JPH0619460B2 - 放射線検出器 - Google Patents
放射線検出器Info
- Publication number
- JPH0619460B2 JPH0619460B2 JP62169633A JP16963387A JPH0619460B2 JP H0619460 B2 JPH0619460 B2 JP H0619460B2 JP 62169633 A JP62169633 A JP 62169633A JP 16963387 A JP16963387 A JP 16963387A JP H0619460 B2 JPH0619460 B2 JP H0619460B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scintillator
- radiation detector
- signal
- light
- layer
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- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は半導体放射線検出器において、検出効率の改良
技術に関する。
技術に関する。
(従来の技術) 従来の半導体検出器の技術を第7図及び第8図を用いて
説明する。
説明する。
半導体放射線検出器にはいくつか種類があり、本例では
一般的な検出器としてP-n接合型検出器について説明す
る。
一般的な検出器としてP-n接合型検出器について説明す
る。
P-n接合型検出器は検出面に相当する面を持つP型素材
より成るP層(1)の面にn層(2)としてリンなどの不純物
を厚さ0.1〜2μm程度拡散させて作られたものであ
る。
より成るP層(1)の面にn層(2)としてリンなどの不純物
を厚さ0.1〜2μm程度拡散させて作られたものであ
る。
このn層(2)とP層(1)には電極が接合されており、逆バ
イアス電圧を印加する。すなわち、n層(2)には正、P
層(1)には負の電圧を印加しておく。
イアス電圧を印加する。すなわち、n層(2)には正、P
層(1)には負の電圧を印加しておく。
この状態において、検出器の中の正の電荷はP層(1)の
電極に引かれ、負の電極はn層(2)の電極に引かれる。
電極に引かれ、負の電極はn層(2)の電極に引かれる。
このため、検出器には空乏層とよばれる層が作られ、前
述した2つの電極間に電流が流れない。
述した2つの電極間に電流が流れない。
この空乏層に放射線が入ると、放射線の飛跡近傍で電子
は価電子バンド(第8図参照)から伝導バンド(第8図
参照)に励起され、価電子バンドには正孔を生じる。P
層(1)・n層(2)に電圧が印加されていなければ電子は再
び価電子バンドに落ちて安定状態となるが、逆バイアス
電圧が印加されていると電子と正孔はそれぞれ電極に引
かれて移動し、電極で互いに逆の電荷と結合し、消滅す
る。この電荷の流れが電流の流れとして検出されるわけ
である。
は価電子バンド(第8図参照)から伝導バンド(第8図
参照)に励起され、価電子バンドには正孔を生じる。P
層(1)・n層(2)に電圧が印加されていなければ電子は再
び価電子バンドに落ちて安定状態となるが、逆バイアス
電圧が印加されていると電子と正孔はそれぞれ電極に引
かれて移動し、電極で互いに逆の電荷と結合し、消滅す
る。この電荷の流れが電流の流れとして検出されるわけ
である。
よつて、この電流を検出することによつて放射線の強さ
を測定することができる。
を測定することができる。
ところで、放射線のγ線には、そのエネルギーが80KeV
〜3MeVの範囲にある場合においてエネルギーが高いほど
物体を通過しやすくなる。よつて、高エネルギーのγ線
の検出感度は他のエネルギー帯の検出感度に比べ低下す
る。この度合は物体の種類によつて異なつている。
〜3MeVの範囲にある場合においてエネルギーが高いほど
物体を通過しやすくなる。よつて、高エネルギーのγ線
の検出感度は他のエネルギー帯の検出感度に比べ低下す
る。この度合は物体の種類によつて異なつている。
このため、低エネルギーから高エネルギーまで一様なエ
ネルギー分布のγ線が半導体検出器に入射した場合、透
過したγ線のエネルギー分布は低エネルギー帯では少な
く、高エネルギー帯では多く分布することになる。
ネルギー分布のγ線が半導体検出器に入射した場合、透
過したγ線のエネルギー分布は低エネルギー帯では少な
く、高エネルギー帯では多く分布することになる。
これでは全エネルギー帯で均等に測定したことにはなら
ない。そこで、一般的には第7図に示すように半導体放
射線検出器に入射する直前にフイルタ(3)を通して補正
を行つている。
ない。そこで、一般的には第7図に示すように半導体放
射線検出器に入射する直前にフイルタ(3)を通して補正
を行つている。
このフイルタ(3)を透過したγ線の分布は低エネルギー
のものは少なく、高エネルギーのものはフイルタ(3)に
カツトされにくいため多く分布している。このエネルギ
ー分布を持つγ線を半導体放射線検出器に入射させるこ
とによつて、透過しやすいエネルギー帯のγ線は多く入
射させ、エネルギー帯各部のγ線が同じ割合で電子を励
起させるようにし、結果的に各エネルギー帯における検
出感度の差を補正することになる。
のものは少なく、高エネルギーのものはフイルタ(3)に
カツトされにくいため多く分布している。このエネルギ
ー分布を持つγ線を半導体放射線検出器に入射させるこ
とによつて、透過しやすいエネルギー帯のγ線は多く入
射させ、エネルギー帯各部のγ線が同じ割合で電子を励
起させるようにし、結果的に各エネルギー帯における検
出感度の差を補正することになる。
以上、従来はフイルタ(3)を用いて検出感度の補正を行
つてきた。
つてきた。
(発明が解決しようとする問題点) 従来の技術においてはフイルタに金属性のものを用いた
ため、全体として見た場合、半導体放射線検出器に入射
するγ線は全帯域において減少する。この減少は検出感
度の低下につながつていた。
ため、全体として見た場合、半導体放射線検出器に入射
するγ線は全帯域において減少する。この減少は検出感
度の低下につながつていた。
本発明では検出感度を低下させることなく、測定対象の
エネルギー帯域においてどこの帯域でも同じ検出効率と
する。すなわち、検出効率のエネルギー依存性を小さく
することを目的とする。
エネルギー帯域においてどこの帯域でも同じ検出効率と
する。すなわち、検出効率のエネルギー依存性を小さく
することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 従来の技術で説明した半導体放射線検出器において、n
層は非常に薄いため、光を通す。空乏層の電子はこの光
によつても励起されるため、光の検出にも使用できる。
層は非常に薄いため、光を通す。空乏層の電子はこの光
によつても励起されるため、光の検出にも使用できる。
本発明ではこの性質を利用し、放射線及び光を検出する
放射線検出器において、ある一定量の放射線の入射によ
つて順次発光量が少なくなるシンチレータを1ないし複
数個、その光が前記放射線検出器に入射するよう設け、
前記放射線検出器の検出効率が低下していくにつれ、こ
の放射線検出器の検出信号に順次発光量の大きいシンチ
レータの光による検出信号を加算するようにした。
放射線検出器において、ある一定量の放射線の入射によ
つて順次発光量が少なくなるシンチレータを1ないし複
数個、その光が前記放射線検出器に入射するよう設け、
前記放射線検出器の検出効率が低下していくにつれ、こ
の放射線検出器の検出信号に順次発光量の大きいシンチ
レータの光による検出信号を加算するようにした。
(作用) 一般に、半導体放射線検出器の検出信号は、パルス状で
ある。その波高値は半導体放射線検出器の検出信号とシ
ンチレータの発光による検出信号とでは異なつており、
半導体放射線検出器の検出信号の波高値の方が大きい。
また、シンチレータによる検出信号の波高値はシンチレ
ータの種類によつて異なつている。この波高値はγ線の
持つエネルギーによつても影響を受ける。
ある。その波高値は半導体放射線検出器の検出信号とシ
ンチレータの発光による検出信号とでは異なつており、
半導体放射線検出器の検出信号の波高値の方が大きい。
また、シンチレータによる検出信号の波高値はシンチレ
ータの種類によつて異なつている。この波高値はγ線の
持つエネルギーによつても影響を受ける。
γ線の測定は、ある一定時間内にカウントされるある設
定された波高値以上の検出信号をもつて行う。この波高
値の設定は任意に行える。
定された波高値以上の検出信号をもつて行う。この波高
値の設定は任意に行える。
この波高設定を半導体放射線検出器の検出信号とシンチ
レータによる検出信号の波高の間になるよう行えば、検
出できるのは半導体放射線検出器による検出信号のみで
ある。
レータによる検出信号の波高の間になるよう行えば、検
出できるのは半導体放射線検出器による検出信号のみで
ある。
これに対し、設定値をシンチレータによる検出信号の波
高以下とした場合にはγ線の検出はシンチレータの検出
した結果も含むことになる。すなわち、半導体放射線検
出器では突き抜けてしまい、検出できない高エネルギー
のγ線でもシンチレータの発光によつて検出することが
できるわけである。
高以下とした場合にはγ線の検出はシンチレータの検出
した結果も含むことになる。すなわち、半導体放射線検
出器では突き抜けてしまい、検出できない高エネルギー
のγ線でもシンチレータの発光によつて検出することが
できるわけである。
(実施例) 本発明における第1の実施例を第1図に示し説明する。
本実施例は半導体放射線検出器の検出面に2つのシンチ
レータを貼付し、半導体放射線検出器の効率が下がるエ
ネルギー帯のものは必要に応じて1つないしは2つのシ
ンチレータの光による出力信号を半導体放射線検出器の
出力信号に加算することにより、効率の低下分を補正す
るものである。
レータを貼付し、半導体放射線検出器の効率が下がるエ
ネルギー帯のものは必要に応じて1つないしは2つのシ
ンチレータの光による出力信号を半導体放射線検出器の
出力信号に加算することにより、効率の低下分を補正す
るものである。
第1図にブロツク図を示す。この半導体放射線検出器で
先づ、ベースとなるのはP型半導体のP層(1)に薄いn
型半導体のn層(2)を形成したものである。このn層(2)
には2つのシンチレータa(4),シンチレータb(5)が貼
付されている。
先づ、ベースとなるのはP型半導体のP層(1)に薄いn
型半導体のn層(2)を形成したものである。このn層(2)
には2つのシンチレータa(4),シンチレータb(5)が貼
付されている。
このシンチレータa(4)及びシンチレータb(5)には、放
射線によつて発生する光がn層(2)のみに入射するよう
に、反射膜(6)でカバーしてある。
射線によつて発生する光がn層(2)のみに入射するよう
に、反射膜(6)でカバーしてある。
また、n層(2)はシンチレータ(4,5)以外に光源があると
その光も検出してしまうため、n層(2)全体をシンチレ
ータ(4,5)も含めて遮光膜(7)でカバーしてある。
その光も検出してしまうため、n層(2)全体をシンチレ
ータ(4,5)も含めて遮光膜(7)でカバーしてある。
以上のように構成された半導体放射線検出器において、
γ線が入射するとシンチレータ(4,5)は発光するが、半
導体放射線検出器はγ線のエネルギーによつて検出され
たりされなかつたりする。この発光、及び検出信号はP-
n両電極に電圧を印加している回路に流れる電流として
検出される。
γ線が入射するとシンチレータ(4,5)は発光するが、半
導体放射線検出器はγ線のエネルギーによつて検出され
たりされなかつたりする。この発光、及び検出信号はP-
n両電極に電圧を印加している回路に流れる電流として
検出される。
この検出信号は増幅器(8)によつて増幅された後、波高
弁別器(9)によつて予め設定した波高以上の検出信号の
みを選別し、この選別された信号のみを計数器(10)でカ
ウントする。このカウントはある一定時間行われ、その
カウント値が測定値となる。
弁別器(9)によつて予め設定した波高以上の検出信号の
みを選別し、この選別された信号のみを計数器(10)でカ
ウントする。このカウントはある一定時間行われ、その
カウント値が測定値となる。
検出信号はパルス状であり、増幅器(8)の出力波形を第
2図に示す。このパルスの巾は 5×10-6sec程度であり、半導体放射線検出器がγ線を検
出して得られる信号をaとし、その波高値はVである。
2図に示す。このパルスの巾は 5×10-6sec程度であり、半導体放射線検出器がγ線を検
出して得られる信号をaとし、その波高値はVである。
同じγ線を入射させた場合、シンチレータの発光による
検出信号の波高値よりも半導体放射線検出器による検出
信号の波高値の方が大きい。本実施例では、検出信号の
波高値が異なるシンチレータを2種類用意した。これら
のシンチレータのうち、シンチレータa(4)によるパル
スを信号b、波高V/xとし、シンチレータb(5)による
パルスを信号c、波高V/xy とする。すなわち、信号b
は信号cのy倍の高さを持ち、信号aは信号bのx倍の
高さを持つている。
検出信号の波高値よりも半導体放射線検出器による検出
信号の波高値の方が大きい。本実施例では、検出信号の
波高値が異なるシンチレータを2種類用意した。これら
のシンチレータのうち、シンチレータa(4)によるパル
スを信号b、波高V/xとし、シンチレータb(5)による
パルスを信号c、波高V/xy とする。すなわち、信号b
は信号cのy倍の高さを持ち、信号aは信号bのx倍の
高さを持つている。
波高弁別器(9)において、設定する波高を信号aと信号
bの間に設ければ、計数器(10)でカウントされる測定値
は、半導体放射線検出器で直接γ線を検出した信号、す
なわち、信号aのみの測定になる。
bの間に設ければ、計数器(10)でカウントされる測定値
は、半導体放射線検出器で直接γ線を検出した信号、す
なわち、信号aのみの測定になる。
設定する波高が、信号bと信号cの間であれば、測定値
は信号aと信号bすなわち、シンチレータa(4)による
検出信号を加算したものである。
は信号aと信号bすなわち、シンチレータa(4)による
検出信号を加算したものである。
設定する波高が信号c以下であれば、測定値は信号aと
信号b及び信号c、すなわち、シンチレータb(5)によ
る検出信号を加算したものである。
信号b及び信号c、すなわち、シンチレータb(5)によ
る検出信号を加算したものである。
第3図は半導体検出器として有効面積 100mm2,空乏層
の厚さ16μmのシリコンフオトダイオードを用い、シン
チレータaとしてサイズ1mm×10mm2で素材はCSI(Tl)及
びシンチレータbとしてサイズ1mm×10mm2で素材はCSI
(Na)を用いた場合の入射γ線エネルギーとγ線検出効率
の関係を示すグラフである。
の厚さ16μmのシリコンフオトダイオードを用い、シン
チレータaとしてサイズ1mm×10mm2で素材はCSI(Tl)及
びシンチレータbとしてサイズ1mm×10mm2で素材はCSI
(Na)を用いた場合の入射γ線エネルギーとγ線検出効率
の関係を示すグラフである。
本実施例において、第3図の線分l−l′で示すように
半導体放射線検出器はγ線エネルギーが高くなると検出
効率が低下する。すなわち、検出されずに透過してしま
うものがあるが、このγ線でもシンチレータ(4,5)は発
光する。これによつて検出されることになり、検出効率
を向上させることになる。
半導体放射線検出器はγ線エネルギーが高くなると検出
効率が低下する。すなわち、検出されずに透過してしま
うものがあるが、このγ線でもシンチレータ(4,5)は発
光する。これによつて検出されることになり、検出効率
を向上させることになる。
以上によつて、半導体放射線検出器のみの場合、高エネ
ルギーのγ線の検出効率低下をシンチレータの発光によ
つて補うことによつて、測定対象とするγ線エネルギー
帯で一様に近い検出効率にすることができた。
ルギーのγ線の検出効率低下をシンチレータの発光によ
つて補うことによつて、測定対象とするγ線エネルギー
帯で一様に近い検出効率にすることができた。
また、本実施例ではシンチレータを2種類用いたが、こ
れは2種類に限らず、多種類のシンチレータを用いるこ
とによつて、検出効率を一様に高いレベルにすることが
できる。
れは2種類に限らず、多種類のシンチレータを用いるこ
とによつて、検出効率を一様に高いレベルにすることが
できる。
第2実施例 本実施例の構成を第4図に示し説明する。本実施例は第
1実施例の構成において、n層(2)とシンチレータ(4,5)
の間にフイルム(11)を設け、2つのシンチレータ(4,5)
は同種のものを用いる。
1実施例の構成において、n層(2)とシンチレータ(4,5)
の間にフイルム(11)を設け、2つのシンチレータ(4,5)
は同種のものを用いる。
フイルム(11)はシンチレータa(4)とシンチレータb(5)
の位置では透過度が異なる。
の位置では透過度が異なる。
これによつて、γ線による発光量は同じであつても、フ
イルム(11)を通ると光量に差が付くため、シンチレータ
の種類が異なる場合に発光量に差が出るのと同じであ
り、この光が半導体放射線検出器に入射することにな
る。
イルム(11)を通ると光量に差が付くため、シンチレータ
の種類が異なる場合に発光量に差が出るのと同じであ
り、この光が半導体放射線検出器に入射することにな
る。
これによつて、第1実施例と同様な効果を奏するが、設
けるシンチレータの個数とフイルム透過度の組合せによ
つては第1実施例よりもより細かく検出効率の一様化を
計ることができる。
けるシンチレータの個数とフイルム透過度の組合せによ
つては第1実施例よりもより細かく検出効率の一様化を
計ることができる。
第3実施例 第2実施例では、検出効率の一様化のためにシンチレー
タの個数を増やすが、本実施例では、フイルム(11)
と同じ面積のシンチレータ(4)でフイルム(11)を
カバーすることにより、第2実施例においてより細かく
細分化したシンチレータを設けたものと同様の効果をね
らつたものである。
タの個数を増やすが、本実施例では、フイルム(11)
と同じ面積のシンチレータ(4)でフイルム(11)を
カバーすることにより、第2実施例においてより細かく
細分化したシンチレータを設けたものと同様の効果をね
らつたものである。
本実施例で用いるフイルム(11)は部分ごとに透過度が異
なつているものを用いる。
なつているものを用いる。
シンチレータは、高屈折率のものを用いる。このシンチ
レータの内部で発光した光は、四方八方に放射されシン
チレータ表面に達するが、表面に対する入射角度が浅い
光は反射され、垂直またはそれに近い角度で表面に当た
る光だけが通過できる。理想的には発光した光はその発
光点からn層まで垂直に引いた線上を通ることが望まし
い。これは光がn層に達する過程でフイルム(11)を
通過するためであり、この線上以外の線を通ると垂直な
線上にあるフイルム(11)の透過度とは異なった透過
度の部分を通過してしまうためである。
レータの内部で発光した光は、四方八方に放射されシン
チレータ表面に達するが、表面に対する入射角度が浅い
光は反射され、垂直またはそれに近い角度で表面に当た
る光だけが通過できる。理想的には発光した光はその発
光点からn層まで垂直に引いた線上を通ることが望まし
い。これは光がn層に達する過程でフイルム(11)を
通過するためであり、この線上以外の線を通ると垂直な
線上にあるフイルム(11)の透過度とは異なった透過
度の部分を通過してしまうためである。
このような部分毎に透過度の異なるシンチレータを用い
るため、連続した1枚のシンチレータとしてもn層に対
して光が垂直方向にシンチレータ(4)とフイルム(1
1)を通過するため、透過度をすこしづつ変化させたシ
ンチレータを無限に細分化しえ並べたに等しい効果が得
られる。
るため、連続した1枚のシンチレータとしてもn層に対
して光が垂直方向にシンチレータ(4)とフイルム(1
1)を通過するため、透過度をすこしづつ変化させたシ
ンチレータを無限に細分化しえ並べたに等しい効果が得
られる。
第4実施例 第4の実施例を第6図に示し、説明する。本実施例は第
3実施例と同様に高屈折率のシンチレータ(4)を用い、
フイルムの替わりに穴径の異なる多数の穴の開いた絞り
(12)を設けた。
3実施例と同様に高屈折率のシンチレータ(4)を用い、
フイルムの替わりに穴径の異なる多数の穴の開いた絞り
(12)を設けた。
第3実施例ではn層(2)に通す光の量を部分ごとに調節
するために部分ごとに透過度の異なるフイルムを用いた
が、本実施例では光の量の調節を絞り(12)に開けた穴の
大きさと数で行ない、同様の効果を出すようにしたもの
である。
するために部分ごとに透過度の異なるフイルムを用いた
が、本実施例では光の量の調節を絞り(12)に開けた穴の
大きさと数で行ない、同様の効果を出すようにしたもの
である。
本発明によれば、半導体放射線検出器でγ線を検出する
場合に、高エネルギーのγ線の検出効率が低下する分を
シンチレーシヨン検出器を組合せることによつて補うこ
とにより、検出対象とするエネルギー帯において、一様
な検出効率で検出を行うことができる。
場合に、高エネルギーのγ線の検出効率が低下する分を
シンチレーシヨン検出器を組合せることによつて補うこ
とにより、検出対象とするエネルギー帯において、一様
な検出効率で検出を行うことができる。
第1図は本発明における第1の実施例を説明する構成
図、第2図は半導体放射線検出器及び、2種のシンチレ
ータによる検出信号の波高を比較するグラフ、第3図は
入射γ線エネルギーとγ線検出効率の関係を示すグラ
フ、第4図は第2の実施例を説明する構成図、第5図は
第3の実施例を説明する構成図、第6図は第4の実施例
を説明する構成図、第7図は従来の技術を説明する構成
図、第8図は半導体放射線検出器における電子の励起を
説明するためのエネルギー状態図である。 1……P層、2……n層 3……フイルタ、4……シンチレータa 5……シンチレータb、6……反射膜 7……遮光膜、8……増幅器 9……波高弁別器、10……計数器 11……フイルム、12……絞り
図、第2図は半導体放射線検出器及び、2種のシンチレ
ータによる検出信号の波高を比較するグラフ、第3図は
入射γ線エネルギーとγ線検出効率の関係を示すグラ
フ、第4図は第2の実施例を説明する構成図、第5図は
第3の実施例を説明する構成図、第6図は第4の実施例
を説明する構成図、第7図は従来の技術を説明する構成
図、第8図は半導体放射線検出器における電子の励起を
説明するためのエネルギー状態図である。 1……P層、2……n層 3……フイルタ、4……シンチレータa 5……シンチレータb、6……反射膜 7……遮光膜、8……増幅器 9……波高弁別器、10……計数器 11……フイルム、12……絞り
Claims (1)
- 【請求項1】放射線及び光を検出する半導体放射線検出
器において、放射線の入射で発光量の異なる複数のシン
チレータを前記半導体放射線検出器の入射面に貼付し、
前記半導体放射線検出器が放射線及び光を検出した信号
の両方を出力することを特徴とする放射線検出器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62169633A JPH0619460B2 (ja) | 1987-07-09 | 1987-07-09 | 放射線検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62169633A JPH0619460B2 (ja) | 1987-07-09 | 1987-07-09 | 放射線検出器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6415690A JPS6415690A (en) | 1989-01-19 |
| JPH0619460B2 true JPH0619460B2 (ja) | 1994-03-16 |
Family
ID=15890115
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62169633A Expired - Fee Related JPH0619460B2 (ja) | 1987-07-09 | 1987-07-09 | 放射線検出器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0619460B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2234060A (en) * | 1989-07-01 | 1991-01-23 | Plessey Co Plc | A radiation detector |
| JPH07333348A (ja) * | 1994-06-03 | 1995-12-22 | Toshiba Corp | 放射線検出器およびこれを用いたx線ct装置 |
| JP4643809B2 (ja) * | 2000-08-21 | 2011-03-02 | アロカ株式会社 | 放射線測定装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6049281A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-18 | Shimadzu Corp | 放射線計測素子 |
-
1987
- 1987-07-09 JP JP62169633A patent/JPH0619460B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6415690A (en) | 1989-01-19 |
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