0.8Hz) m.p.50−54℃
1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ−2−O−
(p−トルエン)スルホニル−β−D−スレオ−ヘキソ
−3−エノピラノースを100mlの乾燥ジメチルホル
ムアミドに溶解し、6gの安息香酸ナトリウムを加え、
30分加熱還流を行った。減圧下で溶媒を留去し、20
0mlの水を加え300mlのクロロホルムで抽出し
た。有機層を200mlの飽和炭酸水素ナトリウム水で
1回洗浄し、200mlの飽和食塩水で2回洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留
去した後、得られたシロップ状の粗生成物を100ml
の乾燥メタノールに溶解し、2mlのナトリウムメトキ
シドのメタノール溶液(28wt.%)を加え、25分
間室温で攪拌した。反応溶液を20%のクエン酸水溶液
で中和した後、セライトでろ過し沈澱物を除いた。ろ液
を減圧下で濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:
2)で精製し、目的物(化合物No.103)を1.1
g得た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.50
(1H,br.d,J=3.6Hz);3.64(2
H,m);4.69(1H,ddd,J=5.0,4.
0,1.8Hz);5.53(1H,t,J=1.8H
z);5.82(1H,ddd,J=9.6,4.0,
1.8Hz);6.19(1H,ddd,J=9.6,
5.0,0.8Hz) m.p.50−54℃
【0111】合成例10 1,6−アンヒドロ−3,4
−ジデオキシ−2−O−メチル−β−D−スレオ−ヘキ
ソ−3−エノピラノース(化合物No.41)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、水素化ナトリウム(ミネラ
ルオイル中の60%分散液、1.3当量)の乾燥テトラ
ヒドロフラン溶液30mlに1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピ
ラノース0.3gを徐々に加えた。15分攪拌を続けた
後、0.45mlのヨウ化メチルを加え、この反応液を
室温で12時間攪拌した。少量の水を加えて過剰の水素
化ナトリウムを不活性化し、減圧下で濃縮した。得られ
たシロップ状の粗生成物に200mlの酢酸エチルを加
え、飽和食塩水200mlで3回洗浄後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られたシ
ロップ状の生成物をシリカゲル上、カラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:3)で精製するこ
とにより目的物(化合物No.41)を0.25g得
た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.44
(3H,s);3.74(1H,ddd,J=6.7,
4.1,1.3Hz);3.91(1H,d,J=6.
7Hz);4.07(1H,m);4.62(1H,
t,J=4.1Hz);5.61(1H,t,J=2.
2Hz);5.72(1H,dt,J=9.8,2.2
Hz)=6.09(1H,ddd,J=9.8,4.
1,1.3Hz) 前記合成例10の場合に準じて下記の化合物が合成され
たが、その物性を記載する。
−ジデオキシ−2−O−メチル−β−D−スレオ−ヘキ
ソ−3−エノピラノース(化合物No.41)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、水素化ナトリウム(ミネラ
ルオイル中の60%分散液、1.3当量)の乾燥テトラ
ヒドロフラン溶液30mlに1,6−アンヒドロ−3,
4−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピ
ラノース0.3gを徐々に加えた。15分攪拌を続けた
後、0.45mlのヨウ化メチルを加え、この反応液を
室温で12時間攪拌した。少量の水を加えて過剰の水素
化ナトリウムを不活性化し、減圧下で濃縮した。得られ
たシロップ状の粗生成物に200mlの酢酸エチルを加
え、飽和食塩水200mlで3回洗浄後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、得られたシ
ロップ状の生成物をシリカゲル上、カラムクロマトグラ
フィー(酢酸エチル:ヘキサン=2:3)で精製するこ
とにより目的物(化合物No.41)を0.25g得
た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.44
(3H,s);3.74(1H,ddd,J=6.7,
4.1,1.3Hz);3.91(1H,d,J=6.
7Hz);4.07(1H,m);4.62(1H,
t,J=4.1Hz);5.61(1H,t,J=2.
2Hz);5.72(1H,dt,J=9.8,2.2
Hz)=6.09(1H,ddd,J=9.8,4.
1,1.3Hz) 前記合成例10の場合に準じて下記の化合物が合成され
たが、その物性を記載する。
【0112】化合物No.40(化合物No.1のn−
ブチルエーテル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.92
(3H,t,J=7.2Hz);1.39(2H,
m);1.60(2H,m);3.57(1H,dtJ
=9.2,6.8Hz);3.60(1H,dt,J=
9.2,6.8Hz)=3.77(1H,ddd,J=
6.8,4.0,1.2Hz);3.97(1H,d,
J=6.8Hz);4.17(1H,m);4.63
(1H,t,J=4.0Hz);5.62(1H,t,
J=2.2Hz);5.72(1H,dt,J=9.
6,2.2Hz);6.08(1H,ddd,J=9.
6,4.0,1.2Hz) 化合物No.48(化合物No.1のベンジルエーテ
ル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.78
(1H,ddd,J=6.4,4.0,1.2Hz);
3.98(1H,d,J=6.4Hz);4.28(1
H,m);4.63(1H,t,J=4.0Hz);
4.66(1H,d,J=12.0Hz);4.70
(1H,d,J=12.0Hz);5.56(1H,
t,J=2.4Hz);5.71(1H,dt,J=1
0.0,2.4Hz);6.10(1H,ddd,J=
10.0,4.0,1.2Hz);7.29(1H,t
t,J=6.8,2.0Hz);7.34(2H,
m);7.38(2H,m)
ブチルエーテル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.92
(3H,t,J=7.2Hz);1.39(2H,
m);1.60(2H,m);3.57(1H,dtJ
=9.2,6.8Hz);3.60(1H,dt,J=
9.2,6.8Hz)=3.77(1H,ddd,J=
6.8,4.0,1.2Hz);3.97(1H,d,
J=6.8Hz);4.17(1H,m);4.63
(1H,t,J=4.0Hz);5.62(1H,t,
J=2.2Hz);5.72(1H,dt,J=9.
6,2.2Hz);6.08(1H,ddd,J=9.
6,4.0,1.2Hz) 化合物No.48(化合物No.1のベンジルエーテ
ル)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.78
(1H,ddd,J=6.4,4.0,1.2Hz);
3.98(1H,d,J=6.4Hz);4.28(1
H,m);4.63(1H,t,J=4.0Hz);
4.66(1H,d,J=12.0Hz);4.70
(1H,d,J=12.0Hz);5.56(1H,
t,J=2.4Hz);5.71(1H,dt,J=1
0.0,2.4Hz);6.10(1H,ddd,J=
10.0,4.0,1.2Hz);7.29(1H,t
t,J=6.8,2.0Hz);7.34(2H,
m);7.38(2H,m)
【0113】合成例11 1,6−アンヒドロ−3,4
−ジデオキシ−2−O−(16−ヒドロキシ)ヘキサデ
カノイル−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノー
ス(化合物No.49)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1gの16−ヒドロキシヘ
キサデカン酸、1.1gのtert−ブチルジメチルシ
リルクロライド及び0.75gのイミダゾールの乾燥テ
トラヒドロフラン溶液50mlを室温で12時間攪拌し
た。減圧下で溶媒を留去した後、200mlの酢酸エチ
ルを加え、これを200mlの飽和食塩水で3回洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留去してシロップ状の生成物を得た。ここに40m
lのジエチルエーテル、30mlのメタノール及び30
mlの1N塩酸を加え、室温で15分間攪拌した。減圧
下で溶媒を留去した後、200mlの酢酸エチルを加
え、これを200mlの飽和炭酸水素ナトリウムで1回
洗浄し、200mlの飽和食塩水で2回洗浄した。有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
してシロップ状の生成物を得た。これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:
1)で精製して16−tert−ブチルジメチルシリル
オキシヘキサデカン酸1.4gを得た。
−ジデオキシ−2−O−(16−ヒドロキシ)ヘキサデ
カノイル−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラノー
ス(化合物No.49)の合成 窒素ガスの不活性雰囲気下、1gの16−ヒドロキシヘ
キサデカン酸、1.1gのtert−ブチルジメチルシ
リルクロライド及び0.75gのイミダゾールの乾燥テ
トラヒドロフラン溶液50mlを室温で12時間攪拌し
た。減圧下で溶媒を留去した後、200mlの酢酸エチ
ルを加え、これを200mlの飽和食塩水で3回洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を留去してシロップ状の生成物を得た。ここに40m
lのジエチルエーテル、30mlのメタノール及び30
mlの1N塩酸を加え、室温で15分間攪拌した。減圧
下で溶媒を留去した後、200mlの酢酸エチルを加
え、これを200mlの飽和炭酸水素ナトリウムで1回
洗浄し、200mlの飽和食塩水で2回洗浄した。有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
してシロップ状の生成物を得た。これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:
1)で精製して16−tert−ブチルジメチルシリル
オキシヘキサデカン酸1.4gを得た。
【0114】上記反応で得られた16−tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシヘキサデカン酸と化合物No.
1との縮合反応を前記合成例3に準じて行った。常法で
後処理した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル:ヘキサン=1:7)で精製した。このも
のを50mlの乾燥テトラヒドロフランに溶解し、1N
のテトラノルマルブチルアンモニウムフルオライドのテ
トラヒドロフラン溶液3mlを室温で加え、12時間攪
拌した。減圧下で溶媒を留去した後、200mlの酢酸
エチルを加え、200mlの飽和食塩水で2回洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。再度、減圧下で溶媒を
留去してシロップ状の生成物を得た。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
2:3)で精製して目的物(化合物No.49)を0.
59g得た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.20
−1.37(22H,m);1.57(2H,qui
n,J=7.0Hz);1.64(2H,quin.,
J=7.0Hz);2.38(2H,t,J=7.4H
z);2.64(2H,td,J=5.6,5.6H
z);3.80(1H,ddd,J=6.6,4.1,
1.1Hz);3.98(1H,d,J=6.6H
z);4.69(1H,t,J=4.1Hz);5.5
2(1H,m);5.62(1H,dt,J=9.5,
2.1Hz);5.64(1H,m);6.20(1
H,ddt,J=9.5,4.1,1.1Hz) 前記合成例1又は2に準じて下記化合物が合成された
が、それらの物性値を記載する。
ルジメチルシリルオキシヘキサデカン酸と化合物No.
1との縮合反応を前記合成例3に準じて行った。常法で
後処理した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル:ヘキサン=1:7)で精製した。このも
のを50mlの乾燥テトラヒドロフランに溶解し、1N
のテトラノルマルブチルアンモニウムフルオライドのテ
トラヒドロフラン溶液3mlを室温で加え、12時間攪
拌した。減圧下で溶媒を留去した後、200mlの酢酸
エチルを加え、200mlの飽和食塩水で2回洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。再度、減圧下で溶媒を
留去してシロップ状の生成物を得た。これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
2:3)で精製して目的物(化合物No.49)を0.
59g得た。このもののNMRの分析値は次のとおり。1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.20
−1.37(22H,m);1.57(2H,qui
n,J=7.0Hz);1.64(2H,quin.,
J=7.0Hz);2.38(2H,t,J=7.4H
z);2.64(2H,td,J=5.6,5.6H
z);3.80(1H,ddd,J=6.6,4.1,
1.1Hz);3.98(1H,d,J=6.6H
z);4.69(1H,t,J=4.1Hz);5.5
2(1H,m);5.62(1H,dt,J=9.5,
2.1Hz);5.64(1H,m);6.20(1
H,ddt,J=9.5,4.1,1.1Hz) 前記合成例1又は2に準じて下記化合物が合成された
が、それらの物性値を記載する。
【0115】1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ
−3−メチル−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラ
ノース(化合物No.51)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.72
(3H,m);2.03(1H,d,J=12.0H
z);3.71(1H,dd,J=6.4,4.4H
z);3.78(1H,d,J=6.4Hz);4.1
1(1H,m);4.60(1H,t,J=4.4H
z);5.51(1H,d,J=2.8Hz);5.8
0(1H,dd,4.4,1.6Hz) m.p.62.5−64℃
−3−メチル−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラ
ノース(化合物No.51)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.72
(3H,m);2.03(1H,d,J=12.0H
z);3.71(1H,dd,J=6.4,4.4H
z);3.78(1H,d,J=6.4Hz);4.1
1(1H,m);4.60(1H,t,J=4.4H
z);5.51(1H,d,J=2.8Hz);5.8
0(1H,dd,4.4,1.6Hz) m.p.62.5−64℃
【0116】1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ
−3−エチル−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラ
ノース(化合物No.95)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.02
(3H,t,J=7.2Hz);1.57(1H,b
r.s);2.12(2H,m);3.73(1H,d
d,J=6.0,4.4Hz);3.78(1H,d,
J=6.0Hz);4.21(1H,d,J=3.2H
z);4.65(1H,t,J=4.4Hz);5.5
3(1H,d,J=3.2Hz);5.80(1H,
m) m.p.75−76℃
−3−エチル−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラ
ノース(化合物No.95)1 H NMR(CDCl3,400MHz):1.02
(3H,t,J=7.2Hz);1.57(1H,b
r.s);2.12(2H,m);3.73(1H,d
d,J=6.0,4.4Hz);3.78(1H,d,
J=6.0Hz);4.21(1H,d,J=3.2H
z);4.65(1H,t,J=4.4Hz);5.5
3(1H,d,J=3.2Hz);5.80(1H,
m) m.p.75−76℃
【0117】1,6−アンヒドロ−3−ブチル−3,4
−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラ
ノース(化合物No.97)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.94
(3H,t,J=7.2Hz);1.41(4H,
m);165(1H,br.s);2.06(1H,d
dd,J=15.0,9.6,6.0Hz);2.18
(1H,ddd,J=15.0,8.8,5.6H
z);3.72(1H,dd,J=6.8,4.0H
z);3.78(1H,d,J=6.8Hz);4.1
9(1H,d,J=2.8Hz);4.63(1H,
t,J=4.0Hz);5.52(1H,d,J=2.
8Hz);5.79(1H,br.d,J=5Hz) m.p.43−44℃
−ジデオキシ−β−D−スレオ−ヘキソ−3−エノピラ
ノース(化合物No.97)1 H NMR(CDCl3,400MHz):0.94
(3H,t,J=7.2Hz);1.41(4H,
m);165(1H,br.s);2.06(1H,d
dd,J=15.0,9.6,6.0Hz);2.18
(1H,ddd,J=15.0,8.8,5.6H
z);3.72(1H,dd,J=6.8,4.0H
z);3.78(1H,d,J=6.8Hz);4.1
9(1H,d,J=2.8Hz);4.63(1H,
t,J=4.0Hz);5.52(1H,d,J=2.
8Hz);5.79(1H,br.d,J=5Hz) m.p.43−44℃
【0118】1,6−アンヒドロ−3,4−ジデオキシ
−3−メトキシメチル−β−D−スレオ−ヘキソ−3−
エノピラノース(化合物No.96)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.35
(3H,s);3.75(1H,dd,J=6.8,
4.4Hz);3.83(1H,d,J=6.8H
z);3.91(1H,br.d,J=13Hz);
4.01(1H,br.d,J=13Hz);4.32
(1H,br,d,J=2Hz);4.70(1H,
t,J=4.4Hz);5.53(1H,d,J=2.
8Hz);6.09(1H,m) m.p.53−56℃
−3−メトキシメチル−β−D−スレオ−ヘキソ−3−
エノピラノース(化合物No.96)1 H NMR(CDCl3,400MHz):3.35
(3H,s);3.75(1H,dd,J=6.8,
4.4Hz);3.83(1H,d,J=6.8H
z);3.91(1H,br.d,J=13Hz);
4.01(1H,br.d,J=13Hz);4.32
(1H,br,d,J=2Hz);4.70(1H,
t,J=4.4Hz);5.53(1H,d,J=2.
8Hz);6.09(1H,m) m.p.53−56℃
【0119】化合物No.981 H NMR(CDCl3,400MHz):1.63
(3H,s);3.72(1H,dd,J=5.6,
4.4Hz);3.92(1H,d,J=5.6H
z);4.61(1H,t,J=4.4Hz);5.6
0(1H,br.s);5.68(1H,d,J=2.
4Hz);5.90(1H,m);6.46(1H,d
d,J=3.6,2.0Hz);7.21(1H,d,
J=3.6Hz);7.54(1H,s)
(3H,s);3.72(1H,dd,J=5.6,
4.4Hz);3.92(1H,d,J=5.6H
z);4.61(1H,t,J=4.4Hz);5.6
0(1H,br.s);5.68(1H,d,J=2.
4Hz);5.90(1H,m);6.46(1H,d
d,J=3.6,2.0Hz);7.21(1H,d,
J=3.6Hz);7.54(1H,s)
【0120】化合物No.991 H NMR(CDCl3,400MHz):2.85
(1H,s);3.82(1H,dd,J=6.8,
4.3Hz);3.94(1H,d,J=6.8H
z);4.76(1H,t,J=4.3Hz);6.0
1(1H,dd,J=9.7,2.0Hz);6.18
(1H,d,J=2.0Hz);6.27(1H,d
d,J=9.7,4.3Hz);6.51(1H,d
d,J=3.3,1.3Hz);7.23(1H,d,
J=3.3Hz);7.58(1H,br.s)
(1H,s);3.82(1H,dd,J=6.8,
4.3Hz);3.94(1H,d,J=6.8H
z);4.76(1H,t,J=4.3Hz);6.0
1(1H,dd,J=9.7,2.0Hz);6.18
(1H,d,J=2.0Hz);6.27(1H,d
d,J=9.7,4.3Hz);6.51(1H,d
d,J=3.3,1.3Hz);7.23(1H,d,
J=3.3Hz);7.58(1H,br.s)
【0121】化合物No.1001 H NMR(CDCl3,400MHz):1.57
(3H,s);3.66(1H,dd,J=5.6,
4.4Hz);3.83(1H,d,J=5.6H
z);4.06(1H,br.s);4.50(1H,
t,J=4.4Hz);4.54(1H,d,J=1
3.0Hz);4.59(1H,d,J=13.0H
z);5.40(1H,d,J=2.4Hz);5.7
2(1H,m);6.28(1H,dd,J=3.0,
2.0Hz);6.30(1H,d,J=3.0H
z);7.36(1H,s)
(3H,s);3.66(1H,dd,J=5.6,
4.4Hz);3.83(1H,d,J=5.6H
z);4.06(1H,br.s);4.50(1H,
t,J=4.4Hz);4.54(1H,d,J=1
3.0Hz);4.59(1H,d,J=13.0H
z);5.40(1H,d,J=2.4Hz);5.7
2(1H,m);6.28(1H,dd,J=3.0,
2.0Hz);6.30(1H,d,J=3.0H
z);7.36(1H,s)
【0122】化合物No.1011 H NMR(CDCl3,400MHz):3,77
(1H,ddd,J=7.2,4.4,1.2Hz);
3.96(1H,d,J=7.2Hz);4.31(1
H,m);4.60(1H,d,J=13.2Hz);
4.63(1H,m);4.64(1H,d,J=1
3.2Hz);5.50(1H,t,J=2.4H
z);5.64(1H,dt,J=9.6,2.4H
z);6.09(1H,ddd,J=9.6,4.4,
1.2Hz);6.36(2H,m);7.41(1
H,dd,J=1.6,0.8Hz)
(1H,ddd,J=7.2,4.4,1.2Hz);
3.96(1H,d,J=7.2Hz);4.31(1
H,m);4.60(1H,d,J=13.2Hz);
4.63(1H,m);4.64(1H,d,J=1
3.2Hz);5.50(1H,t,J=2.4H
z);5.64(1H,dt,J=9.6,2.4H
z);6.09(1H,ddd,J=9.6,4.4,
1.2Hz);6.36(2H,m);7.41(1
H,dd,J=1.6,0.8Hz)
【0123】化合物No.1021 H NMR(CDCl3,400MHz):2.92
(1H,s);3.78(1H,dd,J=6.8,
4.4Hz);3.95(1H,d,J=6.8H
z);4.17(1H,dt,J=4.4Hz);4.
73(1H,d,J=12.6Hz);4.80(1
H,d,J=12.6Hz);5.57(1H,d,J
=2.0Hz);5.70(1H,dd,J=9.6,
2.0Hz);6.12(1H,dd,J=9.6,
4,4Hz);6.33(2H,m);7.41(1
H,m) 次に前記一般式(I−1)又は(I−2)で表されるエ
ノピラノース誘導体を表3〜11に例示する。
(1H,s);3.78(1H,dd,J=6.8,
4.4Hz);3.95(1H,d,J=6.8H
z);4.17(1H,dt,J=4.4Hz);4.
73(1H,d,J=12.6Hz);4.80(1
H,d,J=12.6Hz);5.57(1H,d,J
=2.0Hz);5.70(1H,dd,J=9.6,
2.0Hz);6.12(1H,dd,J=9.6,
4,4Hz);6.33(2H,m);7.41(1
H,m) 次に前記一般式(I−1)又は(I−2)で表されるエ
ノピラノース誘導体を表3〜11に例示する。
【0124】
【表3】
【0125】
【表4】
【0126】
【表5】
【0127】
【表6】
【0128】
【表7】
【0129】
【表8】
【0130】
【表9】
【0131】
【表10】
【0132】
【表11】
【0133】次に前記一般式(I)で表されるエノピラ
ノース誘導体又はその塩が免疫機能抑制剤の有効成分と
して有用であることを示す。 (薬理試験) (1)コラーゲン誘発関節炎抑制効果 4〜6週齢の雄性DBA/1JNCrjマウスを1群4
匹で用い、ウシコラーゲンタイプII(コラーゲン技術
研修会製、製品No.K41)(3mg/ml)を等容
量の完全フロイントアジュバント(ICNイムノバイオ
ロジカルズ社製、製品No.642851)で懸濁した
ものをマウスの尾根部の皮内に注射し(150μg/
0.1ml/マウス)、コラーゲン関節炎を誘起した。
関節炎の強さは、以下のようにスコア化し(一肢あたり
0〜3点、四肢の合計最高12点)評価した。 0点 変化なし 1点 弱い指の膨張と弱い紅斑 2点 弱い膨張と紅斑 3点 強い膨張と紅斑、或いは骨の変形を伴うもの 上記試験の基本操作は、ザ・ジャーナル・オブ・イミュ
ノロジー(The Journal of Immun
ology)140巻、1477〜1484頁、(19
88年)を参考とした。
ノース誘導体又はその塩が免疫機能抑制剤の有効成分と
して有用であることを示す。 (薬理試験) (1)コラーゲン誘発関節炎抑制効果 4〜6週齢の雄性DBA/1JNCrjマウスを1群4
匹で用い、ウシコラーゲンタイプII(コラーゲン技術
研修会製、製品No.K41)(3mg/ml)を等容
量の完全フロイントアジュバント(ICNイムノバイオ
ロジカルズ社製、製品No.642851)で懸濁した
ものをマウスの尾根部の皮内に注射し(150μg/
0.1ml/マウス)、コラーゲン関節炎を誘起した。
関節炎の強さは、以下のようにスコア化し(一肢あたり
0〜3点、四肢の合計最高12点)評価した。 0点 変化なし 1点 弱い指の膨張と弱い紅斑 2点 弱い膨張と紅斑 3点 強い膨張と紅斑、或いは骨の変形を伴うもの 上記試験の基本操作は、ザ・ジャーナル・オブ・イミュ
ノロジー(The Journal of Immun
ology)140巻、1477〜1484頁、(19
88年)を参考とした。
【0134】(a)コラーゲン関節炎発症抑制効果 抗原接種後、18日目から、前記一般式(I)の化合物
の投与(50mg/kg)を開始し、1日1回腹腔内又
は経口で、4週間連日投与して関節炎症状の観察をおこ
なった。なお、コントロールとしては生理食塩水を用い
て同様に試験した。その結果を図1に示す。
の投与(50mg/kg)を開始し、1日1回腹腔内又
は経口で、4週間連日投与して関節炎症状の観察をおこ
なった。なお、コントロールとしては生理食塩水を用い
て同様に試験した。その結果を図1に示す。
【0135】(2)種々の培養細胞に及ぼす作用 (a)マウス胸腺細胞を用いた幼若化反応に及ぼす作用 BALB/cマウス胸腺細胞を用いて、コンカナバリン
A(以下ConAと略す。ベクターラボラトリーズ社
製、製品No.L−1000)刺激によるリンパ球幼若
化反応に及ぼす一般式(I)の化合物の作用を検討し
た。即ち、胸腺細胞4×105個をConA(5μg/
ml)及び一般式(I)の化合物と共に10%牛胎児血
清を含むRPMI1640溶液(以下10%FCS−R
PMI液と略す)にて96穴マイクロプレート内に48
時間培養した(インキュベーター中、5%CO2、37
℃)。その後、0.5μCiの3H−チミジン(以下3
H−TdRと略す)を添加し、さらに4時間培養後、セ
ルハーベスターにて細胞を採取し、細胞内に取り込まれ
た3H−TdRの放射活性(dpm)を測定した。これ
らの測定された3H−TdRの細胞内への取込み量を胸
腺細胞の幼若化反応の指標とし、一般式(I)の化合物
の各濃度(0.001〜1000μg/ml)での放射
活性値をConA単独処理の対照値と比較して、IC5
0値を算定し、この結果を表6及び表7に示した。この
表6及び表7において、胸腺細胞の結果を(a)として
示す。これらの基本操作については、細胞免疫実験操作
法、144〜146頁(今井勝行他訳、理工学社出版、
1982年)を参考とした。
A(以下ConAと略す。ベクターラボラトリーズ社
製、製品No.L−1000)刺激によるリンパ球幼若
化反応に及ぼす一般式(I)の化合物の作用を検討し
た。即ち、胸腺細胞4×105個をConA(5μg/
ml)及び一般式(I)の化合物と共に10%牛胎児血
清を含むRPMI1640溶液(以下10%FCS−R
PMI液と略す)にて96穴マイクロプレート内に48
時間培養した(インキュベーター中、5%CO2、37
℃)。その後、0.5μCiの3H−チミジン(以下3
H−TdRと略す)を添加し、さらに4時間培養後、セ
ルハーベスターにて細胞を採取し、細胞内に取り込まれ
た3H−TdRの放射活性(dpm)を測定した。これ
らの測定された3H−TdRの細胞内への取込み量を胸
腺細胞の幼若化反応の指標とし、一般式(I)の化合物
の各濃度(0.001〜1000μg/ml)での放射
活性値をConA単独処理の対照値と比較して、IC5
0値を算定し、この結果を表6及び表7に示した。この
表6及び表7において、胸腺細胞の結果を(a)として
示す。これらの基本操作については、細胞免疫実験操作
法、144〜146頁(今井勝行他訳、理工学社出版、
1982年)を参考とした。
【0136】(b)マウスリンパ球混合培養反応に及ぼ
す作用 BALB/c及びC57BL/6マウスの脾臓細胞を用
いて、2方向性のリンパ球混合培養反応に及ぼす一般式
(I)の化合物の作用を検討した。即ち、両系のマウス
の脾臓細胞各々5×105個を混合し、一般式(I)の
化合物と共に10%FCS−RPMI液にて96穴マイ
クロプレート内に48時間培養した(インキュベーター
中、5%CO2、37℃)。その後、0.5μCiの3
H−TdRを添加し、更に16〜18時間培養後、セル
ハーベスターにて細胞を採取し、細胞内に取り込まれた
3H−TdRの放射活性(dpm)を測定した。これら
の測定された3H−TdRの細胞内への取込み量をリン
パ球混合培養反応の指標とし、一般式(I)の化合物の
各濃度(0.001〜1000μg/ml)での放射活
性値を無処理の対照値と比較して、IC50値を算定
し、この結果を表6及び表7に示した。この表6及び表
7において、リンパ球混合培養反応の結果を(b)とし
て示す。これらの基本操作については、細胞免疫実験操
作法、147〜149頁(今井勝行他訳、理工学社出
版、1982年)を参考とした。
す作用 BALB/c及びC57BL/6マウスの脾臓細胞を用
いて、2方向性のリンパ球混合培養反応に及ぼす一般式
(I)の化合物の作用を検討した。即ち、両系のマウス
の脾臓細胞各々5×105個を混合し、一般式(I)の
化合物と共に10%FCS−RPMI液にて96穴マイ
クロプレート内に48時間培養した(インキュベーター
中、5%CO2、37℃)。その後、0.5μCiの3
H−TdRを添加し、更に16〜18時間培養後、セル
ハーベスターにて細胞を採取し、細胞内に取り込まれた
3H−TdRの放射活性(dpm)を測定した。これら
の測定された3H−TdRの細胞内への取込み量をリン
パ球混合培養反応の指標とし、一般式(I)の化合物の
各濃度(0.001〜1000μg/ml)での放射活
性値を無処理の対照値と比較して、IC50値を算定
し、この結果を表6及び表7に示した。この表6及び表
7において、リンパ球混合培養反応の結果を(b)とし
て示す。これらの基本操作については、細胞免疫実験操
作法、147〜149頁(今井勝行他訳、理工学社出
版、1982年)を参考とした。
【0137】(c)マウス骨髄細胞に及ぼす作用 BALB/cマウスの大腿骨より骨髄細胞を摘出し、1
0%FCS−RPMI液中に懸濁した細胞を10cmプ
ラスチックシャーレ上に浮遊させ静置した(インキュベ
ーター中、5%CO2、37℃)。2時間後、浮遊細胞
のみを回収し、付着細胞の除去を行った。浮遊細胞1×
105個を、L929線維芽腫細胞の20%培養上清液
及び一般式(I)の化合物と共に10%FCS−RPM
I液にて96穴マイクロプレート内に48時間培養した
(インキュベーター中、5%CO2、37℃)。その
後、0.5μCiの3H−TdRを添加し、さらに4時
間培養後、セルハーベスターにて細胞を採取し、細胞内
に取り込まれた3H−TdRの放射活性(dpm)を測
定した。これらの測定された3H−TdRの細胞内への
取込み量を骨髄細胞の増殖反応の指標とし、一般式
(I)の化合物の各濃度(0.001〜1000μg/
ml)での放射活性値をL929培養上清の単独添加対
照値と比較して、IC50値を算定し、この結果を表1
2及び表13に示した。この表12及び表13におい
て、骨髄細胞の結果を(c)として示す。これらの基本
操作については、日本生化学会編続生化学実験講座第5
巻、266〜270頁(東京化学同人出版、1986
年)を参考とした。
0%FCS−RPMI液中に懸濁した細胞を10cmプ
ラスチックシャーレ上に浮遊させ静置した(インキュベ
ーター中、5%CO2、37℃)。2時間後、浮遊細胞
のみを回収し、付着細胞の除去を行った。浮遊細胞1×
105個を、L929線維芽腫細胞の20%培養上清液
及び一般式(I)の化合物と共に10%FCS−RPM
I液にて96穴マイクロプレート内に48時間培養した
(インキュベーター中、5%CO2、37℃)。その
後、0.5μCiの3H−TdRを添加し、さらに4時
間培養後、セルハーベスターにて細胞を採取し、細胞内
に取り込まれた3H−TdRの放射活性(dpm)を測
定した。これらの測定された3H−TdRの細胞内への
取込み量を骨髄細胞の増殖反応の指標とし、一般式
(I)の化合物の各濃度(0.001〜1000μg/
ml)での放射活性値をL929培養上清の単独添加対
照値と比較して、IC50値を算定し、この結果を表1
2及び表13に示した。この表12及び表13におい
て、骨髄細胞の結果を(c)として示す。これらの基本
操作については、日本生化学会編続生化学実験講座第5
巻、266〜270頁(東京化学同人出版、1986
年)を参考とした。
【0138】
【表12】
【0139】
【表13】
【0140】(d)マウス脾臓細胞抗体産生に及ぼす作
用 マウス脾臓B細胞を用いてLPS(リポポリサッカライ
ド;和光製薬製、製品No.520.02051)及び
IL4(インターロイキン4)刺激により誘発されるI
gG1、IgE及びIgM抗体産生に及ぼす一般式
(I)の化合物の作用を検討した。即ち、BALB/c
マウスの脾臓細胞をマウス抗Thy−1抗体(千葉大学
医学部より入手)とウサギ補体(セダレーン社製、製品
No.3051)で処理してT細胞を除去した後の脾臓
B細胞3×105個をLPS10μg/ml、マウス−
リコンビナントIL4(ジエンザイム社製、製品No.
MIL−4C)100U/ml及び一般式(I)の化合
物の各濃度(0.001〜1000μg/ml)と共に
10%FCS−RPMI液にて96穴マイクロプレート
内に7日間培養した(インキュベータ内、5%CO2、
37℃)。
用 マウス脾臓B細胞を用いてLPS(リポポリサッカライ
ド;和光製薬製、製品No.520.02051)及び
IL4(インターロイキン4)刺激により誘発されるI
gG1、IgE及びIgM抗体産生に及ぼす一般式
(I)の化合物の作用を検討した。即ち、BALB/c
マウスの脾臓細胞をマウス抗Thy−1抗体(千葉大学
医学部より入手)とウサギ補体(セダレーン社製、製品
No.3051)で処理してT細胞を除去した後の脾臓
B細胞3×105個をLPS10μg/ml、マウス−
リコンビナントIL4(ジエンザイム社製、製品No.
MIL−4C)100U/ml及び一般式(I)の化合
物の各濃度(0.001〜1000μg/ml)と共に
10%FCS−RPMI液にて96穴マイクロプレート
内に7日間培養した(インキュベータ内、5%CO2、
37℃)。
【0141】これらの基本操作については、ザ・ジャー
ナル・オブ・イムノロジー、第136巻、4538頁、
(1986年)を参考とした。ここで得られた細胞培養
上清液中の各抗体量を下記に示すような酵素免疫測定法
により測定した。まず、96穴マイクロプレート上にウ
サギ抗マウスIgG1抗体(カッペル社製、製品No.
36243)1μg/ml又は、ヤギ抗マウスIgM抗
体(カッペル社製、製品No.0611−0201)1
μg/ml、ラット抗IgEモノクローナル抗体(エク
スペリメンタル イムノロジー社製、製品No.LO−
ME−2)10μg/ml(50μl/穴、室温、60
分間)で吸着させた後、0.1%牛血清アルブミン含有
10mMリン酸ナトリウム緩衝生理食塩水(pH7.
2)により、非特異的結合をブロックした(室温、60
分間)。次に上記の細胞培養上清又はその希釈液50μ
l/穴を添加し、室温で60分間反応させ、更に100
0倍希釈したアルカリホスファターゼ標識ウサギ抗マウ
スIgG1抗体(ザイメット社製、製品No.61−0
122)、2000倍希釈したアルカリホスファターゼ
標識ウサギ抗マウスIgM抗体(ザイメット社製、製品
No.61−6822)又は500倍希釈したアルカリ
ホスファターゼ標識ヒツジ抗マウスIgE抗体(バイン
ディングサイト社製、製品No.PA−284)を各々
50μl/穴を添加し、室温で60分間反応させた。酵
素基質としてパラニトロフェニルホスフェートを含有す
る10%ジエタノールアミン緩衝液(pH9.8)10
0μl/穴を反応させ、405nmにおける吸光度を測
定した。各抗体量は各標準抗体の検量線より算出し、一
般式(I)の化合物の非共存下での値を対照値として、
一般式(I)の化合物の各濃度共存下での抗体産生に及
ぼす作用のIC50値を算定し、この結果を前記マウス
骨髄細胞に及ぼす作用の結果と共に表14及び表15に
示した。この表14及び表15において、抗体産生に及
ぼす作用のIC50値を各抗体、即ちIgG1、IgM
及びIgEとして示し、前述のマウス骨髄細胞の結果を
(c)として示す。
ナル・オブ・イムノロジー、第136巻、4538頁、
(1986年)を参考とした。ここで得られた細胞培養
上清液中の各抗体量を下記に示すような酵素免疫測定法
により測定した。まず、96穴マイクロプレート上にウ
サギ抗マウスIgG1抗体(カッペル社製、製品No.
36243)1μg/ml又は、ヤギ抗マウスIgM抗
体(カッペル社製、製品No.0611−0201)1
μg/ml、ラット抗IgEモノクローナル抗体(エク
スペリメンタル イムノロジー社製、製品No.LO−
ME−2)10μg/ml(50μl/穴、室温、60
分間)で吸着させた後、0.1%牛血清アルブミン含有
10mMリン酸ナトリウム緩衝生理食塩水(pH7.
2)により、非特異的結合をブロックした(室温、60
分間)。次に上記の細胞培養上清又はその希釈液50μ
l/穴を添加し、室温で60分間反応させ、更に100
0倍希釈したアルカリホスファターゼ標識ウサギ抗マウ
スIgG1抗体(ザイメット社製、製品No.61−0
122)、2000倍希釈したアルカリホスファターゼ
標識ウサギ抗マウスIgM抗体(ザイメット社製、製品
No.61−6822)又は500倍希釈したアルカリ
ホスファターゼ標識ヒツジ抗マウスIgE抗体(バイン
ディングサイト社製、製品No.PA−284)を各々
50μl/穴を添加し、室温で60分間反応させた。酵
素基質としてパラニトロフェニルホスフェートを含有す
る10%ジエタノールアミン緩衝液(pH9.8)10
0μl/穴を反応させ、405nmにおける吸光度を測
定した。各抗体量は各標準抗体の検量線より算出し、一
般式(I)の化合物の非共存下での値を対照値として、
一般式(I)の化合物の各濃度共存下での抗体産生に及
ぼす作用のIC50値を算定し、この結果を前記マウス
骨髄細胞に及ぼす作用の結果と共に表14及び表15に
示した。この表14及び表15において、抗体産生に及
ぼす作用のIC50値を各抗体、即ちIgG1、IgM
及びIgEとして示し、前述のマウス骨髄細胞の結果を
(c)として示す。
【0144】
【表14】
【0145】
【表15】
【0146】(毒性試験)DBA1/Jマウス、6週
齢、雄、4匹を1群として、一般式(I)の化合物(5
0mg/kg)を1日1回腹腔内又は経口で4週間連日
投与して、体重変化及び死亡数を調べた。その結果、顕
著な体重変化はなく、また死亡例もなかった。従って、
前記一般式(I)の化合物のLD50値は低くとも50
mg/kgである。
齢、雄、4匹を1群として、一般式(I)の化合物(5
0mg/kg)を1日1回腹腔内又は経口で4週間連日
投与して、体重変化及び死亡数を調べた。その結果、顕
著な体重変化はなく、また死亡例もなかった。従って、
前記一般式(I)の化合物のLD50値は低くとも50
mg/kgである。
【0147】前記一般式(I)で表されるエノピラノー
ス誘導体又はその塩は抗炎症作用をも有しており、以下
にその試験例を記載する。 (抗炎症作用試験)一般的抗炎症剤(NSAID)の有
効性評価に広く用いられているカラゲニン誘発足せき浮
腫法を用い抗炎症作用の試験を行った。1%λ−カラゲ
ニン溶液0.1mlをSD系雄性ラット(6週齢)の右
足の裏皮内に注射し、その3時間後に両側足の裏容積を
測定して右側と左側の容積差を浮腫の程度とした。被験
化合物はカラゲニン投与1時間前に1ml/100g
(体重)の容量で経口投与した。対照群には生理食塩水
のみ同量投与した。その結果を表16に示す。表16か
ら明らかなように被験化合物はカラゲニン誘発足せき浮
腫に対して統計的に有意な抑制効果を示し、抗炎症剤と
しての有効性が確認された。
ス誘導体又はその塩は抗炎症作用をも有しており、以下
にその試験例を記載する。 (抗炎症作用試験)一般的抗炎症剤(NSAID)の有
効性評価に広く用いられているカラゲニン誘発足せき浮
腫法を用い抗炎症作用の試験を行った。1%λ−カラゲ
ニン溶液0.1mlをSD系雄性ラット(6週齢)の右
足の裏皮内に注射し、その3時間後に両側足の裏容積を
測定して右側と左側の容積差を浮腫の程度とした。被験
化合物はカラゲニン投与1時間前に1ml/100g
(体重)の容量で経口投与した。対照群には生理食塩水
のみ同量投与した。その結果を表16に示す。表16か
ら明らかなように被験化合物はカラゲニン誘発足せき浮
腫に対して統計的に有意な抑制効果を示し、抗炎症剤と
しての有効性が確認された。
【0148】
【表16】
【0149】前記一般式(I)で表されるエノピラノー
ス誘導体又はその塩を免疫機能抑制剤の有効成分として
用いる場合、投与条件の違いにより一概に規定できない
が、通常、成人1日当たり約50mg〜5000mgで
あり、経口的ないし非経口的に投与される。薬剤投与
は、経口、静脈内、筋肉内、皮膚経路、粘膜経路などの
方法でおこなうことができる。投与剤形としては、散
剤、細粒剤、顆粒剤、錠剤、カプセル剤、注射剤、点鼻
剤、懸濁剤、滴剤、軟膏剤、シロップ、持続性放出製剤
などがあげられる。これらは、通常の医薬の場合と同様
に、通常の医薬上許容される製剤担体を用い、常法によ
り製造することができる。
ス誘導体又はその塩を免疫機能抑制剤の有効成分として
用いる場合、投与条件の違いにより一概に規定できない
が、通常、成人1日当たり約50mg〜5000mgで
あり、経口的ないし非経口的に投与される。薬剤投与
は、経口、静脈内、筋肉内、皮膚経路、粘膜経路などの
方法でおこなうことができる。投与剤形としては、散
剤、細粒剤、顆粒剤、錠剤、カプセル剤、注射剤、点鼻
剤、懸濁剤、滴剤、軟膏剤、シロップ、持続性放出製剤
などがあげられる。これらは、通常の医薬の場合と同様
に、通常の医薬上許容される製剤担体を用い、常法によ
り製造することができる。
【0150】
【発明の効果】本発明は、前記一般式(I)で表される
化合物を有効成分として含有する免疫機能抑制剤を提供
するものであり、具体的には免疫機能の異常亢進によっ
て惹起される疾患、たとえば慢性関節リウマチ、全身性
エリテマトーデス、慢性腎炎、慢性甲状腺炎、自己免疫
性溶血性貧血等のいわゆる自己免疫疾患の治療並びに臓
器移植時の拒絶反応抑制のための治療さらにはアレルギ
ー性疾患、炎症性疾患などの治療、特に慢性関節リウマ
チなどの自己免疫疾患の治療に有効である。
化合物を有効成分として含有する免疫機能抑制剤を提供
するものであり、具体的には免疫機能の異常亢進によっ
て惹起される疾患、たとえば慢性関節リウマチ、全身性
エリテマトーデス、慢性腎炎、慢性甲状腺炎、自己免疫
性溶血性貧血等のいわゆる自己免疫疾患の治療並びに臓
器移植時の拒絶反応抑制のための治療さらにはアレルギ
ー性疾患、炎症性疾患などの治療、特に慢性関節リウマ
チなどの自己免疫疾患の治療に有効である。
【0149】
【図1】一般式(I)の化合物によるコラーゲン関節炎
発症抑制効果を示す図である。
発症抑制効果を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 309/32 7252−4C 493/04 106 A 9165−4C
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1は水素原子、置換されてもよいアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、−OSO2R7基、
ハロゲン原子、−OCOR7基、−NHCOR8基、ア
ルコキシ基、置換されてもよいフェニル基又は糖誘導体
残基であり、R2は水素原子又はアルキル基であり、R
3は水素原子又はハロゲン原子であり、R4は水素原
子、−COR9基、置換されてもよいシリル基又は置換
されてもよいアルキル基であり、R5及びR6は、一方
がヒドロキシル基、置換されてもよいアルコキシ基、糖
誘導体残基、置換されてもよいシクロアルキルオキシ基
又は−OCOR10基であり、他方が水素原子又は置換
されてもよいアルキル基であり、R4及びR5は一緒に
なって単結合を形成してもよく、その場合R6は水素原
子又は置換されてもよいアルキル基であり、R7、R9
及びR10はそれぞれアルキル基又は置換されてもよい
フェニル基であり、R8はアルキル基、置換されてもよ
いフェニル基又はベンジルオキシ基であり、Xは水素原
子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいア
ルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換され
てもよいシクロアルキル基、置換されてもよいフェニル
基、置換されてもよいピリジル基、置換されてもよいフ
ラニル基、置換されてもよいチエニル基、ホルミル基、
−COR11基、−C(W1)W2R11基又は−SO
2R11基であり、R11は置換されてもよい鎖式炭化
水素基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置換され
てもよい多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式複
素環基又は置換されてもよい多環式複素環基であり、W
1は酸素原子又は硫黄原子であり、W2は酸素原子、硫
黄原子又は−NH−基であり、Yは水素原子、置換され
てもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基又
は置換されてもよいアルキニル基である)で表されるエ
ノピラノース誘導体又はその塩を有効成分として含有す
ることを特徴とする免疫機能抑制剤。 - 【請求項2】 前記一般式(I)で表されるエノピラノ
ース誘導体又はその塩を有効成分として含有することを
特徴とする抗炎症剤。 - 【請求項3】 一般式(I−1)又は(I−2) 【化2】 (式中、R1は水素原子、置換されてもよいアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、−OSO2R7基、
ハロゲン原子、−OCOR7基、−NHCOR8基、ア
ルコキシ基、置換されてもよいフェニル基又は糖誘導体
残基であり、R2は水素原子又はアルキル基であり、R
3は水素原子又はハロゲン原子であり、R4及びR5は
一緒になって単結合を形成し、R6は水素原子又は置換
されてもよいアルキル基であり、R7はアルキル基又は
置換されてもよいフェニル基であり、R8はアルキル
基、置換されてもよいフェニル基又はベンジルオキシ基
であり、Xは水素原子、置換されてもよいアルキル基、
置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアル
キニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換さ
れてもよいフェニル基、置換されてもよいピリジル基、
置換されてもよいフラニル基、置換されてもよいチエニ
ル基、ホルミル基、−COR11基、−C(W1)W2
R11基又は−SO2R11基であり、R11は置換さ
れてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭
化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、置換さ
れてもよい単環式複素環基又は置換されてもよい多環式
複素環基であり、W1は酸素原子又は硫黄原子であり、
W2は酸素原子、硫黄原子又は−NH−基であり、Yは
水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されても
よいアルケニル基又は置換されてもよいアルキニル基で
あり、但し以下の場合を除く。 (I−1)において、R1、R2、R3、R6及びX
が水素原子であり、Yが水素原子又は置換されてもよい
アルキル基である場合、 (I−1)において、R1、R2、R3、R6及びY
が水素原子であり、Xがアセチル、3,5−ジニトロベ
ンゾイル又はp−トルエンスルホニルである場合、 (I−1)において、R1、R2、R3、及びYが水
素原子であり、R6が置換されてもよいアルキル基であ
り、Xが水素原子又はアセチルである場合、 (I−2)において、R1、R2、R3、R6及びY
が水素原子であり、Xが水素原子、メチル、ベンジル、
ホルミル、アセチル、ベンゾイル、4−クロロベンゾイ
ル、3,5−ジクロロベンゾイル、4−ニトロベンゾイ
ル、3,5−ジニトロベンゾイル、4−メトキシベンゾ
イル、3,5−ジメトキシベンゾイル、メチルスルホニ
ル又はp−トルエンスルホニルである場合、及び (I−2)において、R1がp−トルエンスルホニル
オキシであり、R2,R3,R6及びYが水素原子であ
り、Xが水素原子、アセチル又はp−トルエンスルホニ
ルである場合。)
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4361752A JPH06183965A (ja) | 1992-12-16 | 1992-12-16 | 免疫機能抑制剤 |
| JP03920793A JP3174189B2 (ja) | 1992-02-06 | 1993-01-18 | 免疫機能抑制剤 |
| US08/011,463 US5380834A (en) | 1992-02-06 | 1993-01-27 | Immuno-suppressive agent |
| ES93101822T ES2184733T3 (es) | 1992-02-06 | 1993-02-05 | Derivados de enopiranosa inmunosupresores. |
| EP93101822A EP0560055B1 (en) | 1992-02-06 | 1993-02-05 | Immuno-suppressing enepyranose derivatives |
| DE69332232T DE69332232T2 (de) | 1992-02-06 | 1993-02-05 | Immunsuppressive Enpyranosederivate |
| AT93101822T ATE222919T1 (de) | 1992-02-06 | 1993-02-05 | Immunsuppressive enpyranosederivate |
| CN93101504A CN1041167C (zh) | 1992-02-06 | 1993-02-06 | 免疫抑制剂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4361752A JPH06183965A (ja) | 1992-12-16 | 1992-12-16 | 免疫機能抑制剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06183965A true JPH06183965A (ja) | 1994-07-05 |
Family
ID=18474748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4361752A Pending JPH06183965A (ja) | 1992-02-06 | 1992-12-16 | 免疫機能抑制剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06183965A (ja) |
-
1992
- 1992-12-16 JP JP4361752A patent/JPH06183965A/ja active Pending
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