JPH06211988A - 安定剤としての、オリゴマーhalsホスフィットおよびhalsホスホナイト - Google Patents
安定剤としての、オリゴマーhalsホスフィットおよびhalsホスホナイトInfo
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- JPH06211988A JPH06211988A JP5339678A JP33967893A JPH06211988A JP H06211988 A JPH06211988 A JP H06211988A JP 5339678 A JP5339678 A JP 5339678A JP 33967893 A JP33967893 A JP 33967893A JP H06211988 A JPH06211988 A JP H06211988A
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- C07F9/02—Phosphorus compounds
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- C08L23/04—Homopolymers or copolymers of ethene
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Abstract
(57)【要約】
【構成】次式I
【化1】
〔例えばLは式:
【化2】
(基LのOは構造反復単位のPと、R5または基Lのピペ
リジニル環の4-位のCは構造反復単位のOと結合す
る。)を表し;R1、R2は夫々H、C1-4アルキル基;R3はH;
R4はH、C1-4アルキル基、-(CH2)p COOR7 (R7はアルキル基等)
を表し;R5はエチレン基、プロピレン基;nは数2-10;pは
2である〕で表されるオリゴマー化合物と酸化、熱およ
び/または光誘起的崩壊を受けやすい有機材料と該化合
物との組成物。 【効果】上記化合物は上記有機材料の安定剤として、特
に合成ポリマーの加工安定剤として優れている。
リジニル環の4-位のCは構造反復単位のOと結合す
る。)を表し;R1、R2は夫々H、C1-4アルキル基;R3はH;
R4はH、C1-4アルキル基、-(CH2)p COOR7 (R7はアルキル基等)
を表し;R5はエチレン基、プロピレン基;nは数2-10;pは
2である〕で表されるオリゴマー化合物と酸化、熱およ
び/または光誘起的崩壊を受けやすい有機材料と該化合
物との組成物。 【効果】上記化合物は上記有機材料の安定剤として、特
に合成ポリマーの加工安定剤として優れている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なオリゴマーHAL
SホスフィットおよびHALSホスホナイト、有機材
料、好ましくはポリマーならびに該新規オリゴマーHA
LSホスフィットおよびHALSホスホナイトからなる
組成物、ならびに酸化、熱および/または光誘起的崩壊
に対して有機材料を安定化するためのその使用方法に関
する。
SホスフィットおよびHALSホスホナイト、有機材
料、好ましくはポリマーならびに該新規オリゴマーHA
LSホスフィットおよびHALSホスホナイトからなる
組成物、ならびに酸化、熱および/または光誘起的崩壊
に対して有機材料を安定化するためのその使用方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】有機ホスフィットはとりわけ、ポリオレ
フィンに対する補助安定剤、二次酸化防止剤および加工
安定剤として当業者に公知である。このような公知のホ
スフィット安定剤の例はR.ゲヒター/H.ミュラー
(R. Gachter/H.Muller)編,プラスチックス アディテ
ィブズ ハンドブック(Plastics Additives Handboo
k),第3版,p47,ハンザー社,ミュンヘン 199
0およびヨーロッパ特許356688号公開公報に見出
される。
フィンに対する補助安定剤、二次酸化防止剤および加工
安定剤として当業者に公知である。このような公知のホ
スフィット安定剤の例はR.ゲヒター/H.ミュラー
(R. Gachter/H.Muller)編,プラスチックス アディテ
ィブズ ハンドブック(Plastics Additives Handboo
k),第3版,p47,ハンザー社,ミュンヘン 199
0およびヨーロッパ特許356688号公開公報に見出
される。
【0003】特に2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル基を含む化合物を含む立体障害性アミンは光安定剤
としての有用性が好ましく見出されている〔立体障害性
アミン光安定剤(hindered amine light stabiliser
s);HALS〕。
ジル基を含む化合物を含む立体障害性アミンは光安定剤
としての有用性が好ましく見出されている〔立体障害性
アミン光安定剤(hindered amine light stabiliser
s);HALS〕。
【0004】HALS構造単位を含むホスフィットまた
はホスホナイトはW.D.ハビッヒャーら(W.D. Habic
her et al), J.prakt.Chem.334,33
3−349(1992)および独国特許−A−2247
241号明細書に記載されている。
はホスホナイトはW.D.ハビッヒャーら(W.D. Habic
her et al), J.prakt.Chem.334,33
3−349(1992)および独国特許−A−2247
241号明細書に記載されている。
【0005】酸化、熱および/または光誘起的崩壊を受
けやすい有機材料に対する有効な安定剤を提供すること
が未だ要求されている。
けやすい有機材料に対する有効な安定剤を提供すること
が未だ要求されている。
【0006】
【課題を解決するための手段】このようなHALSホス
フィットおよびHALSホスホナイトの選択された群が
酸化、熱および/または光誘起的崩壊を受けやすい有機
材料に対する安定剤としての使用にとりわけ適当である
ことが今や見出された。合成ポリマーに対する加工安定
剤として前記化合物の適合性は特に強調されるべきこと
である。
フィットおよびHALSホスホナイトの選択された群が
酸化、熱および/または光誘起的崩壊を受けやすい有機
材料に対する安定剤としての使用にとりわけ適当である
ことが今や見出された。合成ポリマーに対する加工安定
剤として前記化合物の適合性は特に強調されるべきこと
である。
【0007】具体的には、本発明は式I:
【化8】 〔式中、Lは式:
【化9】 (基L中の酸素原子が構造反復単位中のリン原子と結合
し、そしてR5 または基L中のピペリジニル環の4−位
の炭素原子は構造反復単位中の酸素原子と結合する。)
で表される基を表し;R1 およびR2 はおのおの互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル
基、炭素原子数2ないし24のアルケニル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
た炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアル
キル基または−CH2 −S−R6 を表し;R3 は水素原
子またはメチル基を表し;R4 は水素原子、炭素原子数
1ないし25のアルキル基、炭素原子数2ないし24の
アルケニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換されたフェニル基、未置換のもしく
は炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素
原子数5ないし8のシクロアルケニル基;炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基、−CH2 −S−R6 、
−(CH2)p COOR7 または−(CH2)q OR8 を表
し;R5 は炭素原子数1ないし18のアルキレン基、酸
素原子、硫黄原子または基
し、そしてR5 または基L中のピペリジニル環の4−位
の炭素原子は構造反復単位中の酸素原子と結合する。)
で表される基を表し;R1 およびR2 はおのおの互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル
基、炭素原子数2ないし24のアルケニル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
た炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアル
キル基または−CH2 −S−R6 を表し;R3 は水素原
子またはメチル基を表し;R4 は水素原子、炭素原子数
1ないし25のアルキル基、炭素原子数2ないし24の
アルケニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換されたフェニル基、未置換のもしく
は炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素
原子数5ないし8のシクロアルケニル基;炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基、−CH2 −S−R6 、
−(CH2)p COOR7 または−(CH2)q OR8 を表
し;R5 は炭素原子数1ないし18のアルキレン基、酸
素原子、硫黄原子または基
【化10】 で中断された炭素原子数2ないし18のアルキレン基、
炭素原子数4ないし8のアルケニレン基またはフェニル
エチレン基を表し;R6 は炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4の
アルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ない
し9のフェニルアルキル基または−(CH2)r COOR
7 を表し;R7 は炭素原子数1ないし18のアルキル
基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキ
ル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェニル基、または炭素原子数7ない
し9のフェニルアルキル基を表し;R8 は炭素原子数1
ないし25のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1
ないし25のアルカノイル基、炭素原子数3ないし25
のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子または基:
炭素原子数4ないし8のアルケニレン基またはフェニル
エチレン基を表し;R6 は炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4の
アルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ない
し9のフェニルアルキル基または−(CH2)r COOR
7 を表し;R7 は炭素原子数1ないし18のアルキル
基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキ
ル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェニル基、または炭素原子数7ない
し9のフェニルアルキル基を表し;R8 は炭素原子数1
ないし25のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1
ないし25のアルカノイル基、炭素原子数3ないし25
のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子または基:
【化11】 で中断された炭素原子数2ないし25のアルカノイル
基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし12のアルキル
基で置換されたベンゾイル基;テノイル基またはフロイ
ル基を表し;R9 は水素原子または炭素原子数1ないし
8のアルキル基を表し;mは0または1を表し;nは2
ないし50の整数を表し;pは0,1または2を表し;
qは3ないし8の整数を表し;ならびにrは1または2
を表し、但し式Iの構造反復単位においてL、R1 、R
2 、R3、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 およびR9 な
いし指数m、p、qおよびrは同じであっても異なって
いてもよい。〕で表されるオリゴマー化合物に関する。
基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし12のアルキル
基で置換されたベンゾイル基;テノイル基またはフロイ
ル基を表し;R9 は水素原子または炭素原子数1ないし
8のアルキル基を表し;mは0または1を表し;nは2
ないし50の整数を表し;pは0,1または2を表し;
qは3ないし8の整数を表し;ならびにrは1または2
を表し、但し式Iの構造反復単位においてL、R1 、R
2 、R3、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 およびR9 な
いし指数m、p、qおよびrは同じであっても異なって
いてもよい。〕で表されるオリゴマー化合物に関する。
【0008】25個までの炭素原子のアルキル基は枝分
かれしたまたは枝分かれしていない基であり、代表的に
はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチ
ル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イソペン
チル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチ
ル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘ
プチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメ
チルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプ
チル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,
1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テト
ラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,1,
3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンデシル基、ヘキサデシル基、
ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基または
ドコシル基である。R1 、R2 、R4 およびR7 の好ま
しいものは代表的には炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基である。アルキル基の定義におけるR1 、R2 、R
4 およびR7 の特別に好ましいものは炭素原子数1ない
し4のアルキル基である。アルキル基の定義におけるR
1 、R2 、R4 およびR7 の特に好ましいものは第三ブ
チル基である。アルキル基の定義における特にR7 の好
ましいものはメチル基である。
かれしたまたは枝分かれしていない基であり、代表的に
はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチ
ル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イソペン
チル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチ
ル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘ
プチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメ
チルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプ
チル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,
1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テト
ラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,1,
3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンデシル基、ヘキサデシル基、
ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基または
ドコシル基である。R1 、R2 、R4 およびR7 の好ま
しいものは代表的には炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基である。アルキル基の定義におけるR1 、R2 、R
4 およびR7 の特別に好ましいものは炭素原子数1ない
し4のアルキル基である。アルキル基の定義におけるR
1 、R2 、R4 およびR7 の特に好ましいものは第三ブ
チル基である。アルキル基の定義における特にR7 の好
ましいものはメチル基である。
【0009】炭素原子数2ないし24のアルケニル基
は、ビニル基、プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブ
テニル基、イソブテニル基、n−2,4−ペンタジエニ
ル基、3−メチル−2−ブテニル基、n−2−オクテニ
ル基、n−2−ドデセニル基、イソドデセニル基、オレ
イル基、n−2−オクタデセニル基またはn−4−オク
タデセニル基のような枝分かれしたまたは枝分かれして
いない基である。好ましいアルケニル基は炭素原子数3
ないし18個、特には3ないし12個、代表的には3な
いし6個、最も好ましくは3ないし4個の炭素原子数の
アルケニル基である。
は、ビニル基、プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブ
テニル基、イソブテニル基、n−2,4−ペンタジエニ
ル基、3−メチル−2−ブテニル基、n−2−オクテニ
ル基、n−2−ドデセニル基、イソドデセニル基、オレ
イル基、n−2−オクタデセニル基またはn−4−オク
タデセニル基のような枝分かれしたまたは枝分かれして
いない基である。好ましいアルケニル基は炭素原子数3
ないし18個、特には3ないし12個、代表的には3な
いし6個、最も好ましくは3ないし4個の炭素原子数の
アルケニル基である。
【0010】未置換のまたは炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基、特に好ましくは1ないし3個、より特別には
1または2個の、枝分かれしたまたは枝分かれしていな
いアルキル基を含む炭素原子数5ないし6のシクロアル
キル基は、代表的にはシクロペンチル基、メチルシクロ
ペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシ
ル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基またはシクロオクチル基
である。シクロヘキシル基および第三ブチルシクロヘキ
シル基が好ましい。
ルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基、特に好ましくは1ないし3個、より特別には
1または2個の、枝分かれしたまたは枝分かれしていな
いアルキル基を含む炭素原子数5ないし6のシクロアル
キル基は、代表的にはシクロペンチル基、メチルシクロ
ペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシ
ル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基またはシクロオクチル基
である。シクロヘキシル基および第三ブチルシクロヘキ
シル基が好ましい。
【0011】好ましくは1ないし3個の、より好ましく
は1または2個のアルキル基を含む炭素原子数1ないし
4のアルキル基で置換されたフェニル基は代表的には、
o−、m−、p−メチルフェニル基、2,3−ジメチル
フェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジ
メチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,
4−ジメチルフェニル基、3,5−ジエチルフェニル
基、2−メチル−6−エチルフェニル基、4−第三ブチ
ルフェニル基、2−エチルフェニル基または2,6−ジ
エチルフェニル基を表す。
は1または2個のアルキル基を含む炭素原子数1ないし
4のアルキル基で置換されたフェニル基は代表的には、
o−、m−、p−メチルフェニル基、2,3−ジメチル
フェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジ
メチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,
4−ジメチルフェニル基、3,5−ジエチルフェニル
基、2−メチル−6−エチルフェニル基、4−第三ブチ
ルフェニル基、2−エチルフェニル基または2,6−ジ
エチルフェニル基を表す。
【0012】好ましくは1ないし3個、さらに特別には
1ないし2個の枝分かれしたまたは枝分かれしていない
アルキル基を含む未置換のもしくは炭素原子数1ないし
4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシ
クロアルケニル基は代表的にはシクロペンテニル基、メ
チルシクロペンテニル基、ジメチルシクロペンテニル
基、シクロヘキセニル基、メチルシクロヘキセニル基、
ジメチルシクロヘキセニル基、トリメチルシクロヘキセ
ニル基、第三ブチルシクロヘキセニル基、シクロヘプテ
ニル基またはシクロオクテニル基である。シクロヘキセ
ニル基および第三ブチルシクロヘキセニル基が好まし
い。
1ないし2個の枝分かれしたまたは枝分かれしていない
アルキル基を含む未置換のもしくは炭素原子数1ないし
4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシ
クロアルケニル基は代表的にはシクロペンテニル基、メ
チルシクロペンテニル基、ジメチルシクロペンテニル
基、シクロヘキセニル基、メチルシクロヘキセニル基、
ジメチルシクロヘキセニル基、トリメチルシクロヘキセ
ニル基、第三ブチルシクロヘキセニル基、シクロヘプテ
ニル基またはシクロオクテニル基である。シクロヘキセ
ニル基および第三ブチルシクロヘキセニル基が好まし
い。
【0013】炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基は代表的にはベンジル基、α−メチルベンジル基、
α,α−ジメチルベンジル基または2−フェニルエチル
基である。ベンジル基が好ましい。
基は代表的にはベンジル基、α−メチルベンジル基、
α,α−ジメチルベンジル基または2−フェニルエチル
基である。ベンジル基が好ましい。
【0014】炭素原子数1ないし18のアルキレン基は
枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、代表
的にはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラ
メチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘ
プタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、
ドデカメチレン基またはオクタデカメチレン基である。
炭素原子数1ないし8のアルキレン基が好ましい。R5
の好ましいものはエチレン基およびプロピレン基であ
る。
枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、代表
的にはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラ
メチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘ
プタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、
ドデカメチレン基またはオクタデカメチレン基である。
炭素原子数1ないし8のアルキレン基が好ましい。R5
の好ましいものはエチレン基およびプロピレン基であ
る。
【0015】酸素原子、硫黄原子または基
【化12】 によって中断された炭素原子数2ないし18のアルキレ
ン基は代表的には、−CH2 −O−CH2 −、−CH2
−S−CH2 −、−CH2 −NH−CH2 −、−CH2
−N−(CH3 )−CH2 −、−CH2 −O−CH2 C
H2 −O−CH2 −、−CH2 −(O−CH2 CH
2 −)2 O−CH2 −、−CH2 (O−CH2 CH
2 −)3 O−CH2 −、−CH2 −(O−CH2 CH2
−)4 O−CH2 −または−CH2 CH2 −S−CH2
CH2 −である。
ン基は代表的には、−CH2 −O−CH2 −、−CH2
−S−CH2 −、−CH2 −NH−CH2 −、−CH2
−N−(CH3 )−CH2 −、−CH2 −O−CH2 C
H2 −O−CH2 −、−CH2 −(O−CH2 CH
2 −)2 O−CH2 −、−CH2 (O−CH2 CH
2 −)3 O−CH2 −、−CH2 −(O−CH2 CH2
−)4 O−CH2 −または−CH2 CH2 −S−CH2
CH2 −である。
【0016】炭素原子数4ないし8のアルキレン基の定
義におけるR5 は代表的には2−ブテン−1,4−イレ
ン基である。
義におけるR5 は代表的には2−ブテン−1,4−イレ
ン基である。
【0017】好ましくは1ないし3個の、さらに好まし
くは1または2個の、枝分かれしたまたは枝分かれして
いないアルキル基を含む、未置換のもしくは炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ない
し12のシクロアルキル基は代表的には、シクロペンチ
ル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジ
メチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル
基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、
シクロオクチル基またはシクロデシル基である。シクロ
ヘキシル基および第三ブチルシクロヘキシル基が好まし
い。
くは1または2個の、枝分かれしたまたは枝分かれして
いないアルキル基を含む、未置換のもしくは炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ない
し12のシクロアルキル基は代表的には、シクロペンチ
ル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジ
メチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル
基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、
シクロオクチル基またはシクロデシル基である。シクロ
ヘキシル基および第三ブチルシクロヘキシル基が好まし
い。
【0018】25個までの炭素原子を含むアルカノイル
基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、
例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタ
ノイル基、ベンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノ
イル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル
基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイ
ル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキ
サデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイ
ル基、エイコサノイル基またはドコサノイル基である。
2ないし18個の、より特別には2ないし12個の、代
表的には2ないし6個の炭素原子のアルカノイル基が好
ましい。
基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、
例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタ
ノイル基、ベンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノ
イル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル
基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイ
ル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキ
サデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイ
ル基、エイコサノイル基またはドコサノイル基である。
2ないし18個の、より特別には2ないし12個の、代
表的には2ないし6個の炭素原子のアルカノイル基が好
ましい。
【0019】3ないし25個の炭素原子のアルケノイル
基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、
例えばプロペノイル基、2−ブテノイル基、イソブテノ
イル基、n−2,4−ペンタジエノイル基、3−メチル
−2−ブテノイル基、n−2−オクテノイル基、n−2
−ドデセノル基、イソドデセノイル基、オレオイル基n
−2−オクタデセノイル基またはn−4−オクタデセノ
イル基である。3ないし18個の、さらに特別には2な
いし12個の、代表的には2ないし6個の炭素原子のア
ルケノイル基が好ましい。
基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、
例えばプロペノイル基、2−ブテノイル基、イソブテノ
イル基、n−2,4−ペンタジエノイル基、3−メチル
−2−ブテノイル基、n−2−オクテノイル基、n−2
−ドデセノル基、イソドデセノイル基、オレオイル基n
−2−オクタデセノイル基またはn−4−オクタデセノ
イル基である。3ないし18個の、さらに特別には2な
いし12個の、代表的には2ないし6個の炭素原子のア
ルケノイル基が好ましい。
【0020】酸素原子、硫黄原子または基
【化13】 により中断された炭素原子数2ないし25個のアルカノ
イル基、好ましくは、炭素原子数3ないし25のアルカ
ノイル基、は代表的にはCH3 OCO−、CH3−O−
CH2 CO−、CH3 −S−CH2 CO−、CH3 −N
H−CH2 CO−、CH3 −N(CH3 )−CH2 CO
−、CH3 −O−CH2 CH2 −OCH2CO−、CH
3 −(O−CH2 CH2 −)2 O−CH2 CO−、CH
3 −(O−CH2 CH2 −)3 O−CH2 CO−または
CH3 −(O−CH2 CH2 −)4O−CH2 CO−で
ある。
イル基、好ましくは、炭素原子数3ないし25のアルカ
ノイル基、は代表的にはCH3 OCO−、CH3−O−
CH2 CO−、CH3 −S−CH2 CO−、CH3 −N
H−CH2 CO−、CH3 −N(CH3 )−CH2 CO
−、CH3 −O−CH2 CH2 −OCH2CO−、CH
3 −(O−CH2 CH2 −)2 O−CH2 CO−、CH
3 −(O−CH2 CH2 −)3 O−CH2 CO−または
CH3 −(O−CH2 CH2 −)4O−CH2 CO−で
ある。
【0021】炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカ
ルボニル基は代表的には、シクロペンチルカルボニル
基、シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘプチルカル
ボニル基またはシクロオクチルカルボニル基である。シ
クロヘキシルカルボニル基が好ましい。
ルボニル基は代表的には、シクロペンチルカルボニル
基、シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘプチルカル
ボニル基またはシクロオクチルカルボニル基である。シ
クロヘキシルカルボニル基が好ましい。
【0022】好ましくは1ないし3個の、さらに特別に
は1または2個のアルキル基を有する炭素原子数1ない
し12のアルキル基で置換されたベンゾイル基は代表的
にはo−、m−、p−メチルベンゾイル基、2,3−ジ
メチルベンゾイル基、2,4−ジメチルベンゾイル基、
2,5−ジメチルベンゾイル基、2,6−ジメチルベン
ゾイル基、3,4−ジメチルベンゾイル基、3,5−ジ
メチルベンゾイル基、2−メチル−6−エチルベンゾイ
ル基、4−第三ブチルベンゾイル基、2−エチルベンゾ
イル基、2,4,6−トリメチルベンゾイル基、2,6
−ジメチル−4−第三ブチルベンゾイル基または3,5
−ジ−第三ブチルベンゾイル基である。
は1または2個のアルキル基を有する炭素原子数1ない
し12のアルキル基で置換されたベンゾイル基は代表的
にはo−、m−、p−メチルベンゾイル基、2,3−ジ
メチルベンゾイル基、2,4−ジメチルベンゾイル基、
2,5−ジメチルベンゾイル基、2,6−ジメチルベン
ゾイル基、3,4−ジメチルベンゾイル基、3,5−ジ
メチルベンゾイル基、2−メチル−6−エチルベンゾイ
ル基、4−第三ブチルベンゾイル基、2−エチルベンゾ
イル基、2,4,6−トリメチルベンゾイル基、2,6
−ジメチル−4−第三ブチルベンゾイル基または3,5
−ジ−第三ブチルベンゾイル基である。
【0023】式Iで表される好ましいオリゴマー化合物
は、式中、R1 およびR2 はおのおの独立して水素原
子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数
2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数
5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基または−CH2 −S−R6 を表
し;R4 は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキル基、未置換のもしくは
炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニ
ル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭
素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、−CH2 −
S−R6 、−(CH2)p COOR7 または−(CH2)q
OR8 を表し;R5 は炭素原子数1ないし12のアルキ
レン基、炭素原子数4ないし8のアルケニレン基または
フェニルエチレン基を表し;R6 は炭素原子数1ないし
18のアルキル基、炭素原子数5または12のシクロア
ルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基または−(CH2)r COOR7
を表し;R7 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、
炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、または炭素原子数7ないし9のフェニル
アルキル基を表し;R8 は炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基、炭素原子数1ないし18のア
ルカノイル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル
基、酸素原子、硫黄原子または基:
は、式中、R1 およびR2 はおのおの独立して水素原
子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数
2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ない
し4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数
5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基または−CH2 −S−R6 を表
し;R4 は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原
子数5ないし8のシクロアルキル基、未置換のもしくは
炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニ
ル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭
素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、−CH2 −
S−R6 、−(CH2)p COOR7 または−(CH2)q
OR8 を表し;R5 は炭素原子数1ないし12のアルキ
レン基、炭素原子数4ないし8のアルケニレン基または
フェニルエチレン基を表し;R6 は炭素原子数1ないし
18のアルキル基、炭素原子数5または12のシクロア
ルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基または−(CH2)r COOR7
を表し;R7 は炭素原子数1ないし18のアルキル基、
炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、または炭素原子数7ないし9のフェニル
アルキル基を表し;R8 は炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基、炭素原子数1ないし18のア
ルカノイル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル
基、酸素原子、硫黄原子または基:
【化14】 で中断された炭素原子数2ないし18のアルカノイル
基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル
基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換されたベンゾイル基を表し;R9 は水素原子ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;ならび
にnは2ないし40の整数を表すものである。
基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル
基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換されたベンゾイル基を表し;R9 は水素原子ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;ならび
にnは2ないし40の整数を表すものである。
【0024】好ましいものはまた、R5 がエチレン基ま
たはプロピレン基である式Iで表されるオリゴマー化合
物である。
たはプロピレン基である式Iで表されるオリゴマー化合
物である。
【0025】さらに好ましい式Iのオリゴマー化合物
は、R1 およびR2 がおのおの互いに独立して水素原子
または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、およ
びR5がエチレン基またはプロピレン基である化合物で
ある。
は、R1 およびR2 がおのおの互いに独立して水素原子
または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、およ
びR5がエチレン基またはプロピレン基である化合物で
ある。
【0026】特別に好ましい式Iで表されるオリゴマー
化合物は、R1 およびR2 が互いに独立して水素原子ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
2ないし12のアルケニル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基またはシクロヘキセニル基を表し;R4 が水素原
子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
2ないし12のアルケニル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基、シクロヘキセニル基、ベンジル基、−CH2 −
S−R6 、−(CH2)p COOR7 または−(CH2)q
OR8 を表し;R5 は炭素原子数1ないし8のアルキレ
ン基またはフェニルエチレン基を表し;R6 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基または−
(CH2)r COOR7 を表し;R7 は炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し;R8 は
炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル基、ベ
ンジル基、炭素原子数1ないし12のアルカノイル基、
酸素原子により中断された炭素原子数2ないし12のア
ルカノイル基、シクロヘキシルカルボニル基またはベン
ゾイル基を表し;nは2ないし30の整数を表し;pは
2を表し;qが3ないし6の整数を表し;およびrは1
を表すものである。
化合物は、R1 およびR2 が互いに独立して水素原子ま
たは炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
2ないし12のアルケニル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基またはシクロヘキセニル基を表し;R4 が水素原
子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
2ないし12のアルケニル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基、シクロヘキセニル基、ベンジル基、−CH2 −
S−R6 、−(CH2)p COOR7 または−(CH2)q
OR8 を表し;R5 は炭素原子数1ないし8のアルキレ
ン基またはフェニルエチレン基を表し;R6 は炭素原子
数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基または−
(CH2)r COOR7 を表し;R7 は炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し;R8 は
炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル基、ベ
ンジル基、炭素原子数1ないし12のアルカノイル基、
酸素原子により中断された炭素原子数2ないし12のア
ルカノイル基、シクロヘキシルカルボニル基またはベン
ゾイル基を表し;nは2ないし30の整数を表し;pは
2を表し;qが3ないし6の整数を表し;およびrは1
を表すものである。
【0027】特に重要な式Iのオリゴマー化合物は、R
1 およびR2 はおのおの互いに独立して水素原子、炭素
原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル基また
はフェニル基を表し;R4 は水素原子、炭素原子数1な
いし8のアルキル基、シクロヘキシル基または−(CH
2)p COOR7 を表し;R5 はエチレン基、プロピレン
基またはフェニルエチレン基を表し;R7 は炭素原子数
1ないし12のアルキル基またはベンジル基を表し;n
は2ないし20の整数を表し;およびpは2を表すもの
である。
1 およびR2 はおのおの互いに独立して水素原子、炭素
原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル基また
はフェニル基を表し;R4 は水素原子、炭素原子数1な
いし8のアルキル基、シクロヘキシル基または−(CH
2)p COOR7 を表し;R5 はエチレン基、プロピレン
基またはフェニルエチレン基を表し;R7 は炭素原子数
1ないし12のアルキル基またはベンジル基を表し;n
は2ないし20の整数を表し;およびpは2を表すもの
である。
【0028】非常に特別に重要な式Iで表されるオリゴ
マー化合物は、R1 およびR2 がおのおの互いに独立し
て水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し;R3 は水素原子を表し;R4 は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基または−(CH2)p COO
R7 を表し;R5 はエチレン基またはプロピレン基を表
し;R7 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
nが2ないし10の整数を表し;およびpが2を表す化
合物である。
マー化合物は、R1 およびR2 がおのおの互いに独立し
て水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し;R3 は水素原子を表し;R4 は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基または−(CH2)p COO
R7 を表し;R5 はエチレン基またはプロピレン基を表
し;R7 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
nが2ないし10の整数を表し;およびpが2を表す化
合物である。
【0029】式Iの新規なオリゴマー化合物はそれ自体
公知の方法で製造できる。
公知の方法で製造できる。
【0030】好ましい方法は代表的には、式II:
【化15】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 および指数mは上記で
定義されたものと同じ定義を表す。)で表される化合物
もしくは式IIで表される化合物の混合物と、式III :
定義されたものと同じ定義を表す。)で表される化合物
もしくは式IIで表される化合物の混合物と、式III :
【化16】 (式中、R5 は上記で定義されたものと同じ定義を表
す。)で表される化合物もしくは式III で表される化合
物の混合物とを反応させて式Iのオリゴマー化合物を得
ることからなる。
す。)で表される化合物もしくは式III で表される化合
物の混合物とを反応させて式Iのオリゴマー化合物を得
ることからなる。
【0031】反応は溶融体でまたは適当な極性または非
極性非プロトン性有機溶媒の存在下で行われる。この反
応を塩基の存在下で−20℃ないし溶媒の沸点、好まし
くは20ないし150℃の温度範囲で行うのが好まし
い。
極性非プロトン性有機溶媒の存在下で行われる。この反
応を塩基の存在下で−20℃ないし溶媒の沸点、好まし
くは20ないし150℃の温度範囲で行うのが好まし
い。
【0032】アミンのような塩基はまた同時に溶媒とし
て使用できる。
て使用できる。
【0033】式IIの化合物または式III の化合物に対し
て触媒量から理論量まで、数倍モル過剰に、塩基の種々
の量を使用することが可能である。反応の間、発生する
塩化水素は塩基により、適当な水相または固相によるろ
過および/または洗浄により除去できる塩化物に変換さ
れる。第二番目の水不混和性溶媒もまた使用できる。生
成物は蒸発により有機溶媒を濃縮し、残渣を乾燥するこ
とにより都合良く単離される。
て触媒量から理論量まで、数倍モル過剰に、塩基の種々
の量を使用することが可能である。反応の間、発生する
塩化水素は塩基により、適当な水相または固相によるろ
過および/または洗浄により除去できる塩化物に変換さ
れる。第二番目の水不混和性溶媒もまた使用できる。生
成物は蒸発により有機溶媒を濃縮し、残渣を乾燥するこ
とにより都合良く単離される。
【0034】反応を行うための適当な溶媒は代表的には
炭化水素(例えばメシチレン、トルエン、キシレン、ヘ
キサン、ペンタンまたは他の石油エーテル留分);ハロ
ゲン化炭化水素(例えば、ジクロロ−またはトリクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリク
ロロエタンまたはクロロベンゼン);エーテル(例え
ば、ジエチルエーテル、ジブチルエーテルまたはテトラ
ヒドロフラン)、ケトン(例えば、アセトン、エチルメ
チルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトンま
たはシクロヘキサノン);およびまたアセトニトリル、
ブチルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドまたはN−メチルピロリドンを含む。
炭化水素(例えばメシチレン、トルエン、キシレン、ヘ
キサン、ペンタンまたは他の石油エーテル留分);ハロ
ゲン化炭化水素(例えば、ジクロロ−またはトリクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリク
ロロエタンまたはクロロベンゼン);エーテル(例え
ば、ジエチルエーテル、ジブチルエーテルまたはテトラ
ヒドロフラン)、ケトン(例えば、アセトン、エチルメ
チルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピルケトンま
たはシクロヘキサノン);およびまたアセトニトリル、
ブチルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドまたはN−メチルピロリドンを含む。
【0035】適当な塩基は第三アミン(例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,
N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンまた
はピリジン)、水素化物(例えば、水素化リチウム、水
素化ナトリウムおよび水素化カリウム)またはアルコラ
ート(例えばナトリウムアルコラート)である。
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,
N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンまた
はピリジン)、水素化物(例えば、水素化リチウム、水
素化ナトリウムおよび水素化カリウム)またはアルコラ
ート(例えばナトリウムアルコラート)である。
【0036】水素化物(例えば、水素化ナトリウム、ホ
ウ水素化ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム)、
アルカリ金属、アルカリ金属水酸化物またはナトリウム
メタノラートが塩基として使用される場合、式III で表
される化合物のアルコラートに相当するものがまず、形
成される。この場合の反応生成物(例えば、水、メタノ
ール)は、式III で表される化合物との反応の前に(例
えば、トルエンとの共沸混合物として)留去される。
ウ水素化ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム)、
アルカリ金属、アルカリ金属水酸化物またはナトリウム
メタノラートが塩基として使用される場合、式III で表
される化合物のアルコラートに相当するものがまず、形
成される。この場合の反応生成物(例えば、水、メタノ
ール)は、式III で表される化合物との反応の前に(例
えば、トルエンとの共沸混合物として)留去される。
【0037】式Iで表されるオリゴマー化合物の構造は
例えば溶媒または反応温度ならびにモル比、および式II
および式III の化合物の濃度等の反応条件に依存する。
例えば溶媒または反応温度ならびにモル比、および式II
および式III の化合物の濃度等の反応条件に依存する。
【0038】式IIおよび式III の化合物は当モル比で使
用できる。しかし、式III のHALSジオールの過剰量
を使用することが好ましい。式IIの化合物:式III の化
合物の好ましいモル比は1:1.05ないし1:1.9
である。1:1.3ないし1:1.8のモル比が特に好
ましい。
用できる。しかし、式III のHALSジオールの過剰量
を使用することが好ましい。式IIの化合物:式III の化
合物の好ましいモル比は1:1.05ないし1:1.9
である。1:1.3ないし1:1.8のモル比が特に好
ましい。
【0039】本発明はそのため式IIの化合物もしくは式
IIの化合物の混合物と、式III の化合物または式III の
化合物の混合物との反応により得られるオリゴマー生成
物にも関する。
IIの化合物の混合物と、式III の化合物または式III の
化合物の混合物との反応により得られるオリゴマー生成
物にも関する。
【0040】式III で表される化合物の製造方法は公知
である。
である。
【0041】m=1である式IIのアリールホスホジクロ
リダイトは公知であるか、それ自体公知の方法、特に独
国特許−A−39282691号明細書またはR.A.
バートレットら(R.A.Bartlett et al) ,J.Ame
r.Soc.109(19),5699(1987)に
開示されたような方法により製造できる。
リダイトは公知であるか、それ自体公知の方法、特に独
国特許−A−39282691号明細書またはR.A.
バートレットら(R.A.Bartlett et al) ,J.Ame
r.Soc.109(19),5699(1987)に
開示されたような方法により製造できる。
【0042】m=0である式IIのアリールジクロロホス
フィンは同様に公知であるかそれ自体公知の方法、特に
Org.Syntheses Coll.Vol.I
V,784(1963)またはTh.ヴァイルら(Th.
Weil et al) ,Helv.Chim.Acta 195
2,1412またはF.ニエフら(F.Nief et al) ,T
etrahedron,47(33),6673(19
91)に記載されているような方法により製造できる。
フィンは同様に公知であるかそれ自体公知の方法、特に
Org.Syntheses Coll.Vol.I
V,784(1963)またはTh.ヴァイルら(Th.
Weil et al) ,Helv.Chim.Acta 195
2,1412またはF.ニエフら(F.Nief et al) ,T
etrahedron,47(33),6673(19
91)に記載されているような方法により製造できる。
【0043】式Iで表される新規な化合物の製造に要求
される式IIで表される化合物はその場で上記で引用した
参照文献と同様に製造でき、単離することなしに、さら
に式III で表される化合物と反応して、式Iの化合物を
製造できる。
される式IIで表される化合物はその場で上記で引用した
参照文献と同様に製造でき、単離することなしに、さら
に式III で表される化合物と反応して、式Iの化合物を
製造できる。
【0044】式III で表されるHALS化合物は、特に
米国特許A−4233412号明細書に記載されたよう
なそれ自体公知の方法により製造できる。
米国特許A−4233412号明細書に記載されたよう
なそれ自体公知の方法により製造できる。
【0045】式Iの構造反復単位中のLは同じかまたは
異なる意味を有することができる。
異なる意味を有することができる。
【0046】式IV
【化17】 で示されるように、式Iで表されるオリゴマー化合物の
末端基は主に、公知の方法によって容易に誘導できるヒ
ドロキシ基である。これらのヒドロキシ基は酸ハライ
ド、都合よくはカルボニルハライド、またはホスホリル
ハライドによりまたは酸無水物によりエステル化でき;
あるいはアルキルまたはベンジルハライドによりアルキ
ル化またはベンジル化でき;あるいはイソシアネートと
反応してウレタンにでき;またはイソチオシアネートに
より誘導されてチオウレタンにでき;スルホニルハライ
ドならびに、都合良くは塩化チオニルと反応してハライ
ドにでき、または例えば式V、VIまたはVII
末端基は主に、公知の方法によって容易に誘導できるヒ
ドロキシ基である。これらのヒドロキシ基は酸ハライ
ド、都合よくはカルボニルハライド、またはホスホリル
ハライドによりまたは酸無水物によりエステル化でき;
あるいはアルキルまたはベンジルハライドによりアルキ
ル化またはベンジル化でき;あるいはイソシアネートと
反応してウレタンにでき;またはイソチオシアネートに
より誘導されてチオウレタンにでき;スルホニルハライ
ドならびに、都合良くは塩化チオニルと反応してハライ
ドにでき、または例えば式V、VIまたはVII
【化18】 (式中、R10は代表的には例えば炭素原子数1ないし2
5のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし
4のアルキル基で置換されたフェニル基あるいは炭素原
子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、Xおよび
Yはおのおの互いに独立して水素原子または炭素原子数
1ないし4のアルキル基を表すかまたはこれらが結合す
る炭素原子と一緒になって3,4−デヒドロシクロヘキ
シリデン環を形成する。)で表される、クロロホスフィ
ットと反応できる。
5のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし
4のアルキル基で置換されたフェニル基あるいは炭素原
子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、Xおよび
Yはおのおの互いに独立して水素原子または炭素原子数
1ないし4のアルキル基を表すかまたはこれらが結合す
る炭素原子と一緒になって3,4−デヒドロシクロヘキ
シリデン環を形成する。)で表される、クロロホスフィ
ットと反応できる。
【0047】式Iで表されるオリゴマー化合物はまた式
VIII
VIII
【化19】 (式中、基L中のヒドロキシ末端基が他の鎖末端
【化20】 と脱塩酸化を伴って環を形成する。)に係る環系として
も得ることが可能である。
も得ることが可能である。
【0048】新規な式Iの化合物は酸化、熱または光誘
起的崩壊に対して有機材料を安定化するのに都合がよ
い。
起的崩壊に対して有機材料を安定化するのに都合がよ
い。
【0049】そのような有機材料の例は以下のようなも
のである: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−1
−エン、ポリ−4−メチルペント−1−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、(所望により架橋結合できる)ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレ
ン(LDPE)および線状低密度ポリエチレン(LLD
PE)、枝分れ低密度ポリエチレン(BLDPE)。
のである: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−1
−エン、ポリ−4−メチルペント−1−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィ
ン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、(所望により架橋結合できる)ポリエチレン、例え
ば高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレ
ン(LDPE)および線状低密度ポリエチレン(LLD
PE)、枝分れ低密度ポリエチレン(BLDPE)。
【0050】ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる: a)(通常、高圧および高温においての)ラジカル重合 b)通常周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII属の金属
の1個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び/またはアリールのような配位子の1つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン(III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン(該金属
は周期表のIa、IIa および/またはIIIa属の元素であ
る。)のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー(−ナッタ)
〔Ziegler-(Natta) 〕、TNZ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒(SSC)
と称されるものである。
示したようなモノオレフィンのポリマー、好ましくはポ
リエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以
下の方法により製造できる: a)(通常、高圧および高温においての)ラジカル重合 b)通常周期表のIVb、Vb、VIbまたはVIII属の金属
の1個以上を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金
属は通常、π−配位またはσ−配位のどちらか一方が可
能な、例えば酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エ
ステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよ
び/またはアリールのような配位子の1つ以上を持つ。
これら金属錯体は遊離型であるか例えば活性化塩化マグ
ネシウム、塩化チタン(III)、酸化アルミニウムまたは
酸化珪素のような支持体に固定化していてよい。これら
の触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよい。触
媒はそれ自体重合において使用でき、または、例えば金
属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハライド、金
属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン(該金属
は周期表のIa、IIa および/またはIIIa属の元素であ
る。)のような別の活性剤が使用できる。活性剤は都合
良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリ
ルエーテル基により改良され得る。これら触媒系は通常
フィリップス(Phillips)、スタンダードオイルインディ
アナ(Standard Oil Indiana)、チグラー(−ナッタ)
〔Ziegler-(Natta) 〕、TNZ〔デュポン社(Dupon
t)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒(SSC)
と称されるものである。
【0051】2. 1.に記載したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE、PP/LDPE)およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP
/HDPE、PP/LDPE)およびポリエチレンの種
々のタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
【0052】3.モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブト−1−エンコポリマ
ー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/
ブト−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリ
マー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン
/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマ
ー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン
/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン/ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(ア
イオノマー)およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー;なら
びに前記コポリマー相互の混合物および1.に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン
−プロピレン−コポリマー、LDPE/エチレン−ビニ
ルアセテート(EVA)コポリマー、LDPE/エチレ
ンアクリル酸(EAA)コポリマー、LLDPE/EV
A、LLDPE/EAAおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン/一酸化炭素−コポリマー;ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブト−1−エンコポリマ
ー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/
ブト−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリ
マー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン
/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマ
ー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン
/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン/ビニルアセテートコポリマーおよ
びそれらコポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエ
チレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(ア
イオノマー)およびエチレンとプロピレンとジエン例え
ばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデ
ン−ノルボルネンのようなものとのターポリマー;なら
びに前記コポリマー相互の混合物および1.に記載した
ポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン
−プロピレン−コポリマー、LDPE/エチレン−ビニ
ルアセテート(EVA)コポリマー、LDPE/エチレ
ンアクリル酸(EAA)コポリマー、LLDPE/EV
A、LLDPE/EAAおよびランダムまたは交互ポリ
アルキレン/一酸化炭素−コポリマー;ならびに他のポ
リマーとこれらの混合物、例えばポリアミド。
【0053】4. それらの水素化変性物(例えば粘着付
与剤)およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)。
与剤)およびポリアルキレンとデンプンの混合物を含む
炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)。
【0054】5.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルス
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
【0055】6.スチレンまたは、α−メチルスチレン
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリ
ル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブ
タジエン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン
酸、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレー
ト;スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレ
ン/ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物;およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン/ブ
タジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレ
ン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン、又はス
チレン/エチレン/プロピレン/スチレン。
とジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、例え
ばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリ
ル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブ
タジエン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン
酸、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレー
ト;スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレ
ン/ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物;およ
びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン/ブ
タジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレ
ン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン、又はス
チレン/エチレン/プロピレン/スチレン。
【0056】7.スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと6.に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばABS、MBS、ASAおよびAESポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルにスチレンのようなもの;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンに
スチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また
はマレインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマ
レインイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと6.に列挙したコポリマーとの混
合物、例えばABS、MBS、ASAおよびAESポリ
マーとして知られているコポリマー混合物。
【0057】8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化
ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニル
コポリマー。
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホ
ン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコ
ポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマ
ー、特にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらの
コポリマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化
ビニル/酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン/酢酸ビニル
コポリマー。
【0058】9.α,β−不飽和酸、およびその誘導体
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート;ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
から誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよ
びポリメタクリレート;ブチルアクリレートとの耐衝撃
性改良ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
【0059】10.上記9に挙げたモノマーの相互または
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
/ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニ
トリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/ア
ルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル
/ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリル
−アルキルメタクリレート−ブタジエンターポリマー。
【0060】11.不飽和アルコールおよびアミンまたは
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;
ならびにそれらと上記1.に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
それらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘
導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;
ならびにそれらと上記1.に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。
【0061】12.環状エーテルのホモポリマーおよびコ
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
ポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらと
ビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
【0062】13. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
チレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含む
ポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタン、アクリレ
ートまたはMBSで変性させたポリアセタール。
【0063】14.ポリフェニレンオキシドおよびスルフ
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
ィド、ならびにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
【0064】15. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン
と他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネ
ートとから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物
質。
【0065】16. ジアミンおよびジカルボン酸および/
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、
6/9、6/12、4/6および12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
/またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
2,4,4−(トリメチルヘキサメチレン)テレフタル
アミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー;またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー;ならびにEPDMまたはABSで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド;加工の間に
縮合させたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、
6/9、6/12、4/6および12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミン、およ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸および
/またはテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えはポリ−
2,4,4−(トリメチルヘキサメチレン)テレフタル
アミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;
さらに、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィン
コポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグ
ラフトしたエラストマーとのコポリマー;またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー;ならびにEPDMまたはABSで
変性させたポリアミドまたはコポリアミド;加工の間に
縮合させたポリアミド(RIM−ポリアミド系)。
【0066】17. ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
イミドおよびポリベンズイミダゾール。
【0067】18. ジカルボン酸およびジオールから、お
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
1, 4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル;およびまたポリカー
ボネートまたはMBSにより改良されたポリエステル。
よび/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
1, 4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル;およびまたポリカー
ボネートまたはMBSにより改良されたポリエステル。
【0068】19. ポリカーボネートおよびポリエステル
−カーボネート。
−カーボネート。
【0069】20. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン
およびポリエーテルケトン。
およびポリエーテルケトン。
【0070】21.一方でアルデヒドから、および他方で
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿
素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムアル
デヒド樹脂。
フェノール、尿素またはメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿
素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルムアル
デヒド樹脂。
【0071】22.乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。
【0072】23.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
アルコールおよび架橋剤としてビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および
燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変成物。
【0073】24.置換アクリル酸エステル、例えばエポ
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
キシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエ
ステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。
【0074】25.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
アネートまたはエポキシ樹脂で架橋させたアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
【0075】26.ポリエポキシド、例えばビスグリシジ
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
ルエーテルから、または環状脂肪族ジエポキシドから誘
導された架橋エポキシ樹脂。
【0076】27.天然ポリマー、例えば、セルロース、
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース;ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学変性した同族誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロース、およびセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース;ならびにロジンおよびそれらの誘
導体。
【0077】28.前述のポリマーの混合物(ポリブレン
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/A
SA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PU
R、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/
HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/A
SA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PU
R、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/
HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
【0078】29.純粋なモノマー化合物またはそれらの
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート)に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
混合物からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、
動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成
エステル(例えばフタレート、アジペート、ホスフェー
トまたはトリメリテート)に基づいたオイル、脂肪およ
びワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、または
紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合
成エステルと鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水
性エマルジョン。
【0079】30.天然または合成ゴムの水性エマルジョ
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン/ブタジエンコポリマーのラテックス。
ン、例えば天然ラテックス、またはカルボキシル化スチ
レン/ブタジエンコポリマーのラテックス。
【0080】本発明はまたa)酸化、熱および/または
光誘起的崩壊を受けやすい有機材料、およびb)式Iで
表されるオリゴマー化合物の少なくとも1種からなる組
成物にも関する。
光誘起的崩壊を受けやすい有機材料、およびb)式Iで
表されるオリゴマー化合物の少なくとも1種からなる組
成物にも関する。
【0081】好ましくは保護される有機材料は、天然、
半合成またはより特別には合成ポリマーである。熱可塑
性ポリマーが特に好ましく、さらに特にはPVCまたは
ポリオレフィンであり、さらに好ましくはポリエチレン
またはポリプロピレンである。
半合成またはより特別には合成ポリマーである。熱可塑
性ポリマーが特に好ましく、さらに特にはPVCまたは
ポリオレフィンであり、さらに好ましくはポリエチレン
またはポリプロピレンである。
【0082】特に強調されるべきなのは、特には熱可塑
性樹脂の加工中の熱作用に曝される場合の熱および酸化
的崩壊に対する新規な化合物の作用である。新規な化合
物はそれゆえ加工安定剤として使用するのに優れた適合
性をもつ。
性樹脂の加工中の熱作用に曝される場合の熱および酸化
的崩壊に対する新規な化合物の作用である。新規な化合
物はそれゆえ加工安定剤として使用するのに優れた適合
性をもつ。
【0083】式Iの化合物を0.01ないし10重量
%、代表的には0.01ないし5重量%、好ましくは
0.025ないし3重量%およびさらに好ましくは0.
025ないし1重量%の量で安定化される材料に添加す
るのが好ましい。重量%は安定化される有機材料の重量
に基づく。
%、代表的には0.01ないし5重量%、好ましくは
0.025ないし3重量%およびさらに好ましくは0.
025ないし1重量%の量で安定化される材料に添加す
るのが好ましい。重量%は安定化される有機材料の重量
に基づく。
【0084】式Iのオリゴマー化合物に加えて、新規な
組成物はさらに例えば以下に示すような補助安定剤を含
むことができる。1.抗酸化剤 1.1 アルキル化モノフェノール 、例えば2,6−ジ
−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2,6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル−4
−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−ウンデカ−1′−イル)−フェノール、2,4
−ジメチル−6−(1′−メチル−ヘプタデカ−1′−
イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−トリデカ−1′−イル)−フェノールおよびそ
れらの混合物。
組成物はさらに例えば以下に示すような補助安定剤を含
むことができる。1.抗酸化剤 1.1 アルキル化モノフェノール 、例えば2,6−ジ
−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2,6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジノニル−4
−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−ウンデカ−1′−イル)−フェノール、2,4
−ジメチル−6−(1′−メチル−ヘプタデカ−1′−
イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−トリデカ−1′−イル)−フェノールおよびそ
れらの混合物。
【0085】1.2.アルキルチオメチルフェノール、
例えば2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−第三ブチ
ルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−
メチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−
6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチ
ル−4−ノニルフェノール。
例えば2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−第三ブチ
ルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−
メチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−
6−エチルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチ
ル−4−ノニルフェノール。
【0086】1.3 ハイドロキノンとアルキル化ハイ
ドロキノン、例えば2,6−ジ−第三ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、2,5−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,6−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、2,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレー
ト、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。
ドロキノン、例えば2,6−ジ−第三ブチル−4−メト
キシフェノール、2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキ
ノン、2,5−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル、2,6−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、2,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレー
ト、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。
【0087】1.4 ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル、例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オ
クチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブ
チル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′
−チオ−ビス(3,6−ジ−第二−アミルフェノー
ル)、4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−ジスルフィド。
ーテル、例えば2,2′−チオビス(6−第三ブチル−
4−メチルフェノール)、2,2′−チオビス(4−オ
クチルフェノール)、4,4′−チオビス(6−第三ブ
チル−3−メチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′
−チオ−ビス(3,6−ジ−第二−アミルフェノー
ル)、4,4′−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−ジスルフィド。
【0088】1.5 アルキリデンビスフェノール、例
えば2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−
第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキ
シル)フェノール]、2,2′−メチレン−ビス(4−
メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−
メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデ
ン−ビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス [6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール] 、2,2′−メチレ
ン−ビス [6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール] 、4,4′−メチレン−ビス(2,6
−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−
ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−
5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフ
ェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス[3,3−ビス(3′−第三ブチル−
4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート] 、ビス(3−
第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジ
シクロペンタジエン、ビス[2−(3′−第三ブチル−
2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三
ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4
−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テ
トラ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル
フェニル)ペンタン。
えば2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−
第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチ
レン−ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキ
シル)フェノール]、2,2′−メチレン−ビス(4−
メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−
メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2′−エチリデン−ビス(4,
6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2′−エチリデ
ン−ビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス [6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール] 、2,2′−メチレ
ン−ビス [6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール] 、4,4′−メチレン−ビス(2,6
−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−
ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,
1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチ
ルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−
5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフ
ェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレン
グリコールビス[3,3−ビス(3′−第三ブチル−
4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート] 、ビス(3−
第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジ
シクロペンタジエン、ビス[2−(3′−第三ブチル−
2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−6−第三
ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4
−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テ
トラ−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル
フェニル)ペンタン。
【0089】1.6. O−、N−およびS−ベンジル
化合物、例えば3,5,3′,5′−テトラ−第三ブチ
ル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−アミン、ビス(4
−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフィド、イ
ソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
化合物、例えば3,5,3′,5′−テトラ−第三ブチ
ル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル
−メルカプトアセテート、トリス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−アミン、ビス(4
−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)−ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフィド、イ
ソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート。
【0090】1.7.ヒドロキシベンジル化マロネー
ト、例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ
−第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロネート、
ジ−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)−マロネート。
ト、例えばジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ
−第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネー
ト、ジ−オクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)−マロネート、ジ−ド
デシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロネート、
ジ−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)−マロネート。
【0091】1.8. ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラ
メチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール。
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメ
チルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラ
メチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール。
【0092】1.9. トリアジン化合物、例えば、
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6
−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシベンジル)−イソシアヌレート。
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6
−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第
三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,
3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシベンジル)−イソシアヌレート。
【0093】1.10. べンジルホスホネート、例え
ばジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのCa塩。
ばジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸モノエチルエステルのCa塩。
【0094】1.11. アシルアミノフェノール、例
えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
4−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸N−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)オクチルエ
ステル。
えばラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸
4−ヒドロキシアニリド、カルバミン酸N−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)オクチルエ
ステル。
【0095】1.12. β−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,
N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3
−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,
N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3
−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、ト
リメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、
4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0096】1.13. β−(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えば、メ
タノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0097】1.14. β−(3,5−ジ−シクロヘ
キシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
キシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル、例えばメタ
ノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミ
ド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノー
ル、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロ
パン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,
7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0098】1.15. 3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、例えば、メタノール、エタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
【0099】1.16. β−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、
例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、
例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
【0100】2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. 2−( 2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール 、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル) フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチ
ル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第二ブチル−
5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクト
キシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’
−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメ
チルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール;2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキ
シ−5’−(2’−オクチルオキシカルボニルエチル)
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシ
ルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−
第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシ
カルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリ
アゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ
−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−
ヒドロキシ−5’−(2−オクトキシカルボニルエチ
ル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三
ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カ
ルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3−ドデシル−2’−ヒドロキシ
−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、および
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、2,2’−メチレン−ビ
ス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6
−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール];2−
[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニル
エチル)−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール300とのエステル交換
生成物;[R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −]
2 −(式中,R=3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ
−5’−2H−べンゾトリアゾール−2−イル−フェニ
ルである。)。
リアゾール 、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル) フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,
5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチ
ル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−第二ブチル−
5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクト
キシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’
−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメ
チルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール;2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキ
シ−5’−(2’−オクチルオキシカルボニルエチル)
フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシ
ルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3’−
第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシ
カルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリ
アゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ
−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−
ヒドロキシ−5’−(2−オクトキシカルボニルエチ
ル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三
ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カ
ルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾ
トリアゾール、2−(3−ドデシル−2’−ヒドロキシ
−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、および
2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル
ベンゾトリアゾールの混合物、2,2’−メチレン−ビ
ス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6
−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール];2−
[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニル
エチル)−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール300とのエステル交換
生成物;[R−CH2 CH2 −COO(CH2 )3 −]
2 −(式中,R=3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシ
−5’−2H−べンゾトリアゾール−2−イル−フェニ
ルである。)。
【0101】2.2. 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−または2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキ
シ誘導体。
ン、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−または2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキ
シ誘導体。
【0102】2.3. 置換されたおよび非置換安息香
酸のエステル、例えば4−第三ブチルフェニル=サリチ
レート、フェニル=サリチレート、オクチルフェニル=
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4
−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェニル=
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル=3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル=3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−
4,6−ジ第三ブチルフェニル=3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート。
酸のエステル、例えば4−第三ブチルフェニル=サリチ
レート、フェニル=サリチレート、オクチルフェニル=
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4
−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフェニル=
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、ヘキサデシル=3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエート、オクタデシル=3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−
4,6−ジ第三ブチルフェニル=3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0103】2.4. アクリレート、例えばエチルα
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシ
シンナメート、およびN−(β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −2−メチルインドリン。
−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、イソオ
クチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレー
ト、メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチル
α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シ
ンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシ
シンナメート、およびN−(β−カルボメトキシ−β−
シアノビニル) −2−メチルインドリン。
【0104】2.5. ニッケル化合物,例えば2,
2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル) −フェノール]のニッケル錯体,例えば1:
1または1:2錯体であって,所望によりn−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、2−ヒドロキシ−4
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって,所望により他の配位
子を伴うもの。
2′−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチ
ルブチル) −フェノール]のニッケル錯体,例えば1:
1または1:2錯体であって,所望によりn−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシ
ル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノ
アルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステル
のニッケル塩、ケトキシム例えば、2−ヒドロキシ−4
−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯
体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピ
ラゾールのニッケル錯体であって,所望により他の配位
子を伴うもの。
【0105】2.6. 立体障害性アミン、例えばビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケー
ト、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)
サクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチ
ルピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−
トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン),4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチル−ベンジル)マロネー
ト、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル
−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,
4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル)サクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジ
アミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,
5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−
ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオン。
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケー
ト、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)
サクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチ
ルピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−
(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−
トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキ
シレート、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン),4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−第三ブチル−ベンジル)マロネー
ト、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル
−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,
4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−
オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル)サクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジ
アミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,
5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−
ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)−ピロリジン−2,5−ジオン。
【0106】2.7. シュウ酸ジアミド、例えば4,
4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジ
−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−
2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物,o−およびp−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびo−およびp−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。
4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジ
−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチル
オキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプ
ロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−
2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物,o−およびp−メトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物およびo−およびp−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。
【0107】2.8. 2−(2−ヒドロキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−ト
リス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン。 2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブ
チルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリア
ジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−
3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジン。
ル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−ト
リス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4
−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−
ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン。 2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブ
チルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビ
ス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリア
ジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−
3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジン。
【0108】3. 金属不活性化剤,例えばN,N′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、N,N’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジ
ン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラジド、オキ
サニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ
ス−フェニルヒドラジド、N,N’−ジアセタール−ア
ジピン酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイル
−シュウ酸ジヒドラジド、N,N’−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【0109】4. ホスフィットおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−4−
メチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィット ビス(2,4,6−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル)−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,
4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンズ
[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フ
ルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12
−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサ
ホスホシン、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチ
ルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−
第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィッ
ト。
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトール
ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−4−
メチルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニル)−ペンタエリトリトールジホスフィット ビス(2,4,6−トリ−第三ブチル−ブチルフェニ
ル)−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステ
アリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス
(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4′−ビフェ
ニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,
4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンズ
[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フ
ルオロ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12
−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサ
ホスホシン、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチ
ルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ−
第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィッ
ト。
【0110】5. 過酸化物スカベンジャー、例えばβ
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネ
ート。
−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸
亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネ
ート。
【0111】6. ポリアミド安定剤、例えばヨウ化物
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【0112】7. 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ca塩、ステアリン酸Zn塩、ベヘン酸Mg塩、ステ
アリン酸Mg塩、リシノール酸Na塩およびパルミチン
酸K塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸Ca塩、ステアリン酸Zn塩、ベヘン酸Mg塩、ステ
アリン酸Mg塩、リシノール酸Na塩およびパルミチン
酸K塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫
塩。
【0113】8. 核剤、例えば4−第三ブチル安息香
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【0114】9. 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
ルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
【0115】10. その他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。
剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および
発泡剤。
【0116】11. ベンゾフラノンまたはインドリノン、
例えば米国特許4325863号明細書、米国特許43
38244号明細書または米国特許5175312号明
細書に記載されているものまたは3−[4−(2−アセ
トキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ−第三ブチル
−ベンゾフラノ−2−オン、5,7−ジ−第三ブチル−
3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニ
ル]ベンゾフラノ−2−オン、3,3’−ビス[5,7
−ジ−第三ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキ
シ]フェニル)ベンゾフラノ−2−オン]、5,7−ジ
−第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフ
ラノ−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメ
チルフェニル)−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラ
ノ−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイ
ルオキシフェニル)−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−2−オン。
例えば米国特許4325863号明細書、米国特許43
38244号明細書または米国特許5175312号明
細書に記載されているものまたは3−[4−(2−アセ
トキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ−第三ブチル
−ベンゾフラノ−2−オン、5,7−ジ−第三ブチル−
3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニ
ル]ベンゾフラノ−2−オン、3,3’−ビス[5,7
−ジ−第三ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキ
シ]フェニル)ベンゾフラノ−2−オン]、5,7−ジ
−第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフ
ラノ−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメ
チルフェニル)−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラ
ノ−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイ
ルオキシフェニル)−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾ
フラノ−2−オン。
【0117】上記第11項に挙げたベンゾフラノンを除
く補助安定剤は代表的には安定化される材料の総重量に
基づき0.01ないし10重量%の濃度で添加される。
く補助安定剤は代表的には安定化される材料の総重量に
基づき0.01ないし10重量%の濃度で添加される。
【0118】さらに好ましい組成物は、成分(a)およ
び式Iで表されるオリゴマー化合物に加えて、さらに別
の化合物、特にフェノール系酸化防止剤、光安定剤およ
び/または加工安定剤を含む。
び式Iで表されるオリゴマー化合物に加えて、さらに別
の化合物、特にフェノール系酸化防止剤、光安定剤およ
び/または加工安定剤を含む。
【0119】特に好ましい添加剤はフェノール系酸化防
止剤(上記一覧第1項)、立体障害性アミン(上記一覧
第2.6項)、ホスフィットおよびホスホナイト(上記
一覧第4項)および過酸化物スカベンジャー(上記一覧
第5項)である。
止剤(上記一覧第1項)、立体障害性アミン(上記一覧
第2.6項)、ホスフィットおよびホスホナイト(上記
一覧第4項)および過酸化物スカベンジャー(上記一覧
第5項)である。
【0120】とりわけ好ましい追加の添加剤(安定剤)
は特に米国特許4325863号明細書、米国特許43
38244号明細書または米国特許5175312号明
細書に記載されたベンゾフラノ−2−オンである。
は特に米国特許4325863号明細書、米国特許43
38244号明細書または米国特許5175312号明
細書に記載されたベンゾフラノ−2−オンである。
【0121】このようなベンゾフラノ−2−オンの実例
は、式:
は、式:
【化21】 {式中、R11はフェニル基、または合わせて18個以下
の炭素原子を含む1ないし3個のアルキル基によって置
換されるフェニル基、1ないし12個の炭素原子のアル
コキシ基、2ないし18個の炭素原子のアルコキシカル
ボニル基または塩素原子を表し;R12は水素原子を表
し;R14は水素原子、1ないし12個の炭素原子のアル
キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基または塩
素原子を表し;R13はR12またはR14の意味を有するか
あるいは式:
の炭素原子を含む1ないし3個のアルキル基によって置
換されるフェニル基、1ないし12個の炭素原子のアル
コキシ基、2ないし18個の炭素原子のアルコキシカル
ボニル基または塩素原子を表し;R12は水素原子を表
し;R14は水素原子、1ないし12個の炭素原子のアル
キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基または塩
素原子を表し;R13はR12またはR14の意味を有するか
あるいは式:
【化22】 〔式中、R16は水素原子、1ないし18の炭素原子のア
ルキル基、酸素原子または硫黄原子により中断された2
ないし18の炭素原子のアルキル基、全部で3ないし1
6の炭素原子のジアルキルアミノアルキル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基または合わせ
て18個以下の炭素原子を含む1ないし3個のアルキル
基によって置換されるフェニル基を表し;sは0,1ま
たは2を表し;置換基R17はおのおの互いに独立して1
ないし18個の炭素原子のアルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、フェニル基または合わせて16
個以下の炭素原子を含む1ないし2個のアルキル基によ
って置換されるフェニル基、式:
ルキル基、酸素原子または硫黄原子により中断された2
ないし18の炭素原子のアルキル基、全部で3ないし1
6の炭素原子のジアルキルアミノアルキル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基または合わせ
て18個以下の炭素原子を含む1ないし3個のアルキル
基によって置換されるフェニル基を表し;sは0,1ま
たは2を表し;置換基R17はおのおの互いに独立して1
ないし18個の炭素原子のアルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、フェニル基または合わせて16
個以下の炭素原子を含む1ないし2個のアルキル基によ
って置換されるフェニル基、式:
【化23】 (基中、tは1ないし18を表し;R20は水素原子、1
ないし22個の炭素原子のアルキル基または5ないし1
2個の炭素原子のシクロアルキル基を表す。)で表され
る基を表すか、あるいは窒素原子と一緒に結合して、ピ
ペリジノ基またはモルホリノ基を形成し;Aは窒素原
子、酸素原子または硫黄原子によって中断されてもよい
2ないし22個の炭素原子のアルキレン基を表し;R18
は水素原子、1ないし18個のアルキル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、フェニル基、合わせて16
個以下の炭素原子を含む1ないし2個のアルキル基によ
って置換されるフェニル基またはベンジル基を表し;R
19は1ないし18個の炭素原子のアルキル基を表し;D
は−O−、−S−、−SO−、−SO2 −または−C
(R21)2 −(基中、置換基R21はおのおの互いに独立
して、水素原子、16個以下の炭素原子のアルキル基、
フェニル基または式:
ないし22個の炭素原子のアルキル基または5ないし1
2個の炭素原子のシクロアルキル基を表す。)で表され
る基を表すか、あるいは窒素原子と一緒に結合して、ピ
ペリジノ基またはモルホリノ基を形成し;Aは窒素原
子、酸素原子または硫黄原子によって中断されてもよい
2ないし22個の炭素原子のアルキレン基を表し;R18
は水素原子、1ないし18個のアルキル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、フェニル基、合わせて16
個以下の炭素原子を含む1ないし2個のアルキル基によ
って置換されるフェニル基またはベンジル基を表し;R
19は1ないし18個の炭素原子のアルキル基を表し;D
は−O−、−S−、−SO−、−SO2 −または−C
(R21)2 −(基中、置換基R21はおのおの互いに独立
して、水素原子、16個以下の炭素原子のアルキル基、
フェニル基または式:
【化24】 で表される基を表し、s、R16およびR17は上述の意味
を表す。)を表し;Eは式:
を表す。)を表し;Eは式:
【化25】 (基中、R11、R12およびR14は上述の意味を表す。〕
で表される基を表し;R15は水素原子、1ないし20個
の炭素原子のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、塩素原子または式:
で表される基を表し;R15は水素原子、1ないし20個
の炭素原子のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、塩素原子または式:
【化26】 (R16およびR17は上述の意味を表す。)で表される基
を表すか、またはR15はR14と一緒になってテトラメチ
レン基を表す。}で表される化合物である。
を表すか、またはR15はR14と一緒になってテトラメチ
レン基を表す。}で表される化合物である。
【0122】好ましいベンゾフラノ−2−オンは、式
中、R13が水素原子、1ないし12個の炭素原子のアル
キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素原
子または式:
中、R13が水素原子、1ないし12個の炭素原子のアル
キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素原
子または式:
【化27】 (式中、s、R16、R17、DおよびEは上述の意味を表
し、R16は好ましくは水素原子、1ないし18の炭素原
子のアルキル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシ
ル基を表す。)で表される基を表すものである。
し、R16は好ましくは水素原子、1ないし18の炭素原
子のアルキル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシ
ル基を表す。)で表される基を表すものである。
【0123】さらに好ましいベンゾフラノ−2−オン
は、式中、R11がフェニル基または合わせて12個以下
の炭素原子を含む1ないし2個のアルキルにより置換さ
れたフェニル基を表し;R12が水素原子を表し;R14が
水素原子または1ないし12の炭素原子のアルキル基を
表し;R13が水素原子、1ないし12個の炭素原子のア
ルキル基、基:
は、式中、R11がフェニル基または合わせて12個以下
の炭素原子を含む1ないし2個のアルキルにより置換さ
れたフェニル基を表し;R12が水素原子を表し;R14が
水素原子または1ないし12の炭素原子のアルキル基を
表し;R13が水素原子、1ないし12個の炭素原子のア
ルキル基、基:
【化28】 を表し;R15が水素原子、1ないし20の炭素原子のア
ルキル基、基
ルキル基、基
【化29】 (式中、s、R16、R17、DおよびEは最初に定義した
意味を表す。)を表すか、あるいはR15はR14と一緒に
なってテトラメチレン基を形成する、ものである。
意味を表す。)を表すか、あるいはR15はR14と一緒に
なってテトラメチレン基を形成する、ものである。
【0124】特別に重要なベンゾフラノ−2−オンはま
たは、式中、R11がフェニル基を表し、R13は水素原
子、1ないし12個のアルキル基または基:−D−E
(基中、DおよびEは最初に定義した意味を表す。)を
表し;およびR12およびR14はおのおの互いに独立して
水素原子または1ないし4個の炭素原子のアルキル基を
表し;およびR15は1ないし20個のアルキル基を表す
ものである。
たは、式中、R11がフェニル基を表し、R13は水素原
子、1ないし12個のアルキル基または基:−D−E
(基中、DおよびEは最初に定義した意味を表す。)を
表し;およびR12およびR14はおのおの互いに独立して
水素原子または1ないし4個の炭素原子のアルキル基を
表し;およびR15は1ないし20個のアルキル基を表す
ものである。
【0125】最後に、R11がフェニル基を表し、R13が
1ないし4個の炭素原子のアルキル基または基:−D−
Eを表し;R12およびR14は水素原子を表し;およびR
15は1ないし4個の炭素原子のアルキル基、シクロペン
チル基またはシクロヘキシル基を表し;ならびにDは−
C(R21)2 −(基中、R21は同じかまたは異なってお
のおの1ないし4の炭素原子のアルキル基を表す。)を
表し;ならびにEは式:
1ないし4個の炭素原子のアルキル基または基:−D−
Eを表し;R12およびR14は水素原子を表し;およびR
15は1ないし4個の炭素原子のアルキル基、シクロペン
チル基またはシクロヘキシル基を表し;ならびにDは−
C(R21)2 −(基中、R21は同じかまたは異なってお
のおの1ないし4の炭素原子のアルキル基を表す。)を
表し;ならびにEは式:
【化30】 (基中、R11、R12、R14およびR15は上記した意味を
表す。)で表される基を表すこれらのベンゾフラノ−2
−オンが特に言及に値するものである。
表す。)で表される基を表すこれらのベンゾフラノ−2
−オンが特に言及に値するものである。
【0126】追加のベンゾフラノ−2−オンの量は非常
に広い範囲で変化できる。本発明の組成物は代表的には
該添加剤0.0001ないし5重量%、好ましくは0.
001ないし2重量%、最も好ましくは0.01ないし
2重量%を含むことができる。
に広い範囲で変化できる。本発明の組成物は代表的には
該添加剤0.0001ないし5重量%、好ましくは0.
001ないし2重量%、最も好ましくは0.01ないし
2重量%を含むことができる。
【0127】式Iで表される化合物および他の任意の添
加剤は、都合よくは成形品に成形する前または成形中に
公知の方法によって、あるいは、そうでなければ化合物
の溶液または分散剤で有機ポリマーに塗布し、続いて溶
媒を蒸発させることにより有機材料中へ添合される。式
Iで表されるオリゴマー化合物はまた、これらの化合物
を代表的には2.5ないし25重量%の濃度で含むマス
ターバッチの形態で安定化される材料に、添加できる。
加剤は、都合よくは成形品に成形する前または成形中に
公知の方法によって、あるいは、そうでなければ化合物
の溶液または分散剤で有機ポリマーに塗布し、続いて溶
媒を蒸発させることにより有機材料中へ添合される。式
Iで表されるオリゴマー化合物はまた、これらの化合物
を代表的には2.5ないし25重量%の濃度で含むマス
ターバッチの形態で安定化される材料に、添加できる。
【0128】式Iのオリゴマー化合物はまた重合の前も
しくは最中に、または架橋の前に添加することも可能で
ある。
しくは最中に、または架橋の前に添加することも可能で
ある。
【0129】式Iのオリゴマー化合物は純粋な形態また
はワックス状、油状もしくはポリマー封入の形態で安定
化される材料中に混合できる。
はワックス状、油状もしくはポリマー封入の形態で安定
化される材料中に混合できる。
【0130】式Iのオリゴマー化合物は安定化されるポ
リマー上に噴霧することもできる。これらは他の添加
剤、(例えば、上述した慣用の添加剤またはそれらの融
解物)を希釈できるので、これらはまたこれらの添加剤
と一緒に安定化されるポリマーに噴霧できる。重合触媒
の失活の間の噴霧による添加は特に有利である。その場
合、噴霧は失活のために使用される蒸気によって都合良
く行われる。
リマー上に噴霧することもできる。これらは他の添加
剤、(例えば、上述した慣用の添加剤またはそれらの融
解物)を希釈できるので、これらはまたこれらの添加剤
と一緒に安定化されるポリマーに噴霧できる。重合触媒
の失活の間の噴霧による添加は特に有利である。その場
合、噴霧は失活のために使用される蒸気によって都合良
く行われる。
【0131】粒状重合ポリオレフィンに対する場合に
は、他の添加剤と共にまたはなしで式Iで表されるオリ
ゴマー化合物を噴霧することは有利である。
は、他の添加剤と共にまたはなしで式Iで表されるオリ
ゴマー化合物を噴霧することは有利である。
【0132】安定化された材料は例えば、シート、繊
維、リボン、成形品、形材として、または塗料、接着剤
またはセメントのための結合剤のようないかなる提示形
態も取ることができる。
維、リボン、成形品、形材として、または塗料、接着剤
またはセメントのための結合剤のようないかなる提示形
態も取ることができる。
【0133】既に強調したように、保護されるべき有機
材料は好ましくは、有機の、さらに特には合成の、ポリ
マーである。熱可塑性ポリマー、好ましくはポリオレフ
ィンを保護することは特に有益である。これに関して
は、加工安定剤(加熱安定剤)としての式Iで表される
オリゴマー化合物の優れた作用は際立っている。このた
め、式Iの化合物は都合良くはポリマーの加工の前また
は最中に添加される。しかし、光誘起および/または
熱、酸化的崩壊のような崩壊に対して、他のポリマー
(例えばエラストマー)または潤滑剤および圧媒液を安
定することもまた可能である。エラストマーの例は可能
な有機材料の上記一覧の中から見出されるであろう。
材料は好ましくは、有機の、さらに特には合成の、ポリ
マーである。熱可塑性ポリマー、好ましくはポリオレフ
ィンを保護することは特に有益である。これに関して
は、加工安定剤(加熱安定剤)としての式Iで表される
オリゴマー化合物の優れた作用は際立っている。このた
め、式Iの化合物は都合良くはポリマーの加工の前また
は最中に添加される。しかし、光誘起および/または
熱、酸化的崩壊のような崩壊に対して、他のポリマー
(例えばエラストマー)または潤滑剤および圧媒液を安
定することもまた可能である。エラストマーの例は可能
な有機材料の上記一覧の中から見出されるであろう。
【0134】適当な潤滑剤および圧媒液は、例えば鉱油
または合成油またはそれらの混合物をベースにできる。
潤滑剤は当業者には良く知られており、そして関連する
技術文献例えばディーター クラマン(Dieter Klaman
n)著,“潤滑剤および関連製品(Schmierstoff und ve
rwandte Produkte )”〔フェルラーク ヒェミー(Ver
lag Chemie ),ヴァインハイム(Weinheim)198
2〕、シェーヴェ−コーベック(Schewe-Kobek)著,
“潤滑剤ハンドブック(Das Schmiermittel-Taschenbuc
h )”〔ドクター アルフフレット ヒューティッヒ−
フェルラーク(Dr. Alfred Huethig-Verlag )197
4〕および“ウルマン工業化学大辞典(UllmannsEnzykl
opaedie technischen Chemie )”,第13巻,第85
−94頁(フェルラーク ヒェミー,ヴァインハイム1
977)に記載されている。
または合成油またはそれらの混合物をベースにできる。
潤滑剤は当業者には良く知られており、そして関連する
技術文献例えばディーター クラマン(Dieter Klaman
n)著,“潤滑剤および関連製品(Schmierstoff und ve
rwandte Produkte )”〔フェルラーク ヒェミー(Ver
lag Chemie ),ヴァインハイム(Weinheim)198
2〕、シェーヴェ−コーベック(Schewe-Kobek)著,
“潤滑剤ハンドブック(Das Schmiermittel-Taschenbuc
h )”〔ドクター アルフフレット ヒューティッヒ−
フェルラーク(Dr. Alfred Huethig-Verlag )197
4〕および“ウルマン工業化学大辞典(UllmannsEnzykl
opaedie technischen Chemie )”,第13巻,第85
−94頁(フェルラーク ヒェミー,ヴァインハイム1
977)に記載されている。
【0135】好ましい本発明の具体例はこのため、酸
化、熱または光誘起的崩壊に対するポリマーの安定化の
ための式Iで表されるオリゴマー化合物の使用である。
化、熱または光誘起的崩壊に対するポリマーの安定化の
ための式Iで表されるオリゴマー化合物の使用である。
【0136】本発明はさらに、式Iで表されるオリゴマ
ー化合物の少なくとも1種を酸化、熱または光誘起的崩
壊に対する有機材料中への混合または該材料への適用す
ることからなる、酸化、熱または光誘起的崩壊に対する
有機材料の安定化のための方法にも関する。
ー化合物の少なくとも1種を酸化、熱または光誘起的崩
壊に対する有機材料中への混合または該材料への適用す
ることからなる、酸化、熱または光誘起的崩壊に対する
有機材料の安定化のための方法にも関する。
【0137】
【実施例】本発明は、以下の実施例によってさらに詳細
に説明される。実施例中、部および%は重量に基づく。
に説明される。実施例中、部および%は重量に基づく。
【0138】実施例1:オリゴマー化合物(101)の
製造(表1) a)三塩化リン42.9g(0.31mol)を50℃
に保った2,4−ジ−第三ブチル−6−メチル−フェノ
ール52.9g(0.24mol)およびジメチルアミ
ノピリジン580mg(4.8mmol)の溶融物に滴
下する。約1時間後反応混合物を100℃に加熱し、そ
してこの温度でさらに3時間攪拌する。過剰の三塩化リ
ンをロータリーエバポレーターで留去し、そして残渣を
高真空で蒸留し、沸点95℃/0.03mbarの無色
の油として2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニ
ルホスホロジクロリダイト70.0g)(91%)を得
る。 分析: 計算値:C 56.09%、H 7.22%、Cl 2
2.07% 実測値:C 56.37%、H 7.20%、Cl 2
1.97%31 P−NMR(145.785MHz,CDCl3 ):
162.661ppm
製造(表1) a)三塩化リン42.9g(0.31mol)を50℃
に保った2,4−ジ−第三ブチル−6−メチル−フェノ
ール52.9g(0.24mol)およびジメチルアミ
ノピリジン580mg(4.8mmol)の溶融物に滴
下する。約1時間後反応混合物を100℃に加熱し、そ
してこの温度でさらに3時間攪拌する。過剰の三塩化リ
ンをロータリーエバポレーターで留去し、そして残渣を
高真空で蒸留し、沸点95℃/0.03mbarの無色
の油として2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニ
ルホスホロジクロリダイト70.0g)(91%)を得
る。 分析: 計算値:C 56.09%、H 7.22%、Cl 2
2.07% 実測値:C 56.37%、H 7.20%、Cl 2
1.97%31 P−NMR(145.785MHz,CDCl3 ):
162.661ppm
【0139】b)テトラヒドロフラン160ml中のN
−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン7.19g(36mm
ol;1.7当量)の溶液をテトラヒドロフラン5ml
中の2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニルホス
ホロジクロリダイト(実施例1a)6.73g(21.
0mmol)およびトリエチルアミン6.4ml(46
mmol:2.2当量)の窒素下で、攪拌した溶液に1
0℃で、滴下で添加する。反応混合物を次に55ないし
60℃で3時間攪拌する。白色懸濁物をセライトを通し
てろ過し、ろ液を減圧ロータリーエバポレーターで濃縮
する。残渣をトルエンに溶解し、再びろ過する。トルエ
ンを減圧ロータリーエバポレータで取り除き、そして残
渣を高真空下で乾燥し、融点83ないし36℃のオリゴ
マー化合物(101)10.5g(77%)を得る。
−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン7.19g(36mm
ol;1.7当量)の溶液をテトラヒドロフラン5ml
中の2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニルホス
ホロジクロリダイト(実施例1a)6.73g(21.
0mmol)およびトリエチルアミン6.4ml(46
mmol:2.2当量)の窒素下で、攪拌した溶液に1
0℃で、滴下で添加する。反応混合物を次に55ないし
60℃で3時間攪拌する。白色懸濁物をセライトを通し
てろ過し、ろ液を減圧ロータリーエバポレーターで濃縮
する。残渣をトルエンに溶解し、再びろ過する。トルエ
ンを減圧ロータリーエバポレータで取り除き、そして残
渣を高真空下で乾燥し、融点83ないし36℃のオリゴ
マー化合物(101)10.5g(77%)を得る。
【0140】重量平均分子量Mwはゲル透過クロマトグ
ラフィー(GPC)によって測定され、数平均分子量M
nが得られる。有機材料(102)、(103)、(1
04)および(105)(表1)は実施例1bに記載さ
れた一般的手順に従って、相当するアリールジクロロホ
スフィットおよび市販のフェニルジクロロホスフィンか
ら製造される。
ラフィー(GPC)によって測定され、数平均分子量M
nが得られる。有機材料(102)、(103)、(1
04)および(105)(表1)は実施例1bに記載さ
れた一般的手順に従って、相当するアリールジクロロホ
スフィットおよび市販のフェニルジクロロホスフィンか
ら製造される。
【0141】実施例2:オリゴマー化合物(106)
(表1)の製造 実施例1bに記載した一般的手順に従って、2,4−ジ
−第三ブチル−6−メチルフェニルホスホロジクロリダ
イト(実施例1a)6.73g(21mmol)および
N−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン6.34g(3
1.5mmol;1.5当量)から、融点90−93℃
のオリゴマー化合物(106)(表1)9.3g(98
%)が得られる。
(表1)の製造 実施例1bに記載した一般的手順に従って、2,4−ジ
−第三ブチル−6−メチルフェニルホスホロジクロリダ
イト(実施例1a)6.73g(21mmol)および
N−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン6.34g(3
1.5mmol;1.5当量)から、融点90−93℃
のオリゴマー化合物(106)(表1)9.3g(98
%)が得られる。
【0142】実施例3:オリゴマー化合物(107)
(表1)の製造 実施例1bに記載した一般的手段に従って、2,4−ジ
−第三ブチル−6−メチルフェニルホスホロジクロリダ
イト(実施例1a)6.73g(21mmol)および
N−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン5.5g(27.
3mmol;1.3当量)から、融点92−96℃のオ
リゴマー化合物(107)(表1)8.6g(91%)
が得られる。
(表1)の製造 実施例1bに記載した一般的手段に従って、2,4−ジ
−第三ブチル−6−メチルフェニルホスホロジクロリダ
イト(実施例1a)6.73g(21mmol)および
N−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン5.5g(27.
3mmol;1.3当量)から、融点92−96℃のオ
リゴマー化合物(107)(表1)8.6g(91%)
が得られる。
【0143】実施例4:オリゴマー化合物(108)
(表1)の製造 実施例1bに記載した一般的手順に従って、2,4−ジ
−第三ブチル−6−メチルフェニルホスホロジクロリダ
イト(実施例1a)6.73g(21mmol)および
N−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン4.65g(23
mmol;1.1当量)から、融点92−95℃のオリ
ゴマー化合物(108)(表1)8.5g(90%)が
得られる。
(表1)の製造 実施例1bに記載した一般的手順に従って、2,4−ジ
−第三ブチル−6−メチルフェニルホスホロジクロリダ
イト(実施例1a)6.73g(21mmol)および
N−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン4.65g(23
mmol;1.1当量)から、融点92−95℃のオリ
ゴマー化合物(108)(表1)8.5g(90%)が
得られる。
【0144】実施例5:オリゴマー化合物(109)
(表1)の製造 トルエン10ml中の2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニルホスホロジクロリダイト(実施例1a)
6.73g(21mmol)溶液を、トルエン80ml
中のN−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン7.19g
(36mmol;1.7当量)およびトリエチルアミン
5.1g(50mmol;2.5当量)の、窒素下で、
攪拌された白色懸濁液に10℃で、滴下で加える。反応
混合物を次に3時間、95ないし100℃の温度で激し
く攪拌する。室温に冷却したのち、濃厚な懸濁物をセラ
イト上でろ過し、減圧ロータリーエバポレーターで濃縮
する。残渣を高真空下で乾燥し、融点95ないし99℃
のオリゴマー化合物(109)(表1)9.5g(75
%)が得られる。オリゴマー化合物(110),(11
1),(112)および(113)(表1)は相当する
アリールジクロロホスフィットおよびジクロロホスフィ
ンからこの実施例に記載された一般的な手順に従って製
造される。
(表1)の製造 トルエン10ml中の2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニルホスホロジクロリダイト(実施例1a)
6.73g(21mmol)溶液を、トルエン80ml
中のN−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン7.19g
(36mmol;1.7当量)およびトリエチルアミン
5.1g(50mmol;2.5当量)の、窒素下で、
攪拌された白色懸濁液に10℃で、滴下で加える。反応
混合物を次に3時間、95ないし100℃の温度で激し
く攪拌する。室温に冷却したのち、濃厚な懸濁物をセラ
イト上でろ過し、減圧ロータリーエバポレーターで濃縮
する。残渣を高真空下で乾燥し、融点95ないし99℃
のオリゴマー化合物(109)(表1)9.5g(75
%)が得られる。オリゴマー化合物(110),(11
1),(112)および(113)(表1)は相当する
アリールジクロロホスフィットおよびジクロロホスフィ
ンからこの実施例に記載された一般的な手順に従って製
造される。
【0145】実施例6:オリゴマー化合物(114)
(表1)の製造 キシレン10ml中の2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニルホスホロジクロリダイト(実施例1a)
9.64g(30mmol)を、キシレン170ml中
のN−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン10.98g(5
1mmol;1.7当量)およびトリエチルアミン7.
59g(75mmol;2.5当量)の、窒素下で、攪
拌された懸濁液に室温で、滴下で加える。反応混合物を
次に5時間、130℃で攪拌する。室温に冷却したの
ち、濃厚な懸濁物をセライト上でろ過し、減圧ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。残渣を高真空下で乾燥
し、融点55ないし72℃のオリゴマー化合物(11
4)(表1)16.9g(92%)が得られる。
(表1)の製造 キシレン10ml中の2,4−ジ−第三ブチル−6−メ
チルフェニルホスホロジクロリダイト(実施例1a)
9.64g(30mmol)を、キシレン170ml中
のN−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン10.98g(5
1mmol;1.7当量)およびトリエチルアミン7.
59g(75mmol;2.5当量)の、窒素下で、攪
拌された懸濁液に室温で、滴下で加える。反応混合物を
次に5時間、130℃で攪拌する。室温に冷却したの
ち、濃厚な懸濁物をセライト上でろ過し、減圧ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。残渣を高真空下で乾燥
し、融点55ないし72℃のオリゴマー化合物(11
4)(表1)16.9g(92%)が得られる。
【0146】実施例7:オリゴマー化合物(115)
(表1)の製造 a)2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェノール4
4.07g(0.20mol)、ジメチルアミノピリジ
ン0.49g(4.0mmol)およびトルエン44m
lを、窒素下で、温度計、スターラー、還流冷却器およ
び滴下ロートを備えた200mlスルホン化フラスコに
入れる。反応混合物を50℃に加熱し、この温度で三塩
化リン35.7g(0.26mol;1.3当量)を滴
下で20分間に渡り添加する。発生した気体塩酸を水酸
化ナトリウムの10%水溶液で中和する。反応混合物を
その後105℃に95分間加熱し、さらにこの温度で3
0分間攪拌する(気体塩酸の発生の目的)。窒素の緩や
かな流れの下で攪拌を105℃でさらに60分間続け
る。溶液をトルエン20mlと共に蒸留する。過剰の三
塩化リン酸およびトルエン約20mlが蒸留によって除
去される。
(表1)の製造 a)2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェノール4
4.07g(0.20mol)、ジメチルアミノピリジ
ン0.49g(4.0mmol)およびトルエン44m
lを、窒素下で、温度計、スターラー、還流冷却器およ
び滴下ロートを備えた200mlスルホン化フラスコに
入れる。反応混合物を50℃に加熱し、この温度で三塩
化リン35.7g(0.26mol;1.3当量)を滴
下で20分間に渡り添加する。発生した気体塩酸を水酸
化ナトリウムの10%水溶液で中和する。反応混合物を
その後105℃に95分間加熱し、さらにこの温度で3
0分間攪拌する(気体塩酸の発生の目的)。窒素の緩や
かな流れの下で攪拌を105℃でさらに60分間続け
る。溶液をトルエン20mlと共に蒸留する。過剰の三
塩化リン酸およびトルエン約20mlが蒸留によって除
去される。
【0147】b)N−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒ
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン6
8.45g(0.34mol;1.7当量)、トリエチ
ルアミン46.5g(0.46mol;2.3当量)お
よびトルエン1000mlを窒素下で1.5リットルの
スルホン化フラスコに入れる。上記に記載したa)の溶
液を室温で45分間かけて、得られた懸濁物に滴下で加
える。濃厚懸濁物を次に105℃に加熱しそしてさらに
この温度で3.5時間攪拌する。反応混合物を室温に冷
却し、そしてセライトでろ過する。ろ液を減圧ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。残渣を高真空で乾燥し、
融点98ないし99℃の白色粉体としてオリゴマー化合
物(115)82.5g(70%)が得られる。
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン6
8.45g(0.34mol;1.7当量)、トリエチ
ルアミン46.5g(0.46mol;2.3当量)お
よびトルエン1000mlを窒素下で1.5リットルの
スルホン化フラスコに入れる。上記に記載したa)の溶
液を室温で45分間かけて、得られた懸濁物に滴下で加
える。濃厚懸濁物を次に105℃に加熱しそしてさらに
この温度で3.5時間攪拌する。反応混合物を室温に冷
却し、そしてセライトでろ過する。ろ液を減圧ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。残渣を高真空で乾燥し、
融点98ないし99℃の白色粉体としてオリゴマー化合
物(115)82.5g(70%)が得られる。
【0148】実施例7:オリゴマー化合物(116)
(表1)の製造 a)一般的な実施例7a)に記載した手順に従って、ト
ルエン33ml中の2,4−ジ−第三ブチル−6−メチ
ルフェノール33.05g(0.15mol)、三塩化
リン17.1ml(0.195mol)およびジメチル
アミノピリジン0.37g(3.0mmol)の反応に
より相当するジクロロホスフィット溶液が得られる。
(表1)の製造 a)一般的な実施例7a)に記載した手順に従って、ト
ルエン33ml中の2,4−ジ−第三ブチル−6−メチ
ルフェノール33.05g(0.15mol)、三塩化
リン17.1ml(0.195mol)およびジメチル
アミノピリジン0.37g(3.0mmol)の反応に
より相当するジクロロホスフィット溶液が得られる。
【0149】b)N−2’−ヒドロキシエチル−4−ヒ
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン7
1.3g(0.255mol)、トリエチルアミン17
0gおよびトルエン170mlを窒素下で750mlの
スルホン化フラスコに入れる。上記に記載したa)の溶
液を室温で45分間かけて、得られた懸濁物に滴下で加
える。濃厚懸濁物を次に100℃に加熱しそしてさらに
この温度で3.5時間攪拌する。反応混合物を室温に冷
却し、そしてセライトでろ過する。ろ液を減圧ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。残渣を高真空で乾燥し、
融点92ないし69℃の白色粉体としてオリゴマー化合
物(116)75.0g(85%)が得られる。
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン7
1.3g(0.255mol)、トリエチルアミン17
0gおよびトルエン170mlを窒素下で750mlの
スルホン化フラスコに入れる。上記に記載したa)の溶
液を室温で45分間かけて、得られた懸濁物に滴下で加
える。濃厚懸濁物を次に100℃に加熱しそしてさらに
この温度で3.5時間攪拌する。反応混合物を室温に冷
却し、そしてセライトでろ過する。ろ液を減圧ロータリ
ーエバポレーターで濃縮する。残渣を高真空で乾燥し、
融点92ないし69℃の白色粉体としてオリゴマー化合
物(116)75.0g(85%)が得られる。
【0150】本発明の化合物例の構造および性質を以下
の表1に示す。 表1:
の表1に示す。 表1:
【表1】 表1:(続き)
【表2】 表1:(続き)
【表3】 表1:(続き)
【表4】
【0151】実施例9:多重押出プロピレンの安定化 登録商標イルガノックス1076(Irganox)〔n−オク
タデシル(3−[3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル]プロピオネート)、230℃/2.16
kgで測定されたメルトインデックス3.2をもつ〕
0.025%で予め安定化されたポリプロピレン粉末
〔登録商標プロファックス(Profax)6501〕1.3
kgを、登録商標イルガノックス1010(Irganox)
〔ペンタエリトリトールテトラキス−[3−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート〕0.05%、ステアリン酸カルシウム0.05
%、ジヒドロタルサイト〔登録商標DHT 4A、Ky
owa化学工業(株)[Mg4.5 Al2 (OH)13CO
3 ・3.5H2 O]〕0.03%および表1の化合物
0.05%と混合する。混合物をシリンダ径20mmお
よび長さ400mmを有する押出機で、100rpm、
以下の温度に合わせた3加熱帯:260℃、270℃、
280℃で押し出す。押出物を水浴を通過させることに
より冷却し、次に粒状化する。粒状物を繰り返し押し出
す。3回の押出(230℃/2.16kgにおける)の
後メルトインデックスを測定する。メルトインデックス
の大きな増加は顕著な連鎖崩壊、即ち乏しい安定化を示
す。結果を表2にまとめる。 表2:
タデシル(3−[3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル]プロピオネート)、230℃/2.16
kgで測定されたメルトインデックス3.2をもつ〕
0.025%で予め安定化されたポリプロピレン粉末
〔登録商標プロファックス(Profax)6501〕1.3
kgを、登録商標イルガノックス1010(Irganox)
〔ペンタエリトリトールテトラキス−[3−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ
ート〕0.05%、ステアリン酸カルシウム0.05
%、ジヒドロタルサイト〔登録商標DHT 4A、Ky
owa化学工業(株)[Mg4.5 Al2 (OH)13CO
3 ・3.5H2 O]〕0.03%および表1の化合物
0.05%と混合する。混合物をシリンダ径20mmお
よび長さ400mmを有する押出機で、100rpm、
以下の温度に合わせた3加熱帯:260℃、270℃、
280℃で押し出す。押出物を水浴を通過させることに
より冷却し、次に粒状化する。粒状物を繰り返し押し出
す。3回の押出(230℃/2.16kgにおける)の
後メルトインデックスを測定する。メルトインデックス
の大きな増加は顕著な連鎖崩壊、即ち乏しい安定化を示
す。結果を表2にまとめる。 表2:
【0152】実施例10:多重押出プロピレンの安定化 登録商標イルガノックス1076(Irganox)〔n−オク
タデシル(3−[3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル]プロピオネート)、230℃/2.16
kgで測定されたメルトインデックス3.2をもつ〕
0.025%で予め安定化されたポリプロピレン粉末
〔登録商標プロファックス(Profax)6501〕1.3
kgを、登録商標イルガノックス1010(Irganox)
〔ペンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕0.05%、ステアリン酸カルシウム0.05%、
ジヒドロタルサイト〔登録商標DHT 4A、Kyow
a化学工業(株)[Mg4.5 Al2 (OH)13CO3 ・
3.5H2 O]〕0.03%および表1の化合物0.0
25%と混合する。混合物をシリンダ径20mmおよび
長さ400mmを有する押出機で、100rpm、以下
の温度に合わせた3加熱帯:260℃、270℃、28
0℃で押し出す。押出物を水浴を通過させることにより
冷却し、次に粒状化する。粒状物を繰り返し押し出す。
3回の押出(230℃/2.16kgにおける)の後メ
ルトインデックスを測定する。メルトインデックスの大
きな増加は顕著な連鎖崩壊、即ち乏しい安定化を示す。
結果を表3にまとめる。 表3:
タデシル(3−[3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル]プロピオネート)、230℃/2.16
kgで測定されたメルトインデックス3.2をもつ〕
0.025%で予め安定化されたポリプロピレン粉末
〔登録商標プロファックス(Profax)6501〕1.3
kgを、登録商標イルガノックス1010(Irganox)
〔ペンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕0.05%、ステアリン酸カルシウム0.05%、
ジヒドロタルサイト〔登録商標DHT 4A、Kyow
a化学工業(株)[Mg4.5 Al2 (OH)13CO3 ・
3.5H2 O]〕0.03%および表1の化合物0.0
25%と混合する。混合物をシリンダ径20mmおよび
長さ400mmを有する押出機で、100rpm、以下
の温度に合わせた3加熱帯:260℃、270℃、28
0℃で押し出す。押出物を水浴を通過させることにより
冷却し、次に粒状化する。粒状物を繰り返し押し出す。
3回の押出(230℃/2.16kgにおける)の後メ
ルトインデックスを測定する。メルトインデックスの大
きな増加は顕著な連鎖崩壊、即ち乏しい安定化を示す。
結果を表3にまとめる。 表3:
【0153】実施例11:加工中のポリエチレンの安定
化 ポリエチレン粉末〔登録商標ルポレン5260Z(Lupo
len)〕100部を登録商標イルガノックス1010〔ペ
ンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]〕0.05部、および実施例1の安定剤0.1部と
混合し、混合物をブラベンダープラストグラフを用いて
220℃および50rpmで混練する。この期間中、混
練に対する抵抗を連続的にトルクとして記録する。混練
中、ポリマーは長期間不変のままでその後、架橋を開始
し、それはトルクの迅速な増加により測定できる。表4
において、安定剤の作用の測定としてトルクの著しい増
加までの時間を示す。より長い時間が、より良好な安定
剤の効果である。 表4:
化 ポリエチレン粉末〔登録商標ルポレン5260Z(Lupo
len)〕100部を登録商標イルガノックス1010〔ペ
ンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]〕0.05部、および実施例1の安定剤0.1部と
混合し、混合物をブラベンダープラストグラフを用いて
220℃および50rpmで混練する。この期間中、混
練に対する抵抗を連続的にトルクとして記録する。混練
中、ポリマーは長期間不変のままでその後、架橋を開始
し、それはトルクの迅速な増加により測定できる。表4
において、安定剤の作用の測定としてトルクの著しい増
加までの時間を示す。より長い時間が、より良好な安定
剤の効果である。 表4:
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 85/02 LSB 7308−4J 101/00 LTA 7242−4J
Claims (16)
- 【請求項1】 次式I 【化1】 〔式中、Lは式: 【化2】 (基L中の酸素原子は構造反復単位中のリン原子と結合
し、そしてR5 または基L中のピペリジニル環の4−位
の炭素原子は構造反復単位中の酸素原子と結合する。)
で表される基を表し;R1 およびR2 はおのおの互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル
基、炭素原子数2ないし24のアルケニル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
た炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、未置換の
もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換され
たフェニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアル
キル基または−CH2 −S−R6 を表し;R3 は水素原
子またはメチル基を表し;R4 は水素原子、炭素原子数
1ないし25のアルキル基、炭素原子数2ないし24の
アルケニル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基で置換されたフェニル基、未置換のもしく
は炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素
原子数5ないし8のシクロアルケニル基;炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基、−CH2 −S−R6 、
−(CH2)p COOR7 または−(CH2)q OR8 を表
し;R5 は炭素原子数1ないし18のアルキレン基、酸
素原子、硫黄原子または基 【化3】 で中断された炭素原子数2ないし18のアルキレン基、
炭素原子数4ないし8のアルケニレン基またはフェニル
エチレン基を表し;R6 は炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のア
ルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4の
アルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ない
し9のフェニルアルキル基または−(CH2)r COOR
7 を表し;R7 は炭素原子数1ないし18のアルキル
基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキ
ル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基で置換されたフェニル基、または炭素原子数7ない
し9のフェニルアルキル基を表し;R8 は炭素原子数1
ないし25のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数
1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1
ないし25のアルカノイル基、炭素原子数3ないし25
のアルケノイル基、酸素原子、硫黄原子または基: 【化4】 で中断された炭素原子数2ないし25のアルカノイル
基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル
基、未置換のまたは炭素原子数1ないし12のアルキル
基で置換されたベンゾイル基;テノイル基またはフロイ
ル基を表し;R9 は水素原子または炭素原子数1ないし
8のアルキル基を表し;mは0または1を表し;nは2
ないし50の整数を表し;pは0,1または2を表し;
qは3ないし8の整数を表し;ならびにrは1または2
を表し;但し式Iの構造反復単位においてL、R1 、R
2 、R3、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 およびR9 な
いし指数m、p、qおよびrは同じであっても異なって
いてもよい。〕で表されるオリゴマー化合物。 - 【請求項2】 式中、R1 およびR2 はおのおの独立し
て水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭
素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、未置換のもしくは炭素原子
数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭
素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数
7ないし9のフェニルアルキル基または−CH2 −S−
R6 を表し;R4 は水素原子、炭素原子数1ないし18
のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル
基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、未置換
のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換さ
れたフェニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケ
ニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、
−CH2 −S−R6 、−(CH2)p COOR7 または−
(CH2)q OR8 を表し;R5 は炭素原子数1ないし1
2のアルキレン基、炭素原子数4ないし8のアルケニレ
ン基またはフェニルエチレン基を表し;R6 は炭素原子
数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5または12
のシクロアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1な
いし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子
数7ないし9のフェニルアルキル基または−(CH2)r
COOR7 を表し;R7 は炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル
基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換されたフェニル基、または炭素原子数7ないし
9のフェニルアルキル基を表し;R8 は炭素原子数1な
いし18のアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原
子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1な
いし18のアルカノイル基、炭素原子数3ないし18の
アルケノイル基、酸素原子、硫黄原子または基: 【化5】 で中断された炭素原子数2ないし18のアルカノイル
基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル
基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基で置換されたベンゾイル基を表し;R9 は水素原子ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;ならび
にnは2ないし40の整数を表す、請求項1に記載のオ
リゴマー化合物。 - 【請求項3】 R5 がエチレン基またはプロピレン基で
ある請求項1に記載のオリゴマー化合物。 - 【請求項4】 R1 およびR2 がおのおの互いに独立し
て水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し、およびR5 がエチレン基またはプロピレン基であ
る請求項1に記載のオリゴマー化合物。 - 【請求項5】 R1 およびR2 が互いに独立して水素原
子または炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原
子数2ないし12のアルケニル基、シクロヘキシル基、
フェニル基またはシクロヘキセニル基を表し;R4 が水
素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原
子数2ないし12のアルケニル基、シクロヘキシル基、
フェニル基、シクロヘキセニル基、ベンジル基、−CH
2 −S−R6 、−(CH2)p COOR7 または−(CH
2)q OR 8 を表し;R5 は炭素原子数1ないし8のアル
キレン基またはフェニルエチレン基を表し;R6 は炭素
原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし
8のシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基または
−(CH2)r COOR7 を表し;R7 は炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロ
アルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し;R8
は炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニル基、
ベンジル基、炭素原子数1ないし12のアルカノイル
基、酸素原子により中断された炭素原子数2ないし12
のアルカノイル基、シクロヘキシルカルボニル基または
ベンゾイル基を表し;nは2ないし30の整数を表し;
pは2を表し;qが3ないし6の整数を表し;およびr
は1を表す請求項1に記載のオリゴマー化合物。 - 【請求項6】 R1 およびR2 はおのおの互いに独立し
て水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シク
ロヘキシル基またはフェニル基を表し;R4 は水素原
子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシ
ル基または−(CH2)p COOR7 を表し;R5 はエチ
レン基、プロピレン基またはフェニルエチレン基を表
し;R7 は炭素原子数1ないし12のアルキル基または
ベンジル基を表し;nは2ないし20の整数を表し;お
よびpは2を表す請求項1に記載のオリゴマー化合物。 - 【請求項7】 R1 およびR2 がおのおの互いに独立し
て水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表し;R3 は水素原子を表し;R4 は水素原子、炭素原
子数1ないし4のアルキル基または−(CH2)p COO
R7 を表し;R5 はエチレン基またはプロピレン基を表
し;R7 は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
nが2ないし10の整数を表し;およびpが2を表す請
求項1に記載のオリゴマー化合物。 - 【請求項8】 a)酸化、熱および/または光誘起的崩
壊を受けやすい有機材料、および b)請求項1に記載の式Iで表されるオリゴマー化合物
の少なくとも1種からなる組成物。 - 【請求項9】 成分(a)および(b)に加えて別の添
加剤を含む請求項8に記載の組成物。 - 【請求項10】 別の添加剤が、フェノール系酸化剤、
光安定剤および加工安定剤からなる群から選択される請
求項9に記載の組成物。 - 【請求項11】 他の添加剤としてベンゾフラノ−2−
オン型の化合物の少なくとも1種を含む請求項9に記載
の組成物。 - 【請求項12】 成分(a)が天然、半合成または合成
ポリマーである請求項8に記載の組成物。 - 【請求項13】 成分(a)が熱可塑性ポリマーである
請求項8に記載の組成物。 - 【請求項14】 成分(a)がポリオレフィンである請
求項8に記載の組成物。 - 【請求項15】 成分(a)がポリエチレンまたはポリ
プロピレンである請求項8に記載の組成物。 - 【請求項16】 式II: 【化6】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 および指数mは請求項
1で定義されたものと同じものを表す)で表される化合
物もしくは式IIで表される化合物の混合物と、式III : 【化7】 (式中、R5 は請求項1で定義されたものと同じものを
表す。)で表される化合物もしくは式III で表される化
合物の混合物とを反応させることにより得られるオリゴ
マー生成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH3722/92-8 | 1992-12-04 | ||
| CH372292 | 1992-12-04 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06211988A true JPH06211988A (ja) | 1994-08-02 |
Family
ID=4262099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5339678A Pending JPH06211988A (ja) | 1992-12-04 | 1993-12-06 | 安定剤としての、オリゴマーhalsホスフィットおよびhalsホスホナイト |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5405891A (ja) |
| EP (1) | EP0601973B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06211988A (ja) |
| KR (1) | KR940014420A (ja) |
| CN (1) | CN1036928C (ja) |
| AT (1) | ATE185569T1 (ja) |
| BR (1) | BR9304926A (ja) |
| CA (1) | CA2110550A1 (ja) |
| CZ (1) | CZ284155B6 (ja) |
| DE (1) | DE59309835D1 (ja) |
| MX (1) | MX9307592A (ja) |
| RU (1) | RU2130461C1 (ja) |
| SK (1) | SK280039B6 (ja) |
| TW (1) | TW252991B (ja) |
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-
1993
- 1993-11-06 TW TW082109565A patent/TW252991B/zh active
- 1993-11-25 AT AT93810823T patent/ATE185569T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-11-25 EP EP93810823A patent/EP0601973B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-11-25 DE DE59309835T patent/DE59309835D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-11-30 US US08/159,410 patent/US5405891A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-01 KR KR1019930026078A patent/KR940014420A/ko not_active Ceased
- 1993-12-02 SK SK1355-93A patent/SK280039B6/sk unknown
- 1993-12-02 CZ CZ932615A patent/CZ284155B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1993-12-02 CA CA002110550A patent/CA2110550A1/en not_active Abandoned
- 1993-12-02 MX MX9307592A patent/MX9307592A/es not_active IP Right Cessation
- 1993-12-03 RU RU93053758A patent/RU2130461C1/ru active
- 1993-12-03 BR BR9304926A patent/BR9304926A/pt not_active Application Discontinuation
- 1993-12-03 CN CN93120897A patent/CN1036928C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-06 JP JP5339678A patent/JPH06211988A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010502799A (ja) * | 2006-09-08 | 2010-01-28 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 安定剤としての液状ポリマーのホスフィット及びホスホナイト |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SK280039B6 (sk) | 1999-07-12 |
| DE59309835D1 (de) | 1999-11-18 |
| BR9304926A (pt) | 1994-07-05 |
| US5405891A (en) | 1995-04-11 |
| TW252991B (ja) | 1995-08-01 |
| CN1036928C (zh) | 1998-01-07 |
| RU2130461C1 (ru) | 1999-05-20 |
| CZ284155B6 (cs) | 1998-08-12 |
| ATE185569T1 (de) | 1999-10-15 |
| CN1092785A (zh) | 1994-09-28 |
| MX9307592A (es) | 1994-06-30 |
| EP0601973A1 (de) | 1994-06-15 |
| CZ261593A3 (en) | 1994-06-15 |
| KR940014420A (ko) | 1994-07-18 |
| EP0601973B1 (de) | 1999-10-13 |
| CA2110550A1 (en) | 1994-06-05 |
| SK135593A3 (en) | 1994-07-06 |
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