JPH06186418A - ダイクロイックミラーの製造方法 - Google Patents
ダイクロイックミラーの製造方法Info
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- JPH06186418A JPH06186418A JP19596492A JP19596492A JPH06186418A JP H06186418 A JPH06186418 A JP H06186418A JP 19596492 A JP19596492 A JP 19596492A JP 19596492 A JP19596492 A JP 19596492A JP H06186418 A JPH06186418 A JP H06186418A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 投影型液晶表示装置で使用される液晶パネル
を透過した光を反射または透過させるダイクロイックミ
ラーの製造工程において、ダイクロイックミラーの平面
性を良好なものとする製造方法を提供する。 【構成】 白板ガラスからなる基板２１を研磨加工する
際に、平面に加工した基板に誘電体多層膜を形成したと
きに生じる湾曲形状と逆の湾曲形状に仕上げ、その基板
２１上に真空蒸着によりＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜を交互
に積層した誘電体多層膜２２を形成してダイクロイック
ミラーを作製することにより、誘電体多層膜２２が有す
る圧縮応力あるいは引っ張り応力により、ダイクロイッ
クミラーの平面性を良好なものとすることができる。
を透過した光を反射または透過させるダイクロイックミ
ラーの製造工程において、ダイクロイックミラーの平面
性を良好なものとする製造方法を提供する。 【構成】 白板ガラスからなる基板２１を研磨加工する
際に、平面に加工した基板に誘電体多層膜を形成したと
きに生じる湾曲形状と逆の湾曲形状に仕上げ、その基板
２１上に真空蒸着によりＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜を交互
に積層した誘電体多層膜２２を形成してダイクロイック
ミラーを作製することにより、誘電体多層膜２２が有す
る圧縮応力あるいは引っ張り応力により、ダイクロイッ
クミラーの平面性を良好なものとすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はダイクロイックミラーに
係わり、特に投影型液晶表示装置に用いて好適なダイク
ロイックミラーの製造方法に関する。
係わり、特に投影型液晶表示装置に用いて好適なダイク
ロイックミラーの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７に示すように、投影型液晶表示装置
において、光源ランプ１からの光をダイクロイックミラ
ーＤ１，Ｄ２によりＲ，Ｇ，Ｂの光に分解して液晶パネ
ルＬ１，Ｌ２，Ｌ３に導き、それらを透過した映像光
を、ダイクロイックミラーＤ３，Ｄ４により合成し、投
影レンズ２を経てスクリーン３上に液晶パネルの画像を
拡大して写し出している。４枚のダイクロイックミラー
Ｄ１〜Ｄ４のうちで、液晶パネルＬ１〜Ｌ３を透過した
後の光を透過または反射するＤ３，Ｄ４は、画像の歪み
に対して大きく影響するため、その平面度が特に重要と
なっている。ダイクロイックミラーの中心付近の視野φ
６０ｍｍの領域をフィゾー干渉計で測定した場合、ニュ
ートンリングが１０本を越えると画像歪みが著しく目立
つようになる。
において、光源ランプ１からの光をダイクロイックミラ
ーＤ１，Ｄ２によりＲ，Ｇ，Ｂの光に分解して液晶パネ
ルＬ１，Ｌ２，Ｌ３に導き、それらを透過した映像光
を、ダイクロイックミラーＤ３，Ｄ４により合成し、投
影レンズ２を経てスクリーン３上に液晶パネルの画像を
拡大して写し出している。４枚のダイクロイックミラー
Ｄ１〜Ｄ４のうちで、液晶パネルＬ１〜Ｌ３を透過した
後の光を透過または反射するＤ３，Ｄ４は、画像の歪み
に対して大きく影響するため、その平面度が特に重要と
なっている。ダイクロイックミラーの中心付近の視野φ
６０ｍｍの領域をフィゾー干渉計で測定した場合、ニュ
ートンリングが１０本を越えると画像歪みが著しく目立
つようになる。
【０００３】このようなダイクロイックミラーの基板と
して白板ガラス等が使われるが、平面度を高めるため
に、通常両面を研磨して仕上げられる。これにより、ニ
ュートンリングで２本から３本の平面度を有する基板が
得られる。この基板上に、光の透過率を波長別に変化さ
せるため、誘電体の薄膜を積層させる必要がある。この
方法は真空蒸着等により、真空中或いは特定ガスの雰囲
気中でＳｉＯ２ 等の低屈折率の誘電体薄膜とＴｉＯ２
等の高屈折率の誘電体薄膜とを交互に積層する。この
ような誘電体多層膜を真空蒸着で積層する際には、膜の
付着強度を高めるために通常基板を３００℃程度に、加
熱しながら行っている。１層当たり０．１５μｍ程度の
薄膜を、２０層から４０層程度積層する場合もある。
して白板ガラス等が使われるが、平面度を高めるため
に、通常両面を研磨して仕上げられる。これにより、ニ
ュートンリングで２本から３本の平面度を有する基板が
得られる。この基板上に、光の透過率を波長別に変化さ
せるため、誘電体の薄膜を積層させる必要がある。この
方法は真空蒸着等により、真空中或いは特定ガスの雰囲
気中でＳｉＯ２ 等の低屈折率の誘電体薄膜とＴｉＯ２
等の高屈折率の誘電体薄膜とを交互に積層する。この
ような誘電体多層膜を真空蒸着で積層する際には、膜の
付着強度を高めるために通常基板を３００℃程度に、加
熱しながら行っている。１層当たり０．１５μｍ程度の
薄膜を、２０層から４０層程度積層する場合もある。
【０００４】以上のようにして作成されたダイクロイッ
クミラーは、膜を蒸着する前の基板と比較して、平面度
が非常に悪化してしまう。これは、投影型液晶表示装置
の光学系の設計上の制約から、基板の厚さが通常１．５
ｍｍ以下と薄いため、基板上に誘電体多層膜を積層する
時に、基板を３００℃程度に加熱するため、誘電体多層
膜の内部応力等により基板の形状を変えてしまうことに
よると言われている。例えば、ニュートンリングで３本
の面を有する白板ガラスにＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交
互層からなる３０層の誘電体多層膜を蒸着したダイクロ
イックミラーの場合、平面度がニュートンリングで２０
本程度まで劣化することもある。このようなダイクロイ
ックミラーを図７に示すダイクロイックミラーＤ３また
はＤ４に用いた場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの各々の画像がずれて
しまい画質を劣化させる原因となっていた。
クミラーは、膜を蒸着する前の基板と比較して、平面度
が非常に悪化してしまう。これは、投影型液晶表示装置
の光学系の設計上の制約から、基板の厚さが通常１．５
ｍｍ以下と薄いため、基板上に誘電体多層膜を積層する
時に、基板を３００℃程度に加熱するため、誘電体多層
膜の内部応力等により基板の形状を変えてしまうことに
よると言われている。例えば、ニュートンリングで３本
の面を有する白板ガラスにＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交
互層からなる３０層の誘電体多層膜を蒸着したダイクロ
イックミラーの場合、平面度がニュートンリングで２０
本程度まで劣化することもある。このようなダイクロイ
ックミラーを図７に示すダイクロイックミラーＤ３また
はＤ４に用いた場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの各々の画像がずれて
しまい画質を劣化させる原因となっていた。
【０００５】従来、このようなダイクロイックミラーの
平面度の劣化を補正する手段として、基板の厚さを例え
ば２ｍｍから３ｍｍ程度に厚くすることで基板の強度を
高め、誘電体多層膜の内部応力によって基板が変形しに
くくするなどの方法が取られていた。
平面度の劣化を補正する手段として、基板の厚さを例え
ば２ｍｍから３ｍｍ程度に厚くすることで基板の強度を
高め、誘電体多層膜の内部応力によって基板が変形しに
くくするなどの方法が取られていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、投影
型液晶表示装置で使用される液晶パネルを透過した光を
反射または透過させるダイクロイックミラーにおいて、
ダイクロイックミラーの平面度を良好にする手段とし
て、基板の厚さを厚くする方法が適用されており、良好
な平面度を有するダイクロイックミラーが得られてい
る。しかし、ダイクロイックミラーの厚さが厚くなる
と、反射光と透過光の光軸のずれが大きくなるため、こ
のずれを補正する新たな機構を追加する必要があり、投
射型液晶表示装置のコストアップになっていた。
型液晶表示装置で使用される液晶パネルを透過した光を
反射または透過させるダイクロイックミラーにおいて、
ダイクロイックミラーの平面度を良好にする手段とし
て、基板の厚さを厚くする方法が適用されており、良好
な平面度を有するダイクロイックミラーが得られてい
る。しかし、ダイクロイックミラーの厚さが厚くなる
と、反射光と透過光の光軸のずれが大きくなるため、こ
のずれを補正する新たな機構を追加する必要があり、投
射型液晶表示装置のコストアップになっていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した従来
の技術の課題を解決するため、誘電体薄膜を基板上に積
層して成るダイクロイックミラーの製造方法において、
前記基板への前記誘電体薄膜の積層後に前記ダイクロイ
ックミラーが平面状になるように、前記基板を湾曲形状
に加工する加工工程を、前記誘電体薄膜を前記基板に積
層する工程の前段に設けたことを特徴とするダイクロイ
ックミラーの製造方法を提供するものである。
の技術の課題を解決するため、誘電体薄膜を基板上に積
層して成るダイクロイックミラーの製造方法において、
前記基板への前記誘電体薄膜の積層後に前記ダイクロイ
ックミラーが平面状になるように、前記基板を湾曲形状
に加工する加工工程を、前記誘電体薄膜を前記基板に積
層する工程の前段に設けたことを特徴とするダイクロイ
ックミラーの製造方法を提供するものである。
【０００８】
【実施例】本発明は、投影型液晶表示装置で使用される
ダイクロイックミラーの製造方法において、真空蒸着等
によって誘電体多層膜（誘電体薄膜）を形成する基板
（白板ガラス）を研磨加工する際に基板を湾曲形状に仕
上げ、誘電体多層膜が有する圧縮応力あるいは引っ張り
応力の種類に応じて湾曲した基板の凹面側或いは凸面側
に誘電体多層膜を形成することにより、ダイクロイック
ミラーの平面性を良好なものとする製造方法である。
ダイクロイックミラーの製造方法において、真空蒸着等
によって誘電体多層膜（誘電体薄膜）を形成する基板
（白板ガラス）を研磨加工する際に基板を湾曲形状に仕
上げ、誘電体多層膜が有する圧縮応力あるいは引っ張り
応力の種類に応じて湾曲した基板の凹面側或いは凸面側
に誘電体多層膜を形成することにより、ダイクロイック
ミラーの平面性を良好なものとする製造方法である。
【０００９】以下、本発明のダイクロイックミラーの製
造方法について、添付図面を参照して説明する。図２は
平面基板に誘電体多層膜を形成した後、平面度が劣化し
たダイクロイックミラーの断面模式図である。ニュート
ンリングが２本から３本の平面度を有する白板ガラス１
１上に、真空蒸着によりＳｉＯ２ 膜とＴｉＯ２ 膜を
交互に積層した誘電体多層膜１２を形成すると、誘電体
多層膜１２を形成した面側が凸状に湾曲してしまう。こ
のダイクロイックミラーにおける湾曲の変位を仮にｘと
おく。図３にこのダイクロイックミラーの平面度を視野
φ６０mmのフィゾー干渉計で測定した結果を示す図であ
る。
造方法について、添付図面を参照して説明する。図２は
平面基板に誘電体多層膜を形成した後、平面度が劣化し
たダイクロイックミラーの断面模式図である。ニュート
ンリングが２本から３本の平面度を有する白板ガラス１
１上に、真空蒸着によりＳｉＯ２ 膜とＴｉＯ２ 膜を
交互に積層した誘電体多層膜１２を形成すると、誘電体
多層膜１２を形成した面側が凸状に湾曲してしまう。こ
のダイクロイックミラーにおける湾曲の変位を仮にｘと
おく。図３にこのダイクロイックミラーの平面度を視野
φ６０mmのフィゾー干渉計で測定した結果を示す図であ
る。
【００１０】図４は湾曲加工した基板の断面模式図であ
る。白板ガラス２１は、図２に示した白板ガラス１１と
同一の材質及び厚みのものである。白板ガラス２１にお
ける凹面側２１ａの湾曲の形状を、図２に示した劣化し
たダイクロイックミラーの湾曲の変位ｘと同一になるよ
うに研磨加工する。この白板ガラス２１の凹面側２１ａ
に、先に説明した誘電体多層膜１２と同一条件下で多層
膜を形成する。図１はこのようにして作製されたダイク
ロイックミラーの断面模式図である。白板ガラス２１の
応力と誘電体多層膜２２の応力とが釣り合い、その結
果、ダイクロイックミラーの平面度が良好なものとな
る。本実施例ではＳｉＯ２ とＴｉＯ２ とから成る誘
電体多層膜であるため、湾曲基板の凹面側に誘電体多層
膜を形成したが、誘電体多層膜の構成材料によっては実
施例とは逆の応力を有することもあり、この場合は湾曲
基板の凸面側に誘電体多層膜を形成すれば良いことは言
うまでもない。
る。白板ガラス２１は、図２に示した白板ガラス１１と
同一の材質及び厚みのものである。白板ガラス２１にお
ける凹面側２１ａの湾曲の形状を、図２に示した劣化し
たダイクロイックミラーの湾曲の変位ｘと同一になるよ
うに研磨加工する。この白板ガラス２１の凹面側２１ａ
に、先に説明した誘電体多層膜１２と同一条件下で多層
膜を形成する。図１はこのようにして作製されたダイク
ロイックミラーの断面模式図である。白板ガラス２１の
応力と誘電体多層膜２２の応力とが釣り合い、その結
果、ダイクロイックミラーの平面度が良好なものとな
る。本実施例ではＳｉＯ２ とＴｉＯ２ とから成る誘
電体多層膜であるため、湾曲基板の凹面側に誘電体多層
膜を形成したが、誘電体多層膜の構成材料によっては実
施例とは逆の応力を有することもあり、この場合は湾曲
基板の凸面側に誘電体多層膜を形成すれば良いことは言
うまでもない。
【００１１】本発明の製造方法により作製されたダイク
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を図５
に示す。外形が７０ｍｍ×７０ｍｍ、厚さが１．２ｍｍ
の白板ガラスをニュートンリングが１０本程度になるよ
うに研磨加工して、この白板ガラスの凹面側に１層当た
り約０．１５μｍのＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交互層を
２０層積層したものである。このダイクロイックミラー
の平面度を視野φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した
結果、干渉縞の間隔は約０．３２μｍである。図６は本
発明の製造方法により作成された別のダイクロイックミ
ラーをフィゾー干渉計で測定した結果である。外形が８
０ｍｍ×８０ｍｍ、厚さが１．５ｍｍの白板ガラスをニ
ュートンリングが１０本程度になるように研磨加工し
て、この白板ガラスの凹面側に１層当たり約０．１５μ
ｍのＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交互層を４０層積層した
ものである。このダイクロイックミラーの平面度を視野
φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結果、干渉縞の
間隔は約０．３２μｍである。
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を図５
に示す。外形が７０ｍｍ×７０ｍｍ、厚さが１．２ｍｍ
の白板ガラスをニュートンリングが１０本程度になるよ
うに研磨加工して、この白板ガラスの凹面側に１層当た
り約０．１５μｍのＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交互層を
２０層積層したものである。このダイクロイックミラー
の平面度を視野φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した
結果、干渉縞の間隔は約０．３２μｍである。図６は本
発明の製造方法により作成された別のダイクロイックミ
ラーをフィゾー干渉計で測定した結果である。外形が８
０ｍｍ×８０ｍｍ、厚さが１．５ｍｍの白板ガラスをニ
ュートンリングが１０本程度になるように研磨加工し
て、この白板ガラスの凹面側に１層当たり約０．１５μ
ｍのＳｉＯ２ とＴｉＯ２ の交互層を４０層積層した
ものである。このダイクロイックミラーの平面度を視野
φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結果、干渉縞の
間隔は約０．３２μｍである。
【００１２】図５及び図６に示す本発明の製造方法で作
製されたダイクロイックミラーは、図３に示す従来の製
造方法で作製されたダイクロイックミラーに比べ、平面
度が向上していることが確認できる。
製されたダイクロイックミラーは、図３に示す従来の製
造方法で作製されたダイクロイックミラーに比べ、平面
度が向上していることが確認できる。
【００１３】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明のダ
イクロイックミラーの製造方法によれば、投影型液晶表
示装置で使用されるダイクロイックミラーの製造工程に
おいて、真空蒸着等によって誘電体多層膜を形成する基
板を研磨加工時に湾曲するように仕上げ、この基板に誘
電体多層膜を形成することにより、基板の厚さを厚くす
ることなくダイクロイックミラーの平面度を改善するこ
とができるという実用上極めて優れた効果がある。
イクロイックミラーの製造方法によれば、投影型液晶表
示装置で使用されるダイクロイックミラーの製造工程に
おいて、真空蒸着等によって誘電体多層膜を形成する基
板を研磨加工時に湾曲するように仕上げ、この基板に誘
電体多層膜を形成することにより、基板の厚さを厚くす
ることなくダイクロイックミラーの平面度を改善するこ
とができるという実用上極めて優れた効果がある。
【図１】本発明の製造方法で作製したダイクロイックミ
ラーの断面模式図である。
ラーの断面模式図である。
【図２】基板に誘電体多層膜を形成後に平面度が劣化し
たダイクロイックミラーの断面模式図である。
たダイクロイックミラーの断面模式図である。
【図３】図２に示すダイクロイックミラーをフィゾー干
渉計で測定した写真である。
渉計で測定した写真である。
【図４】湾曲加工した基板の断面模式図である。
【図５】本発明の製造方法により作成されたダイクロイ
ックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を示す図で
ある。
ックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を示す図で
ある。
【図６】本発明の製造方法により作成された別のダイク
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を示す
図である。
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を示す
図である。
【図７】投影型液晶表示装置の構成模式図である。
２１ 白板ガラス（基板） ２２ 誘電体多層膜（誘電体薄膜）
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年４月１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】このようなダイクロイックミラーの基板と
して白板ガラス等が使われるが、平面度を高めるため
に、通常両面を研磨して仕上げられる。これにより、ニ
ュートンリングで２本から３本の平面度を有する基板が
得られる。この基板上に、光の透過率を波長別に変化さ
せるため、誘電体の薄膜を積層させる必要がある。この
方法は真空蒸着等により、真空中或いは特定ガスの雰囲
気中でＳｉＯ２等の低屈折率の誘電体薄膜とＴｉＯ２等
の高屈折率の誘電体薄膜とを交互に積層する。このよう
な誘電体多層膜を真空蒸着で積層する際には、膜の付着
強度を高めるために通常基板を３００℃程度に、加熱し
ながら行っている。１層当たり０．１５μｍ程度の薄膜
を、２０層から４０層程度積層する場合もある。
して白板ガラス等が使われるが、平面度を高めるため
に、通常両面を研磨して仕上げられる。これにより、ニ
ュートンリングで２本から３本の平面度を有する基板が
得られる。この基板上に、光の透過率を波長別に変化さ
せるため、誘電体の薄膜を積層させる必要がある。この
方法は真空蒸着等により、真空中或いは特定ガスの雰囲
気中でＳｉＯ２等の低屈折率の誘電体薄膜とＴｉＯ２等
の高屈折率の誘電体薄膜とを交互に積層する。このよう
な誘電体多層膜を真空蒸着で積層する際には、膜の付着
強度を高めるために通常基板を３００℃程度に、加熱し
ながら行っている。１層当たり０．１５μｍ程度の薄膜
を、２０層から４０層程度積層する場合もある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】以下のようにして作成されたダイクロイッ
クミラーは、膜を蒸着する前の基板と比較して、平面度
が非常に悪化してしまう。これは、投影型液晶表示装置
の光学系の設計上の制約から、基板の厚さが通常１．５
ｍｍ以下と薄いため、基板上誘電体多層膜を積層する時
に、基板を３００℃程度に加熱するため、誘電体多層膜
の内部応力等により基板の形状を変えてしまうことによ
ると言われている。例えば、ニュートンリングで３本の
面を有する白板ガラスにＳｉＯ２とＴＯ２の交互層から
なる３０層の誘電体多層膜を蒸着したダイクロイックミ
ターの場合、平面度がニュートンリングで２０本程度ま
で劣化することもある。このようなダイクロイックミラ
ーを図７に示すダイクロイックミラーＤ３またはＤ４に
用いた場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの各々の画像がずれてしまう画
質を劣化させる原因となっていた。
クミラーは、膜を蒸着する前の基板と比較して、平面度
が非常に悪化してしまう。これは、投影型液晶表示装置
の光学系の設計上の制約から、基板の厚さが通常１．５
ｍｍ以下と薄いため、基板上誘電体多層膜を積層する時
に、基板を３００℃程度に加熱するため、誘電体多層膜
の内部応力等により基板の形状を変えてしまうことによ
ると言われている。例えば、ニュートンリングで３本の
面を有する白板ガラスにＳｉＯ２とＴＯ２の交互層から
なる３０層の誘電体多層膜を蒸着したダイクロイックミ
ターの場合、平面度がニュートンリングで２０本程度ま
で劣化することもある。このようなダイクロイックミラ
ーを図７に示すダイクロイックミラーＤ３またはＤ４に
用いた場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの各々の画像がずれてしまう画
質を劣化させる原因となっていた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】以下、本発明のダイクロイックミラーの製
造方法について、添付図面を参照して説明する。図２は
平面基板に誘電体多層膜を形成した後、平面度が劣化し
たダイクロイックミラーの断面模式図である。ニュート
リングが２本から３本の平面度を有する白板ガラス１１
上に、真空蒸着によりＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜を交互に
積層した誘電体多層膜１２を形成すると、誘電体多層膜
１２を形成した面側が凸状に湾曲してしまう。このダイ
クロイックミラーにおける湾曲の変位を仮にｘとおく。
図３にこのダイクロイックミラーの平面度を視野φ６０
ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結果を示す図である。
造方法について、添付図面を参照して説明する。図２は
平面基板に誘電体多層膜を形成した後、平面度が劣化し
たダイクロイックミラーの断面模式図である。ニュート
リングが２本から３本の平面度を有する白板ガラス１１
上に、真空蒸着によりＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜を交互に
積層した誘電体多層膜１２を形成すると、誘電体多層膜
１２を形成した面側が凸状に湾曲してしまう。このダイ
クロイックミラーにおける湾曲の変位を仮にｘとおく。
図３にこのダイクロイックミラーの平面度を視野φ６０
ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結果を示す図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】図４は湾曲加工した基板の断面模式図であ
る。白板ガラス２１は、図２に示した白板ガラス１１と
同一の材質及び厚みのものである。白板ガラス２１にお
ける凹面側２１ａの湾曲の形状を、図２に示した劣化し
たダイクロイックミラーの湾曲の変位ｘと同一になるよ
うに研磨加工する。この白板ガラス２１の凹面側２１ａ
に、先に説明した誘電体多層膜１２と同一条件下で多層
膜を形成する。図１はこのようにして作製されたダイク
ロイックミラーの断面模式図である。白板ガラス２１の
応力と誘電体多層膜２２の応力とが釣り合い、その結
果、ダイクロイックミラーの平面度が良好なものとな
る。本実施例ではＳｉＯ２とＴｉＯ２とから成る誘電体
多層膜であるため、湾曲基板の凹面側に誘電体多層膜を
形成したが、誘電体多層膜の構成材料によっては実施例
とは逆の応力を有することもあり、この場合は湾曲基板
の凸面側に誘電体多層膜を形成すれば良いことは言うま
でもない。
る。白板ガラス２１は、図２に示した白板ガラス１１と
同一の材質及び厚みのものである。白板ガラス２１にお
ける凹面側２１ａの湾曲の形状を、図２に示した劣化し
たダイクロイックミラーの湾曲の変位ｘと同一になるよ
うに研磨加工する。この白板ガラス２１の凹面側２１ａ
に、先に説明した誘電体多層膜１２と同一条件下で多層
膜を形成する。図１はこのようにして作製されたダイク
ロイックミラーの断面模式図である。白板ガラス２１の
応力と誘電体多層膜２２の応力とが釣り合い、その結
果、ダイクロイックミラーの平面度が良好なものとな
る。本実施例ではＳｉＯ２とＴｉＯ２とから成る誘電体
多層膜であるため、湾曲基板の凹面側に誘電体多層膜を
形成したが、誘電体多層膜の構成材料によっては実施例
とは逆の応力を有することもあり、この場合は湾曲基板
の凸面側に誘電体多層膜を形成すれば良いことは言うま
でもない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】本発明の製造方法により作製されたダイク
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を図５
に示す。外形が７０ｍｍ×７０ｍｍ、厚さが１．２ｍｍ
の白板ガラスをニュートンリングが１０本程度になるよ
うに研磨加工して、この白板ガラスの凹面側に１層当た
り約０．１５μｍのＳｉＯ２とＴｉＯ２の交互層を２０
層積層したものである。このダイクロイックミラーの平
面度を視野φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結
果、干渉縞の間隔は約０．３２μｍである。図６は本発
明の製造方法により作成された別のダイクロイックミラ
ーをフィゾー干渉計で測定した結果である。外形が８０
ｍｍ×８０ｍｍ、厚さが１．５ｍｍの白板ガラスをニュ
ートンリングが１０本程度になるように研磨加工して、
この白板ガラスの凹面側に１層当たり約０．１５μｍの
ＳｉＯ２とＴｉＯ２の交互層を４０層積層したものであ
る。このダイクロイックミラーの平面度を視野φ６０ｍ
ｍのフィゾー干渉計で測定した結果、干渉縞の間隔は約
０．３２μｍである。 ─────────────────────────────────────────────────────
ロイックミラーをフィゾー干渉計で測定した結果を図５
に示す。外形が７０ｍｍ×７０ｍｍ、厚さが１．２ｍｍ
の白板ガラスをニュートンリングが１０本程度になるよ
うに研磨加工して、この白板ガラスの凹面側に１層当た
り約０．１５μｍのＳｉＯ２とＴｉＯ２の交互層を２０
層積層したものである。このダイクロイックミラーの平
面度を視野φ６０ｍｍのフィゾー干渉計で測定した結
果、干渉縞の間隔は約０．３２μｍである。図６は本発
明の製造方法により作成された別のダイクロイックミラ
ーをフィゾー干渉計で測定した結果である。外形が８０
ｍｍ×８０ｍｍ、厚さが１．５ｍｍの白板ガラスをニュ
ートンリングが１０本程度になるように研磨加工して、
この白板ガラスの凹面側に１層当たり約０．１５μｍの
ＳｉＯ２とＴｉＯ２の交互層を４０層積層したものであ
る。このダイクロイックミラーの平面度を視野φ６０ｍ
ｍのフィゾー干渉計で測定した結果、干渉縞の間隔は約
０．３２μｍである。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年１１月２４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】図２に示すダイクロイックミラーをフィゾー干
渉計で測定した結果を示す図である。
渉計で測定した結果を示す図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図５】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正内容】
【図６】
Claims (1)
- 【請求項１】誘電体薄膜を基板上に積層して成るダイク
ロイックミラーの製造方法において、 前記基板への前記誘電体薄膜の積層後に前記ダイクロイ
ックミラーが平面状になるように、前記基板を湾曲形状
に加工する加工工程を、 前記誘電体薄膜を前記基板に積層する工程の前段に設け
たことを特徴とするダイクロイックミラーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19596492A JPH06186418A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | ダイクロイックミラーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19596492A JPH06186418A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | ダイクロイックミラーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06186418A true JPH06186418A (ja) | 1994-07-08 |
Family
ID=16349919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19596492A Pending JPH06186418A (ja) | 1992-06-30 | 1992-06-30 | ダイクロイックミラーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06186418A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09197124A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-07-31 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ダイクロイックミラー |
| WO2006006363A1 (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-19 | Daishinku Corporation | 光学フィルタおよび光学フィルタの製造方法 |
| US6998003B2 (en) | 1996-11-01 | 2006-02-14 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Optical element and its manufacturing process |
| JP2007108194A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Canon Inc | 多層膜ミラーの製造方法、光学系の製造方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
| US7233029B2 (en) | 2003-01-17 | 2007-06-19 | Fujifilm Corporation | Optical functional film, method of forming the same, and spatial light modulator, spatial light modulator array, image forming device and flat panel display using the same |
| JP2008298874A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Fujinon Corp | 反射プリズム、光ピックアップ及び反射プリズムの製造方法 |
| JP2013506153A (ja) * | 2009-09-24 | 2013-02-21 | カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハー | 顕微鏡 |
| DE102014201622A1 (de) * | 2014-01-30 | 2015-08-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements |
-
1992
- 1992-06-30 JP JP19596492A patent/JPH06186418A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2017506363A (ja) * | 2014-01-30 | 2017-03-02 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | ミラー素子を製造する方法 |
| US10423073B2 (en) | 2014-01-30 | 2019-09-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for producing a mirror element |
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