JPH06188105A - 非直線抵抗体の製造方法 - Google Patents
非直線抵抗体の製造方法Info
- Publication number
- JPH06188105A JPH06188105A JP43A JP33689092A JPH06188105A JP H06188105 A JPH06188105 A JP H06188105A JP 43 A JP43 A JP 43A JP 33689092 A JP33689092 A JP 33689092A JP H06188105 A JPH06188105 A JP H06188105A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aramid
- sintered body
- linear resistor
- high resistance
- resistance layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 焼結体1の側面にアラミド樹脂を塗布して加
熱し高抵抗層2を形成して電極3を取付ける非直線抵抗
体の製造方法。 【効果】 耐量値が向上する。
熱し高抵抗層2を形成して電極3を取付ける非直線抵抗
体の製造方法。 【効果】 耐量値が向上する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は酸化亜鉛を主成分とする
非直線抵抗体の製造方法に関する。
非直線抵抗体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に電力系統における異常電圧を抑制
し、電力系統を保護するために避雷器が用いられてい
る。避雷器には正常な電圧で絶縁特性を示し、異常電圧
が発生したときには低抵抗性を示し、系統を保護する非
直線抵抗体が採用されている。
し、電力系統を保護するために避雷器が用いられてい
る。避雷器には正常な電圧で絶縁特性を示し、異常電圧
が発生したときには低抵抗性を示し、系統を保護する非
直線抵抗体が採用されている。
【0003】この非直線抵抗体は、酸化亜鉛(ZnO)
を主成分とし、Bi,Sb,Co,Mn,Ni,Cr,
Siを副成分とする。これらの原料を水及び有機バイン
ダとともに十分混合した後、スプレードライヤ等で造粒
し、得られた造粒粉を円板状に成形し、この円板状の成
形体を焼成して焼結体を得、この焼結体の側面に沿面閃
絡を防止するためにSiO2 ,Bi2 O3 ,Sb2 O3
等を水及び有機バインダとともに混合した高抵抗物質を
塗布して1000〜1200℃で再焼成し高抵抗層を形成する。
さらに焼結体の両端面を研磨し、電極を取り付けて非直
線抵抗体とする。
を主成分とし、Bi,Sb,Co,Mn,Ni,Cr,
Siを副成分とする。これらの原料を水及び有機バイン
ダとともに十分混合した後、スプレードライヤ等で造粒
し、得られた造粒粉を円板状に成形し、この円板状の成
形体を焼成して焼結体を得、この焼結体の側面に沿面閃
絡を防止するためにSiO2 ,Bi2 O3 ,Sb2 O3
等を水及び有機バインダとともに混合した高抵抗物質を
塗布して1000〜1200℃で再焼成し高抵抗層を形成する。
さらに焼結体の両端面を研磨し、電極を取り付けて非直
線抵抗体とする。
【0004】ところで、近年電力系統は大容量化、高電
圧化が進んでいる。これに伴い、避雷器を構成する非直
線抵抗体の大容量化が図られている。具体的には、非直
線抵抗体の厚さ及び面積の増量が成されている。
圧化が進んでいる。これに伴い、避雷器を構成する非直
線抵抗体の大容量化が図られている。具体的には、非直
線抵抗体の厚さ及び面積の増量が成されている。
【0005】しかしながら、こうした大型の非直線抵抗
体は焼結時に変形しやすく、また、高抵抗層を形成する
ために1000℃以上で再焼成を行っていたので所定の形状
が得られにくいという問題があった。非直線抵抗体の変
形は、非直線抵抗特性や放電耐量特性といった電気特性
の低下やバラツキを招く。また非直線抵抗体はSF6ガ
ス中で使用されることが多く、SF6 ガスの分解ガスが
焼結体に接触すると腐食が起こり非直線抵抗体の電気特
性が低下するという問題があった。
体は焼結時に変形しやすく、また、高抵抗層を形成する
ために1000℃以上で再焼成を行っていたので所定の形状
が得られにくいという問題があった。非直線抵抗体の変
形は、非直線抵抗特性や放電耐量特性といった電気特性
の低下やバラツキを招く。また非直線抵抗体はSF6ガ
ス中で使用されることが多く、SF6 ガスの分解ガスが
焼結体に接触すると腐食が起こり非直線抵抗体の電気特
性が低下するという問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
非直線抵抗体は大容量化に伴い高抵抗層の形成及び分解
ガスの浸透によって電気特性の低下やバラツキの増大を
招くという問題があった。そこで本発明の目的は大容量
でしかも放電耐量特性を向上させた非直線抵抗体の製造
方法を提供することにある。
非直線抵抗体は大容量化に伴い高抵抗層の形成及び分解
ガスの浸透によって電気特性の低下やバラツキの増大を
招くという問題があった。そこで本発明の目的は大容量
でしかも放電耐量特性を向上させた非直線抵抗体の製造
方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明においては第一の発明として酸化亜鉛を主成分
とする成形体を焼成し、得られた焼結体の側面に高抵抗
層を形成する非直線抵抗体の製造方法において、前記焼
結体の側面にアラミド樹脂を塗布して加熱し、前記高抵
抗層を形成することを特徴とする非直線抵抗体の製造方
法を提供する。また第二の発明として酸化亜鉛を主成分
とする成形体を焼成し、得られた焼結体の側面に高抵抗
層を形成する非直線抵抗体の製造方法において、前記焼
結体の側面にアラミド樹脂とアラミドフィルムを層状に
配設して加熱し、2層の前記高抵抗層を形成することを
特徴とする非直線抵抗体の製造方法を提供する。
に本発明においては第一の発明として酸化亜鉛を主成分
とする成形体を焼成し、得られた焼結体の側面に高抵抗
層を形成する非直線抵抗体の製造方法において、前記焼
結体の側面にアラミド樹脂を塗布して加熱し、前記高抵
抗層を形成することを特徴とする非直線抵抗体の製造方
法を提供する。また第二の発明として酸化亜鉛を主成分
とする成形体を焼成し、得られた焼結体の側面に高抵抗
層を形成する非直線抵抗体の製造方法において、前記焼
結体の側面にアラミド樹脂とアラミドフィルムを層状に
配設して加熱し、2層の前記高抵抗層を形成することを
特徴とする非直線抵抗体の製造方法を提供する。
【0008】
【作用】アラミド樹脂及びアラミドフィルムは400 ℃以
下の温度で熱硬化するため、高抵抗層を形成するための
加熱温度を従来より低くすることができる。このため所
定の形状の非直線抵抗体が得られやすくなり、放電耐量
特性が向上する。
下の温度で熱硬化するため、高抵抗層を形成するための
加熱温度を従来より低くすることができる。このため所
定の形状の非直線抵抗体が得られやすくなり、放電耐量
特性が向上する。
【0009】またアラミド樹脂及びアラミドフィルムは
気体透過性が極めて小さいため、SF6 ガスの分解ガス
から焼結体の側面を保護することができ、非直線抵抗体
の電気特性の低下を防止できる。
気体透過性が極めて小さいため、SF6 ガスの分解ガス
から焼結体の側面を保護することができ、非直線抵抗体
の電気特性の低下を防止できる。
【0010】
【実施例】第一の実施例
【0011】本発明の第一の実施例を図1乃至図6を参
照して説明する。主成分であるZnOに副成分としてB
i2 O3 ,MnO2 ,SiO2 ,Cr2 O3 を夫々0.5m
ol%加え、Co2 O3 ,Sb2 O3 ,NiOを夫々1mo
l %加えて原料とする。この原料に水及び分散剤等の有
機バインダ類を加えて混合装置で混合し、得られた混合
物をスプレードライヤで例えば粒径100 μmに噴霧造粒
する。この造粒粉を金型に入れて加圧し、例えば円板状
に成形して得られた成形体から有機バインダ類を除去す
るため空気中で焼成し、さらに高温で焼成して図1に示
すような焼結体1を得る。次に焼結体1の側面に以下に
示すようなメタ系のアラミド樹脂をロール塗布機を用い
て塗布する。
照して説明する。主成分であるZnOに副成分としてB
i2 O3 ,MnO2 ,SiO2 ,Cr2 O3 を夫々0.5m
ol%加え、Co2 O3 ,Sb2 O3 ,NiOを夫々1mo
l %加えて原料とする。この原料に水及び分散剤等の有
機バインダ類を加えて混合装置で混合し、得られた混合
物をスプレードライヤで例えば粒径100 μmに噴霧造粒
する。この造粒粉を金型に入れて加圧し、例えば円板状
に成形して得られた成形体から有機バインダ類を除去す
るため空気中で焼成し、さらに高温で焼成して図1に示
すような焼結体1を得る。次に焼結体1の側面に以下に
示すようなメタ系のアラミド樹脂をロール塗布機を用い
て塗布する。
【0012】
【化1】
【0013】塗布時のアラミド樹脂の粘度は5〜30ポイ
ズに調整し、塗布時のアラミド樹脂の厚さは50〜300 μ
mに調整する。塗布したアラミド樹脂を焼結体1に焼付
けるため図2に示した焼成パターンで焼結体1を加熱す
る。即ち略1時間かけて150℃まで加熱し、150 ℃で2
時間保持し、さらに略1時間かけて350 ℃まで徐々に温
度を上げ350 ℃で2時間保持したのち放冷する。アラミ
ド樹脂の焼付けのための加熱速度は10℃/min 以下にな
るよう制御する。こうして図1に示すように高抵抗層2
を形成した後焼結体1の両端面を研磨し、アルミニウム
を溶射して両端面に電極3を形成し非直線抵抗体とす
る。次に作用について説明する。
ズに調整し、塗布時のアラミド樹脂の厚さは50〜300 μ
mに調整する。塗布したアラミド樹脂を焼結体1に焼付
けるため図2に示した焼成パターンで焼結体1を加熱す
る。即ち略1時間かけて150℃まで加熱し、150 ℃で2
時間保持し、さらに略1時間かけて350 ℃まで徐々に温
度を上げ350 ℃で2時間保持したのち放冷する。アラミ
ド樹脂の焼付けのための加熱速度は10℃/min 以下にな
るよう制御する。こうして図1に示すように高抵抗層2
を形成した後焼結体1の両端面を研磨し、アルミニウム
を溶射して両端面に電極3を形成し非直線抵抗体とす
る。次に作用について説明する。
【0014】本実施例においては高抵抗層の焼付けのた
めの温度は350 ℃以下であり、従来の1000℃に比べて加
熱温度を大幅に低下させることができる。このため再焼
成による焼結体のゆがみが低減し非直線抵抗体の放電耐
量値(以下耐量値という)を向上させることができる。
図3に示すように従来の方法による非直線抵抗体の耐量
値は180J/CC であるのに対し、本実施例による非直線抵
抗体は220J/CC に向上した。
めの温度は350 ℃以下であり、従来の1000℃に比べて加
熱温度を大幅に低下させることができる。このため再焼
成による焼結体のゆがみが低減し非直線抵抗体の放電耐
量値(以下耐量値という)を向上させることができる。
図3に示すように従来の方法による非直線抵抗体の耐量
値は180J/CC であるのに対し、本実施例による非直線抵
抗体は220J/CC に向上した。
【0015】アラミド樹脂の焼付け時に急激に温度を上
昇させると、アラミド樹脂中に気泡等が発生し高抵抗層
の表面に凹凸部が形成される。この凹凸部には電界が集
中しやすく、沿面閃絡を起こして耐量値が低下する可能
性がある。このため加熱速度は10℃/min 以下が望まし
い。
昇させると、アラミド樹脂中に気泡等が発生し高抵抗層
の表面に凹凸部が形成される。この凹凸部には電界が集
中しやすく、沿面閃絡を起こして耐量値が低下する可能
性がある。このため加熱速度は10℃/min 以下が望まし
い。
【0016】図4は塗布時のアラミド樹脂の厚さと耐量
値との関係を示している。本実施例においてはアラミド
樹脂の厚さは50〜300 μmの範囲であるが、比較のため
にこの範囲外の厚さのアラミド樹脂を塗布した非直線抵
抗体についても耐量値の測定を行った。図4から明らか
なように本実施例、即ち厚さ50〜300 μmの範囲で耐量
値が向上することがわかる。このような結果が得られた
理由としては、厚さが50μm末満であると高抵抗層の表
面に凹部が形成されやすく、又厚さが300 μmを越える
と高抵抗層内に含まれた10〜100 μm程度の気泡が拡散
しにくくなり高抵抗層の表面に凹凸部を生じることが挙
げられる。凹凸部や気泡の周囲には電界が集中しやすく
沿面閃絡を起こしやすくなる。
値との関係を示している。本実施例においてはアラミド
樹脂の厚さは50〜300 μmの範囲であるが、比較のため
にこの範囲外の厚さのアラミド樹脂を塗布した非直線抵
抗体についても耐量値の測定を行った。図4から明らか
なように本実施例、即ち厚さ50〜300 μmの範囲で耐量
値が向上することがわかる。このような結果が得られた
理由としては、厚さが50μm末満であると高抵抗層の表
面に凹部が形成されやすく、又厚さが300 μmを越える
と高抵抗層内に含まれた10〜100 μm程度の気泡が拡散
しにくくなり高抵抗層の表面に凹凸部を生じることが挙
げられる。凹凸部や気泡の周囲には電界が集中しやすく
沿面閃絡を起こしやすくなる。
【0017】図5は塗布時のアラミド樹脂の粘度と非直
線抵抗体の耐量値との関係を示している。焼結体にアラ
ミド樹脂を塗布する際のアラミド樹脂の粘度は本実施例
のように5〜30ポイズであることが望ましい。5ポイズ
未満の粘度で塗布すると高抵抗層に凹部が形成されやす
く、アラミド樹脂の厚さも2μm以下になって沿面閃絡
が起こりやすくなる。また30ポイズよりも高粘度のアラ
ミド樹脂を塗布するとアラミド樹脂中に含まれる気泡及
び塗布時に生じた気泡がアラミド樹脂の外へ拡散しきれ
ず沿面閃絡が起こりやすくなる。
線抵抗体の耐量値との関係を示している。焼結体にアラ
ミド樹脂を塗布する際のアラミド樹脂の粘度は本実施例
のように5〜30ポイズであることが望ましい。5ポイズ
未満の粘度で塗布すると高抵抗層に凹部が形成されやす
く、アラミド樹脂の厚さも2μm以下になって沿面閃絡
が起こりやすくなる。また30ポイズよりも高粘度のアラ
ミド樹脂を塗布するとアラミド樹脂中に含まれる気泡及
び塗布時に生じた気泡がアラミド樹脂の外へ拡散しきれ
ず沿面閃絡が起こりやすくなる。
【0018】アラミド樹脂は耐熱性の樹脂として知られ
ているポリイミド樹脂と同様に、耐熱性、絶縁性及び耐
薬品性にすぐれ、しかもポリイミド樹脂に比較して気体
透過性が極めて小さく、SF6 ガスの分解ガス浸透から
焼結体を保護することができる。図6は焼結体の側面に
アラミド樹脂を塗布した本実施例の非直線抵抗体と側面
にポリイミド樹脂を塗布した非直線抵抗体の電気特性の
変化をもれ電流比を例に比較したものである。もれ電流
IR と初期もれ電流IROの比であるもれ電流比IR /I
ROは非直線抵抗体が劣化すると1より小さくなってい
く。非直線抵抗体に電圧を印加し、80℃のSF6 ガス中
でのもれ電流比の変化を数千時間にわたって測定したと
ころ本実施例の非直線抵抗体のもれ電流比の低下はポリ
イミド樹脂を塗布した場合に比べて小さく、図6に示す
ように3000時間を経過してもほとんど変化しなかった。
ているポリイミド樹脂と同様に、耐熱性、絶縁性及び耐
薬品性にすぐれ、しかもポリイミド樹脂に比較して気体
透過性が極めて小さく、SF6 ガスの分解ガス浸透から
焼結体を保護することができる。図6は焼結体の側面に
アラミド樹脂を塗布した本実施例の非直線抵抗体と側面
にポリイミド樹脂を塗布した非直線抵抗体の電気特性の
変化をもれ電流比を例に比較したものである。もれ電流
IR と初期もれ電流IROの比であるもれ電流比IR /I
ROは非直線抵抗体が劣化すると1より小さくなってい
く。非直線抵抗体に電圧を印加し、80℃のSF6 ガス中
でのもれ電流比の変化を数千時間にわたって測定したと
ころ本実施例の非直線抵抗体のもれ電流比の低下はポリ
イミド樹脂を塗布した場合に比べて小さく、図6に示す
ように3000時間を経過してもほとんど変化しなかった。
【0019】以上のように本実施例によれば、高抵抗層
をアラミド樹脂で形成することによって再焼成温度を低
くでき、SF6 ガスの分解ガスから焼結体を保護するこ
とができ非直線抵抗体の耐量値が向上するという効果を
奏する。なおアラミド樹脂の塗布時の粘度は5〜30ポイ
ズ、厚さは50〜300 μm、焼付けのための加熱速度は10
℃/min 以下であることが望ましい。 第二の実施例 本発明の第二の実施例を図7乃至図9を参照して説明す
る。
をアラミド樹脂で形成することによって再焼成温度を低
くでき、SF6 ガスの分解ガスから焼結体を保護するこ
とができ非直線抵抗体の耐量値が向上するという効果を
奏する。なおアラミド樹脂の塗布時の粘度は5〜30ポイ
ズ、厚さは50〜300 μm、焼付けのための加熱速度は10
℃/min 以下であることが望ましい。 第二の実施例 本発明の第二の実施例を図7乃至図9を参照して説明す
る。
【0020】第一の実施例と同様に図7に示す焼結体1
を製造する。この焼結体1の側面に厚さ5〜20μmのア
ラミド樹脂を塗布し、このアラミド樹脂の表面を覆う大
きさに加工した厚さ20〜100 μmのアラミドフィルムを
アラミド樹脂の上から焼結体の側面に巻き付ける。アラ
ミド樹脂は第一の実施例に示したメタ系のアラミドから
成るものを用い、アラミドフィルムには以下に示すパラ
系のアラミドを用いる。
を製造する。この焼結体1の側面に厚さ5〜20μmのア
ラミド樹脂を塗布し、このアラミド樹脂の表面を覆う大
きさに加工した厚さ20〜100 μmのアラミドフィルムを
アラミド樹脂の上から焼結体の側面に巻き付ける。アラ
ミド樹脂は第一の実施例に示したメタ系のアラミドから
成るものを用い、アラミドフィルムには以下に示すパラ
系のアラミドを用いる。
【0021】
【化2】
【0022】焼結体1にアラミドフィルムを巻付けた
後、図2に示した焼成パターンで焼結体1を加熱し、図
7に示すようにアラミド樹脂から成る高抵抗層2a及び
アラミドフィルムから成る高抵抗層2bを形成する。高
抵抗層2a,2bを形成した焼結体1の両端面を研磨
し、アルミニウムの溶射で電極3を形成し非直線抵抗体
とする。
後、図2に示した焼成パターンで焼結体1を加熱し、図
7に示すようにアラミド樹脂から成る高抵抗層2a及び
アラミドフィルムから成る高抵抗層2bを形成する。高
抵抗層2a,2bを形成した焼結体1の両端面を研磨
し、アルミニウムの溶射で電極3を形成し非直線抵抗体
とする。
【0023】アラミドフィルムを焼結体1に配設する場
合、あらかじめアラミドフィルムにアラミド樹脂を塗布
しておき、この塗布面を焼結体1の側面に密着させても
よい。また焼結体1の両端面に電極3を形成した後高抵
抗層2a,2bを形成してもよい。次に作用について説
明する。
合、あらかじめアラミドフィルムにアラミド樹脂を塗布
しておき、この塗布面を焼結体1の側面に密着させても
よい。また焼結体1の両端面に電極3を形成した後高抵
抗層2a,2bを形成してもよい。次に作用について説
明する。
【0024】本実施例においては高抵抗層2a,2bの
焼付けのための温度は第一の実施例と同様に350 ℃以下
であり、従来に比べて大幅に焼付け温度を低下させるこ
とができる。このため再焼成による焼結体のゆがみが低
減し、耐量値が約220J/CC に向上する。高抵抗層2a,
2bの焼付け時の加熱速度は第一の実施例と同様に10℃
/min 以下が望ましい。
焼付けのための温度は第一の実施例と同様に350 ℃以下
であり、従来に比べて大幅に焼付け温度を低下させるこ
とができる。このため再焼成による焼結体のゆがみが低
減し、耐量値が約220J/CC に向上する。高抵抗層2a,
2bの焼付け時の加熱速度は第一の実施例と同様に10℃
/min 以下が望ましい。
【0025】図8はアラミドフィルムの厚さを80μmと
したときのアラミド樹脂の厚さと耐量値の関係を示した
ものである。本実施例に示したようにアラミド樹脂の厚
さが5〜20μmの範囲にあるとき耐量値の向上が認めら
れる。一方アラミド樹脂の厚さが5μmに満たない場
合、塗布されたアラミド樹脂が焼結体表面の微小な穴に
吸収されてしまいアラミド樹脂とアラミドフィルムとの
間に空隙が生じてアラミドフィルムの密着性が悪くな
る。また厚さが20μmを越えるとアラミド樹脂中の有機
溶媒が拡散しにくく、アラミドフィルムとの間に空隙が
形成されたり高抵抗層2bの表面に凹凸部が生じたりす
る。アラミドフィルムが剥離したり、空隙や凹凸部が生
じると沿面閃絡が起こりやすくなり耐量値は低下する。
したときのアラミド樹脂の厚さと耐量値の関係を示した
ものである。本実施例に示したようにアラミド樹脂の厚
さが5〜20μmの範囲にあるとき耐量値の向上が認めら
れる。一方アラミド樹脂の厚さが5μmに満たない場
合、塗布されたアラミド樹脂が焼結体表面の微小な穴に
吸収されてしまいアラミド樹脂とアラミドフィルムとの
間に空隙が生じてアラミドフィルムの密着性が悪くな
る。また厚さが20μmを越えるとアラミド樹脂中の有機
溶媒が拡散しにくく、アラミドフィルムとの間に空隙が
形成されたり高抵抗層2bの表面に凹凸部が生じたりす
る。アラミドフィルムが剥離したり、空隙や凹凸部が生
じると沿面閃絡が起こりやすくなり耐量値は低下する。
【0026】図9はアラミド樹脂を10μm塗布したとき
のアラミドフィルムの厚さと耐量値の関係を示したもの
である。本実施例に示したようにアラミドフィルムの厚
さが20〜100 μmの範囲にあるとき耐量値の向上が認め
られる理由としてはこの範囲外の厚さでは高抵抗層2b
の表面に凹凸部が生じやすくなり沿面閃絡が起こりやす
いことが挙げられる。
のアラミドフィルムの厚さと耐量値の関係を示したもの
である。本実施例に示したようにアラミドフィルムの厚
さが20〜100 μmの範囲にあるとき耐量値の向上が認め
られる理由としてはこの範囲外の厚さでは高抵抗層2b
の表面に凹凸部が生じやすくなり沿面閃絡が起こりやす
いことが挙げられる。
【0027】第二の実施例も第一の実施例と同様に耐量
値が向上し、しかも既にィルム状に形成されたアラミド
フィルムを用いるため所定の厚さの高抵抗層をより容易
に形成することができる。
値が向上し、しかも既にィルム状に形成されたアラミド
フィルムを用いるため所定の厚さの高抵抗層をより容易
に形成することができる。
【0028】
【発明の効果】以上のように本発明の非直線抵抗体の製
造方法によれば高抵抗層をアラミド樹脂あるいはアラミ
ド樹脂とアラミドフィルムで構成することにより高抵抗
層の焼付け温度を低下させることができ、またSF6 ガ
スの分解ガスから焼結体を保護することができるので非
直線抵抗体の耐量値を向上させることができる。
造方法によれば高抵抗層をアラミド樹脂あるいはアラミ
ド樹脂とアラミドフィルムで構成することにより高抵抗
層の焼付け温度を低下させることができ、またSF6 ガ
スの分解ガスから焼結体を保護することができるので非
直線抵抗体の耐量値を向上させることができる。
【図1】本発明の第一の実施例による非直線抵抗体の断
面図
面図
【図2】本発明の第一及び第二の実施例を示す高抵抗層
の焼成パターン
の焼成パターン
【図3】本発明の第一及び第二の実施例による非直線抵
抗体と従来の非直線抵抗体の耐量値の分布
抗体と従来の非直線抵抗体の耐量値の分布
【図4】本発明の第一の実施例を示すアラミド樹脂の厚
さと耐量値の関係
さと耐量値の関係
【図5】本発明の第一の実施例を示すアラミド樹脂の塗
布時の粘度と耐量値の関係
布時の粘度と耐量値の関係
【図6】本発明の第一及び第二の実施例によるアラミド
樹脂あるいはアラミド樹脂とアラミドフィルムを焼付け
た非直線抵抗体と、ポリイミド樹脂を焼付けた非直線抵
抗体のもれ電流比の比較
樹脂あるいはアラミド樹脂とアラミドフィルムを焼付け
た非直線抵抗体と、ポリイミド樹脂を焼付けた非直線抵
抗体のもれ電流比の比較
【図7】本発明の第二の実施例による非直線抵抗体の断
面図
面図
【図8】本発明の第二の実施例を示すアラミド樹脂の厚
さと耐量値の関係
さと耐量値の関係
【図9】本発明の第二の実施例を示すアラミドフィルム
の厚さと耐量値の関係
の厚さと耐量値の関係
1…焼結体、2,2a,2b…高抵抗層、3…電極。
Claims (2)
- 【請求項1】 酸化亜鉛を主成分とする成形体を焼成
し、得られた焼結体の側面に高抵抗層を形成する非直線
抵抗体の製造方法において、 前記焼結体の側面にアラミド樹脂を塗布して加熱し、前
記高抵抗層を形成することを特徴とする非直線抵抗体の
製造方法。 - 【請求項2】 酸化亜鉛を主成分とする成形体を焼成
し、得られた焼結体の側面に高抵抗層を形成する非直線
抵抗体の製造方法において、前記焼結体の側面にアラミ
ド樹脂とアラミドフィルムを層状に配設して加熱し、2
層の前記高抵抗層を形成することを特徴とする非直線抵
抗体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP43A JPH06188105A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 非直線抵抗体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP43A JPH06188105A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 非直線抵抗体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06188105A true JPH06188105A (ja) | 1994-07-08 |
Family
ID=18303599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP43A Pending JPH06188105A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 非直線抵抗体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06188105A (ja) |
-
1992
- 1992-12-17 JP JP43A patent/JPH06188105A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100377594B1 (ko) | 비직선저항체 | |
| JPH06188105A (ja) | 非直線抵抗体の製造方法 | |
| JP4157237B2 (ja) | 電圧非直線抵抗体及びその製造方法 | |
| JP2573445B2 (ja) | 非直線抵抗体 | |
| JPS6243324B2 (ja) | ||
| JP2735320B2 (ja) | 非直線抵抗体 | |
| US20250308731A1 (en) | Ceramic component and method for manufacturing ceramic component | |
| JPH0529108A (ja) | 非直線抵抗体 | |
| JP2573446B2 (ja) | 非直線抵抗体 | |
| JP2744016B2 (ja) | 非直線抵抗体の製造方法 | |
| JPH036801A (ja) | 電圧非直線抵抗体 | |
| JPH09320813A (ja) | 非直線抵抗体の製造方法 | |
| JP2572852B2 (ja) | 電圧非直線抵抗体の製造方法 | |
| JPH04296002A (ja) | 非直線抵抗体の製造方法 | |
| JPH0935909A (ja) | 非直線抵抗体の製造方法 | |
| JPH0722207A (ja) | 電圧非直線抵抗体の製造方法 | |
| JP2718175B2 (ja) | 電圧非直線抵抗体およびその製造方法 | |
| JPH08124717A (ja) | 非直線抵抗体 | |
| JP2578888B2 (ja) | 酸化亜鉛形バリスタ | |
| JPH07122405A (ja) | 機能性素子及びその製造方法 | |
| JPH07106108A (ja) | 非直線抵抗体 | |
| JPH10321409A (ja) | セラミック素子 | |
| JPH06181105A (ja) | 非直線抵抗体 | |
| JP2522522B2 (ja) | 非直線抵抗体の製造方法 | |
| JPH10289807A (ja) | 機能性セラミックス素子 |