JPS5910901A - 光学積層物 - Google Patents

光学積層物

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JPS5910901A
JPS5910901A JP57121072A JP12107282A JPS5910901A JP S5910901 A JPS5910901 A JP S5910901A JP 57121072 A JP57121072 A JP 57121072A JP 12107282 A JP12107282 A JP 12107282A JP S5910901 A JPS5910901 A JP S5910901A
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JP
Japan
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substrate
vapor
deposited
sio2
tio2
Prior art date
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Pending
Application number
JP57121072A
Other languages
English (en)
Inventor
Norio Yamamura
山村　則夫
Masaaki Kaneko
正昭 金子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Nippon Kogaku KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp, Nippon Kogaku KK filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPS5910901A publication Critical patent/JPS5910901A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、例えば薄いガラスのような基板の上に複層の
蒸着膜を積層した光学積層物に関する。
ガラスやプラスチックのような基板の上に、高屈折率の
ＺｒＯ，及び低屈折率のｓｉｏ、２交互に積層し７て得
られる干渉現象全利用したフィルター、ダイクロインク
ミラー、エタロン板、高反射ミラーなどのような光学積
層物は、既に知られている。
これまで基板は蒸着膜に比べると非常に厚かったので問
題にならなかったが、基板が薄いとか、加えて剛性の小
さなプラスチック製であるとか、蒸着膜が多層で非常に
厚いような場合には、蒸着膜の内部応力によって僅かで
はあるが基板が変形（歪み）奮起こし、この変形が光学
系に態形＃全与えることが判った。これにより、例えば
平行光が基板に入射しても、反射光及び透過光は発散又
は収束してし捷うことがある。この不都合を解消するた
め、蒸着膜中に内部応力が生じないように基板全加熱せ
ずに常温で蒸着する方法が考えられたが、基板温度が低
いと膜強度及び基板との接着強度が弱く好１しくなかっ
た。
本発明者らは、ｚｒｏ、及び５ｈｏ２の内部応力が共に
圧縮応力でおることに鑑み、隣接する一対の膜の内部応
力を釣合わせることにより相殺して基板に対する応力の
影響全消失させる技術に着目した。そこでｚｒｏ、と疎
ぼ等しい高屈折率を有し、かつＳｉＯ２の圧縮応力を相
殺するのに必要十分な弓１張応力を示す物質を得るべく
研究したところ、Ｔｉ０１が目的とする引張応力を示す
ことを見い出し、本発明を成すに至った。
即ち、本発明は、積層される蒸着膜の内部応力によって
変形する基板の上に内部応カ全有するＴｉＯ７及びｓｉ
ｏ、蒸着膜を一回ないし多数回交互に積層してなり、か
つ前記５ｉｏｔの圧縮応力がＴｉｅ。
の引張応力で相殺されていること全特徴とする光学積層
物全提供する。
以下、図面全引用して夾施例により本発明全具体的に説
明する。
第１図は断面図であり、下記蒸着条件で基板ガラス（す
に圧縮応力を示すＳ　ｉ　Ｏ，（２）　ｆ蒸着すると第
１図（ａ）の如く変形し、他方引張応カ全示すＴ　ｉ　
０ｔ（３）全蒸着すると第１図（ｂ）の如く変形した。
（基板ガラス） 長さｌ＝２８ｍｍ 幅　　　＝１８朋 厚さ　＝　０．５　ｍｒｘ 硝種　＝ＢＳＣ７ ヤング率Ｅ　＝　７．１３Ｘ１０”ｄｙｎ／ｃｔＡポア
ソン比ν＝０２２ （蒸着条件） Ｔｔｏ。
膜厚：５００人 基板温度：３００℃ 真空度　、　５Ｘ１０　Ｔｏｒｒ　、まで排気後、０２
ガ／（ｉ　２．５ＸＩＯＴｏ　ｒ　ｒ　、導入蒸着方法
：　ＴｉＯを活性化蒸着 蒸着速度：〜１ｏ＾／ｓｅｃ。
Ｓ１０゜ 膜厚：１０００＾ 基板温度：３００℃ Ｘ９度　：　２．０Ｘ１０　Ｔｏｒｒ、ｔで排気後、０
２ガスｆ　ｇ５Ｘ１０　Ｔｏｒｒ　、導入蒸着方法：５
ＩＯｓ’に電子ビーム加熱蒸着蒸着速度：２〜５　＾／
Ｓｅｃ。
ＺｒＯ。
膜厚：５００人 基板温度：３００℃ 真空度　：　１．ＯＸ］ＯＴｏｒｒ。
蒸着方法”Ｚｒ０ｔｋ電子ビ一ム加熱蒸着蒸着速度：３
〜５　＾／ｓｅｃ。
既に知られているように蒸着膜中の応力は、次の式によ
って求められる。
基板を矩形とし、膜全体の応力全σとすると、Ｅ：基板
のヤング率 ｂ：　〃の厚さ ｌ：　〃の長さく長手方向） ν：　〃のポアソン比 Δ：基板の歪み量（両端自由で中心点の歪み） である。
この結果、測定された各蒸着膜の内部応力σは次の通り
であった。
Ｔｉｅ、　：　　１．２Ｘ１０’ｄｙｎ／ｄ　　（引張
）Ｓ　ｉｏ、　：　　１．３ＸＩＯ’　ｄｙｎ／ｃ＋＋
１　　（圧縮）ＺｒＯｔ：　　０．９ＸＩＯ’　ｄｙｎ
／ａ＋！　　（圧縮）次に第２図（断面図）に示すよう
に前記蒸着条件と同じ条件で基板ガラス（１）の上に、
Ｔ　ｒ　ｏ２又ＵＺｒＯ□とそのヒに５ＩＯｔｋ交互に
７層重ねて蒸着した。
この結果得られた光学積層物の基板面の歪みは次の通り
であった。
ｏｓｉｏ、／ＴｉＯ，の交互層一応力がほぼ釣合ってい
る。
５４６１大の単色光によるニュートンリング（干渉縞）
が凹面で１本 ｏ　Ｓ　４０．　／ＺｒＯ，の交互層一応力が釣合って
いない。
同　　１７本 以上の結果から明らかなように、隣接する蒸着膜の内部
応力を互に釣合わせることにより相殺させた本発明の光
学積層物ぼ、基板面の歪みが事実上無視し得るほど少な
く、従って、高度の面精度が要求されるエタロン板、干
渉フィルター、ダイクロイックミラー、高反射ミラーな
どに利用可能である。なお、基板に直接接触するのけＴ
　ｉ　ｏ、に限るものではすく、用途によってはｓｉｏ
、７接触させてもよい。基板はガラスに限らずプラスチ
ックでもよく、また基板面は平面に限らず、所定の目的
金持った曲面でもよい。
蒸着方法も真空蒸着に限らず、スノくツタリング、イオ
ンブレーティング、ＣＶＤなとの方法でもよい。
【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図は断面図である。 出願人　日本光学工業株式会社 代理人　渡　　辺　　隆　　男

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 積層される蒸着膜の内部応力によって変形を生じる基板
    の上にＴｔＯ□蒸着膜とＳｉＯ１蒸着膜が交互に積層し
    てなり、前記ｓｈｏ、膜の内部応力と前記ＴｌＯ２膜の
    内部応力が釣合っていることを特徴とする光学積層物。
JP57121072A 1982-07-12 1982-07-12 光学積層物 Pending JPS5910901A (ja)

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JPS5910901A true JPS5910901A (ja) 1984-01-20

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ID=14802143

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62134231A (ja) * 1985-12-09 1987-06-17 Showa Denko Kk 積層物の製造方法及びその製造装置
JPH01200268A (ja) * 1988-02-04 1989-08-11 Minolta Camera Co Ltd 電子写真用感光体
JP2007063574A (ja) * 2005-08-29 2007-03-15 Showa Shinku:Kk 多層膜の成膜方法および成膜装置
WO2009016658A1 (en) * 2007-07-27 2009-02-05 Galileo Avionica S.P.A. Preliminary controlled pre-deformation treatment for the production of mirrors
JP2010210782A (ja) * 2009-03-09 2010-09-24 Ricoh Co Ltd マイクロミラー装置
JP2019149480A (ja) * 2018-02-27 2019-09-05 豊田合成株式会社 半導体素子、発光装置、および発光装置の製造方法
WO2024181319A1 (ja) * 2023-02-28 2024-09-06 東海光学株式会社 光学薄膜

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62134231A (ja) * 1985-12-09 1987-06-17 Showa Denko Kk 積層物の製造方法及びその製造装置
JPH01200268A (ja) * 1988-02-04 1989-08-11 Minolta Camera Co Ltd 電子写真用感光体
JP2007063574A (ja) * 2005-08-29 2007-03-15 Showa Shinku:Kk 多層膜の成膜方法および成膜装置
WO2009016658A1 (en) * 2007-07-27 2009-02-05 Galileo Avionica S.P.A. Preliminary controlled pre-deformation treatment for the production of mirrors
JP2010210782A (ja) * 2009-03-09 2010-09-24 Ricoh Co Ltd マイクロミラー装置
JP2019149480A (ja) * 2018-02-27 2019-09-05 豊田合成株式会社 半導体素子、発光装置、および発光装置の製造方法
WO2024181319A1 (ja) * 2023-02-28 2024-09-06 東海光学株式会社 光学薄膜
EP4653926A1 (en) 2023-02-28 2025-11-26 Tokai Optical Co., Ltd. Optical thin film

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