JPH0618483A - 磁粉探傷方法及びその装置 - Google Patents
磁粉探傷方法及びその装置Info
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- JPH0618483A JPH0618483A JP4197786A JP19778692A JPH0618483A JP H0618483 A JPH0618483 A JP H0618483A JP 4197786 A JP4197786 A JP 4197786A JP 19778692 A JP19778692 A JP 19778692A JP H0618483 A JPH0618483 A JP H0618483A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 必要十分な量の検査液を散布することにより
滴の発生を抑制し、探傷検査の誤判定率を低減できる磁
粉探傷方法及びその装置を提供する。 【構成】 検査液散布工程Ｂに搬送される前の被探傷材
Ｗに対して前処理液を散布することにより、被探傷材の
濡れ性を高め、検査液散布工程Ｂでの検査液の散布量を
必要十分な量に低減する。これにより被探傷材Ｗから垂
れる滴の発生を抑制し、蛍光磁粉の散布ムラを防止し
て、疵の検出の誤判定率を略半減できる。
滴の発生を抑制し、探傷検査の誤判定率を低減できる磁
粉探傷方法及びその装置を提供する。 【構成】 検査液散布工程Ｂに搬送される前の被探傷材
Ｗに対して前処理液を散布することにより、被探傷材の
濡れ性を高め、検査液散布工程Ｂでの検査液の散布量を
必要十分な量に低減する。これにより被探傷材Ｗから垂
れる滴の発生を抑制し、蛍光磁粉の散布ムラを防止し
て、疵の検出の誤判定率を略半減できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁粉探傷方法及びその装
置に関するものである。
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁粉探傷法は強磁性鋼の表面表層欠陥の
検出に用いられ、特に分塊圧延工程を経て製造されたビ
レット等の被探傷材の全長に亙って探傷を行う場合は、
軸通電法により低電圧大電流の通電を行い被探傷材を磁
化している。そして、その通電磁化とともに、中性液に
蛍光磁粉を混合した検査液を被探傷材に散布する。検査
液の散布量が少ないと、検査液がかからない部分が生じ
て完全な検査が行えない。このため、被探傷材の全面に
検査液がかかるように、多めの検査液を散布している。
検出に用いられ、特に分塊圧延工程を経て製造されたビ
レット等の被探傷材の全長に亙って探傷を行う場合は、
軸通電法により低電圧大電流の通電を行い被探傷材を磁
化している。そして、その通電磁化とともに、中性液に
蛍光磁粉を混合した検査液を被探傷材に散布する。検査
液の散布量が少ないと、検査液がかからない部分が生じ
て完全な検査が行えない。このため、被探傷材の全面に
検査液がかかるように、多めの検査液を散布している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら検査液の
散布量が多いと、被探傷材の表面を伝わって流れる検査
液が滴となって垂れ落ちる量が多くなり(図４(ａ))、こ
の滴が発生する箇所に蛍光磁粉が集中して溜まるため、
蛍光磁粉の散布ムラを生じ、いわゆるバックグランドノ
イズとなって、実際には疵が無いのに疵有りと誤判定す
る問題点がある。本発明は上記した問題点を解決するた
めになされたもので、図４(ｂ)に示すように、必要十分
な量の検査液を散布することにより滴の発生を抑制し、
探傷検査の誤判定率を低減できる磁粉探傷方法及びその
装置を提供することを目的とするものである。
散布量が多いと、被探傷材の表面を伝わって流れる検査
液が滴となって垂れ落ちる量が多くなり(図４(ａ))、こ
の滴が発生する箇所に蛍光磁粉が集中して溜まるため、
蛍光磁粉の散布ムラを生じ、いわゆるバックグランドノ
イズとなって、実際には疵が無いのに疵有りと誤判定す
る問題点がある。本発明は上記した問題点を解決するた
めになされたもので、図４(ｂ)に示すように、必要十分
な量の検査液を散布することにより滴の発生を抑制し、
探傷検査の誤判定率を低減できる磁粉探傷方法及びその
装置を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の具体的手段として、被探傷材を磁化するとともに、蛍
光磁粉を混合した検査液を散布して行う磁粉探傷方法に
おいて、被探傷材に対する前記検査液の散布工程の前
に、前記被探傷材の濡れ性を高めるため前処理液を散布
する前処理工程を設け、前記散布工程における検査液の
散布量を低減したことを特徴とする磁粉探傷方法が提供
される。ここで、前処理液は検査液と同じ磁粉液を使用
してもよいが、他の液を用いることもできる。この場
合、表面活性剤を混合させる等の方法により散布したと
きの濡れ性を改善しておく必要がある。さらに、散布工
程の直後に被探傷材を回転させながら搬送して、滴の集
中化を防止してもよい。
の具体的手段として、被探傷材を磁化するとともに、蛍
光磁粉を混合した検査液を散布して行う磁粉探傷方法に
おいて、被探傷材に対する前記検査液の散布工程の前
に、前記被探傷材の濡れ性を高めるため前処理液を散布
する前処理工程を設け、前記散布工程における検査液の
散布量を低減したことを特徴とする磁粉探傷方法が提供
される。ここで、前処理液は検査液と同じ磁粉液を使用
してもよいが、他の液を用いることもできる。この場
合、表面活性剤を混合させる等の方法により散布したと
きの濡れ性を改善しておく必要がある。さらに、散布工
程の直後に被探傷材を回転させながら搬送して、滴の集
中化を防止してもよい。
【０００５】また、上記磁粉探傷方法を実施する具体的
な装置として、被探傷材を搬送する間欠駆動の搬送装置
と、磁化工程に搬送された被探傷材を磁化する磁化装置
と、検査液散布工程に搬送された被探傷材に対して所定
時間検査液を散布する検査液散布装置とを備えた磁粉探
傷装置において、前記検査液散布工程に搬送される前の
被探傷材に対して、前処理液を散布して該被探傷材の濡
れ性を高める前処理装置を設けたことを特徴とする磁粉
探傷装置が提供される。
な装置として、被探傷材を搬送する間欠駆動の搬送装置
と、磁化工程に搬送された被探傷材を磁化する磁化装置
と、検査液散布工程に搬送された被探傷材に対して所定
時間検査液を散布する検査液散布装置とを備えた磁粉探
傷装置において、前記検査液散布工程に搬送される前の
被探傷材に対して、前処理液を散布して該被探傷材の濡
れ性を高める前処理装置を設けたことを特徴とする磁粉
探傷装置が提供される。
【０００６】上記磁粉探傷装置において、前処理液に検
査液と同じ磁粉液を使用した場合は、前処理液と検査液
を貯蔵するタンク及び散布した液を回収する装置を共通
にでき、装置構成が簡易となり有利となる。尚、上記磁
粉探傷方法において、具体的には前処理工程で前処理液
を被探傷材の表面全体に散布した後、続く散布工程で被
探傷材の表面積１ｍ2当たり３．５〜７．５ｍ3／時間の
量の検査液を３〜６秒間散布することにより、目的の効
果を達成することができる。ここで、検査液の量を上記
のように限定したのは、３．５ｍ3／時間未満では検査
液が被探傷材の表面全体に十分散布されないためであ
り、７．５ｍ3／時間を超えると探傷精度向上効果が十
分得られないためである。また、散布時間を上記のよう
に限定したのは、３秒未満では被探傷材の表面全体に検
査液が被探傷材の表面全体に十分散布されないためであ
り、６秒を超えると探傷精度向上効果が十分得られない
ためである。
査液と同じ磁粉液を使用した場合は、前処理液と検査液
を貯蔵するタンク及び散布した液を回収する装置を共通
にでき、装置構成が簡易となり有利となる。尚、上記磁
粉探傷方法において、具体的には前処理工程で前処理液
を被探傷材の表面全体に散布した後、続く散布工程で被
探傷材の表面積１ｍ2当たり３．５〜７．５ｍ3／時間の
量の検査液を３〜６秒間散布することにより、目的の効
果を達成することができる。ここで、検査液の量を上記
のように限定したのは、３．５ｍ3／時間未満では検査
液が被探傷材の表面全体に十分散布されないためであ
り、７．５ｍ3／時間を超えると探傷精度向上効果が十
分得られないためである。また、散布時間を上記のよう
に限定したのは、３秒未満では被探傷材の表面全体に検
査液が被探傷材の表面全体に十分散布されないためであ
り、６秒を超えると探傷精度向上効果が十分得られない
ためである。
【０００７】
【作用】上記構成の磁粉探傷方法及び装置によれば、検
査液散布工程に搬送される前の被探傷材に対して前処理
液を散布することにより、被探傷材の濡れ性を高め、検
査液散布工程での検査液の散布量を低減して滴の発生を
抑制し、蛍光磁粉の散布ムラを防止する。
査液散布工程に搬送される前の被探傷材に対して前処理
液を散布することにより、被探傷材の濡れ性を高め、検
査液散布工程での検査液の散布量を低減して滴の発生を
抑制し、蛍光磁粉の散布ムラを防止する。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例を添付図面を参照して説明す
る。図１は本発明方法を実施する磁粉探傷装置の概略断
面図、図２は被探傷材Ｗに散布する検査液の循環経路を
示す概略配管図である。図１に於いて、１は散布ノズル
で被探傷材Ｗに対して、蛍光磁粉を中性液に混合した検
査液を散布する。２は散布ノズル１の下部に配置したシ
ャッターで、平行リンク３に連結して散布ノズル１の下
面に進出したり該下面から後退して、被探傷材Ｗに対す
る検査液の散布を断続する。平行リンク３の往復移動は
シリンダ４により制御する。散布ノズル１の下側には、
一対の電極板５，５を配置する。一方の電極板５は斜め
下向きのアーム６の下端に取付け、他方の電極板５は図
示しない固定側電極板支持装置に取付ける。アーム６の
上端は、被探傷材Ｗの長さに応じて電極板５，５の対応
間隔を調整する移動調整装置７に取付ける。
る。図１は本発明方法を実施する磁粉探傷装置の概略断
面図、図２は被探傷材Ｗに散布する検査液の循環経路を
示す概略配管図である。図１に於いて、１は散布ノズル
で被探傷材Ｗに対して、蛍光磁粉を中性液に混合した検
査液を散布する。２は散布ノズル１の下部に配置したシ
ャッターで、平行リンク３に連結して散布ノズル１の下
面に進出したり該下面から後退して、被探傷材Ｗに対す
る検査液の散布を断続する。平行リンク３の往復移動は
シリンダ４により制御する。散布ノズル１の下側には、
一対の電極板５，５を配置する。一方の電極板５は斜め
下向きのアーム６の下端に取付け、他方の電極板５は図
示しない固定側電極板支持装置に取付ける。アーム６の
上端は、被探傷材Ｗの長さに応じて電極板５，５の対応
間隔を調整する移動調整装置７に取付ける。
【０００９】１１は被探傷材Ｗの搬送装置である。搬送
装置１１は、所定のストロークで上下動する架台１２
と、該架台１２上で前進及び後退を搬送ピッチｐで制御
される水平搬送台１３とから構成される。水平搬送台１
３上には、前記搬送ピッチｐの間隔を置いて４個の支承
部材１４ａ〜１４ｄを設け、被探傷材Ｗの両端部を支承
する。そして、水平の受け台１５を、水平搬送台１３の
側部で且つ該水平搬送台１３の上昇位置と下降位置の略
中間に配設する。受け台１５は、被探傷材Ｗを受支す
る。また、水平搬送台１３が後退した位置の支承部材１
４ｃの位置を、前記散布ノズル１の真下に対応させる。
さらに、このときの支承部材１４ｂの位置の真上に、被
探傷材Ｗに対して前処理液として、検査液と同じ液を散
布する前処理用ノズル８を配設する。尚、支承部材１４
ｃと支承部材１４ｄの間に、飛散防止フラッパ１６を垂
下して、大曲りを生じた被探傷材Ｗに散布される検査液
が、支承部材１４ｄに支承される通電磁化後の被探傷材
Ｗに飛散するのを防止する。
装置１１は、所定のストロークで上下動する架台１２
と、該架台１２上で前進及び後退を搬送ピッチｐで制御
される水平搬送台１３とから構成される。水平搬送台１
３上には、前記搬送ピッチｐの間隔を置いて４個の支承
部材１４ａ〜１４ｄを設け、被探傷材Ｗの両端部を支承
する。そして、水平の受け台１５を、水平搬送台１３の
側部で且つ該水平搬送台１３の上昇位置と下降位置の略
中間に配設する。受け台１５は、被探傷材Ｗを受支す
る。また、水平搬送台１３が後退した位置の支承部材１
４ｃの位置を、前記散布ノズル１の真下に対応させる。
さらに、このときの支承部材１４ｂの位置の真上に、被
探傷材Ｗに対して前処理液として、検査液と同じ液を散
布する前処理用ノズル８を配設する。尚、支承部材１４
ｃと支承部材１４ｄの間に、飛散防止フラッパ１６を垂
下して、大曲りを生じた被探傷材Ｗに散布される検査液
が、支承部材１４ｄに支承される通電磁化後の被探傷材
Ｗに飛散するのを防止する。
【００１０】２１は磁粉探傷装置の検査用暗室である。
前記水平搬送台１３の前進位置に配置した搬出ローラテ
ーブル２２上に、搬出ローラ２３を図１の手前側から奥
側に向かって所定間隔置きに配設する。各搬出ローラ２
３はチェン駆動により、探傷検査を終了した被探傷材Ｗ
を搬出する。搬出ローラ２３間には、被探傷材Ｗの転回
装置２４を上下動可能に配置する。転回装置２４は少な
くとも被探傷材Ｗの両端部を支持するように配置される
もので、左右一対のスプロケットホイール２５，２５に
転回用チェン２６を搬出方向に直交させて掛け渡す。転
回用チェン２６は転回用モータ２７により駆動する。
前記水平搬送台１３の前進位置に配置した搬出ローラテ
ーブル２２上に、搬出ローラ２３を図１の手前側から奥
側に向かって所定間隔置きに配設する。各搬出ローラ２
３はチェン駆動により、探傷検査を終了した被探傷材Ｗ
を搬出する。搬出ローラ２３間には、被探傷材Ｗの転回
装置２４を上下動可能に配置する。転回装置２４は少な
くとも被探傷材Ｗの両端部を支持するように配置される
もので、左右一対のスプロケットホイール２５，２５に
転回用チェン２６を搬出方向に直交させて掛け渡す。転
回用チェン２６は転回用モータ２７により駆動する。
【００１１】転回装置２４の上昇位置は、前記搬送装置
１１の水平搬送台１３の上昇位置に合せる。また、下降
位置は、スプロケットホイール２５，２５が搬出ローラ
２３より下がった位置とする。そして、転回装置２４と
前記搬送装置１１の架台１２とを連動させ、架台１２が
上昇すると転回装置２４が下降し、架台１２が下降する
と転回装置２４が上昇するようにする。前記検査用暗室
２１には、検査デッキ２８を設けその下に搬出ローラ２
３をチェン駆動する搬出用モータ２９を設置する。その
他、３０は安全作業用の保護カバー、３１は転回装置２
４の真上に配置したブラックライトで、被探傷材Ｗに紫
外線を照射する。
１１の水平搬送台１３の上昇位置に合せる。また、下降
位置は、スプロケットホイール２５，２５が搬出ローラ
２３より下がった位置とする。そして、転回装置２４と
前記搬送装置１１の架台１２とを連動させ、架台１２が
上昇すると転回装置２４が下降し、架台１２が下降する
と転回装置２４が上昇するようにする。前記検査用暗室
２１には、検査デッキ２８を設けその下に搬出ローラ２
３をチェン駆動する搬出用モータ２９を設置する。その
他、３０は安全作業用の保護カバー、３１は転回装置２
４の真上に配置したブラックライトで、被探傷材Ｗに紫
外線を照射する。
【００１２】上記構成の磁粉探傷装置における検査液の
循環経路を、図２を参照して説明する。散布ノズル１及
び前処理用ノズル８には、常時所定量の検査液の散布を
行うように、配管４１及び配管４２により撹拌タンク４
３から検査液を供給する。配管４１，４２には、それぞ
れ流量調整絞り４４，４５と検査液圧送ポンプ４６，４
７を介装する。前記シャッター２の下面には、該シャッ
ター２が進出して被探傷材Ｗに対する検査液の散布を遮
断した場合に、シャッター２が受ける検査液を還流する
還流樋４８を設ける。また、散布ノズル１、前処理用ノ
ズル８及び還流樋４８の下方をカバーする検査液回収ト
レイ４９を配置する。検査液回収トレイ４９に流下した
検査液は、配管５０により回収タンク５１に回収する。
該回収タンク５１と前記撹拌タンク４３は、検査液圧送
ポンプ５２を介装した配管５３により接続して、回収タ
ンク５１の検査液を撹拌タンク４３へ圧送する。
循環経路を、図２を参照して説明する。散布ノズル１及
び前処理用ノズル８には、常時所定量の検査液の散布を
行うように、配管４１及び配管４２により撹拌タンク４
３から検査液を供給する。配管４１，４２には、それぞ
れ流量調整絞り４４，４５と検査液圧送ポンプ４６，４
７を介装する。前記シャッター２の下面には、該シャッ
ター２が進出して被探傷材Ｗに対する検査液の散布を遮
断した場合に、シャッター２が受ける検査液を還流する
還流樋４８を設ける。また、散布ノズル１、前処理用ノ
ズル８及び還流樋４８の下方をカバーする検査液回収ト
レイ４９を配置する。検査液回収トレイ４９に流下した
検査液は、配管５０により回収タンク５１に回収する。
該回収タンク５１と前記撹拌タンク４３は、検査液圧送
ポンプ５２を介装した配管５３により接続して、回収タ
ンク５１の検査液を撹拌タンク４３へ圧送する。
【００１３】上記構成の磁粉探傷装置の作動を説明す
る。水平搬送台１３の後方に搬送された被探傷材Ｗは、
図示しない移し替え装置により、前記受け台１５上に移
し替えられる。その移し替え位置は、後退した水平搬送
台１３の支承部材１４ａの位置の上部に対応する。そし
て、架台１２が図示しない駆動装置により上昇すると、
受け台１５の受け渡し位置にある被探傷材Ｗを、水平搬
送台１３の支承部材１４ａにより支承する。上昇端に達
すると、後述するように所定時間の経過後水平搬送台１
３が図示しない駆動装置により押され、架台１２上を水
平移動し搬送ピッチｐの距離前進する。そして、架台１
２の下降により被探傷材Ｗを、水平搬送台１３の支承部
材１４ａから再び受け台１５に移す。架台１２が下降端
に達すると、水平搬送台１３が引かれ水平移動して、搬
送ピッチｐの距離後退する。
る。水平搬送台１３の後方に搬送された被探傷材Ｗは、
図示しない移し替え装置により、前記受け台１５上に移
し替えられる。その移し替え位置は、後退した水平搬送
台１３の支承部材１４ａの位置の上部に対応する。そし
て、架台１２が図示しない駆動装置により上昇すると、
受け台１５の受け渡し位置にある被探傷材Ｗを、水平搬
送台１３の支承部材１４ａにより支承する。上昇端に達
すると、後述するように所定時間の経過後水平搬送台１
３が図示しない駆動装置により押され、架台１２上を水
平移動し搬送ピッチｐの距離前進する。そして、架台１
２の下降により被探傷材Ｗを、水平搬送台１３の支承部
材１４ａから再び受け台１５に移す。架台１２が下降端
に達すると、水平搬送台１３が引かれ水平移動して、搬
送ピッチｐの距離後退する。
【００１４】上記のように、架台１２と水平搬送台１３
の合成運動により、水平搬送台１３の各支承部材１４ａ
〜１４ｄは、図３に示すようにそれぞれ略ロの字形の軌
跡Ｌを描く。これにより、被探傷材Ｗは搬送ピッチｐの
距離を間欠的に移動して、受け台１５を介して支承部材
１４ａから１４ｄに順次受け渡され、前処理工程Ａ、磁
化工程及び散布工程Ｂ及び検査工程Ｃへ搬送される。検
査工程Ｃでは、水平移動した支承部材１４ｄに支承され
た被探傷材Ｗが、架台１２の下降に連動して上昇する転
回装置２４の転回用チェン２６上に移し替えられる。支
承部材１４ａ〜１４ｃに支承された各被探傷材Ｗが受け
台１５上に受け渡される。下降端に達した架台１２上の
水平搬送台１３は、搬送ピッチｐの距離後退して待機す
る。
の合成運動により、水平搬送台１３の各支承部材１４ａ
〜１４ｄは、図３に示すようにそれぞれ略ロの字形の軌
跡Ｌを描く。これにより、被探傷材Ｗは搬送ピッチｐの
距離を間欠的に移動して、受け台１５を介して支承部材
１４ａから１４ｄに順次受け渡され、前処理工程Ａ、磁
化工程及び散布工程Ｂ及び検査工程Ｃへ搬送される。検
査工程Ｃでは、水平移動した支承部材１４ｄに支承され
た被探傷材Ｗが、架台１２の下降に連動して上昇する転
回装置２４の転回用チェン２６上に移し替えられる。支
承部材１４ａ〜１４ｃに支承された各被探傷材Ｗが受け
台１５上に受け渡される。下降端に達した架台１２上の
水平搬送台１３は、搬送ピッチｐの距離後退して待機す
る。
【００１５】転回装置２４が上昇端に達すると、ブラッ
クライト３１の照射の下、検査員の操作により転回用モ
ータ２７を駆動して順次被探傷材Ｗを転回し、疵の有無
を目視検査して、疵検出箇所をマークする。この検査が
終了するまでの時間(概ね２０秒以上)、前処理工程Ａで
は受け台１５が受支する被探傷材Ｗに対して、前処理用
ノズル８から検査液が散布され濡れ性を高める。検査が
終了すると、転回装置２４が下降して被探傷材Ｗを搬出
ローラ２３上に移して搬出する。同時に架台１２が上昇
する。架台１２の上昇とともに受け台１５から水平搬送
台１３の支承部材１４ａ〜１４ｄに移し替えられた被探
傷材Ｗは、上昇端で一旦停止する。そして、磁化工程及
び散布工程Ｂでは、支承部材１４ｃが支承する被探傷材
Ｗの両端面に電極板５，５を当接して、３０００Ａ前後
の交流を通電し磁化するとともに、散布ノズル１の下面
に臨むシャッター２をシリンダ４により後退させて、検
査液を被探傷材Ｗに対して散布する。そして、所定時間
(４秒)経過後シャッター２が再び進出して、検査液を還
流樋４８に流し被探傷材Ｗへの散布を遮断する。
クライト３１の照射の下、検査員の操作により転回用モ
ータ２７を駆動して順次被探傷材Ｗを転回し、疵の有無
を目視検査して、疵検出箇所をマークする。この検査が
終了するまでの時間(概ね２０秒以上)、前処理工程Ａで
は受け台１５が受支する被探傷材Ｗに対して、前処理用
ノズル８から検査液が散布され濡れ性を高める。検査が
終了すると、転回装置２４が下降して被探傷材Ｗを搬出
ローラ２３上に移して搬出する。同時に架台１２が上昇
する。架台１２の上昇とともに受け台１５から水平搬送
台１３の支承部材１４ａ〜１４ｄに移し替えられた被探
傷材Ｗは、上昇端で一旦停止する。そして、磁化工程及
び散布工程Ｂでは、支承部材１４ｃが支承する被探傷材
Ｗの両端面に電極板５，５を当接して、３０００Ａ前後
の交流を通電し磁化するとともに、散布ノズル１の下面
に臨むシャッター２をシリンダ４により後退させて、検
査液を被探傷材Ｗに対して散布する。そして、所定時間
(４秒)経過後シャッター２が再び進出して、検査液を還
流樋４８に流し被探傷材Ｗへの散布を遮断する。
【００１６】そして、再び上昇端に位置する水平搬送台
１３が搬送ピッチｐの距離前進し、支承部材１４ｄが支
承する被探傷材Ｗが搬出ローラ２３の上面まで進出す
る。架台１２及び水平搬送台１３が下降するとその下降
に連動して、転回装置２４が搬出ローラ２３の間から上
昇し、支承部材１４ｄが支承する被探傷材Ｗを転回用チ
ェン２６上に移し替え、前記したと同様被探傷材Ｗに対
する検査を行う。
１３が搬送ピッチｐの距離前進し、支承部材１４ｄが支
承する被探傷材Ｗが搬出ローラ２３の上面まで進出す
る。架台１２及び水平搬送台１３が下降するとその下降
に連動して、転回装置２４が搬出ローラ２３の間から上
昇し、支承部材１４ｄが支承する被探傷材Ｗを転回用チ
ェン２６上に移し替え、前記したと同様被探傷材Ｗに対
する検査を行う。
【００１７】上記磁粉探傷装置により、従来方法(前処
理工程Ａを設けない方法)、比較方法(散布条件が本発明
の条件を満足しない方法)及び本発明方法との比較対照
検査(１)及び(２)を行った結果を表１及び表２に示す。 比較対照検査(１) 検査液の平均濃度 ０．５ｇ／リットル 被探傷材Ｗの断面形状(ｍｍ) １８５角、１３５角、９５角 １８５丸、１３５丸、９５丸 前処理工程Ａにおける被探傷 材Ｗの表面積１ｍ2当たりの 検査液の散布量 ３．０(ｍ3／時間) 散布時間２０秒以上 散布工程Ｂにおける散布時間 ４秒 尚、従来方法については前処理を行わない。
理工程Ａを設けない方法)、比較方法(散布条件が本発明
の条件を満足しない方法)及び本発明方法との比較対照
検査(１)及び(２)を行った結果を表１及び表２に示す。 比較対照検査(１) 検査液の平均濃度 ０．５ｇ／リットル 被探傷材Ｗの断面形状(ｍｍ) １８５角、１３５角、９５角 １８５丸、１３５丸、９５丸 前処理工程Ａにおける被探傷 材Ｗの表面積１ｍ2当たりの 検査液の散布量 ３．０(ｍ3／時間) 散布時間２０秒以上 散布工程Ｂにおける散布時間 ４秒 尚、従来方法については前処理を行わない。
【００１８】
【表１】
【００１９】表１によれば、前処理工程Ａで散布量３．
０(ｍ3／時間)×２０秒以上の散布を行うと、散布工程
Ｂでの散布量の減少に伴い誤判定率も減少する。散布量
が４．０(ｍ3／時間)のとき従来方法に比べ、誤判定率
が５８％も減少した。しかしながら、散布量を３(ｍ3／
時間)にすると、検査液が被探傷材Ｗの表面全体に散布
されず検査できなかった。従って、検査液は被探傷材Ｗ
の表面全体に散布可能な量確保する必要がある。尚、被
探傷材Ｗの断面形状によっては、誤判定率に差は生じな
かった。上記誤判定率は、疵有りと判定した箇所に実際
には疵が無かった場合の割合であり、従来方法(前処理
工程無し、９．４ｍ3／時間)による誤判定率を１００と
して、整数比で示したものである(以下同じ)。尚、上記
表１には示していないが、前処理工程Ａを行うことなく
散布量を８．０(ｍ3／時間)としても、被探傷材Ｗの表
面全体に検査液が散布されなかった。従って、検査液散
布量を減少させるには、前処理工程Ａにおける検査液の
散布が不可欠であることが確認できた。
０(ｍ3／時間)×２０秒以上の散布を行うと、散布工程
Ｂでの散布量の減少に伴い誤判定率も減少する。散布量
が４．０(ｍ3／時間)のとき従来方法に比べ、誤判定率
が５８％も減少した。しかしながら、散布量を３(ｍ3／
時間)にすると、検査液が被探傷材Ｗの表面全体に散布
されず検査できなかった。従って、検査液は被探傷材Ｗ
の表面全体に散布可能な量確保する必要がある。尚、被
探傷材Ｗの断面形状によっては、誤判定率に差は生じな
かった。上記誤判定率は、疵有りと判定した箇所に実際
には疵が無かった場合の割合であり、従来方法(前処理
工程無し、９．４ｍ3／時間)による誤判定率を１００と
して、整数比で示したものである(以下同じ)。尚、上記
表１には示していないが、前処理工程Ａを行うことなく
散布量を８．０(ｍ3／時間)としても、被探傷材Ｗの表
面全体に検査液が散布されなかった。従って、検査液散
布量を減少させるには、前処理工程Ａにおける検査液の
散布が不可欠であることが確認できた。
【００２０】 比較対照検査(２) 検査液の平均濃度 ０．５ｇ／リットル 被探傷材Ｗの断面形状(ｍｍ) １３５角 検査液の散布量 ３．０(ｍ3／時間) 散布時間２０秒以上 散布工程Ｂでの被探傷材Ｗ の表面積１ｍ2当たりの検査 液の散布量 ６．０ｍ3／時間
【００２１】
【表２】
【００２２】表２によれば、前処理工程Ａで散布量３．
０(ｍ3／時間)×２０秒以上の散布を行うと、前記比較
対照検査(１)と同様散布工程Ｂでの散布量の減少に伴い
誤判定率も減少する。散布量が６．０(ｍ3／時間)で一
定のとき、散布時間が４秒のとき、従来方法に比べ誤判
定率が４７％も減少した。また、散布時間を短くしすぎ
ると、検査液が被探傷材Ｗの表面全体に散布されないの
で、３秒以上散布することが必要である。
０(ｍ3／時間)×２０秒以上の散布を行うと、前記比較
対照検査(１)と同様散布工程Ｂでの散布量の減少に伴い
誤判定率も減少する。散布量が６．０(ｍ3／時間)で一
定のとき、散布時間が４秒のとき、従来方法に比べ誤判
定率が４７％も減少した。また、散布時間を短くしすぎ
ると、検査液が被探傷材Ｗの表面全体に散布されないの
で、３秒以上散布することが必要である。
【００２３】以上の実施結果より、検査液散布量を減少
させるには、前処理工程Ａにおける検査液の散布が不可
欠であり、さらに検査液の散布条件を所定の範囲内に調
整することにより、誤判定率の少ない検査が可能となる
ことが明らかとなった。尚、上記実施例装置では、被探
傷材Ｗの搬送方向を搬出方向に直交させたが、前処理工
程、磁化工程、散布工程及び検査工程等を長手方向に配
置するとともに、搬出装置に連続させて一連の工程のラ
イン化を図ることも可能である。また、上記実施例で
は、前処理工程Ａにおける散布液として、検査液を使用
したが、他の濡れ性の良好な液を使用しても同様の効果
が得られることは勿論である。
させるには、前処理工程Ａにおける検査液の散布が不可
欠であり、さらに検査液の散布条件を所定の範囲内に調
整することにより、誤判定率の少ない検査が可能となる
ことが明らかとなった。尚、上記実施例装置では、被探
傷材Ｗの搬送方向を搬出方向に直交させたが、前処理工
程、磁化工程、散布工程及び検査工程等を長手方向に配
置するとともに、搬出装置に連続させて一連の工程のラ
イン化を図ることも可能である。また、上記実施例で
は、前処理工程Ａにおける散布液として、検査液を使用
したが、他の濡れ性の良好な液を使用しても同様の効果
が得られることは勿論である。
【００２４】
【発明の効果】上記したように、本発明の磁粉探傷方法
は、検査液散布工程に搬送される前の被探傷材に対して
前処理液を散布し、被探傷材の濡れ性を高めるととも
に、検査液散布工程での検査液の散布量を必要十分な量
に低減して滴の発生を抑制することにより、蛍光磁粉の
散布ムラを防止して、探傷検査の誤判定率を略半減する
ことができる効果がある。また、本発明の磁粉探傷装置
は、誤判定率を略半減できる上記方法を的確に実施する
ことができる。
は、検査液散布工程に搬送される前の被探傷材に対して
前処理液を散布し、被探傷材の濡れ性を高めるととも
に、検査液散布工程での検査液の散布量を必要十分な量
に低減して滴の発生を抑制することにより、蛍光磁粉の
散布ムラを防止して、探傷検査の誤判定率を略半減する
ことができる効果がある。また、本発明の磁粉探傷装置
は、誤判定率を略半減できる上記方法を的確に実施する
ことができる。
【図１】本発明方法を実施する磁粉探傷装置の概略断面
図である。
図である。
【図２】被探傷材Ｗに散布する検査液の循環経路を示す
概略配管図である。
概略配管図である。
【図３】支承部材のロの字形軌跡を示す説明図である。
【図４】散布量の多少による滴の発生の相違を示した説
明図である。
明図である。
１...散布ノズル ５，５...電極板 ８...前処理用ノ
ズル １１...搬送装置Ｗ...被探傷材 Ａ...前処理工
程 Ｂ...磁化及び散布工程
ズル １１...搬送装置Ｗ...被探傷材 Ａ...前処理工
程 Ｂ...磁化及び散布工程
Claims (3)
- 【請求項１】 被探傷材を磁化するとともに、蛍光磁粉
を混合した検査液を散布して行う磁粉探傷方法におい
て、 被探傷材に対する前記検査液の散布工程の前に、前記被
探傷材の濡れ性を高めるため前処理液を散布する前処理
工程を設け、前記散布工程における検査液の散布量を低
減したことを特徴とする磁粉探傷方法。 - 【請求項２】 前処理工程で前処理液を被探傷材の表面
全体に散布した後、散布工程で被探傷材の表面積１ｍ2
当たり３．５〜７．５ｍ3／時間の量の検査液を３〜６
秒間散布することを特徴とする請求項１記載の磁粉探傷
方法。 - 【請求項３】 被探傷材を搬送する間欠駆動の搬送装置
と、磁化工程に搬送された被探傷材を磁化する磁化装置
と、検査液散布工程に搬送された被探傷材に対して所定
時間蛍光磁粉を混合した検査液を散布する検査液散布装
置とを備えた磁粉探傷装置において、 前記検査液散布工程に搬送される前の被探傷材に対し
て、前処理液を散布して該被探傷材の濡れ性を高める前
処理装置を設けたことを特徴とする磁粉探傷装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4197786A JPH0618483A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | 磁粉探傷方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4197786A JPH0618483A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | 磁粉探傷方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0618483A true JPH0618483A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=16380333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4197786A Pending JPH0618483A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | 磁粉探傷方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0618483A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103018321A (zh) * | 2012-12-04 | 2013-04-03 | 常州翰力信息科技有限公司 | 磁粉探伤装置 |
| CN106770630A (zh) * | 2017-02-21 | 2017-05-31 | 盐城市电子设备厂有限公司 | 滚柱磁粉探伤机 |
| CN113406191A (zh) * | 2021-08-05 | 2021-09-17 | 捷航设备制造股份有限公司 | 一种销状零件荧光磁粉探伤机用送料机构 |
| CN114235947A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-03-25 | 衡阳市金则利特种合金股份有限公司 | 圆棒钢材磁粉探伤系统及探伤方法 |
| CN116754633A (zh) * | 2023-08-17 | 2023-09-15 | 深圳市鑫泽峰科技有限公司 | 一种冲压五金件表面缺陷检测装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5417894A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-09 | Kobe Steel Ltd | Fluorecent magnetic powder crack detector |
| JPS5887453A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Nippon Steel Corp | 走間磁粉探傷における給粉方法 |
-
1992
- 1992-06-30 JP JP4197786A patent/JPH0618483A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5417894A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-09 | Kobe Steel Ltd | Fluorecent magnetic powder crack detector |
| JPS5887453A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Nippon Steel Corp | 走間磁粉探傷における給粉方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN114235947A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-03-25 | 衡阳市金则利特种合金股份有限公司 | 圆棒钢材磁粉探伤系统及探伤方法 |
| CN114235947B (zh) * | 2021-12-23 | 2024-02-06 | 衡阳市金则利特种合金股份有限公司 | 圆棒钢材磁粉探伤系统及探伤方法 |
| CN116754633A (zh) * | 2023-08-17 | 2023-09-15 | 深圳市鑫泽峰科技有限公司 | 一种冲压五金件表面缺陷检测装置 |
| CN116754633B (zh) * | 2023-08-17 | 2023-10-13 | 深圳市鑫泽峰科技有限公司 | 一种冲压五金件表面缺陷检测装置 |
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