JPH06200099A - テトラ−〔ｎ−アルキル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル〕−４，４’−ジフェニルビスホスホナイト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】式Ｉの化合物、該化合物と有機材料（熱可塑性
ポリマー等）の組成物。 【化１】 （Ｒ＝炭素原子数１〜４のアルキル、アリル、ベンジ
ル） 【効果】式Ｉの化合物は優れた加工安定性を示し、有機
材料（特にポリエチレンやポリプロピレン）を酸化、熱
または光誘導化崩壊から保護するために有用であるだけ
でなく、エラストマー、滑剤、圧媒液を安定化すること
も可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規なテトラ−〔Ｎ−ア
ルキル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４
−イル〕−４，４’−ジフェニルビスホスホナイト、有
機材料、好ましくはポリマーと前記新規安定剤とからな
る組成物、および酸化、熱または光誘導化崩壊に対して
有機材料を安定化するための上記組成物の使用方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】有機ホスフィットおよびホスホナイトは
特にポリオレフィンのための補助安定剤、二次酸化防止
剤および加工安定剤として当該分野では知られている。
そのような公知ホスフィット、ホスホナイトおよびビス
ホスホナイト安定剤の典型例はＲ．ゲヒター／Ｈ．ミュ
ラー編，Plastics Additives Handbook ，第３版，第４
７頁，ハンザー，ミュンヘン，１９９０年に見られるで
あろう。２，２，６，６−テトラメチルピペリジル基を
含む化合物を特に包含するヒンダードアミンは好ましく
は光安定剤として使用される（ヒンダードアミン光安定
剤；ＨＡＬＳ）。ＨＡＬＳ構造単位を含むホスフィット
またはホスホナイトは特にＷ．Ｄ．ハビッヒャー等，J.
prakt. Chem. 334, 333-349 (1992)およびＧＢ−Ａ−
２２４７２４１に記載されている。酸化、熱および／ま
たは光誘導化崩壊を受けやすい有機材料に有効な安定剤
に対する要求が依然として存在する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記ビスホスホナイト
の選ばれた群が酸化、熱および／または光誘導化崩壊を
受けやすい有機材料のための安定剤としての使用に特に
適していることが今見出された。特記すべきことは合成
ポリマーのための加工安定剤としての上記化合物の適合
性である。従って、本発明は、新規ビスホスホナイト安
定剤、該安定剤と酸化、熱または光誘導化崩壊を受けや
すいポリマー等の有機材料とからなる組成物を提供する
ことを課題とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、次
式Ｉ

【化２】 （式中、Ｒは炭素原子数１ないし４のアルキル基、アリ
ル基またはベンジル基を表す）で表される化合物に関す
る。炭素原子数１ないし４のアルキル基は分岐していな
い基、典型的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基
またはブチル基を意味する。メチル基が好ましい。上記
式Ｉ中、Ｒがメチル基またはベンジル基を表す化合物が
好ましい。

【０００５】上記式Ｉで表される新規化合物はそれ自体
公知である方法で製造され得る。好ましい方法は典型的
には、下記式ＩＩで表される４，４’−ジフェニル−
（ビスジクロロホスフィン）を少なくとも４当量の下記
式ＩＩＩで表されるピペリジン−４−オールと適当な有
機極性または非極性非プロトン性溶媒の存在下で反応さ
せることからなる。

【化３】 −２０℃ないし溶媒の沸点の温度範囲で塩基の存在下に
反応を行うことが好ましい。この方法の可能な変法は上
記塩基の代わりに式ＩＩＩで表されるピペリジン−４−
オールから誘導されたアルコレートを用いることからな
る。

【０００６】塩基は触媒量または化学量論量ないし式Ｉ
ＩＩで表されるピペリジン−４−オールに対して複数倍
モル過剰に及ぶ異なる量で使用され得る。反応の間に形
成される塩化水素は塩基により塩化物に変換され、該塩
化物は濾過および適当な水相または固相での洗浄により
除去され得る。第２の水不混和性溶媒がこの目的に使用
されてもよい。生成物は、乾燥するまで濃縮または蒸発
される有機相の残渣の再結晶により通常精製される。

【０００７】反応を行うための適当な溶媒は炭化水素
（典型的にはトルエン、キシレン、ヘキサン、ペンタン
またはその他の石油留分）、ハロゲン化炭化水素（例え
ばジクロロ−もしくはトリクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン）、エーテ
ル（例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテルまたは
テトラヒドロフラン）およびアセトニトリル、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロ
リドンを包含する。

【０００８】適当な塩基は第三アミン（例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピ
リジンまたは式ＩＩＩで表されるピペリジン−４−オー
ル自身）、水素化物（例えば水素化リチウム、ナトリウ
ムまたはカリウム）またはアルコレート（例えばナトリ
ウムメチレート）を包含する。

【０００９】水素化物、アルカリ金属、アルカリ金属水
酸化物またはナトリウムメチレートはまた、式ＩＩＩで
表されるピペリジン−４−オールのアルコレートの形成
のために使用され得る。この場合における反応生成物
（例えば水、メタノール）は式ＩＩで表される４，４’
−ジフェニル−（ビスジクロロホスフィン）との反応前
に（例えばトルエンとの共沸物として）留去される。

【００１０】式ＩＩで表される４，４’−ジフェニル−
（ビスジクロロホスフィン）の製造は特にＣＨ−Ａ−５
５３８２７またはＤＥ−Ａ−２１５２４８１に開示され
ている。式ＩＩＩで表されるピペリジン−４−オールの
製造は特にＣＨ−Ａ−６０２６４４またはＣＨ−Ａ−６
０２６４５に開示されている。

【００１１】式Ｉで表される化合物は酸化、熱または光
誘導化崩壊に対して有機材料を安定化するための優れた
適合性を有する。従って、本発明はまた、（ａ）酸化、
熱または光誘導化崩壊を受けやすい有機材料、および
（ｂ）少なくとも１種の式Ｉで表される化合物からなる
組成物に関する。

【００１２】そのような材料の例は以下のとおりであ
る： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン
−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレン
またはポリブタジエンならびにシクロオレフィン、例え
ばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリ
エチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポ
リエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低
密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。ポリオレフィン、す
なわち上に例示したモノオレフィンのポリマー、好まし
くはポリエチレンおよびポリプロピレンは異なった方
法、特に以下の方法により製造され得る： ａ）ラジカル重合（通常高圧および高温下）。 ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ族の
金属を１種またはそれ以上含有する触媒を用いる触媒重
合。上記金属は通常１種またはそれ以上の配位子、典型
的にはπ−もしくはσ−配位であってよい酸化物、ハロ
ゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミ
ン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールを有
する。これらの金属錯体は遊離体であっても、また基
質、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン
（ＩＩＩ）、アルミナまたは酸化ケイ素に固定されても
よい。これらの触媒は重合媒体に可溶性であっても、不
溶性であってもよい。触媒は重合の際にそれだけで用い
られても、またその他の活性剤、典型的には金属アルキ
ル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、金属ア
ルキル酸化物または金属アルキルオキサンが使用されて
もよく、該金属は周期表のＩａ、ＩＩａおよび／または
ＩＩＩａ族の元素である。活性剤はその他のエステル、
エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で慣用的に変
性されてもよい。これらの触媒系は通常フィリップス、
スタンダードオイル・インジアナ、チーグラー（−ナッ
タ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセンまたは単部位触
媒（ＳＳＣ）と呼称される。

【００１３】２．上記１に挙げたポリマーの混合物、例
えばポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリ
プロピレンとポリエチレンの混合物（例えばＰＰ／ＨＤ
ＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なるタイプのポリエチ
レン同士の混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。

【００１４】３．モノオレフィンおよびジオレフィンの
相互もしくは他のビニルモノマーとのコポリマー、例え
ばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエ
チレン（ＬＬＤＰＥ）およびそれと低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポ
リマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレ
ン／ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリ
マー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン
／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーおよび一酸
化炭素とのそれらのコポリマー、またはエチレン／アク
リル酸コポリマーおよびそれらの塩（アイオノマー）な
らびにエチレンとプロピレンおよびジエン、例えばヘキ
サジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノル
ボルネンとのターポリマー；およびそのようなコポリマ
ー相互および上記１に挙げたポリマーとの混合物、例え
ばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、
ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶ
Ａ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（Ｅ
ＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよ
び交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポ
リマーおよびそれと他のポリマー例えばポリアミドとの
混合物。

【００１５】４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５な
いし９）およびその水素化変性物（例えば増粘剤）およ
びポリアルキレンとデンプンとの混合物。 ５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ
（α−メチルスチレン）。 ６．スチレンもしくはα−メチルスチレンとジエンもし
くはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／
ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／
アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アル
キルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメ
タクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／
アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポ
リマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポ
リマーとの耐衝撃性の混合物；およびスチレンのブロッ
クコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレ
ン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチ
レン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／
プロピレン／スチレン。

【００１６】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えば、ポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリ
ロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニ
トリルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンに
スチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチ
レン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマ
レイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミ
ド；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレ
ートまたはメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジ
エンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル；
ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリ
レートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレー
ト／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、ならびにそれらと前記６で挙げたコポリマーと
の混合物、例えばＡＢＳ，ＭＢＳ，ＡＳＡまたはＡＥＳ
ポリマーとして知られるコポリマー混合物。

【００１７】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはスルホ塩素化
ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリ
マー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特
にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニ
ル、およびポリフッ化ビニリデンならびにそれらのコポ
リマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポ
リマー。

【００１８】９．α，β−不飽和酸およびその誘導体か
ら誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよび
ポリメタクリレート；ブチルアクリレートで耐衝撃変性
されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。 １０．上記９に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブ
タジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシア
ルキルアクリレートコポリマーもしくはアクリロニトリ
ル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリ
ル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマ
ー。 １１．不飽和アルコールおよびアミンまたはアシル誘導
体もしくはアセタールから誘導されるポリマー、例えば
ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリ
ン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイン酸ビニ
ル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまた
はポリアリルメラミン；ならびに上記１に挙げたオレフ
ィンとのそれらのコポリマー。

【００１９】１２．環状エーテルのホモポリマーおよび
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれら
とビスグリシジルエーテルとのコポリマー。 １３．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、お
よびコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキ
シメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまた
はＭＢＳで変性させたポリアセタール。 １４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およ
びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポ
リアミドとの混合物。 １５．一方の成分として末端水酸基を有するポリエーテ
ル、ポリエステルまたはポリブタジエンと、他方の成分
として脂肪族もしくは芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されるポリウレタン、ならびにその前駆体。

【００２０】１６．ジアミンおよびジカルボン酸から、
および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタ
ムから誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、例え
ばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６
／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリ
アミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンと
アジピン酸とから出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメ
チレンジアミンとイソフタル酸または／およびテレフタ
ル酸から、そして変性剤としてエラストマーと共に、ま
たはエラストマーなしで調製されたポリアミド、例えば
ポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタ
ルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミ
ド；上記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポ
リマー、アイオノマーまたは化学的に結合されるか、ま
たはグラフト化されたエラストマーとのブロックコポリ
マー；または上記ポリアミドとポリエーテル、例えばポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまた
はポリテトラメチレングリコールとのコポリマー；なら
びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性されたポリアミドまた
はコポリアミド；および加工の間に縮合されたポリアミ
ド（ＲＩＭポリアミド系）。

【００２１】１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド
イミドおよびポリベンズイミダゾール。 １８．ジカルボン酸およびジオールから、および／また
はヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘
導されるポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジ
メチロールシクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒ
ドロキシベンゾエートならびに末端水酸基を有するポリ
エーテルから誘導されるブロックコポリエーテルエステ
ル；およびポリカーボネートまたはＭＢＳで変性された
ポリエステル。

【００２２】１９．ポリカーボネートおよびポリエステ
ルカーボネート。 ２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。 ２１．一方の成分としてアルデヒドと、他方の成分とし
てフェノール、尿素またはメラミンとから誘導される架
橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹
脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホル
ムアルデヒド樹脂。 ２２．乾性および非乾性アルキド樹脂。 ２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
とのコポリエステルおよび架橋剤としてビニル化合物か
ら誘導される不飽和ポリエステル樹脂、および燃焼性の
低いそのハロゲン含有変性物。

【００２３】２４．置換アクリレート、例えばエポキシ
アクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステ
ルアクリレートから誘導される架橋性アクリル樹脂。 ２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂またはアクリレート樹脂。 ２６．ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテル
または脂環式ジエポキシドから誘導される架橋エポキシ
樹脂。 ２７．天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチ
ンおよびそれらを重合同族体に化学的に変性させた誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、またはセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース；ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。

【００２４】２８．前述のポリマーの混合物（ポリブレ
ンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ
またはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶ
Ｃ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／
ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アク
リレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性Ｐ
ＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ
／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、Ｐ
Ａ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。

【００２５】２９．純粋なモノマー化合物またはそれら
の混合物である天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート）をベースとしたオイル、ワッ
クスおよび脂肪、および典型的には紡糸用組成物として
用いられる、合成エステルと鉱油とのあらゆる重量比で
の混合物ならびにそれらの水性エマルジョン。 ３０．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
天然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン／ブタ
ジエンコポリマーのラテックス。

【００２６】本発明は、成分（ａ）として天然、半合成
または合成ポリマー、好ましくは熱可塑性ポリマー、よ
り好ましくはポリオレフィン、最も好ましくはポリエチ
レンまたはポリプロピレンを含む組成物に関する。本発
明はさらに、酸化、熱または光誘導化崩壊に対して有機
材料を安定化するための上記式Ｉで表される化合物の使
用方法、特に熱可塑性ポリマーのための加工安定剤（熱
安定剤）としてのそれらの使用方法に関する。保護され
るべき有機材料は好ましくは天然、半合成またはより好
ましくは合成有機材料である。熱可塑性ポリマーが最も
好ましく、特にＰＶＣまたはポリオレフィン、とりわけ
ポリエチレンおよびプロピレン（ＰＰ）である。

【００２７】通常、本発明の組成物は式Ｉで表される化
合物を０．０１ないし１０、典型的には０．０１ないし
５、好ましくは０．０５ないし３、特に０．０５ないし
１重量％の量で含有する。重量％は上記化合物の全量に
基づいている。計算は式Ｉで表される化合物なしでの有
機材料の全重量に基づいている。

【００２８】有機材料中への混入は、当該分野で慣用で
ある方法により、それらを式Ｉで表される化合物および
その他の任意添加剤と混合するか、またはそれらに式Ｉ
で表される化合物およびその他の任意添加剤を適用する
ことにより行われ得る。有機材料がポリマー、特に合成
ポリマーであるならば、混入は成形品の製造前または製
造中に行われ得、また、溶解もしくは分散化合物をポリ
マーに適用し、続いて溶媒の蒸発をして、もしくは溶媒
せずに行われ得る。エラストマーの場合において、これ
らはまたラテックスとして安定化されてもよい。式Ｉで
表される化合物をポリマー中に配合するその他の手段
は、該化合物を相当するモノマーの重合の前、重合の間
もしくは重合の直後、または架橋の前に、添加すること
からなる。式Ｉで表される化合物はまた、カプセル化さ
れた形態（例えばワックス、オイルまたはポリマー中
に）で添加されてもよい。式Ｉで表される化合物が重合
の前または間に添加されるならば、それはポリマーの鎖
長の制御剤（連鎖停止剤）としても作用し得る。

【００２９】式Ｉで表される化合物またはその混合物は
また、これらの化合物を含むマスターバッチの形態で、
典型的には２．５ないし２５重量％の濃度で、安定化さ
れるべきポリマーに添加され得る。式Ｉで表される化合
物は以下の方法により都合よく混入され得る： −乳濁液または分散液として（例えばラテックスまたは
乳濁ポリマーに対して） −追加の成分またはポリマー混合物を配合する間に乾燥
混合物として −加工装置（例えば押出機、内部混合装置等）への直接
添加により、および −溶液または溶融液として。

【００３０】安定化された材料は、典型的にはシート、
フィラメント、リボン、成形品、形材を包含する広範囲
の形態で、または塗料およびワニスのための結合剤、接
着剤またはパテとして使用され得る。

【００３１】既に記載したように、保護されるべき有機
材料は好ましくは有機ポリマー、特に合成ポリマーであ
る。熱可塑性ポリマー、好ましくはポリオレフィンを保
護するために特に有用である。この点に関し、加工安定
剤（熱安定剤）としての式Ｉで表される化合物の優れた
作用は強調されるべきである。このために、式Ｉで表さ
れる化合物はポリマーの加工前または加工中に好都合に
添加される。しかしながら、崩壊、例えば光誘導化およ
び／または熱酸化崩壊に対してその他のポリマー（例え
ばエラストマー）または滑剤および圧媒液を安定化する
ことも可能である。エラストマーの例は可能な有機材料
の上記列挙中に見出されるであろう。

【００３２】適当な滑剤および圧媒液は鉱油もしくは合
成油またはそれらの混合物をベースとしていてもよい。
滑剤は当業者には公知であり、そして関連技術文献、例
えばディーター・クラマン，"Schmierstoffe und verwa
ndte Produkte"（滑剤および関連製品），フェルラーク
・ヘミー，バインハイム，１９８２、シェベ−コベッ
ク，"Das Schmiermittel-Taschenbuch" （滑剤ハンドブ
ック），ドクトル．アルフレート・ヒューティッヒ−フ
ェルラーク，ハイデルベルク，１９７４、および"Ullma
nns Enzyklopadie der technischen Chemie"（工業化学
百科事典），第１３巻，第８５−９４頁，フェルラーク
・ヘミー，バインハイム，１９７７に記載されている。

【００３３】本発明はさらに、有機材料に安定剤として
式Ｉで表される化合物を少なくとも１種混合するか、ま
たは適用することからなる酸化、熱および／または光誘
導化崩壊に対して有機材料を保護する方法に関する。

【００３４】新規化合物を含有することの他に、本発明
の組成物は、特にそれが有機ポリマー、好ましくは合成
ポリマーを含有するならば、その他の慣用の添加剤を含
有してもよい。そのようなその他の添加剤を以下に例示
する：１．酸化防止剤 １．１．アルキル化モノフェノール 例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノー
ル、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，
６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，
６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，
６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−
（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェ
ノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノー
ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，
６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジ
メチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フ
ェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプ
タデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−
６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール
およびそれらの混合物。

【００３５】１．２．アルキルチオメチルフェノール 例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メ
チルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−
エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４
−ノニルフェノール。１．３．ハイドロキノンおよびアルキル化ハイドロキノ
ン 例えば、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、２，５−ジ第三ブチルハイドロキノン、２，５−ジ
第三アミルハイドロキノン、２，６−ジフェニル−４−
オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチル
ハイドロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
アニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）アジペート。１．４．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メ
チルフェノール) 、２，２’−チオビス（４−オクチル
フェノール) 、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−
３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第
三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビ
ス（３，６−ジ第二アミルフェノール) 、４，４’−チ
オビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシ）ジスルフ
ィド。

【００３６】１．５．アルキリデンビスフェノール 例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル) 、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチ
ルフェノール) 、２，２’−エチリデンビス（６−第三
ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフ
ェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−
ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス〔３，３−ビ
ス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート〕、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ジ〔２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチル
ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テ
レフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−
ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。

【００３７】１．６．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物 例えば、３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，
４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル
−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプ
トアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３
−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレ
フタレート、ビス（３，５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）スルフィド、イソオクチル３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート 例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第
三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオ
クタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプ
トエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス〔４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２
−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）マロネート。１．８．芳香族ヒドロキシベンジル化合物 例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベ
ンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベ
ンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）フェノール。

【００３８】１．９．トリアジン化合物 例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチル
メルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，
３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス
（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチル
ベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチ
ル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。

【００３９】１．１０．ベンジルホスホネート 例えば、ジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオク
タデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸の
モノエチルエステルのカルシウム塩。１．１１．アシルアミノフェノール 例えば、４−ヒドロキシラウリン酸アニリド、４−ヒド
ロキシステアリン酸アニリド、オクチルＮ−（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメー
ト。

【００４０】１．１２．β−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価ま
たは多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタ
ン。

【００４１】１．１３．β−（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の
一価または多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタ
ン。

【００４２】１．１４．β−（３，５−ジシクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタ
ン。

【００４３】１．１５．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル酢酸のエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタデカ
ノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジ
オール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタ
ン。

【００４４】１．１６．β−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド 例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００４５】２．紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１．２−( ２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾール 例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブ
チル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブ
チル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロ
キシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル
−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ア
ミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジ
ル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’
−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブ
チル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カル
ボニル〕−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フ
ェニル−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−
第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシ
カルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２
−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−
２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’−第三ブ
チル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオ
キシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの
混合物、２，２’−メチレン−ビス〔４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾー
ル−２−イルフェノール〕；２−〔３’−第三ブチル−
５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒド
ロキシフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールのポリエ
チレングリコール３００とのエステル交換生成物；〔Ｒ
−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯ（ＣＨ₂ ）₃ −〕₂ （式中、Ｒ
＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−
ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル）。

【００４６】２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば、４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オク
トキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒド
ロキシ−および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シ誘導体。２．３．置換および非置換安息香酸のエステル 例えば、４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニ
ルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベ
ンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾ
イル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，
４−ジ第三ブチルフェニルエステル、３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル、
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸オクタ
デシルエステル、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シ安息香酸２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル
エステル。

【００４７】２．４．アクリレート 例えば、α−シアノ−β, β−ジフェニルアクリル酸エ
チルエステル、α−シアノ−β, β−ジフェニルアクリ
ル酸イソオクチルエステル、α−カルボメトキシ桂皮酸
メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキ
シ桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ
−メトキシ桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ
−p −メトキシ桂皮酸メチルエステル、およびＮ−（β
−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルイ
ンドリン。２．５．ニッケル化合物 例えば、２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３
−テトラメチルブチル)−フェノール〕のニッケル錯
体、例えば１：１または１：２錯体であって、所望によ
りｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ
−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位
子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、
４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホスホ
ン酸モノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチ
ルエステルのニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル
−フェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムの
ニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒ
ドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望によ
り他の配位子を伴うもの。

【００４８】２．６．立体障害性アミン 例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコ
ハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジ
アミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−
１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロ
トリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテト
ラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイ
ル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）２−ｎ−ブチル−２−（２−
ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネー
ト、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル
−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，
４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−
オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジア
ミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５
−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビ
ス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−
ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成
物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，
３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピ
ルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−
ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８
−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ド
デシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペ
リジル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオ
ン。

【００４９】２．７．オキサミド 例えば、４，４’−ジ−オクチルオキシオキサニリド、
２，２’−ジ−オクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブ
トキサニリド、２，２’−ジ−ドデシルオキシ−５，
５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−
エトキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノ
プロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル
−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ
−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドと
の混合物、オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。

【００５０】２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）
−１，３，５−トリアジン 例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オ
クチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２
−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキ
シ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６
−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェ
ニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，
５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒ
ドロキシ−３−オクチルオキシプロポキシ）フェニル〕
−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−ト
リアジン。

【００５１】３．金属不活性化剤 例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチ
ラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス
（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４
−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒ
ドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジ
ド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジ
アセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サ
リチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス
（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。

【００５２】４．ホスフィットおよびホスホナイト 例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイ
ソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトー
ルジホスフィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−
メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフ
ィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェ
ニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエ
リトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビト
ールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブ
チルフェニル）４，４’−ジフェニレンジホスホナイ
ト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テト
ラ第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，
２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，
１０−テトラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ
〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチル
ホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチ
ルフェニル）エチルホスフィット。

【００５３】５．過酸化物スカベンジャー 例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラ
ウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエス
テル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メル
カプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカ
ルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタ
エリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）
プロピオネート。

【００５４】６. ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた
銅塩、および二価マンガンの塩。７．塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネ
シウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリ
ウムリシノレートおよびカリウムパルミテート、アンチ
モンピロカテコレートまたはスズピロカテコレート。８．核剤 例えば、4 −第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェ
ニル酢酸。９．充填剤および強化剤 例えば、炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アス
ベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属
酸化物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。

【００５５】１０．その他の添加剤 例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃
剤、静電防止剤および発泡剤。１１．ベンゾフラノンおよびインドリン 例えば、ＵＳ−Ａ−４３２５８６３もしくはＵＳ−Ａ−
４３３８２４４に開示されたもの、または３−〔４−
（２−アセトキシエトキシ）フェニル〕−５，７−ジ第
三ブチルベンゾフラン−２−オン５，７−ジ第三ブチル
−３−〔４−（２−ステアロイルエトキシ）フェニル〕
ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス〔５，７−ジ
第三ブチル−３−（４−〔２−ヒドロキシエトキシ〕フ
ェニル）ベンゾフラン−２−オン〕、５，７−ジ第三ブ
チル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２
−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェ
ニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オ
ン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフ
ェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−
オン。

【００５６】その他の好ましい組成物は成分（ａ）およ
び式Ｉで表される化合物に加えて、その他の添加剤、好
ましくはフェノール系酸化防止剤、光安定剤または加工
安定剤を含む。特に好ましい追加の他の添加剤（安定
剤）は特にＵＳ−Ａ−４３２５８６３またはＵＳ−Ａ−
４３３８２４４に開示された、ベンゾフラン−２−オン
類である。

【００５７】そのようなベンゾフラン−２−オン類の典
型例は次式

【化４】 〔式中、Ｒ₁ はフェニル基または合わせて炭素原子数１
８未満の１ないし３個のアルキル基、炭素原子数１ない
し１２のアルコキシ基、炭素原子数２ないし１８のアル
コキシカルボニル基または塩素原子により置換されたフ
ェニル基を表し、Ｒ₂ は水素原子を表し、Ｒ₄ は水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基または塩素原子を表し、Ｒ₃
はＲ₂ またはＲ₄ の意味を有するか、または次式

【化５】 ｛式中、Ｒ₆ は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基、酸素原子もしくは硫黄原子により中断された
炭素原子数２ないし１８のアルキル基、合計３ないし１
６の炭素原子を有するジアルキルアミノアルキル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基または
合わせて炭素原子数１８未満の１ないし３個のアルキル
基により置換されたフェニル基を表し、ｎは０、１また
は２を表し、Ｒ₇ 置換基は互いに独立して水素原子、炭
素原子数１ないし１８のアルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、合わせて炭素原子
数１６未満の１もしくは２個のアルキル基により置換さ
れたフェニル基、次式

【化６】 で表される基を表すか、または結合している窒素原子と
一緒になってピペリジノ基もしくはモルホリノ基を形成
し、ｍは１ないし１８を表し、Ｒ₁₀は水素原子、炭素原
子数１ないし２２のアルキル基または炭素原子数５ない
し１２のシクロアルキル基を表し、Ａは窒素原子、酸素
原子または硫黄原子により中断されてもよい炭素原子数
２ないし２２のアルキレン基を表し、Ｒ₈ は水素原子、
炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、合わせて炭素原子
数１６未満の１もしくは２個のアルキル基により置換さ
れたフェニル基、またはベンジル基を表し、Ｒ₉ は炭素
原子数１ないし１８のアルキル基を表し、Ｄは−Ｏ−、
−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −または−Ｃ（Ｒ₁₁）₂ −
を表し、Ｒ₁₁置換基は互いに独立して水素原子、炭素原
子数１６未満のアルキル基、フェニル基または次式

【化７】 （式中、Ｒ₆ およびＲ₇ は上の定義と同じ意味を表す）
で表される基を表し、Ｅは次式

【化８】 （式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ およびＲ₄ は上の定義と同じ意味を
表す）で表される基を表す｝で表される基を表し、そし
てＲ₅ は水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素原子ま
たは次式

【化９】 （式中、Ｒ₆ およびＲ₇ は上の定義と同じ意味を表す）
で表される基を表すか、またはＲ₅ はＲ₄ と一緒になっ
てテトラメチレン基を形成する〕で表される化合物であ
る。

【００５８】好ましいベンゾフラン−２−オン類は、上
記式中、Ｒ₃ が水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素
原子または次式

【化１０】 （式中、ｎ、Ｒ₆ 、Ｒ₇ 、ＤおよびＥは上の定義と同じ
意味を表し、Ｒ₆ は好ましくは水素原子、炭素原子数１
ないし１８のアルキル基、シクロペンチル基またはシク
ロヘキシル基を表す）で表される基を表すものである。

【００５９】さらに好ましいベンゾフラン−２−オン類
は、上記式中、Ｒ₁ がフェニル基または合わせて炭素原
子数１２未満の１もしくは２個のアルキル基により置換
されたフェニル基を表し、Ｒ₂ が水素原子を表し、Ｒ₄
が水素原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基
を表し、Ｒ₃ が水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、次式

【化１１】 で表される基を表し、Ｒ₅ が水素原子、炭素原子数１な
いし２０のアルキル基を表し、次式

【化１２】 で表される基を表すか、またはＲ₅ がＲ₄ と一緒なって
テトラメチレン基を形成し、上記式中のｎ、Ｒ₆ 、
Ｒ₇ 、ＤおよびＥは上の定義と同じ意味を表すものであ
る。

【００６０】特に興味深いベンゾフラン−２−オン類
は、上記式中、Ｒ₁ がフェニル基を表し、Ｒ₃ が水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基または−Ｄ−
Ｅを表し、Ｒ₂ およびＲ₄ が互いに独立して水素原子ま
たは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、そして
Ｒ₅ が炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表し、そ
してＤおよびＥが上の定義と同じ意味を表すものであ
る。

【００６１】最後に、上記式中、Ｒ₁ がフェニル基を表
し、Ｒ₃ が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル
基または−Ｄ−Ｅを表し、Ｒ₂ およびＲ₄ が水素原子を
表し、そしてＲ₅ が炭素原子数１ないし４のアルキル
基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル基を表し、
そしてＤが−Ｃ（Ｒ₁₁）₂ −を表し、そしてＥが次式

【化１３】 （式中、Ｒ₁₁置換基は同一または異なって、各々炭素原
子数１ないし４のアルキル基を表し、そしてＲ₁ 、
Ｒ₂ 、Ｒ₄ およびＲ₅ が上の定義と同じ意味を表す）で
表される基を表すベンゾフラン−２−オン類が特別な言
及に値する。

【００６２】その他の添加剤、好ましくは安定剤として
の、例えば特許請求の範囲に記載したベンゾフラン−２
−オン類の量は広範囲にわたり変化し得る。本発明の組
成物は典型的には前記添加剤を０．０００５ないし１０
重量％、好ましくは０．００１ないし５重量％、最も好
ましくは０．０１ないし２重量％含有するであろう。

【００６３】

【実施例】以下の実施例において新規化合物の製造およ
び使用を説明する。全ての％および部は特記しない限
り、それぞれ重量％および重量部である。実施例１ ：テトラ−〔１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジン−４−イル〕−４，４’−ジフェニル−ビ
スホスホナイトの製造 トルエン１２５ｍｌ中の１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン−４−オール１８．０ｇ（１０５ミリモ
ル）の溶液をトルエン７５ｍｌ中の４，４’−ジフェニ
ル（ビスジクロロホスフィン）８．９０ｇ（２５．０ミ
リモル）およびトリエチルアミン１２．１５ｇ（１２０
ミリモル）の溶液に滴下して添加する。反応混合物を室
温で一晩攪拌し、沈殿を濾過により分離し、そして濾液
を減圧ロータリーエバポレーターで濃縮すると、テトラ
−〔１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４
−イル〕−４，４’−ジフェニル−ビスホスホナイトが
１７．６ｇ（８０％）得られる。 元素分析結果： 計算値：Ｃ ６９．７７％；Ｈ ９．９１％；Ｎ ６．
２６％；Ｐ ６．９２％ 実測値：Ｃ ６９．７５％；Ｈ ９．９６％；Ｎ ６．
０６％；Ｐ ７．０２％

【化１４】

【００６４】実施例２：テトラ−〔１−ベンジル−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル〕−
４，４’−ジフェニルビスホスホナイトの製造 ジクロロメタン２０ｍｌ中の４，４’−ジフェニル（ビ
スジクロロホスフィン）４．２７ｇ（１２．０ミリモ
ル）の溶液をジクロロメタン１００ｍｌ中の１−ベンジ
ル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オ
ール１２．１７ｇ（４９．０ミリモル）およびトリエチ
ルアミン８．４ｇ（６０．０ミリモル）の溶液に滴下し
て添加する。反応混合物を室温で３０分間攪拌し、さら
に４時間還流する。沈殿を濾過により分離する。濾液を
ヘキサン／トルエン＝１：１の溶媒約５０ｍｌで希釈
し、生成物をもう１回濾過し、そして減圧ロータリーエ
バポレーターで濃縮する。イソプロパノールから残渣の
結晶化を行うと、テトラ−〔１−ベンジル−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル〕−４，
４’−ジフェニルビスホスホナイトが６．３ｇ（４４
％）得られる。 元素分析結果： 計算値：Ｃ ７６．０９％；Ｈ ８．７４％；Ｎ ４．
６７％；Ｐ ５．１６％ 実測値：Ｃ ７６．３７％；Ｈ ９．３３％；Ｎ ４．
８０％；Ｐ ５．３３％

【化１５】

【００６５】実施例３ ：多数回押出されたポリプロピレンの安定化 登録商標イルガノックス(Irganox) １０７６｛ｎ−オク
タデシル（３−〔３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル〕プロピオネート），２３０℃／２１６ｋｇ
で測定したメルトインデックス３．２｝０．０２５％で
予め安定化されたプロピレン粉末〔登録商標プロファッ
クス(Profax)６５０１〕１．３ｋｇを登録商標イルガノ
ックス１０１０（ペンタエリトリチルテトラキス−〔３
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕０．０５％、ステアリン酸カルシウム
０．０５％、ジヒドロタルサイト〔登録商標ＤＨＴ ４
Ａ，キョウワ化学工業株式会社，Ｍｇ_4.5 Ａｌ₂ （Ｏ
Ｈ）₁₃ＣＯ₃ ・３．５Ｈ₂ Ｏ〕０．０３％および実施例
２の化合物０．０５％と混合する。この混合物を次にシ
リンダー径２０ｍｍおよび長さ４００ｍｍを有し、３つ
の加熱領域が以下の温度：２６０℃，２７０℃，２８０
℃に調整されている押出機を用いて１００ｒｐｍで押出
する。押出物を水浴を介して引っ張り、次に顆粒化す
る。この顆粒を繰り返し押出する。メルトインデックス
が３回の押出後に測定される（２３０℃／２．１６ｋ
ｇ）。メルトインデックスの実質的な増加は顕著な連鎖
崩壊、すなわち低い安定化を示す。結果を表１に示す。

【表１】

【００６６】実施例４：加工中のポリエチレンの安定化 ポリエチレン粉末〔登録商標ルポレン(Lupolen) ５２６
０Ｚ〕１００部をペンタエリトリトールテトラキス〔３
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕０．０５部および実施例１の化合物
０．０１部と混合し、この混合物をブラベンダー・プラ
ストグラフを用いて２２０℃および５０ｒｐｍで混練す
る。この期間中、混練耐性をトルクとして連続的に記録
する。混練時間の途中でポリマーは長期コンシステンシ
ーの後に架橋しはじめ、それはトルクの急激な増加によ
り決定され得る。トルクの顕著な増加までに要した時間
が安定化作用の尺度として表２に示されている。この時
間が長ければ長いほど、より優れた安定化作用であるこ
とを意味する。

【表２】

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次式Ｉ 【化１】 （式中、Ｒは炭素原子数１ないし４のアルキル基、アリ
   ル基またはベンジル基を表す）で表される化合物。
2. 【請求項２】 Ｒがメチル基またはベンジル基を表す請
   求項１記載の化合物。
3. 【請求項３】（ａ）酸化、熱または光誘導化崩壊を受け
   やすい有機材料、および（ｂ）少なくとも１種の請求項
   １記載の式Ｉで表される化合物からなる組成物。
4. 【請求項４】 成分（ａ）および（ｂ）に加えてその他
   の添加剤を含む請求項３記載の組成物。
5. 【請求項５】 その他の添加剤がフェノール系酸化防止
   剤、光安定剤および加工安定剤からなる群から選択され
   る請求項４記載の組成物。
6. 【請求項６】 その他の添加剤としてベンゾフラン−２
   −オンおよび／またはヒンダードフェノール型の化合物
   を少なくとも１種含む請求項５記載の組成物。
7. 【請求項７】 成分（ａ）が天然、半合成または合成ポ
   リマーである請求項３記載の組成物。
8. 【請求項８】 成分（ａ）が熱可塑性ポリマーである請
   求項７記載の組成物。
9. 【請求項９】 成分（ａ）がポリオレフィンである請求
   項８記載の組成物。
10. 【請求項１０】 成分（ａ）がポリエチレンまたはポリ
    プロピレンである請求項９記載の組成物。