JPH06206286A - Ｕｖ−保護されたプラスチックプレート又は−シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ＵＶ−保護されたプラスチックプレート又は
シート。 【構成】 ＵＶ−線に対して敏感なプラスチック製の核
層及びこの核層の１面上の、照射ＵＶ−線を充分に又は
完全に吸収するのに充分なＵＶ−吸収成分を含有するプ
ラスチック製の、核層よりも薄い被覆層少なくとも１層
より成り、核層内には、被覆層で被覆されていないかま
たは不十分に被覆された個所のみで励起可能で螢光を生
じ、例えば、共押出しの際に、被覆層の厚さ及び作用を
監視可能にする螢光染料を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＵＶ−線に対して敏感
な核層及びこの核層の１面上の、照射ＵＶ−線を充分に
又は完全に吸収するのに充分なＵＶ−吸収成分を含有す
るプラスチック製の、核層よりも薄い被覆層少なくとも
１層を有する、ＵＶ−保護されたプラスチックプレート
又は−シート（ここで、層の一個はＵＶ−線により活性
化可能な蛍光染料を含有する）に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種のプラスチックプレートは、ドイ
ツ実用新案第８１１３７４７号明細書から公知である。
典型的な１実施形では、このプラスチックプレートは、
蛍光染料不含の厚い核層１層及び蛍光染料を含有する薄
い被覆層少なくとも１層を有する。この被覆層は、ＵＶ
−照射により励起されて蛍光を発する。被覆層の存在及
びその一様性は、蛍光線の現われ及び明度分布で認識で
き、これが製造法の監視に利用される。

【０００３】公知のプラスチックプレートの特別な１実
施形では、ＵＶ−吸収剤を含有するより厚い核層が２個
の蛍光染料含有被覆層の間に包埋されている。ＵＶ−線
は核層を貫通できないので、両側からのＵＶ−照射によ
り、２枚の被覆層は別々に観察できる。

【０００４】ＵＶ−線に対して敏感なプラスチック製の
厚い核層は、屡々ＵＶ−吸収性のプラスチック製の薄い
保護性被覆層を有する。正にこの場合には、励起ＵＶ−
線は吸収され、作用がないので、被覆層内に含有してい
る蛍光染料による層厚の監視は困難である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、この場合に
も、例えば核層と被覆層との共押出しによる製造の間の
被覆層の厚さ及び作用の監視を可能とすることを課題と
する。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明は、プラスチックプレート中に含有されてい
る蛍光染料からＵＶ−照射下に発生される蛍光線を再び
利用する。しかしながら、公知のプラスチックプレート
では、蛍光染料自体が発光できるように、薄い被覆層内
に蛍光染料が含有されているが、本発明では、蛍光染料
が核層内に含有されている。従って、ＵＶ−線が被覆層
内で吸収されない場合にのみ、蛍光が現われる。

【０００７】従って、本発明の目的物は、ＵＶ−線に対
して敏感なプラスチック製の核層及びこの核層の１面上
の、照射ＵＶ−線を充分に又は完全に吸収するのに充分
なＵＶ−吸収成分を含有するプラスチック製の、核層よ
りも薄い被覆層少なくとも１層を有する、ＵＶ−保護さ
れたプラスチックプレート又は−シートである。本発明
によれば、この核層は、ＵＶ−線により活性化可能な蛍
光染料を含有する。

【０００８】励起性ＵＶ−線のみで照射されると、これ
らは蛍光線を発生するはずである。しかしながら、被覆
層がＵＶ−照射の前に核層を保護する課題を充分に満足
する際には、この核層内ではもはや蛍光線は得られな
い。被覆層が、例えばその製造欠陥に基づき所々に欠陥
を有するか又は薄過ぎて又は作用が低過ぎてＵＶ−線の
かなりの部分が核層内に押し進むと、そこで蛍光線が発
せられる。従って、蛍光線の出現は、被覆層の欠陥の表
示である。こうして、製造法を継続的に監視することが
できる。

【０００９】本発明の特別な利点は、この被覆層により
得ようとされた保護作用は、蛍光線の阻止と同じ効果に
基づく、即ち、被覆層内のＵＶ−線の吸収に基づくこと
による。この保護が、被覆層の欠陥又は薄過ぎる厚さに
より又はＵＶ−吸収剤の欠陥又は分解により、又はこの
種の欠点の組み合わせから影響されるのかには無関係
に、蛍光線の出現は、常に、取り除くべき被覆層の欠点
を示している。層厚の変動を知るために、既に、核層内
に進入するＵＶ−線の僅かな減少でも充分であるが、有
害線の充分かつ完全な吸収の際にはじめて、核層の所望
の保護が達成される。有害ＵＶ−線を充分に、しかしな
がら励起性のＵＶ−線を部分的にのみを吸収するＵＶ−
吸収剤は、本発明の目的に充分である。

【００１０】ＵＶ−敏感なプラスチックとは、ＵＶ−
線、殊に日光−もしくは太陽光線のＵＶ−分の長時間作
用下に、例えば表面の黄色化、色あせ、脆化、マット化
又はこの線にさらされた面の類似現象で老化するもので
ある。大抵のプラスチックは、少なくともそれらが地理
的に南の地域の太陽光にさらされる場合に、一定のＵＶ
−敏感性を示す。最高の耐老化性及び耐候性を有するプ
ラスチックとして通用するポリメチルメテクリレートそ
のものは、屋外での使用のために屡々ＵＶ−吸収剤を含
有して構成される。オレフィン、ジエン及びビニル芳香
族化合物をベースとするプラスチックは、高いＵＶ−敏
感性を有する。ポリ塩化ビニル及び主鎖内に芳香族基を
有するプラスチック、例えばポリカーボネートプラスチ
ック（この公知の代表はビスフェノール−Ａ−ポリカー
ボネートである）は、極めてＵＶ−敏感である。ポリカ
ーボネート製のプラスチックプレートは、主としてＵＶ
−吸収性ポリカーボネート製の片面又は両面保護層を有
して販売されている。

【００１１】核層及び被覆層のために、製造法の要件に
常法で適合されているプラスチックを使用することは理
解できる。例えば、押出し又は共押出しのために、適当
な融液−もしくは溶液粘度を有するプラスチック成形材
料を使用すべきである。透明で、殊に無色かつ澄明のプ
ラスチックが有利である。

【００１２】「プレート及びシート」なる概念は、広範
に理解すべきである。これには、１ｍｍ以下１０μｍま
でのシート、１〜１００ｍｍ、殊に１〜１０ｍｍの中実
プレート並びに平行な被覆層とその間に配置されたブリ
ッジから構成され、一般に４〜５０ｍｍの全厚を有する
中空プレートがこれに属する。前記の全てのプレート及
びシートは、主として、連続的押出し、場合による引き
続くローラ平滑装置内での平滑化により製造される。プ
レート又はシートの形成に関与する全ての層は平滑かつ
平坦で、一様な厚さであるのが有利である。

【００１３】通例、仕上げ工程で、ＵＶ−吸収性被覆層
が施与される。慣用の１方法は、ＵＶ−吸収剤及び結合
剤としてのプラスチックを含有し、引続き乾燥される溶
剤含有ラッカーでの帯状品表面の被覆である。この被覆
層は公知の方法で核層と一緒に共押出しすることにより
得るのが有利である。このために、核層材料及び被覆層
材料からそれぞれ熱可塑性の融解ストランドを得るアダ
プター−共押出しの方法を使用することができる。この
共押出しアダプター中で、ストランドを一緒に導入し、
付着性に結合させ、閉じられたスリットノズルの分配路
内で所望の幅及び厚さに成形する。この方法を、双方の
融解ストランドを別々の分配路内で所望の幅及び厚さに
成形し、ノズル口の直前で始めて一緒にして多層にする
多層押出し法を使用することもできる。

【００１４】この共押出しの際には、従来は、製造の間
の透明かつＵＶ−吸収性の被覆層の厚さ及び一様性を監
視することは困難であった。核層自体が少量のＵＶ−吸
収剤を含有する（これは通常である）場合には、被覆層
の厚さも、プレートのＵＶ−領域の全吸収に基づき追跡
できない。したがって、本発明は、核層及び被覆層の共
押出しによるプレート及びシートの製造のために、特に
有利である。

【００１５】被覆層は、プレート及びシートの片面又は
両面の上に配置することができる。これらは、一般に被
覆された核層の全面に広がる。これらは、明確に核層よ
りも薄く例えば、２〜１００μｍの厚さを有する。一般
にこの被覆層は、核層厚の５％を越えず、０．５〜４％
が有利である。

【００１６】被覆層は、核層と直接付着結合し、同時
に、少なくともプレート又はシートの１表面を成すのが
有利である。しかしながら、このことは、本発明の作用
にとっては必要ではなく、所望の場合には、多様の変更
が可能である。核−及び被覆層は、それら自体、種々の
層から構成されていてよいか又はその間に異なる種類の
層を包埋していてもよい。ＵＶ−吸収性の被覆層は、例
えば耐引掻性又は撥水性の材料製の他の層で被覆されて
いてもよい。このような全ての実施形は、プレート−又
はシート面に当たるＵＶ−線を、核層内の蛍光染料が励
起されないか又は認識可能に弱められた程度にのみ励起
されて蛍光線を形成する程度に吸収するＵＶ−吸収性層
が存在すれば、本発明に属する。

【００１７】核層のプラスチックは、少量のＵＶ−吸収
性成分を含有するが、明らかに被覆層よりも僅かである
のが有利である。０．０５〜１重量％の含有率が典型的
である。この際、ＵＶ−吸収性被覆層が共用される場合
には、これは、再使用プレート−又はシート材料から成
っていてよい。しかしながら、核層内のＵＶ−吸収性成
分の含有率は、励起線を抑制し、蛍光を阻止する程度に
高くてはいけない。

【００１８】被覆層のプラスチックは、核層のそれと同
じのが有利である。被覆層内では、核層のＵＶ−敏感性
が、ＵＶ−吸収成分の含有により充分に低下される。こ
の場合には、核−及び被覆層−プラスチックの間の違い
に基づく問題、例えば不十分な付着性又は層毎に異なる
物理的、化学的又は腐食特性は、始めから排除される。

【００１９】それにもかかわらず、本発明は、被覆層用
に、核層用とは異なるプラスチックを使用することがで
きる。特にそのＵＶ−吸収特性が重要である。これは、
被覆層が薄くなる程厚くすべきである。ＵＶ−吸収は、
プラスチックそのものの特性でありうるか又はＵＶ−吸
収剤の混入により達成することができる。ＵＶ−吸収性
プラスチックは、ＵＶ−吸収性基を有するモノマーもし
くはコモノマーの使用により、例えば３−（２−ベンゾ
トリアゾリル）−２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルベ
ンジルメタクリルアミドの使用により得ることができ
る。 ポリマーに結合されていないＵＶ−吸収剤として
は、低い揮発性のものが有利である。好適なＵＶ−吸収
剤は、例えば、ベンゾフェノン、例えば、２−ヒドロキ
シ−４ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、ベンズトリア
ゾール、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチル−
フェニル）−ベンズトリアゾールである。

【００２０】この被覆層材料は、最大１ｍｍの層厚で、
２８０〜３８０ｎｍの範囲のＵＶ−線を特に８０％以
上、殊に９０〜１００％を吸収すべきである。このため
には、一般に、被覆層材料の重量に対して２〜２０重量
％、特に５〜１５重量％の前記ＵＶ−吸収成分が必要で
ある。

【００２１】本発明によれば、核層は、４００〜５００
ｎｍの範囲のＵＶ−線の作用で可視範囲の蛍光を発生す
る蛍光染料を含有する。この螢光染料は、生じる螢光が
核−又は被覆層内に存在しうる染料により吸収されない
ように選択する。この螢光は、ＵＶ−照射プレート又は
シートの上から見て観察でき、必要な場合には、個々の
平面区分内で定量的に測定することができる。螢光染料
が核層内で一様に分配されていることを前提として、こ
の螢光の測定値は、各単位面積上に存在するＵＶ−吸収
剤の量の情報を与える。プレート及びシートの連続的製
造の際に、帯状品幅上のＵＶ−吸収剤の分布を検出する
ために、製造方向を横切って移動する測定装置を使用す
ることができる。全帯状品幅にわたる走査線カメラを用
いる測定も可能である。

【００２２】可視範囲で無色であり、熱可塑性プラスチ
ック内で均一に分配できる好適な螢光染料は、公知であ
る。２３０〜３８０ｎｍの範囲のＵＶ−線により励起可
能で、青色の螢光を発する螢光染料が有利である。この
ような螢光染料の例は、４，４’−ビス−トリアジニル
アミノ−スチルベン−２，２’−ジスルホン酸の誘導
体、クマリン、ビス−ベンズオキサゾリル−化合物、ビ
ス−ベンズイミダゾリル−化合物、ベンズトリアゾー
ル、ピラゾリン、ナフタール酸イミド及びビス−スチリ
ル−ベンゾールである。螢光染料を製造の監視のみに使
用する場合には、これは短時間安定である必要がある。
この螢光染料は、プラスチックの重量に対して１〜１０
０００ｐｐｍ、有利に１０〜１０００ｐｐｍ（０．００
１〜０．１重量％）の濃度で使用するのが有利である。

【００２３】核層そのものがＵＶ−吸収性成分を含有す
る場合には、ＵＶ−線の進入深さは限られる。従って、
螢光染料の濃度は、ＵＶ−線の進入領域内で充分な螢光
が発生されうる程度の高さの値にすべきである。

【００２４】

【実施例】２９０℃の融点でのアダプター共押出しによ
り、厚さ４ｍｍのビスフェノール−Ａ−ポリカーボネー
ト製帯状プレートを得る。核層の形成のために、ＵＶ−
吸収剤としての２−（ヒドロキシ−３−ｓ−ブチル−５
−ｔ−ブチル−フェニル）−ベンズトリアゾール０．３
重量％及び螢光染料としての２，２’−（２，５−チオ
フェンジイル）−ビス−（１，１−ジメチルエチル）−
ベンズオキサゾール（Ｕｖｉｔｅｘ ＯＢ、Ｃｉｂａ−
Ｇｅｉｇｙの登録商標）０．００１重量％を含有する成
形材料を使用する。被覆層のためには、螢光染料を含有
しないが前記ＵＶ−吸収剤１０重量％を含有する同じ成
形材料を使用する。

【００２５】７０μｍの被覆層の厚さで、ＵＶ−ランプ
での照射の際に螢光は生じない。より薄い被覆層領域は
螢光により目につく。アダプターの改良調節により、不
十分なＵＶ−吸収の螢光性領域の生成は避けられうる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミヒャエル マイアー−カイザー ドイツ連邦共和国 プフングシュタット アダム−シュヴィン−シュトラーセ 14

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ＵＶ−線に対して敏感な核層及びこの核
   層の１面上の、照射ＵＶ−線を充分に又は完全に吸収す
   るのに充分なＵＶ−吸収成分を含有するプラスチック製
   の、核層よりも薄い被覆層少なくとも１層を有する、Ｕ
   Ｖ−保護されたプラスチックプレート又は−シート（こ
   こで、層の一個はＵＶ−線により活性化可能な蛍光染料
   を含有する）において、核層は蛍光染料を含有すること
   を特徴とする、ＵＶ−保護されたプラスチックプレート
   又は−シート。