JPH06184313A - モジュラス減少用ポリジメチルシロキサンおよびその製造方法 - Google Patents
モジュラス減少用ポリジメチルシロキサンおよびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低反応性末端基と高反応性末端基の双方を有
するポリジメチルシロキサン。 【構成】 これらのポリジメチルシロキサンは減少した
モジュラスを有するシーラントを製造するのに有用であ
る。これらのポリジメチルシロキサンの例は、式XR2
SiO−(式中、Xはメトキシ又はメチルエチルケトキ
シモであり、Rはメチル又はビニルである)の低反応末
端基を有するものであり更に式Yb R(3-b ) SiO−
(式中、bは2又は3であり、Rはメチル基であり、各
Yはケトキシモ基およびメトキシから成る群から選ばれ
る加水分解性基である)を有する高反応末端基を有する
ものである。
するポリジメチルシロキサン。 【構成】 これらのポリジメチルシロキサンは減少した
モジュラスを有するシーラントを製造するのに有用であ
る。これらのポリジメチルシロキサンの例は、式XR2
SiO−(式中、Xはメトキシ又はメチルエチルケトキ
シモであり、Rはメチル又はビニルである)の低反応末
端基を有するものであり更に式Yb R(3-b ) SiO−
(式中、bは2又は3であり、Rはメチル基であり、各
Yはケトキシモ基およびメトキシから成る群から選ばれ
る加水分解性基である)を有する高反応末端基を有する
ものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シロキサンシーラント
のモジュラスを減少させることのできるポリジメチルシ
ロキサンに関する。
のモジュラスを減少させることのできるポリジメチルシ
ロキサンに関する。
【0002】
【従来の技術】シロキサンシーラントのモジュラスを減
少させるために、多くの方法が提案されてきている。シ
ロキサンシーラントのモジュラスを減少もしくは調製す
るためのポリジメチルシロキサンの製造方法は、196
6年9月20日に発行された、米国特許3,274,1
45においてジュプレーによって記載された方法によっ
て明らかにされる。
少させるために、多くの方法が提案されてきている。シ
ロキサンシーラントのモジュラスを減少もしくは調製す
るためのポリジメチルシロキサンの製造方法は、196
6年9月20日に発行された、米国特許3,274,1
45においてジュプレーによって記載された方法によっ
て明らかにされる。
【0003】1996年2月6日に発行された、米国特
許4,898,910においてカミス等は、シロキサン
シーラントのモジュラスを減少させる他の方法を教示し
ており、更にビニル末端ブロッキングおよびアルコキシ
シルエチレン末端ブロッキングの双方を有するポリジメ
チルシロキサンを示している。
許4,898,910においてカミス等は、シロキサン
シーラントのモジュラスを減少させる他の方法を教示し
ており、更にビニル末端ブロッキングおよびアルコキシ
シルエチレン末端ブロッキングの双方を有するポリジメ
チルシロキサンを示している。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らの発明は、式
XR2 SiO−(式中、Xはメトキシまたはメチルエチ
ルケトオキシモであり、更にRはメチルまたはビニルで
ある)を有する低反応性末端基および式Yb R(3-b) S
iO−(式中、bは2又は3であり、Rはメチル基であ
り、各Yはメトキシおよびメチルエチルケトオキシモか
ら成る群から選ばれる加水分解性基である。
XR2 SiO−(式中、Xはメトキシまたはメチルエチ
ルケトオキシモであり、更にRはメチルまたはビニルで
ある)を有する低反応性末端基および式Yb R(3-b) S
iO−(式中、bは2又は3であり、Rはメチル基であ
り、各Yはメトキシおよびメチルエチルケトオキシモか
ら成る群から選ばれる加水分解性基である。
【0005】本発明は、低反応性末端基と高反応性末端
基の双方を有するポリジメチルシロキサンの製造方法に
関し、この方法は、水分が成分と接触するのを排除する
条件下、ヒドロキシル末端ブロック化ポリジメチルシロ
キサンと式R(4-c) SiYc(式中、cは3又は4であ
り、各Yはケトオキシモ基およびメトキシ基から成る群
から選ばれる加水分解性基であり、そしてRはメチル基
である)で表わされる加水分解性シランとを混合し、次
いでその後式R2 SiX2 (式中、XはN−メチルアセ
トアミドであり、そしてRはメチルまたはビニル基であ
る)で表わされる加水分解性シランを添加することを含
んでなる。
基の双方を有するポリジメチルシロキサンの製造方法に
関し、この方法は、水分が成分と接触するのを排除する
条件下、ヒドロキシル末端ブロック化ポリジメチルシロ
キサンと式R(4-c) SiYc(式中、cは3又は4であ
り、各Yはケトオキシモ基およびメトキシ基から成る群
から選ばれる加水分解性基であり、そしてRはメチル基
である)で表わされる加水分解性シランとを混合し、次
いでその後式R2 SiX2 (式中、XはN−メチルアセ
トアミドであり、そしてRはメチルまたはビニル基であ
る)で表わされる加水分解性シランを添加することを含
んでなる。
【0006】本発明のポリジメチルシロキサンは、種々
の分子種の混合物を含んでなる。それらの粘度は、好ま
しくは3〜400Pa・s(パスカル−秒)である。ポリ
ジメチルシロキサンは、好ましくは0%超から30%未
満の末端基が低活性でありそして70%以上から10%
未満の末端基が高活性である分子種の混合物である。こ
の混合物において、ある分子は低活性又は高活性のいず
れかとして双方の活性を有することができる。そして、
ある分子は、1個の末端低活性を有し更に他の末端高活
性を有することができるが、しかし、混合物の平均は、
上記の範囲内に入るであろう。これらのポリジメチルシ
ロキサンの混合物は、他の成分と一緒にする前に製造で
きるか、又はそれらはその場で製造できる。最も好まし
いポリジメチルシロキサンは、5〜20%の末端基が低
活性であり、そして80〜95%の末端基が高活性であ
るようなものである。これらの好ましいポリジメチルシ
ロキサンは、建築におけるシーラント接合部に対して好
ましい低分子シーラントを与える。
の分子種の混合物を含んでなる。それらの粘度は、好ま
しくは3〜400Pa・s(パスカル−秒)である。ポリ
ジメチルシロキサンは、好ましくは0%超から30%未
満の末端基が低活性でありそして70%以上から10%
未満の末端基が高活性である分子種の混合物である。こ
の混合物において、ある分子は低活性又は高活性のいず
れかとして双方の活性を有することができる。そして、
ある分子は、1個の末端低活性を有し更に他の末端高活
性を有することができるが、しかし、混合物の平均は、
上記の範囲内に入るであろう。これらのポリジメチルシ
ロキサンの混合物は、他の成分と一緒にする前に製造で
きるか、又はそれらはその場で製造できる。最も好まし
いポリジメチルシロキサンは、5〜20%の末端基が低
活性であり、そして80〜95%の末端基が高活性であ
るようなものである。これらの好ましいポリジメチルシ
ロキサンは、建築におけるシーラント接合部に対して好
ましい低分子シーラントを与える。
【0007】低活性末端基は、次式Xa R(3-a) SiO
−(式中、aは0又は1であり、Rは1価の炭化水素基
であり、XはR,HO−、又は少なくとも1個の炭素原
子を有する加水分解性基である)を有する。高活性末端
基は、次式Xb R(3-b) SiO−又はYb R(3-b) Si
CH2 CH2 −(式中、bは2又は3であり、Rは1価
の炭化水素基であり、Yは少なくとも1個の炭素原子を
有する加水分解性基である)を有する。
−(式中、aは0又は1であり、Rは1価の炭化水素基
であり、XはR,HO−、又は少なくとも1個の炭素原
子を有する加水分解性基である)を有する。高活性末端
基は、次式Xb R(3-b) SiO−又はYb R(3-b) Si
CH2 CH2 −(式中、bは2又は3であり、Rは1価
の炭化水素基であり、Yは少なくとも1個の炭素原子を
有する加水分解性基である)を有する。
【0008】ポリジメチルシロキサンは、両端にヒドロ
キシル基を有するポリジメチルシロキサンと、分子当た
り少なくとも3個の加水分解性基を有するシランと反応
させることによって製造することができそして該シラン
は式A R(4-c) SiYc (式中、cは3又は4であ
り、好ましくはcは3であり、Yはケトオキシモおよび
メトキシであり、Rはメチルである)を有する。
キシル基を有するポリジメチルシロキサンと、分子当た
り少なくとも3個の加水分解性基を有するシランと反応
させることによって製造することができそして該シラン
は式A R(4-c) SiYc (式中、cは3又は4であ
り、好ましくはcは3であり、Yはケトオキシモおよび
メトキシであり、Rはメチルである)を有する。
【0009】式Aのシランの量は、ポリジメチルシロキ
サンのより少ないヒドロキシル基と反応するのに十分な
量である。高反応シランに対し、この量はポリジメチル
シロキサンのヒドロキシル基に対し1個以下のシラン分
子であってよい。より低い活性を有するシランに対し、
式Aのシランの量は、ポリジメチルシロキサンの1個ヒ
ドロキシル基当たり、1個以上のシラン分子であってよ
い。後者の場合、式Bのシランは式Aのシランがポリジ
メチルシロキサンのヒドロキシル基と完全に反応する前
に添加され得る。式Aのシランが、ポリジメチルシロキ
サンのヒドロキシル基と反応した後、分子当たり2個の
加水分解性基を有するシランが添加される。これらのシ
ランは好ましくは、ポリジメチルシロキサンのヒドロキ
シルと速い反応時間を有する。分子当たり、2個の加水
分解性基を有するシランは、式BR2 SiX2 (式中、
RおよびXは上述の通りである)を有する。このような
シランは、メチルビニルビス(N−メチルアセトアミ
ド)シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジア
セトキシシラン、ジメチルビス(エチルメチルケトキシ
モ)シランおよびメチルビニルジエトキシシランによっ
て説明される。Rは1価の炭化水素基であり、そしてメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、フェニ
ル、シクロヘキシル、ビニル、アリル、ヘキセニルおよ
びシクロヘキセニルによって例示される。Yは加水分解
性基であり、アルコキシ基例えばメトキシ、エトキシ、
n−プロポキシ、およびブトキシ;ケトオキシモ基、例
えばエチルメチルケトオキシモおよびジメチルケトオキ
シ;式
サンのより少ないヒドロキシル基と反応するのに十分な
量である。高反応シランに対し、この量はポリジメチル
シロキサンのヒドロキシル基に対し1個以下のシラン分
子であってよい。より低い活性を有するシランに対し、
式Aのシランの量は、ポリジメチルシロキサンの1個ヒ
ドロキシル基当たり、1個以上のシラン分子であってよ
い。後者の場合、式Bのシランは式Aのシランがポリジ
メチルシロキサンのヒドロキシル基と完全に反応する前
に添加され得る。式Aのシランが、ポリジメチルシロキ
サンのヒドロキシル基と反応した後、分子当たり2個の
加水分解性基を有するシランが添加される。これらのシ
ランは好ましくは、ポリジメチルシロキサンのヒドロキ
シルと速い反応時間を有する。分子当たり、2個の加水
分解性基を有するシランは、式BR2 SiX2 (式中、
RおよびXは上述の通りである)を有する。このような
シランは、メチルビニルビス(N−メチルアセトアミ
ド)シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジア
セトキシシラン、ジメチルビス(エチルメチルケトキシ
モ)シランおよびメチルビニルジエトキシシランによっ
て説明される。Rは1価の炭化水素基であり、そしてメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、フェニ
ル、シクロヘキシル、ビニル、アリル、ヘキセニルおよ
びシクロヘキセニルによって例示される。Yは加水分解
性基であり、アルコキシ基例えばメトキシ、エトキシ、
n−プロポキシ、およびブトキシ;ケトオキシモ基、例
えばエチルメチルケトオキシモおよびジメチルケトオキ
シ;式
【0010】
【化1】
【0011】(式中、R' はC1-8 アルキル、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、オクチルである)で
表わされるカルボキレート;アミド基例えばN−メチル
アセトアミドおよびN−メチルベンズアミド;およびア
ルケニルオキシ例えばビニルオキシであってよい。用い
られる式Aのシランの量および式Bのシランの量は、所
望のモジュラスを得るのに変化し得る。式Aのシランの
量を減少させることおよび式Bのシランの量を増加させ
ることは、得られた硬化弾性ポリオルガノシロキサン、
すなわちシーラントのモジュラスを減少させる。いくつ
かのシランは、触媒なしで室温でポリジメチルシロキサ
ンのケイ素−結合ヒドロキシル基(シロキサノール)と
容易に反応するが、一方他のものは加熱、反応用触媒の
存在のいずれか又は双方を要求する。触媒なしでシロキ
サノールと容易に反応する、これらのシランは、この方
法によりポリジメチルシロキサンを調製するのに好まし
く用いられる。
チル、エチル、プロピル、ブチル、オクチルである)で
表わされるカルボキレート;アミド基例えばN−メチル
アセトアミドおよびN−メチルベンズアミド;およびア
ルケニルオキシ例えばビニルオキシであってよい。用い
られる式Aのシランの量および式Bのシランの量は、所
望のモジュラスを得るのに変化し得る。式Aのシランの
量を減少させることおよび式Bのシランの量を増加させ
ることは、得られた硬化弾性ポリオルガノシロキサン、
すなわちシーラントのモジュラスを減少させる。いくつ
かのシランは、触媒なしで室温でポリジメチルシロキサ
ンのケイ素−結合ヒドロキシル基(シロキサノール)と
容易に反応するが、一方他のものは加熱、反応用触媒の
存在のいずれか又は双方を要求する。触媒なしでシロキ
サノールと容易に反応する、これらのシランは、この方
法によりポリジメチルシロキサンを調製するのに好まし
く用いられる。
【0012】ポリジメチルシロキサンの好ましい製造方
法は、ヒドロキシル末端ポリジメチルシロキサンと、式
R(4-c) SiYc (式中、cは3又は4であり、いくつ
かのYはケトオキシモ基であり更にいくつかのYはメト
キシ基であり、Rはメチル基である)の加水分解性シラ
ン(B)と混合し、次いでかかる後、式R2 SiX
2(式中、XはN−メチルアセトアミドであり、Rはメ
チルまたはビニル基である)の加水分解性シランを添加
することである。これらの混合物は、それらを水分と接
触することから保護し(A)(ここで低反応末端は式X
R2 SiO−(ここでXはメトキシまたはメチルエチル
ケトオキシモであり、Rはメチルまたはビニルである)
を有する)のポリジメチルシロキサンの製造する環境に
おいて室温で混合することにより単に反応し得る。高反
応末端基は、式Yb R(3-b) SiO−(式中、bは2又
は3であり、Rはメチル基であり、いくつかのYはケト
オキシモ基であり、いくつかのYはメトキシ基である)
を有する。
法は、ヒドロキシル末端ポリジメチルシロキサンと、式
R(4-c) SiYc (式中、cは3又は4であり、いくつ
かのYはケトオキシモ基であり更にいくつかのYはメト
キシ基であり、Rはメチル基である)の加水分解性シラ
ン(B)と混合し、次いでかかる後、式R2 SiX
2(式中、XはN−メチルアセトアミドであり、Rはメ
チルまたはビニル基である)の加水分解性シランを添加
することである。これらの混合物は、それらを水分と接
触することから保護し(A)(ここで低反応末端は式X
R2 SiO−(ここでXはメトキシまたはメチルエチル
ケトオキシモであり、Rはメチルまたはビニルである)
を有する)のポリジメチルシロキサンの製造する環境に
おいて室温で混合することにより単に反応し得る。高反
応末端基は、式Yb R(3-b) SiO−(式中、bは2又
は3であり、Rはメチル基であり、いくつかのYはケト
オキシモ基であり、いくつかのYはメトキシ基である)
を有する。
【0013】本発明のポリジメチルシロキサンは、低反
応末端基と高反応末端基の双方を有する。高反応末端基
に対する低反応末端基の割合は、ポリジメチルシロキサ
ンを用いて得られるシーラントのモジュラスに直接の影
響を与える。他の因子は同等であり、シーラントを製造
するために用いられるポリジメチルシロキサンの低反応
性末端基の濃度を増加させ、硬化したシーラントのモジ
ュラスを減少させる。本発明のポリジメチルシロキサン
は、低モジュラスのシーラントを与える一方で、シーラ
ント組成中のより少ない未反応シロキサン種を与える。
応末端基と高反応末端基の双方を有する。高反応末端基
に対する低反応末端基の割合は、ポリジメチルシロキサ
ンを用いて得られるシーラントのモジュラスに直接の影
響を与える。他の因子は同等であり、シーラントを製造
するために用いられるポリジメチルシロキサンの低反応
性末端基の濃度を増加させ、硬化したシーラントのモジ
ュラスを減少させる。本発明のポリジメチルシロキサン
は、低モジュラスのシーラントを与える一方で、シーラ
ント組成中のより少ない未反応シロキサン種を与える。
【0014】本発明のポリジメチルシロキサンを用いる
幾つかの好ましいポリオルガノシロキサン弾性シーラン
トは、空気と硬化したシーラントの間の接触面で疎シロ
キサ表面層を有するものを含む。疎シロキサ表面層、疎
シロキサ性と親水性の双方でありそして空気−シーラン
ト接触面で比較的に薄い層であり、該接触面はシロキサ
ン種の移行を阻害し、この種は硬化シーラントマトリッ
クスへ未反応でありそしてシーラントマトリックスから
空気−シーラント接触面に移行する。疎シロキサ表面層
は、シロキサンをしてシーラントマトリックスからシー
ラント表面および隣接基材、例えば建設材料へ容易には
移行せしめない。疎シロキサ表面層は又ほこりの堆積の
形成;又は硬化シーラントの表面のよごれを阻害する。
加えて、疎シロキサ表面層は塗料が接着するものとなり
得る。
幾つかの好ましいポリオルガノシロキサン弾性シーラン
トは、空気と硬化したシーラントの間の接触面で疎シロ
キサ表面層を有するものを含む。疎シロキサ表面層、疎
シロキサ性と親水性の双方でありそして空気−シーラン
ト接触面で比較的に薄い層であり、該接触面はシロキサ
ン種の移行を阻害し、この種は硬化シーラントマトリッ
クスへ未反応でありそしてシーラントマトリックスから
空気−シーラント接触面に移行する。疎シロキサ表面層
は、シロキサンをしてシーラントマトリックスからシー
ラント表面および隣接基材、例えば建設材料へ容易には
移行せしめない。疎シロキサ表面層は又ほこりの堆積の
形成;又は硬化シーラントの表面のよごれを阻害する。
加えて、疎シロキサ表面層は塗料が接着するものとなり
得る。
【0015】このようなシーラントは、疎シロキサ表面
層を形成する室温加硫性ポリオルガノシロキサン組成物
を硬化させることによって得られる。少なくとも6個の
炭素原子を有する少なくとも1個のパーフルオロアルキ
ル基を含有するフッ化炭素化合物および室温加硫性ポリ
オルガノシロキサン組成物中の乾性油は、組成物を硬化
させたとき、空気−シーラント接触面で疎シロキサ表面
層を形成し、この接触面はフッ化炭素化合物と乾性油酸
化生成物を含んでなる。乾性油酸化生成物は、疎シロキ
サ表面層の疎シロキサ特性を増加させそして又オイルを
基材とする塗料又はラテックスを基材とする塗料によっ
て彩色できる表面を提供する。好ましいフッ化炭素化合
物はフッ化炭素アルコール又はフッ化炭素アルコール誘
導体である。
層を形成する室温加硫性ポリオルガノシロキサン組成物
を硬化させることによって得られる。少なくとも6個の
炭素原子を有する少なくとも1個のパーフルオロアルキ
ル基を含有するフッ化炭素化合物および室温加硫性ポリ
オルガノシロキサン組成物中の乾性油は、組成物を硬化
させたとき、空気−シーラント接触面で疎シロキサ表面
層を形成し、この接触面はフッ化炭素化合物と乾性油酸
化生成物を含んでなる。乾性油酸化生成物は、疎シロキ
サ表面層の疎シロキサ特性を増加させそして又オイルを
基材とする塗料又はラテックスを基材とする塗料によっ
て彩色できる表面を提供する。好ましいフッ化炭素化合
物はフッ化炭素アルコール又はフッ化炭素アルコール誘
導体である。
【0016】乾性油は、少なくとも10個の炭素原子を
有する不飽和脂肪酸およびアルコールから誘導されたエ
ステル化合物であってよい。未反応の脂肪酸には、オレ
イン酸、リノール酸、リノレン酸、エレオステアリン
酸、リカン酸、リシノール酸およびアラキドン酸が含ま
れる。エステル化合物は混合物を含み、この混合物は好
ましくは、少なくとも10個の炭素原子を有する不飽和
脂肪酸から造られたエステル化合物の少なくとも80重
量%を含有する。不飽和脂肪酸エステルの多くは、植物
および動物起源から得られる天然の乾燥油に見出され例
えばアマニ油、キリ油、大豆油、キャスター (caster)
油、魚油、麻実油、綿実油、オイチシカ油および菜種油
によって明らかにされる。
有する不飽和脂肪酸およびアルコールから誘導されたエ
ステル化合物であってよい。未反応の脂肪酸には、オレ
イン酸、リノール酸、リノレン酸、エレオステアリン
酸、リカン酸、リシノール酸およびアラキドン酸が含ま
れる。エステル化合物は混合物を含み、この混合物は好
ましくは、少なくとも10個の炭素原子を有する不飽和
脂肪酸から造られたエステル化合物の少なくとも80重
量%を含有する。不飽和脂肪酸エステルの多くは、植物
および動物起源から得られる天然の乾燥油に見出され例
えばアマニ油、キリ油、大豆油、キャスター (caster)
油、魚油、麻実油、綿実油、オイチシカ油および菜種油
によって明らかにされる。
【0017】好ましいポリオルガノシロキサン弾性シー
ラントは、疎シロキサ表面層が、その中にフルオロカー
ボンアルコールを含むものでありそして乾性油酸化生成
物は桐油酸化生成物である。25℃で50%の相対湿度
の大気雰囲気に7日間さらした後、500%以上の破断
点伸び、600kPa (キロ−パスカル)以上の破断点引
張り強さおよび800kPa 未満100%伸び率における
モジュラスを有し、ここでこれらの値はASTM D−
412手順によって測定されるようなポリオルガノシロ
キサン弾性シーラントが好ましい。これらのシーラント
は、ASTM D 3971−69の手順を用い15%
未満の抽出可能物質をも有し、ここにおいてトルエンが
溶剤として用いられ、時間は24時間であり、そしてシ
ーラントは3.175mm×3.175mm×2.54mmの
1片に切断された。硬化してこれらの性質を疎シロキサ
表面層を与えるポリオルガノシロキサン弾性シーラント
組成物は好ましい。同時にそれらは、独得の長期透明シ
ーラント表面並びに硬化シーラントに隣接した長期間透
明な基板を与える。同時に、それらはシールを形成する
ため自身を有利にしつつそれらの性質を維持し、ここで
膨張と集中が例えば建物における基材の加熱および冷却
から生じる。弾性ポリジメチルシロキサン組成物は、1
個又は2個のパッケージに包装できる。このようなパー
ケージは周知である。
ラントは、疎シロキサ表面層が、その中にフルオロカー
ボンアルコールを含むものでありそして乾性油酸化生成
物は桐油酸化生成物である。25℃で50%の相対湿度
の大気雰囲気に7日間さらした後、500%以上の破断
点伸び、600kPa (キロ−パスカル)以上の破断点引
張り強さおよび800kPa 未満100%伸び率における
モジュラスを有し、ここでこれらの値はASTM D−
412手順によって測定されるようなポリオルガノシロ
キサン弾性シーラントが好ましい。これらのシーラント
は、ASTM D 3971−69の手順を用い15%
未満の抽出可能物質をも有し、ここにおいてトルエンが
溶剤として用いられ、時間は24時間であり、そしてシ
ーラントは3.175mm×3.175mm×2.54mmの
1片に切断された。硬化してこれらの性質を疎シロキサ
表面層を与えるポリオルガノシロキサン弾性シーラント
組成物は好ましい。同時にそれらは、独得の長期透明シ
ーラント表面並びに硬化シーラントに隣接した長期間透
明な基板を与える。同時に、それらはシールを形成する
ため自身を有利にしつつそれらの性質を維持し、ここで
膨張と集中が例えば建物における基材の加熱および冷却
から生じる。弾性ポリジメチルシロキサン組成物は、1
個又は2個のパッケージに包装できる。このようなパー
ケージは周知である。
【0018】疎シロキサ表面層は、空気−シーラント接
触面で密に包装された表面層であると考えられ、そして
この層は表面エネルギーに寄与する著るしい低い分散力
を有し、そして未反応のシリコーン種は容易にはこの表
面層内を移行しない。疎シロキサ表面層は表面エネルギ
ーを有し、このエネルギーは分散力成分と極性力成分を
有し、ここで分散力成分は15 dynes/cm2 未満かそれ
に等しくそして極性力成分は0 dynes/cm2 以上であ
る。疎シロキサ表面層は空気−シーラント接触面で形成
しそして基材−シーラント接触面、例えばシーラントと
基材、例えばガラス、アルミニウム、コンクリート等間
の接触面で形成しないように思われる。従って、疎シロ
キサ表面層は、基材に対するシーラントの接着は実質的
に変化しないという点で独得である。
触面で密に包装された表面層であると考えられ、そして
この層は表面エネルギーに寄与する著るしい低い分散力
を有し、そして未反応のシリコーン種は容易にはこの表
面層内を移行しない。疎シロキサ表面層は表面エネルギ
ーを有し、このエネルギーは分散力成分と極性力成分を
有し、ここで分散力成分は15 dynes/cm2 未満かそれ
に等しくそして極性力成分は0 dynes/cm2 以上であ
る。疎シロキサ表面層は空気−シーラント接触面で形成
しそして基材−シーラント接触面、例えばシーラントと
基材、例えばガラス、アルミニウム、コンクリート等間
の接触面で形成しないように思われる。従って、疎シロ
キサ表面層は、基材に対するシーラントの接着は実質的
に変化しないという点で独得である。
【0019】湿気に暴露したとき、室温でエラストマー
に硬化するが、湿気から保護される場合未硬化のまゝで
あるポリオルガノシロキサン組成物は、低反応性末端基
と高反応性末端基を有するポリジメチルシロキサン、加
水分解性シラン、フルオロカーボンアルコールである
か、又はフルオロカーボンアルコール並びにフルオロカ
ーボンアルコールと加水分解性シランの反応生成物の混
合物である疎シロキサ剤および充てん剤から形成され
る。
に硬化するが、湿気から保護される場合未硬化のまゝで
あるポリオルガノシロキサン組成物は、低反応性末端基
と高反応性末端基を有するポリジメチルシロキサン、加
水分解性シラン、フルオロカーボンアルコールである
か、又はフルオロカーボンアルコール並びにフルオロカ
ーボンアルコールと加水分解性シランの反応生成物の混
合物である疎シロキサ剤および充てん剤から形成され
る。
【0020】加水分解性シーラントは、式R(4-c) Si
Yc を有し、式中、Rは1価の炭化水素基であり、Yは
少なくとも1個の炭素原子を有する加水分解性基であ
り、cは2から4までの平均値である。これらの加水分
解性シーラントは、好ましくは3又は4個のY基を有す
る。Yはケトオキシモ、アルコキシ、アシルオキシ、ア
ルケニルオキシおよびアミドである。ケトオキシモは−
O−N=Xであってよく、式中、XはR''2=又は
Yc を有し、式中、Rは1価の炭化水素基であり、Yは
少なくとも1個の炭素原子を有する加水分解性基であ
り、cは2から4までの平均値である。これらの加水分
解性シーラントは、好ましくは3又は4個のY基を有す
る。Yはケトオキシモ、アルコキシ、アシルオキシ、ア
ルケニルオキシおよびアミドである。ケトオキシモは−
O−N=Xであってよく、式中、XはR''2=又は
【0021】
【化2】
【0022】(式中、R''は1〜5個の炭素原子のアル
キル、フェニル又はビニルであり、R''' は2価の炭化
水素基である)であってよい。Yがケトオキシモである
加水分解性シーラントの例には、MeSi(O−N=C
MeEt)3,ViSi(O−N=CMeEt)3,Si
(O−N=CMeEt)4およびPbSi(O−N=CM
eEt)3が含まれる。これらのおよび他のケトオキシモ
シーラントは、1965年5月18日に発行された米国
特許3,184,427(ラッセル等)および1965
年6月15日に発行された米国特許3,189,576
(スイート)に見出される。ケトオキシモシランは、そ
れらの中性の性質反応性および硬化性の故に好ましい。
キル、フェニル又はビニルであり、R''' は2価の炭化
水素基である)であってよい。Yがケトオキシモである
加水分解性シーラントの例には、MeSi(O−N=C
MeEt)3,ViSi(O−N=CMeEt)3,Si
(O−N=CMeEt)4およびPbSi(O−N=CM
eEt)3が含まれる。これらのおよび他のケトオキシモ
シーラントは、1965年5月18日に発行された米国
特許3,184,427(ラッセル等)および1965
年6月15日に発行された米国特許3,189,576
(スイート)に見出される。ケトオキシモシランは、そ
れらの中性の性質反応性および硬化性の故に好ましい。
【0023】Yはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシおよびメトキシエトキシによって例示され
る。Yがアルコキシである加水分解性シーラントの例に
は、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、テトラエチルオルトシリケート、テトラメチ
ルオルトシリケート、エチルトリメトキシシラン、プロ
ピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシ
ラン、ペンチルトリイソプロポキシシラン、メチルジメ
トキシエトキシシランおよびメチルジエトキシメトキシ
シランが含まれる。
ソプロポキシおよびメトキシエトキシによって例示され
る。Yがアルコキシである加水分解性シーラントの例に
は、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、テトラエチルオルトシリケート、テトラメチ
ルオルトシリケート、エチルトリメトキシシラン、プロ
ピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシ
ラン、ペンチルトリイソプロポキシシラン、メチルジメ
トキシエトキシシランおよびメチルジエトキシメトキシ
シランが含まれる。
【0024】Yはアセトキシおよびオクタノイルオキシ
によって説明される如きアシルオキシである。Yがアシ
ルオキシである加水分解性シーラントの例には、メチル
トリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、
ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリオクタノイル
オキシシラン、プロピルトリアセトキシシラン、フェニ
ルトリアセトキシシランおよびエチルトリオクタノイル
オキシシランが含まれる。
によって説明される如きアシルオキシである。Yがアシ
ルオキシである加水分解性シーラントの例には、メチル
トリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、
ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリオクタノイル
オキシシラン、プロピルトリアセトキシシラン、フェニ
ルトリアセトキシシランおよびエチルトリオクタノイル
オキシシランが含まれる。
【0025】Yはプロペノキシ、イソプロペノキシおよ
びブテノキシによって説明される如きアルケノキシであ
ってよい。Yがアルケノキシである加水分解性シーラン
トの例には、メチルトリプロペノキシシラン、エチルト
リプロペノキシシランおよびビニルトリプロペノキシシ
ランが含まれる。YはN−メチルアセトアミド、N−エ
チルアセトアミド、N−エチルベンズアミド、N−フェ
ニルアセトアミドおよびN−プロピルプロピオンアミド
によって説明されるアミドであってよい。Yがアミドで
ある加水分解性シーラントの例には、メチルトリ(N−
メチルアセトアミド)シランおよびビニルトリ(N−メ
チルアセトアミド)シランが含まれる。アミドシラン
は、1973年12月4日に発行された米国特許3,7
76,933においてトポルセル等によって示される。
びブテノキシによって説明される如きアルケノキシであ
ってよい。Yがアルケノキシである加水分解性シーラン
トの例には、メチルトリプロペノキシシラン、エチルト
リプロペノキシシランおよびビニルトリプロペノキシシ
ランが含まれる。YはN−メチルアセトアミド、N−エ
チルアセトアミド、N−エチルベンズアミド、N−フェ
ニルアセトアミドおよびN−プロピルプロピオンアミド
によって説明されるアミドであってよい。Yがアミドで
ある加水分解性シーラントの例には、メチルトリ(N−
メチルアセトアミド)シランおよびビニルトリ(N−メ
チルアセトアミド)シランが含まれる。アミドシラン
は、1973年12月4日に発行された米国特許3,7
76,933においてトポルセル等によって示される。
【0026】加水分解性シーラントは、Y基が同じシラ
ンにおいて異なるものであってよい。例えば、シラン
(B)はいくつかのYがケトオキシモであり、そしてい
くつかのYがアルコキシであるようなものである。この
ようなシランは、1987年4月14日発行された米国
特許4,657,967におけるケロゾスキー等によ
り、更に1990年11月27日に発行された米国特許
4,973,623におけるハンギスバイにより記載さ
れており、後者の特許はエトキシ−ケトオキシモシラン
とそれらの製法の両者を含むシランを示す。
ンにおいて異なるものであってよい。例えば、シラン
(B)はいくつかのYがケトオキシモであり、そしてい
くつかのYがアルコキシであるようなものである。この
ようなシランは、1987年4月14日発行された米国
特許4,657,967におけるケロゾスキー等によ
り、更に1990年11月27日に発行された米国特許
4,973,623におけるハンギスバイにより記載さ
れており、後者の特許はエトキシ−ケトオキシモシラン
とそれらの製法の両者を含むシランを示す。
【0027】加水分解性シランの量は、ポリジメチルシ
ロキサンを架橋するため並びに容器に包装した場合、湿
気の侵入から弾性ポリジメチルシロキサン組成物を保護
するために必要な量である。この量は好ましくはシロキ
サノール当たり少なくとも1モルのシランである。その
ような量は、組成物の重量基準で通常1〜10重量%の
シランである。
ロキサンを架橋するため並びに容器に包装した場合、湿
気の侵入から弾性ポリジメチルシロキサン組成物を保護
するために必要な量である。この量は好ましくはシロキ
サノール当たり少なくとも1モルのシランである。その
ような量は、組成物の重量基準で通常1〜10重量%の
シランである。
【0028】疎シロキサ剤は、硬化した弾性ポリオルガ
ノシラン組成物の疎シロキサ表面層を提供する物質の一
種である。この疎シロキサ剤は、フルオロカーボンアル
コール、フルオロカーボンアルコールと加水分解性シラ
ンの反応生成物、又はフルオロカーボンアルコール並び
にフルオロカーボンアルコールと加水分解性シランの反
応生成物との混合物である。フルオロカーボンアルコー
ルは、式Cx F(2x+1)- 基(式中、xは少なくとも6の
平均値を有する)で表わされる少なくとも1個のフルオ
ロカーボン基を含有する。xが6未満であるフルオロカ
ーボンを有するフルオロカーボンアルコールは、シロキ
サン種がシーラントの表面に移行するのを防止しない。
好ましくは、フルオロカーボンアルコールは、xが平均
値6〜20を有するフルオロカーボン基を有するもので
ある。フルオロカーボンアルコールは商業的に入手で
き、次式
ノシラン組成物の疎シロキサ表面層を提供する物質の一
種である。この疎シロキサ剤は、フルオロカーボンアル
コール、フルオロカーボンアルコールと加水分解性シラ
ンの反応生成物、又はフルオロカーボンアルコール並び
にフルオロカーボンアルコールと加水分解性シランの反
応生成物との混合物である。フルオロカーボンアルコー
ルは、式Cx F(2x+1)- 基(式中、xは少なくとも6の
平均値を有する)で表わされる少なくとも1個のフルオ
ロカーボン基を含有する。xが6未満であるフルオロカ
ーボンを有するフルオロカーボンアルコールは、シロキ
サン種がシーラントの表面に移行するのを防止しない。
好ましくは、フルオロカーボンアルコールは、xが平均
値6〜20を有するフルオロカーボン基を有するもので
ある。フルオロカーボンアルコールは商業的に入手で
き、次式
【0029】
【化3】
【0030】(式中、gは6から20までの値である)
によって示される。商品としての混合物は、gが平均
7.5を有するものにおいて市販され、そしてgが4か
ら8の範囲の種を含む。このような混合物は、FC−1
0であり、これはミネソタ マイニング アンド マニ
ュファクチャリング カンパニ(3M),ミネアポリ
ス,ミネソタにより市販されている。3Mによって市販
されている他の商業的混合物はFC−170cであり、
これはフルオロカーボンアルコールであり次の平均の式
によって示される。商品としての混合物は、gが平均
7.5を有するものにおいて市販され、そしてgが4か
ら8の範囲の種を含む。このような混合物は、FC−1
0であり、これはミネソタ マイニング アンド マニ
ュファクチャリング カンパニ(3M),ミネアポリ
ス,ミネソタにより市販されている。3Mによって市販
されている他の商業的混合物はFC−170cであり、
これはフルオロカーボンアルコールであり次の平均の式
【0031】
【化4】
【0032】を有し、更にFC−171であり、これは
フルオロカーボンアルコールであり、次の平均の式
フルオロカーボンアルコールであり、次の平均の式
【0033】
【化5】
【0034】を有する。他の商業的に入手可能なフルオ
ロカーボンアルコールには、Cx F(2x+1)CH 2 CH2
OHとCx F(2x+1)CH2 CH2 O(CH2 CH2 O)
f H(両式中、xは4〜20であり、fは正の整数であ
る)が含まれる。疎シロキサ剤は、好ましくはフルオロ
カーボンアルコールと加水分解性シランの反応生成物で
ある。疎シロキサ剤は、疎シロキサ反応生成物の混合物
であり、この混合物は、成分、好ましくは加水分解性シ
ラン1モル当たりフルオロカーボンアルコール0.1モ
ルが接触することから湿気を排除する条件のもとで、少
なくとも0.01モルのフルオロカーボンアルコール
と、1モルの加水分解性シランを混合させることによっ
て製造される。フルオロカーボンアルコールは、それ自
身によって用いられることができるが、あるものは室温
で固体であり更に取扱い並びに他の成分との混合は完全
には受容されない。生成混合物は、幾分かのフルオロカ
ーボンアルコールが加水分解性シランと反応しC−O−
Si結合を形成するまで加熱される。生成反応混合物は
未反応の加水分解性シラン、未反応フルオロカーボンア
ルコール並びにフルオロカーボンアルコールと加水分解
性シランの反応生成物であり、ここにおいて少なくとも
1個のY基は次の反応式
ロカーボンアルコールには、Cx F(2x+1)CH 2 CH2
OHとCx F(2x+1)CH2 CH2 O(CH2 CH2 O)
f H(両式中、xは4〜20であり、fは正の整数であ
る)が含まれる。疎シロキサ剤は、好ましくはフルオロ
カーボンアルコールと加水分解性シランの反応生成物で
ある。疎シロキサ剤は、疎シロキサ反応生成物の混合物
であり、この混合物は、成分、好ましくは加水分解性シ
ラン1モル当たりフルオロカーボンアルコール0.1モ
ルが接触することから湿気を排除する条件のもとで、少
なくとも0.01モルのフルオロカーボンアルコール
と、1モルの加水分解性シランを混合させることによっ
て製造される。フルオロカーボンアルコールは、それ自
身によって用いられることができるが、あるものは室温
で固体であり更に取扱い並びに他の成分との混合は完全
には受容されない。生成混合物は、幾分かのフルオロカ
ーボンアルコールが加水分解性シランと反応しC−O−
Si結合を形成するまで加熱される。生成反応混合物は
未反応の加水分解性シラン、未反応フルオロカーボンア
ルコール並びにフルオロカーボンアルコールと加水分解
性シランの反応生成物であり、ここにおいて少なくとも
1個のY基は次の反応式
【0035】
【化6】
【0036】によって表わされる如く、フルオロカーボ
ンアルコールによって置換される。疎シロキサ反応生成
物の混合物は、0%超から10%までのフルオロカーボ
ンアルコールとシランの反応生成物である。これらの反
応生成物の混合物は、特にフルオロカーボンアルコール
とシランの反応生成物が50%未満の疎シロキサ反応混
合物である場合、好ましい疎シロキサ剤を与える。
ンアルコールによって置換される。疎シロキサ反応生成
物の混合物は、0%超から10%までのフルオロカーボ
ンアルコールとシランの反応生成物である。これらの反
応生成物の混合物は、特にフルオロカーボンアルコール
とシランの反応生成物が50%未満の疎シロキサ反応混
合物である場合、好ましい疎シロキサ剤を与える。
【0037】好ましい疎シロキサ反応混合物は、フルオ
ロカーボンアルコールが次式
ロカーボンアルコールが次式
【0038】
【化7】
【0039】(式中、xは少なくとも6の平均値を有す
る)を有し、加水分解性シランが
る)を有し、加水分解性シランが
【0040】
【化8】
【0041】を有し、そしてフルオロカーボンアルコー
ルと加水分解性シランの反応生成物が次式
ルと加水分解性シランの反応生成物が次式
【0042】
【化9】
【0043】(式中、xは少なくとも6の平均値を有す
る)の化合物を含んでなる、ような混合物である。疎シ
ロキサ・反応混合物が好ましい。何故ならば、疎シロキ
サ表面層は、弾性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化
中に急速に形成されそしてシーラントがほこりの付着に
非常に傷つきやすい場合、表面はほこりおよび/又はし
みの蓄積に抵抗する。未知の機構を介した疎シロキサ反
応混合物は、未反応のフルオロカーボンアルコールの使
用におけるよりもより容易に疎シロキサ表面層を形成す
る、すなわち、フルオロカーボンアルコールは他の弾性
ポリジメチルシロキサン組成物の成分と単に混合され
る。疎シロキサ反応混合物は、溜めとして作用しそして
該混合物は年月と共に減るので疎シロキサ表面層を連続
的に新しくする。疎シロキサ表面層は又、シーラントを
提供し、このシーラントはシーラント表面並びに天候に
暴露した結果となり得るシーラントの隣接周囲領域の色
彩形成の遅延を示す。疎シロキサ表面層は、シーラント
が年月と共に変化する性質を保持する。何故なら、シロ
キサン成分は移行又は蒸発によって容易には失われない
が、しかしシーラントマトリックス中に保持される。疎
シロキサ反応混合物は、弾性ポリジメチルシロキサン組
成物の硬化特性に不都合には作用せず、そして種々の基
材、特に建物の建設で用いられる基材への接着は、疎シ
ロキサ反応混合物を組成物に添加することによって変わ
らないように思われる。疎シロキサ反応混合物は、小量
で使用できしかも長期間にわたってその有用な性質を与
える。量は、フルオロカーボンが組成物中に組成物を基
準にして0.1〜7重量%の量で、好ましくは1〜3重
量%の量で組成物中に存在する、そのような量である。
る)の化合物を含んでなる、ような混合物である。疎シ
ロキサ・反応混合物が好ましい。何故ならば、疎シロキ
サ表面層は、弾性ポリオルガノシロキサン組成物の硬化
中に急速に形成されそしてシーラントがほこりの付着に
非常に傷つきやすい場合、表面はほこりおよび/又はし
みの蓄積に抵抗する。未知の機構を介した疎シロキサ反
応混合物は、未反応のフルオロカーボンアルコールの使
用におけるよりもより容易に疎シロキサ表面層を形成す
る、すなわち、フルオロカーボンアルコールは他の弾性
ポリジメチルシロキサン組成物の成分と単に混合され
る。疎シロキサ反応混合物は、溜めとして作用しそして
該混合物は年月と共に減るので疎シロキサ表面層を連続
的に新しくする。疎シロキサ表面層は又、シーラントを
提供し、このシーラントはシーラント表面並びに天候に
暴露した結果となり得るシーラントの隣接周囲領域の色
彩形成の遅延を示す。疎シロキサ表面層は、シーラント
が年月と共に変化する性質を保持する。何故なら、シロ
キサン成分は移行又は蒸発によって容易には失われない
が、しかしシーラントマトリックス中に保持される。疎
シロキサ反応混合物は、弾性ポリジメチルシロキサン組
成物の硬化特性に不都合には作用せず、そして種々の基
材、特に建物の建設で用いられる基材への接着は、疎シ
ロキサ反応混合物を組成物に添加することによって変わ
らないように思われる。疎シロキサ反応混合物は、小量
で使用できしかも長期間にわたってその有用な性質を与
える。量は、フルオロカーボンが組成物中に組成物を基
準にして0.1〜7重量%の量で、好ましくは1〜3重
量%の量で組成物中に存在する、そのような量である。
【0044】エラストマーに硬化するポリジメチルシロ
キサンも又充填剤を含有できる。これらの充填剤は、シ
リコーンシーラントの配合に於て一般に用いられるもの
であってよく、そして双方の強化充填剤、例えばヒュー
ムドシリカ、疎水性ヒュームドシリカ、疎水化沈殿シリ
カおよびカーボンブラック並びに非強化充填剤、例えば
炭酸カルシウム、ステアリン酸処理炭酸カルシウム、沈
降炭酸カルシウム、微粉細石英、珪藻土、二酸化チタ
ン、アルミナ、酸化鉄、酸化マグネシウムおよび酸化亜
鉛が含まれる。炭酸カルシウム充填剤は、それらがフル
オロカーボンアルコールに対し溜めとして作用すると思
われるので好ましく、これは疎シロキサ剤の有用な寿命
を延ばす。
キサンも又充填剤を含有できる。これらの充填剤は、シ
リコーンシーラントの配合に於て一般に用いられるもの
であってよく、そして双方の強化充填剤、例えばヒュー
ムドシリカ、疎水性ヒュームドシリカ、疎水化沈殿シリ
カおよびカーボンブラック並びに非強化充填剤、例えば
炭酸カルシウム、ステアリン酸処理炭酸カルシウム、沈
降炭酸カルシウム、微粉細石英、珪藻土、二酸化チタ
ン、アルミナ、酸化鉄、酸化マグネシウムおよび酸化亜
鉛が含まれる。炭酸カルシウム充填剤は、それらがフル
オロカーボンアルコールに対し溜めとして作用すると思
われるので好ましく、これは疎シロキサ剤の有用な寿命
を延ばす。
【0045】エラストマーに硬化しそして疎シロキサ剤
を有するポリジメチルシロキサン組成物は、組成物基準
で少なくとも0.5重量%の乾性油を添加することによ
って疎シロキサ性が高められる。これらの乾性油は、前
記の如くでありそして硬化シーラントの疎シロキサ性を
増加する。それらは又オイルを基材とする塗料およびラ
テックス塗料の双方により塗布可能である表面を与える
が、ここにおいて塗料は基材の美感を高めるために用い
られる材料であり、同時に環境から保護し更に種々の色
に彩色される。好ましい乾性油は桐油である。桐油の如
き乾性油を用い場合、乾性油は使用直前に添加される
か、又は他の成分と混合して1個の包装シーラントとし
て知られている物内に入る。後者の場合に、空気のない
包装が必要とされる。何故なら、乾性油は大気中の酸素
と反応し、従って乾性油を含有する組成物はそれらを硬
化することが望ましい前に空気から保護されねばならな
い。ある乾性油はそれらの性質を達成するため促進剤の
使用を必要とする。促進剤は、それらが、シーラントの
他の性質、その貯蔵その硬化又はその製造を妨害しない
限り使用できる。これらの促進剤はドライヤーとして公
知である。また、乾性油と共に光開始剤の使用はこれら
の組成物において有用である。
を有するポリジメチルシロキサン組成物は、組成物基準
で少なくとも0.5重量%の乾性油を添加することによ
って疎シロキサ性が高められる。これらの乾性油は、前
記の如くでありそして硬化シーラントの疎シロキサ性を
増加する。それらは又オイルを基材とする塗料およびラ
テックス塗料の双方により塗布可能である表面を与える
が、ここにおいて塗料は基材の美感を高めるために用い
られる材料であり、同時に環境から保護し更に種々の色
に彩色される。好ましい乾性油は桐油である。桐油の如
き乾性油を用い場合、乾性油は使用直前に添加される
か、又は他の成分と混合して1個の包装シーラントとし
て知られている物内に入る。後者の場合に、空気のない
包装が必要とされる。何故なら、乾性油は大気中の酸素
と反応し、従って乾性油を含有する組成物はそれらを硬
化することが望ましい前に空気から保護されねばならな
い。ある乾性油はそれらの性質を達成するため促進剤の
使用を必要とする。促進剤は、それらが、シーラントの
他の性質、その貯蔵その硬化又はその製造を妨害しない
限り使用できる。これらの促進剤はドライヤーとして公
知である。また、乾性油と共に光開始剤の使用はこれら
の組成物において有用である。
【0046】エラストマーに硬化するポリジメチルシロ
キサン組成物は、許容できる時間内でシーラント特性と
なるのに有用な硬化用触媒を見出すことができる。加水
分解性シラン触媒が一般に必要である。例えば、アルコ
キシシランは満足できる期間内で硬化用触媒を必要と
し、そしてそのような触媒はスズ触媒、例えばジブチル
スズジカルボキシレート例えば、ジブチルスズジラウレ
ート、ジブチルジアセテート、ジブチルスズジオクトエ
ート、オクタン酸スズおよびスズ2−エチルヘキソエー
ト;およびチタン触媒、例えばテトラブチルチタネー
ト、テトライソプロピルチタネート、ビス−(アセチル
アセトニル)ジイソプロピルチタネート、および2,5
−ジイソプロポキシ−ビス−エチルアセトアセテートチ
タニウムが含まれる。これらの触媒はシリコーンシーラ
ントの業界において周知である。加水分解性シランに対
しケトオキシモシランを用いて製造される組成物は、好
ましくはスズ触媒とチタン触媒の混合物を含有する。好
ましい触媒は、ジブチルスズジラウレートおよび2,5
−ジイソプロポキシ−ビス−エチルアセトアセテートチ
タンである。好ましい量は、ポリジメチルシロキサン1
00重量部当たりスズ触媒0.05〜0.2重量部並び
にポリジメチルシロキサン100重量部当たりチタン触
媒0.1〜2重量部である。
キサン組成物は、許容できる時間内でシーラント特性と
なるのに有用な硬化用触媒を見出すことができる。加水
分解性シラン触媒が一般に必要である。例えば、アルコ
キシシランは満足できる期間内で硬化用触媒を必要と
し、そしてそのような触媒はスズ触媒、例えばジブチル
スズジカルボキシレート例えば、ジブチルスズジラウレ
ート、ジブチルジアセテート、ジブチルスズジオクトエ
ート、オクタン酸スズおよびスズ2−エチルヘキソエー
ト;およびチタン触媒、例えばテトラブチルチタネー
ト、テトライソプロピルチタネート、ビス−(アセチル
アセトニル)ジイソプロピルチタネート、および2,5
−ジイソプロポキシ−ビス−エチルアセトアセテートチ
タニウムが含まれる。これらの触媒はシリコーンシーラ
ントの業界において周知である。加水分解性シランに対
しケトオキシモシランを用いて製造される組成物は、好
ましくはスズ触媒とチタン触媒の混合物を含有する。好
ましい触媒は、ジブチルスズジラウレートおよび2,5
−ジイソプロポキシ−ビス−エチルアセトアセテートチ
タンである。好ましい量は、ポリジメチルシロキサン1
00重量部当たりスズ触媒0.05〜0.2重量部並び
にポリジメチルシロキサン100重量部当たりチタン触
媒0.1〜2重量部である。
【0047】エラストマーに硬化するポリジメチルシロ
キサン組成物は、好ましくはシラン接着促進剤を含有す
る。シーラントが接着され得る基材の幅は増加すること
ができ、並びに接着剤のコンシステンシーはシラン接着
促進剤の添加によって保持できる。接着促進剤として作
用するシランは、好ましくはアミノオルガノトリアルコ
キシシランおよびグリシドキシオルガノトリアルコキシ
シランである。アミノオルガノトリアルコキシシラン
は、γ−アミノプロピルトリエトキシシランおよびN−
β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ランによって例示される。グリシドキシオルガノトリア
ルコキシシランは、γ−(グリシドキシ)プロピルトリ
メトキシシランによって例示される。基材への接着剤の
提供に加え、これらのシランは又シーラント、特に成分
(B)としてケトオキシモシランを含む弾性ポリジメチ
ルシロキサン組成分の硬化速度を増加する。このような
シラン接着促進剤の量は、小量であり、通常組成物の1
重量%未満、好ましくは0.5重量%未満である。好ま
しいシラン接着促進剤は、アミノオルガノトリアルコキ
シシランとグリシドキシオルガノトリアルコキシシラン
の混合物である。
キサン組成物は、好ましくはシラン接着促進剤を含有す
る。シーラントが接着され得る基材の幅は増加すること
ができ、並びに接着剤のコンシステンシーはシラン接着
促進剤の添加によって保持できる。接着促進剤として作
用するシランは、好ましくはアミノオルガノトリアルコ
キシシランおよびグリシドキシオルガノトリアルコキシ
シランである。アミノオルガノトリアルコキシシラン
は、γ−アミノプロピルトリエトキシシランおよびN−
β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ランによって例示される。グリシドキシオルガノトリア
ルコキシシランは、γ−(グリシドキシ)プロピルトリ
メトキシシランによって例示される。基材への接着剤の
提供に加え、これらのシランは又シーラント、特に成分
(B)としてケトオキシモシランを含む弾性ポリジメチ
ルシロキサン組成分の硬化速度を増加する。このような
シラン接着促進剤の量は、小量であり、通常組成物の1
重量%未満、好ましくは0.5重量%未満である。好ま
しいシラン接着促進剤は、アミノオルガノトリアルコキ
シシランとグリシドキシオルガノトリアルコキシシラン
の混合物である。
【0048】エラストマーに硬化する好ましいポリジメ
チルシロキサン組成物は、非強化チキソトロープ剤を含
有し、このチキソトロープ剤は2,5−フランジオンと
1,3−ブタジエンのポリマーによって例示される。こ
れらの非強化チキソトロープ剤は、シーラントの疎オレ
オ特性を増加しそしてシーラントの疎シロキサ表面層の
性質を高める。チキソトロピーは、非強化チキソトロー
プ剤が炭酸カルシウム含有組成物と一緒に使用される場
合最高に高められる。
チルシロキサン組成物は、非強化チキソトロープ剤を含
有し、このチキソトロープ剤は2,5−フランジオンと
1,3−ブタジエンのポリマーによって例示される。こ
れらの非強化チキソトロープ剤は、シーラントの疎オレ
オ特性を増加しそしてシーラントの疎シロキサ表面層の
性質を高める。チキソトロピーは、非強化チキソトロー
プ剤が炭酸カルシウム含有組成物と一緒に使用される場
合最高に高められる。
【0049】以下の実施例は例示的目的のものであり、
請求の範囲で適宜に述べられた発明を制限するものと解
釈してはならない。実施例中、粘度は25℃で測定され
たものであり、部は重量部であり、Meはメチル基を表
わし、Viはビニル基を表わす。疎シロキサ反応混合物
は、密閉容器中、29部のフルオロカーボンアルコー
ル、3Mによって製造されたFC−10であって次式
請求の範囲で適宜に述べられた発明を制限するものと解
釈してはならない。実施例中、粘度は25℃で測定され
たものであり、部は重量部であり、Meはメチル基を表
わし、Viはビニル基を表わす。疎シロキサ反応混合物
は、密閉容器中、29部のフルオロカーボンアルコー
ル、3Mによって製造されたFC−10であって次式
【0050】
【化10】
【0051】(式中、gは平均値7.5を有し、更に
4,5,6,7および8のg値を有する種を含有する)
の平均の式を有するFC−10、および71部のケトオ
キシモシラン混合物を混合することによって調製され、
前記ケトオキシモシラン混合物は、約70重量%のメチ
ルトリ(メチルエチルケトオキシモ)シラン、24重量
%のメチルジ(メチルエチルケトオキシモ)メトキシシ
ラン、0.5重量%のメチルジメトキシ(メチルエチル
ケトオキシモ)シランおよび5.5重量%の不純物であ
った。得られた混合物を、窒素パージ下、50℃で30
分間加熱した。得られた疎シロキサ反応生成物は、1
9.7重量%の未反応フルオロカーボンアルコール、5
9.9重量%の未反応ケトオキシモシランおよび12.
9重量%の次式
4,5,6,7および8のg値を有する種を含有する)
の平均の式を有するFC−10、および71部のケトオ
キシモシラン混合物を混合することによって調製され、
前記ケトオキシモシラン混合物は、約70重量%のメチ
ルトリ(メチルエチルケトオキシモ)シラン、24重量
%のメチルジ(メチルエチルケトオキシモ)メトキシシ
ラン、0.5重量%のメチルジメトキシ(メチルエチル
ケトオキシモ)シランおよび5.5重量%の不純物であ
った。得られた混合物を、窒素パージ下、50℃で30
分間加熱した。得られた疎シロキサ反応生成物は、1
9.7重量%の未反応フルオロカーボンアルコール、5
9.9重量%の未反応ケトオキシモシランおよび12.
9重量%の次式
【0052】
【化11】
【0053】の反応生成物および8.1重量%の不純物
であった。この疎シロキサ反応生成物を得られたものと
して用いそしてこれらの実施例に対し疎シロキサ剤Aと
称する。疎シロキサ剤Bを疎シロキサ剤Aと同様の方法
で調製したが、但し、33部のFC−10および6.7
部のケトキシモシラン混合物を用いそして窒素パージは
用いなかった。
であった。この疎シロキサ反応生成物を得られたものと
して用いそしてこれらの実施例に対し疎シロキサ剤Aと
称する。疎シロキサ剤Bを疎シロキサ剤Aと同様の方法
で調製したが、但し、33部のFC−10および6.7
部のケトキシモシラン混合物を用いそして窒素パージは
用いなかった。
【0054】疎シロキサ剤Cを疎シロキサAと同様の方
法で調製したが、但し、23部のFC−10および77
部のケトキシモシラン混合物を用い、窒素パージは用い
なかった。疎シロキサ剤Dを疎シロキサAと同様の方法
で調製したが、但し、45.5部のFC−10および5
4.5部のケトキシモシラン混合物を用い、窒素パージ
は用いなかった。
法で調製したが、但し、23部のFC−10および77
部のケトキシモシラン混合物を用い、窒素パージは用い
なかった。疎シロキサ剤Dを疎シロキサAと同様の方法
で調製したが、但し、45.5部のFC−10および5
4.5部のケトキシモシラン混合物を用い、窒素パージ
は用いなかった。
【0055】
例1 エラストマーに硬化したポリジメチルシロキサン組成物
を、次の成分を用いて調製した: ポリマーA=粘度50Pa・s.を有するヒドロキシルエン
ドブロックトポリジメチルシロキサン。 ポリマーB=粘度200Pa・s.を有するヒドロキシルエ
ンドブロックトポリジメチルシロキサン。 ポリマーC=粘度4Pa・s.を有するヒドロキシルエンド
ブロックトポリジメチルシロキサン。 シランA=約70重量%のメチルトリ(メチルエチルケ
トキシモ)シラン、24重量%のメチルジ(メチルエチ
ルケトキシモ)メトキシシラン、0.5重量%のメチル
ジメトキシ(メチルエチルケトキシモ)シラン、および
5.5重量%の不純物のケトキシモシラン混合物。 シランB=メチルビニルジ(N−メチルアセトアミド)
シラン。 充填剤A=ステアリン酸処理沈殿炭酸カルシウム。 充填剤B=ステアリン酸処理粉細炭酸カルシウム。 チキソトロープ剤=2,5−フランジオンと1,3−ブ
タジエンのポリマー。 接着促進剤A=γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン。 接着促進剤B=γ−(グリシドキシ)プロピルトリメト
キシシラン。 接着促進剤C=N−β−アミノエチル−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン。 触媒A=ジブチルスズ ジラウレート 触媒B=ジイソプロポキシ−ビス−(エチルアセトアセ
テート)チタン。
を、次の成分を用いて調製した: ポリマーA=粘度50Pa・s.を有するヒドロキシルエン
ドブロックトポリジメチルシロキサン。 ポリマーB=粘度200Pa・s.を有するヒドロキシルエ
ンドブロックトポリジメチルシロキサン。 ポリマーC=粘度4Pa・s.を有するヒドロキシルエンド
ブロックトポリジメチルシロキサン。 シランA=約70重量%のメチルトリ(メチルエチルケ
トキシモ)シラン、24重量%のメチルジ(メチルエチ
ルケトキシモ)メトキシシラン、0.5重量%のメチル
ジメトキシ(メチルエチルケトキシモ)シラン、および
5.5重量%の不純物のケトキシモシラン混合物。 シランB=メチルビニルジ(N−メチルアセトアミド)
シラン。 充填剤A=ステアリン酸処理沈殿炭酸カルシウム。 充填剤B=ステアリン酸処理粉細炭酸カルシウム。 チキソトロープ剤=2,5−フランジオンと1,3−ブ
タジエンのポリマー。 接着促進剤A=γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン。 接着促進剤B=γ−(グリシドキシ)プロピルトリメト
キシシラン。 接着促進剤C=N−β−アミノエチル−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン。 触媒A=ジブチルスズ ジラウレート 触媒B=ジイソプロポキシ−ビス−(エチルアセトアセ
テート)チタン。
【0056】配合1〜8のエラストマーに硬化するポリ
ジメチルシロキサン組成物を、表1に示す如き量でポリ
マーA、ポリマーB、およびポリマーC並びにシランA
とを混合することにより調製したが、表1は又組成物を
調製するために用いられた他の成分の量を示す。得られ
た混合物に対し、疎シロキサ剤B,C、又はD、充填剤
A、充填剤B、チクソトロープ剤、接着促進剤A、接着
促進剤B、触媒Aおよび触媒Bは表1に示す如き量であ
った。
ジメチルシロキサン組成物を、表1に示す如き量でポリ
マーA、ポリマーB、およびポリマーC並びにシランA
とを混合することにより調製したが、表1は又組成物を
調製するために用いられた他の成分の量を示す。得られ
た混合物に対し、疎シロキサ剤B,C、又はD、充填剤
A、充填剤B、チクソトロープ剤、接着促進剤A、接着
促進剤B、触媒Aおよび触媒Bは表1に示す如き量であ
った。
【0057】配合9〜14のエラストマーに硬化するポ
リジメチルシロキサン組成物は、表2に示す量で、ポリ
マーA、ポリマーB、およびポリマーC並びにシランA
を混合することによって調製した。ポリマーのシランA
と混合した後、シランBを添加しポリジメチルシロキサ
ンを得、これは式
リジメチルシロキサン組成物は、表2に示す量で、ポリ
マーA、ポリマーB、およびポリマーC並びにシランA
を混合することによって調製した。ポリマーのシランA
と混合した後、シランBを添加しポリジメチルシロキサ
ンを得、これは式
【0058】
【化12】
【0059】(式中、Xはメトキシ又はメチルエチルケ
トキシモのいずれかである)の低反応末端基、および式
Y2 MeSiO−(式中、幾つかのYはメチルエチルケ
トオキシ基であり、更に幾つかのYはメトキシ基であ
る)の高反応末端基の双方を有していた。ポリマーA、
ポリマーB、およびポリマーCの未反応ヒドロキシル基
とシランBとの反応は、非常に速くそして混合後本質的
に完結した。残りの成分およびそれらの量を表2に示
す。
トキシモのいずれかである)の低反応末端基、および式
Y2 MeSiO−(式中、幾つかのYはメチルエチルケ
トオキシ基であり、更に幾つかのYはメトキシ基であ
る)の高反応末端基の双方を有していた。ポリマーA、
ポリマーB、およびポリマーCの未反応ヒドロキシル基
とシランBとの反応は、非常に速くそして混合後本質的
に完結した。残りの成分およびそれらの量を表2に示
す。
【0060】配合1〜14の生成ポリジメチルシロキサ
ン組成物(シーラント組成物)を、湿気の侵入に対し保
護された条件下で調製し、そして湿気からそれらを保護
する容器内に保存した。汚染性および吸塵性を、モルタ
ル裏打ちを有する磨きセラミック表面を有するパネル
(グラスウェルドパネル)の頂部を横切って、幅約1.
9cmおよび深さ0.6cmの水平ビードを載置することに
より評価した。パネルを屋外で45℃の角度で南に向け
て4ケ月間配置した。4ケ月および6ケ月の屋外暴露
後、パネルをシーラント表面吸塵性に対し評価し、そし
て汚染性を4ケ月後に評価しそして次の評価を与えた:
1=シーラントビードなしでパネルと同じ程きれい;2
=たてすじなし、パネルとシーラントは主にきれい、し
かしシーラントビードなしではパネルと同じ程きれいで
ない;3=わずかなたてすじ、パネルは汚染からわずか
にかすんで見える、1.5m以上離れて見ることのでき
ないシーラント上で極めて少ない吸塵性;4=中程度の
たてすじ、パネルは全体にわたってかすんでいる、1.
5m離れて見ることのできるシーラント上での幾らかの
吸塵性;および5=激しい/暗いたてすじ、パネルはそ
れをカバーする重みのあるフィルムを有する、そしてシ
ーラントはほこりから黒ずんでいた。汚染性および吸塵
性の結果は表3に示す如くであった。室温で7日間シー
ラントを硬化せしめた後の100%伸びモジュラス。モ
ジュラスをASTM D−412により測定しそして結
果を kPaで示す。室温で7日間硬化後の抽出可能なパー
セントを、溶剤としてトルエンを行い、時間は24時
間、ASTM−D−3971−69の手順に従い決定
し、そして硬化シーラント片は3.175mm×3.17
5mm×2.54mmであった。粘度0.1Pa・sを有す
る、トリメチルシリル末端ブロックポリジメチルシロキ
サンを用いる接触角度は表3に示す如くであった。接触
角度の測定は、水の接触角度の測定に対して用いた方法
と同じ方法で行った。但しトリメチルシリル末端ブロッ
クポリジメチルシロキサンを水の代りに用いた。表面エ
ネルギーを、Journal of Applied Polymer Science, 19
69, 13巻、1741頁の始め中のオーウェン等の式を用いて
分散力成分と極性力成分を得るため接触角度とヨウ化メ
チレン接触角度によって測定した。
ン組成物(シーラント組成物)を、湿気の侵入に対し保
護された条件下で調製し、そして湿気からそれらを保護
する容器内に保存した。汚染性および吸塵性を、モルタ
ル裏打ちを有する磨きセラミック表面を有するパネル
(グラスウェルドパネル)の頂部を横切って、幅約1.
9cmおよび深さ0.6cmの水平ビードを載置することに
より評価した。パネルを屋外で45℃の角度で南に向け
て4ケ月間配置した。4ケ月および6ケ月の屋外暴露
後、パネルをシーラント表面吸塵性に対し評価し、そし
て汚染性を4ケ月後に評価しそして次の評価を与えた:
1=シーラントビードなしでパネルと同じ程きれい;2
=たてすじなし、パネルとシーラントは主にきれい、し
かしシーラントビードなしではパネルと同じ程きれいで
ない;3=わずかなたてすじ、パネルは汚染からわずか
にかすんで見える、1.5m以上離れて見ることのでき
ないシーラント上で極めて少ない吸塵性;4=中程度の
たてすじ、パネルは全体にわたってかすんでいる、1.
5m離れて見ることのできるシーラント上での幾らかの
吸塵性;および5=激しい/暗いたてすじ、パネルはそ
れをカバーする重みのあるフィルムを有する、そしてシ
ーラントはほこりから黒ずんでいた。汚染性および吸塵
性の結果は表3に示す如くであった。室温で7日間シー
ラントを硬化せしめた後の100%伸びモジュラス。モ
ジュラスをASTM D−412により測定しそして結
果を kPaで示す。室温で7日間硬化後の抽出可能なパー
セントを、溶剤としてトルエンを行い、時間は24時
間、ASTM−D−3971−69の手順に従い決定
し、そして硬化シーラント片は3.175mm×3.17
5mm×2.54mmであった。粘度0.1Pa・sを有す
る、トリメチルシリル末端ブロックポリジメチルシロキ
サンを用いる接触角度は表3に示す如くであった。接触
角度の測定は、水の接触角度の測定に対して用いた方法
と同じ方法で行った。但しトリメチルシリル末端ブロッ
クポリジメチルシロキサンを水の代りに用いた。表面エ
ネルギーを、Journal of Applied Polymer Science, 19
69, 13巻、1741頁の始め中のオーウェン等の式を用いて
分散力成分と極性力成分を得るため接触角度とヨウ化メ
チレン接触角度によって測定した。
【0061】
【表1】
【0062】
【表2】
【0063】
【表3】
【0064】例2 配合17,18および19のエラストマーに硬化するポ
リジメチルシロキサン組成物を、表4で同定した如き成
分を用い配合9〜14に対し例1で記載した如く調製し
た。FC−10を用いる代りに、疎シロキサ剤Aを表4
に示す量で用いた。配合18および19において、二酸
化チタン顔料を用い、そして配合19において、桐油を
用いた。シランAとシランBとの反応によるポリマーA
は、配合9〜14に対して例1で記載した如く低反応末
端基と高反応末端基を有するポリジメチルシロキサンを
もたらした。汚染性、および吸塵性、室温で7日間硬化
後の100%モジュラスおよび例1で記載した如き接触
角度を測定し、例4に示す如くであった。但し、屋外大
気条件に暴露するために用いたパネルは、反射ガラスパ
ネルであり、そしてシーラントビーズをパネルの頂部を
横切って幅5cmおよび深さ0.6cmの正方形のルート
(root) 形状で適用した。パネルを工業的環境下に置い
た。
リジメチルシロキサン組成物を、表4で同定した如き成
分を用い配合9〜14に対し例1で記載した如く調製し
た。FC−10を用いる代りに、疎シロキサ剤Aを表4
に示す量で用いた。配合18および19において、二酸
化チタン顔料を用い、そして配合19において、桐油を
用いた。シランAとシランBとの反応によるポリマーA
は、配合9〜14に対して例1で記載した如く低反応末
端基と高反応末端基を有するポリジメチルシロキサンを
もたらした。汚染性、および吸塵性、室温で7日間硬化
後の100%モジュラスおよび例1で記載した如き接触
角度を測定し、例4に示す如くであった。但し、屋外大
気条件に暴露するために用いたパネルは、反射ガラスパ
ネルであり、そしてシーラントビーズをパネルの頂部を
横切って幅5cmおよび深さ0.6cmの正方形のルート
(root) 形状で適用した。パネルを工業的環境下に置い
た。
【0065】
【表4】
【0066】配合17を室温で7日間硬化し、更に50
℃で7週間硬化した。破断点引張強さ、破断点伸び、お
よび100%モジュラスをASTM D−412によっ
て測定した。ショアーAスケールのジューローメーター
をASTM C−661に従って測定した。抽出分のパ
ーセントを、溶剤としてトルエンを用い、24時間AS
TM D−3971−69の手順に従って測定した。硬
化したシーラント片は3.175mm×3.175mm×
2.54mmであった。観察結果は次の如くであった:
℃で7週間硬化した。破断点引張強さ、破断点伸び、お
よび100%モジュラスをASTM D−412によっ
て測定した。ショアーAスケールのジューローメーター
をASTM C−661に従って測定した。抽出分のパ
ーセントを、溶剤としてトルエンを用い、24時間AS
TM D−3971−69の手順に従って測定した。硬
化したシーラント片は3.175mm×3.175mm×
2.54mmであった。観察結果は次の如くであった:
【0067】
【表5】
【0068】接触角度と表面エネルギーを、3ケ月暴露
および6ケ月暴露後に測定した。例1で測定した如き接
触角度は、両方の暴露後28度であった。表面エネルギ
ーの分散力成分は3ケ月暴露後13.1 dynes/cm2 で
あり、6ケ月暴露後12.6dynes/cm2 であった。こ
れらの低い分散力成分は、シーラント表面がシロキサン
流動体とばい煙の双方をはねつけ、そしてフリーのシロ
キサン材料がシーラント表面の上にシーラントから移行
できなかったことを示した。表面エネルギーの極性力成
分は、3ケ月暴露後18.5 dynes/cm2 であり、6ケ
月暴露後14.7 dynes/cm2 であった。合計表面エネ
ルギーは、3ケ月暴露後31.5 dynes/cm2 であり、
6ケ月暴露後27.3 dynes/cm2 であった。
および6ケ月暴露後に測定した。例1で測定した如き接
触角度は、両方の暴露後28度であった。表面エネルギ
ーの分散力成分は3ケ月暴露後13.1 dynes/cm2 で
あり、6ケ月暴露後12.6dynes/cm2 であった。こ
れらの低い分散力成分は、シーラント表面がシロキサン
流動体とばい煙の双方をはねつけ、そしてフリーのシロ
キサン材料がシーラント表面の上にシーラントから移行
できなかったことを示した。表面エネルギーの極性力成
分は、3ケ月暴露後18.5 dynes/cm2 であり、6ケ
月暴露後14.7 dynes/cm2 であった。合計表面エネ
ルギーは、3ケ月暴露後31.5 dynes/cm2 であり、
6ケ月暴露後27.3 dynes/cm2 であった。
【0069】例3 エラストマーに硬化するポリジメチルシロキサン組成物
を、例1に記載した如く調製した。但し、成分およびそ
れらの量は次の如くであった:100部のポリマーA、
1部のシランA、1部のシランB、10部の疎シロキサ
剤A、60部の充填剤A、0.5部のチクソトロープ
剤、0.3部の接着促進剤A、0.1部の接着促進剤
B、0.07部の触媒Aおよび1部の触媒B。
を、例1に記載した如く調製した。但し、成分およびそ
れらの量は次の如くであった:100部のポリマーA、
1部のシランA、1部のシランB、10部の疎シロキサ
剤A、60部の充填剤A、0.5部のチクソトロープ
剤、0.3部の接着促進剤A、0.1部の接着促進剤
B、0.07部の触媒Aおよび1部の触媒B。
【0070】得られた組成物は、押出量139g/分を
有しておりそして暴露時は170分のスキンオバー時間
を有していた。組成物を大気に暴露させ室温で7日間硬
化せしめた。試験片を作成した。ASTM D−412
を用い、破断点引張強さは1538kPa であり、破断点
伸びは931%であり、100%モジュラスは159kP
a であり、そして引裂強さ(ダイB)は5.6kN/m
(キロニュートン/メーター)であった。ASTM C
−661により測定される如くショアーAスケールに関
するジューローメーターは12でありそして例2で測定
した如く抽出分の量は6%であった。組成物を室温で7
日間次いで50℃で1ケ月間硬化せしめた後の特性は次
の如くであった:破断点引張強さ=2089kPa 、破断
点伸び=788%、100%モジュラス=324kPa 、
ショアーAスケールでのジューローメーター=25、引
裂強さ(ダイB)=5kN/m、および抽出分の量=8
%。
有しておりそして暴露時は170分のスキンオバー時間
を有していた。組成物を大気に暴露させ室温で7日間硬
化せしめた。試験片を作成した。ASTM D−412
を用い、破断点引張強さは1538kPa であり、破断点
伸びは931%であり、100%モジュラスは159kP
a であり、そして引裂強さ(ダイB)は5.6kN/m
(キロニュートン/メーター)であった。ASTM C
−661により測定される如くショアーAスケールに関
するジューローメーターは12でありそして例2で測定
した如く抽出分の量は6%であった。組成物を室温で7
日間次いで50℃で1ケ月間硬化せしめた後の特性は次
の如くであった:破断点引張強さ=2089kPa 、破断
点伸び=788%、100%モジュラス=324kPa 、
ショアーAスケールでのジューローメーター=25、引
裂強さ(ダイB)=5kN/m、および抽出分の量=8
%。
【0071】組成物の重量基準で1重量%の桐油を上記
組成物に添加し、完全に混合した。得られた組成物を2
週間室温で硬化せしめ、その後硬化表面の一部を深い青
色ラテックス塗料で塗布しそして他の部分を赤色オイル
基材塗料で塗布した。2日後オイル基材塗料は、硬化シ
ーラント表面に付着した。ラテックス塗料は硬化シーラ
ント表面に部分的付着するのに17日間要し、そして4
3日後に完全に付着した。桐油なしの硬化シーラントの
表面はラテックス塗料では湿らずそしてオイル基材塗料
は桐油なしでシーラントの表面にわたって均一に拡がっ
たけれども該塗料は付着しなかった。
組成物に添加し、完全に混合した。得られた組成物を2
週間室温で硬化せしめ、その後硬化表面の一部を深い青
色ラテックス塗料で塗布しそして他の部分を赤色オイル
基材塗料で塗布した。2日後オイル基材塗料は、硬化シ
ーラント表面に付着した。ラテックス塗料は硬化シーラ
ント表面に部分的付着するのに17日間要し、そして4
3日後に完全に付着した。桐油なしの硬化シーラントの
表面はラテックス塗料では湿らずそしてオイル基材塗料
は桐油なしでシーラントの表面にわたって均一に拡がっ
たけれども該塗料は付着しなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェローム メルビン クロソースキ アメリカ合衆国,ミシガン,ベイ シテ ィ,ブライア ドライブ 2029 (72)発明者 バージニア カイ オニール アメリカ合衆国,ミシガン,ミッドラン ド,ウエスト サグネット ロード 600
Claims (2)
- 【請求項1】 低反応性末端基と高反応性末端基の双方
を有するポリジメチルシロキサンの製造方法であって、
水分が成分と接触するのを排除する条件下、ヒドロキシ
ル末端ブロック化ポリジメチルシロキサンと式R(4-c)
SiYc (式中、cは3又は4であり、各Yはケトオキ
シモ (Ketoximo) 基およびメトキシ基から成る群から選
ばれる加水分解性基であり、そしてRはメチル基であ
る)で表わされる加水分解性シランとを混合し、次いで
その後式R2 SiX2 (式中、XはN−メチルアセトア
ミドであり、そしてRはメチルまたはビニル基である)
で表わされる加水分解性シランを添加することを含んで
なる、前記方法。 - 【請求項2】 前記ポリジメチルシロキサンが、式XR
2 SiO−(式中、Xはメトキシまたはメチルエチルケ
トオキシモ基であり、更にRはメチルまたはビニルであ
る)を有する低反応性末端基と式Yb R(3-b) SiO−
(式中、bは2または3であり、Rはメチル基であり、
そして各Yはケトオキシモ基およびメトキシから成る群
から選ばれる加水分解性基である)を有する高反応性末
端基を有する、請求項1に記載のポリジメチルシロキサ
ン。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/934,985 US5264603A (en) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | Polydimethylsiloxanes for modulus reduction and method for their preparation |
| US934985 | 1997-09-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06184313A true JPH06184313A (ja) | 1994-07-05 |
Family
ID=25466399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5209467A Pending JPH06184313A (ja) | 1992-08-25 | 1993-08-24 | モジュラス減少用ポリジメチルシロキサンおよびその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5264603A (ja) |
| EP (1) | EP0586184B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06184313A (ja) |
| AU (1) | AU658762B2 (ja) |
| DE (1) | DE69314272T2 (ja) |
| TW (1) | TW223087B (ja) |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| JP2006522199A (ja) * | 2003-04-03 | 2006-09-28 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 湿気硬化型オルガノシロキサン組成物 |
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1992
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- 1992-10-20 TW TW081108341A patent/TW223087B/zh active
-
1993
- 1993-08-24 AU AU44809/93A patent/AU658762B2/en not_active Ceased
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