JPH06201539A - 遠心エバポレーター - Google Patents
遠心エバポレーターInfo
- Publication number
- JPH06201539A JPH06201539A JP5028383A JP2838393A JPH06201539A JP H06201539 A JPH06201539 A JP H06201539A JP 5028383 A JP5028383 A JP 5028383A JP 2838393 A JP2838393 A JP 2838393A JP H06201539 A JPH06201539 A JP H06201539A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- test tube
- solvent medium
- solvent
- materials solvent
- circular motion
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 8
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
［目的］遠心エバポレーターにおいて、気圧、温度、が
同一の場合、資料溶媒の表面積が拡大されれば、その分
蒸発速度を早めることができる。回転方式を変えること
により、試験管内の資料溶媒の蒸発可能面積を大幅に拡
大することが出来、蒸発速度は促進される。 ［構成］真空槽（６）内で、偏芯軸（８）に装着された
ローター（３）はベアリング（７）によってフリーに回
転できるようにしておく。回転軸（４）が回転をはじめ
れば、偏芯軸は円運動をし、ローターも円運動をする
が、回転に対してはベアリングによってフリーであり、
且つ、バネ（９）によって固定されているため回転する
ことはない。一方、資料溶媒（１０）は試験管の内周に
添って回転し、常に試験管の内壁面を濡らしている。し
たがって、資料溶媒の蒸発可能面（１４）は、試験管の
内周全域にわたる。
同一の場合、資料溶媒の表面積が拡大されれば、その分
蒸発速度を早めることができる。回転方式を変えること
により、試験管内の資料溶媒の蒸発可能面積を大幅に拡
大することが出来、蒸発速度は促進される。 ［構成］真空槽（６）内で、偏芯軸（８）に装着された
ローター（３）はベアリング（７）によってフリーに回
転できるようにしておく。回転軸（４）が回転をはじめ
れば、偏芯軸は円運動をし、ローターも円運動をする
が、回転に対してはベアリングによってフリーであり、
且つ、バネ（９）によって固定されているため回転する
ことはない。一方、資料溶媒（１０）は試験管の内周に
添って回転し、常に試験管の内壁面を濡らしている。し
たがって、資料溶媒の蒸発可能面（１４）は、試験管の
内周全域にわたる。
Description
【発明の詳細な説明】 ［０００１］ ［産業上の利用分野］この発明は遠心エバポレーターに
関するものである。
関するものである。
［０００２］ ［従来の技術］遠心エバポレーターは試験管を回転させ
ることにより、遠心力によって資料溶媒の泡立ちや、突
出を押さえながら、槽内の空気を真空ポンプによって排
出し、資料の濃縮、乾燥を行なうものである。従来、試
験管の回転は、図１の如く、槽の中央の回転軸にロータ
ーを装着し、ローターの円周上に、回転軸に対してある
角度（一般に１５°〜３５゜）をもって穿たれた穴に、
試験管を装着して回転させるものであった。この場合、
試験管は回転軸に対して、あたかも回転する開いた傘の
骨にあたるような回転方式であり、回転中の資料溶媒の
表面は図１−５のごとく垂直となる。
ることにより、遠心力によって資料溶媒の泡立ちや、突
出を押さえながら、槽内の空気を真空ポンプによって排
出し、資料の濃縮、乾燥を行なうものである。従来、試
験管の回転は、図１の如く、槽の中央の回転軸にロータ
ーを装着し、ローターの円周上に、回転軸に対してある
角度（一般に１５°〜３５゜）をもって穿たれた穴に、
試験管を装着して回転させるものであった。この場合、
試験管は回転軸に対して、あたかも回転する開いた傘の
骨にあたるような回転方式であり、回転中の資料溶媒の
表面は図１−５のごとく垂直となる。
［０００３］ ［発明が解決しょうとする課題］従って、回転中におけ
る試験管内の蒸発可能な溶媒の表面積は、ごく限られた
ものとなり、蒸発速度を高めるための障害となってい
た。
る試験管内の蒸発可能な溶媒の表面積は、ごく限られた
ものとなり、蒸発速度を高めるための障害となってい
た。
［０００４］ ［課題を解決するための手段］真空槽（６）内で、試験
管（１）を垂直に立てた状態でローター（３）に挿入
し、ローターを偏芯軸（８）により円運動をさせること
を特徴とする遠心エバポレーター。
管（１）を垂直に立てた状態でローター（３）に挿入
し、ローターを偏芯軸（８）により円運動をさせること
を特徴とする遠心エバポレーター。
［０００５］ ［作用］試験管の中心軸を垂直に立てた状態で、偏芯軸
により円運動をさせることにより、資料溶媒は図３の如
く試験管内壁に添って円運動をおこす。この場合、ある
一瞬を静止状態として捉えれば、図４のごとく資料溶媒
は試験管の内壁の一方に片寄っているが、その直前には
資料溶媒は図４−１２の位置を濡らしてをり、また、も
う一つ前には図４−１３の位置を濡らしている。したが
って資料溶媒の蒸発可能面は試験管の内壁全周に及んで
いることになり、蒸発可能面積は大幅に拡大する。
により円運動をさせることにより、資料溶媒は図３の如
く試験管内壁に添って円運動をおこす。この場合、ある
一瞬を静止状態として捉えれば、図４のごとく資料溶媒
は試験管の内壁の一方に片寄っているが、その直前には
資料溶媒は図４−１２の位置を濡らしてをり、また、も
う一つ前には図４−１３の位置を濡らしている。したが
って資料溶媒の蒸発可能面は試験管の内壁全周に及んで
いることになり、蒸発可能面積は大幅に拡大する。
［０００６］ ［実施例］以下、本発明の実施例について説明する。資
料溶媒の蒸発速度は、気圧、温度、表面積によって決定
されるから、資料溶媒の表面積はより大であることが望
ましい。図２にみるように、真空槽（６）内で、偏芯軸
（８）に装着されたローター（３）はベアリング（７）
によってフリーに回転できるようにしておく。回転軸
（４）が回転をはじめれば、偏芯軸は円運動をし、ロー
ターも円運動をするが、回転に対してはベアリングによ
ってフリーであり、且つ、バネ（９）によって固定され
ているため試験管（１）が回転することはない。これを
図３によってみれば、試験管（１）につけられた目印
（１１）は、常に一定方向（図では上方）にあり、円運
動をしつつも回転することはない。一方、資料溶媒（１
０）は試験管の内周に添って回転し、常に試験管の内壁
面を濡らしている。したがって、資料溶媒の蒸発可能面
積は、図４−１４にみるごとく、試験管の内周全域にわ
たる。また、減圧下における資料溶媒の突出する力は、
溶媒の深さに比例するから、表面積が拡大された分だけ
溶媒は浅くなり、従来の回転方式に比して、遠心力は小
さくてもよく、回転数は低くても突出することはない。
料溶媒の蒸発速度は、気圧、温度、表面積によって決定
されるから、資料溶媒の表面積はより大であることが望
ましい。図２にみるように、真空槽（６）内で、偏芯軸
（８）に装着されたローター（３）はベアリング（７）
によってフリーに回転できるようにしておく。回転軸
（４）が回転をはじめれば、偏芯軸は円運動をし、ロー
ターも円運動をするが、回転に対してはベアリングによ
ってフリーであり、且つ、バネ（９）によって固定され
ているため試験管（１）が回転することはない。これを
図３によってみれば、試験管（１）につけられた目印
（１１）は、常に一定方向（図では上方）にあり、円運
動をしつつも回転することはない。一方、資料溶媒（１
０）は試験管の内周に添って回転し、常に試験管の内壁
面を濡らしている。したがって、資料溶媒の蒸発可能面
積は、図４−１４にみるごとく、試験管の内周全域にわ
たる。また、減圧下における資料溶媒の突出する力は、
溶媒の深さに比例するから、表面積が拡大された分だけ
溶媒は浅くなり、従来の回転方式に比して、遠心力は小
さくてもよく、回転数は低くても突出することはない。
［０００７］ ［効果］気圧、温度、が同一の場合、資料溶媒の表面積
が拡大されれば、その分蒸発速度を早めることができ
る。回転方式を変えることにより、試験管内の資料溶媒
の蒸発可能面積を大幅に拡大することが出来、蒸発速度
は促進される。
が拡大されれば、その分蒸発速度を早めることができ
る。回転方式を変えることにより、試験管内の資料溶媒
の蒸発可能面積を大幅に拡大することが出来、蒸発速度
は促進される。
［図 １］ 従来の遠心エバポレーターの模式図 ［図 ２］ 本発明による遠心エバポレーターの模式
図 ［図 ３］ 本発明による試験管と資料溶媒の円運動
と回転 ［図 ４］ 本発明による資料溶媒の蒸発可能面 ［符号の説明］ （１） 試験管 （２） チューブ （３） ローター （４） 回転軸 （５） 回転中の溶媒の表面 （６） 真空槽 （７） ベアリング （８） 偏芯軸 （９） バネ （１０） 資料溶媒 （１１） 目印 （１２） 資料溶媒の直前の位置 （１３） 資料溶媒の直直前の位置 （１４） 本発明による資料溶媒の蒸発面
図 ［図 ３］ 本発明による試験管と資料溶媒の円運動
と回転 ［図 ４］ 本発明による資料溶媒の蒸発可能面 ［符号の説明］ （１） 試験管 （２） チューブ （３） ローター （４） 回転軸 （５） 回転中の溶媒の表面 （６） 真空槽 （７） ベアリング （８） 偏芯軸 （９） バネ （１０） 資料溶媒 （１１） 目印 （１２） 資料溶媒の直前の位置 （１３） 資料溶媒の直直前の位置 （１４） 本発明による資料溶媒の蒸発面
Claims (1)
- ［請求項 １］真空槽（６）内で、試験管（１）を垂直
に立てた状態でローター（３）に挿入し、ローターを偏
芯軸（８）により円運動をさせることを特徴とする遠心
エバポレーター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5028383A JPH06201539A (ja) | 1993-01-04 | 1993-01-04 | 遠心エバポレーター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5028383A JPH06201539A (ja) | 1993-01-04 | 1993-01-04 | 遠心エバポレーター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06201539A true JPH06201539A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=12247136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5028383A Pending JPH06201539A (ja) | 1993-01-04 | 1993-01-04 | 遠心エバポレーター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06201539A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7118783B2 (en) * | 2002-06-26 | 2006-10-10 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for vapor processing of micro-device workpieces |
| US7258892B2 (en) | 2003-12-10 | 2007-08-21 | Micron Technology, Inc. | Methods and systems for controlling temperature during microfeature workpiece processing, e.g., CVD deposition |
| US7279398B2 (en) | 2003-09-17 | 2007-10-09 | Micron Technology, Inc. | Microfeature workpiece processing apparatus and methods for controlling deposition of materials on microfeature workpieces |
| US7282239B2 (en) | 2003-09-18 | 2007-10-16 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers |
| US7335396B2 (en) | 2003-04-24 | 2008-02-26 | Micron Technology, Inc. | Methods for controlling mass flow rates and pressures in passageways coupled to reaction chambers and systems for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers |
| US7344755B2 (en) | 2003-08-21 | 2008-03-18 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for processing microfeature workpieces; methods for conditioning ALD reaction chambers |
| US7422635B2 (en) | 2003-08-28 | 2008-09-09 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for processing microfeature workpieces, e.g., for depositing materials on microfeature workpieces |
| US7427425B2 (en) | 2003-02-11 | 2008-09-23 | Micron Technology, Inc. | Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces |
| US7481887B2 (en) | 2002-05-24 | 2009-01-27 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for controlling gas pulsing in processes for depositing materials onto micro-device workpieces |
| US7581511B2 (en) | 2003-10-10 | 2009-09-01 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and methods for manufacturing microfeatures on workpieces using plasma vapor processes |
| US7584942B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-09-08 | Micron Technology, Inc. | Ampoules for producing a reaction gas and systems for depositing materials onto microfeature workpieces in reaction chambers |
| US7588804B2 (en) | 2002-08-15 | 2009-09-15 | Micron Technology, Inc. | Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces |
| US9023436B2 (en) | 2004-05-06 | 2015-05-05 | Micron Technology, Inc. | Methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers and systems for depositing materials onto microfeature workpieces |
| CN106975527A (zh) * | 2017-04-01 | 2017-07-25 | 北京赤帝鸿鹄科技有限责任公司 | 倾斜式消解罐加热回流装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50229A (ja) * | 1973-05-09 | 1975-01-06 | ||
| JPS61164666A (ja) * | 1985-01-11 | 1986-07-25 | Hitachi Chem Co Ltd | 遠心分離機の試料容器の取付方法 |
| JPH01270901A (ja) * | 1988-04-21 | 1989-10-30 | Tokyo Rika Kikai Kk | 濃縮乾燥装置 |
-
1993
- 1993-01-04 JP JP5028383A patent/JPH06201539A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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| US7481887B2 (en) | 2002-05-24 | 2009-01-27 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for controlling gas pulsing in processes for depositing materials onto micro-device workpieces |
| US7118783B2 (en) * | 2002-06-26 | 2006-10-10 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for vapor processing of micro-device workpieces |
| US7588804B2 (en) | 2002-08-15 | 2009-09-15 | Micron Technology, Inc. | Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces |
| US7427425B2 (en) | 2003-02-11 | 2008-09-23 | Micron Technology, Inc. | Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces |
| US7335396B2 (en) | 2003-04-24 | 2008-02-26 | Micron Technology, Inc. | Methods for controlling mass flow rates and pressures in passageways coupled to reaction chambers and systems for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers |
| US7344755B2 (en) | 2003-08-21 | 2008-03-18 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for processing microfeature workpieces; methods for conditioning ALD reaction chambers |
| US7422635B2 (en) | 2003-08-28 | 2008-09-09 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for processing microfeature workpieces, e.g., for depositing materials on microfeature workpieces |
| US7279398B2 (en) | 2003-09-17 | 2007-10-09 | Micron Technology, Inc. | Microfeature workpiece processing apparatus and methods for controlling deposition of materials on microfeature workpieces |
| US7282239B2 (en) | 2003-09-18 | 2007-10-16 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers |
| US7581511B2 (en) | 2003-10-10 | 2009-09-01 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and methods for manufacturing microfeatures on workpieces using plasma vapor processes |
| US7258892B2 (en) | 2003-12-10 | 2007-08-21 | Micron Technology, Inc. | Methods and systems for controlling temperature during microfeature workpiece processing, e.g., CVD deposition |
| US7584942B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-09-08 | Micron Technology, Inc. | Ampoules for producing a reaction gas and systems for depositing materials onto microfeature workpieces in reaction chambers |
| US9023436B2 (en) | 2004-05-06 | 2015-05-05 | Micron Technology, Inc. | Methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers and systems for depositing materials onto microfeature workpieces |
| CN106975527A (zh) * | 2017-04-01 | 2017-07-25 | 北京赤帝鸿鹄科技有限责任公司 | 倾斜式消解罐加热回流装置 |
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