JPH06207907A - レチクル及びペリクル異物検査装置 - Google Patents
レチクル及びペリクル異物検査装置Info
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- JPH06207907A JPH06207907A JP270993A JP270993A JPH06207907A JP H06207907 A JPH06207907 A JP H06207907A JP 270993 A JP270993 A JP 270993A JP 270993 A JP270993 A JP 270993A JP H06207907 A JPH06207907 A JP H06207907A
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 受光系がマスクの繰り返しパターンからの回
折光を受けた場合に、該回折光を異物からの散乱光と誤
認しないようにする。 【構成】 検出系３は、検査光を被検査体に向かって出
射する光源１と被検査体からの散乱光を受光する受光系
２とを有し、散乱光が発生した位置を示す位置信号及び
散乱光の光強度を示す光強度信号を出力する。信号処理
系４は、検出系３からの位置信号及び光強度信号に基づ
き異物が発生している異物場所を判定すると共に、判定
した異物場所を示す異物信号を出力する。データ処理系
１１は、信号処理系４から異物信号を受け、上記の光強
度信号及び異物信号に基づき異物場所に連続性及び周期
性が有るか否かを判断し、受けた異物信号のうちから連
続性又は周期性を有する異物信号を除去し、残りの異物
信号である修正異物信号を表示装置６に出力する。
折光を受けた場合に、該回折光を異物からの散乱光と誤
認しないようにする。 【構成】 検出系３は、検査光を被検査体に向かって出
射する光源１と被検査体からの散乱光を受光する受光系
２とを有し、散乱光が発生した位置を示す位置信号及び
散乱光の光強度を示す光強度信号を出力する。信号処理
系４は、検出系３からの位置信号及び光強度信号に基づ
き異物が発生している異物場所を判定すると共に、判定
した異物場所を示す異物信号を出力する。データ処理系
１１は、信号処理系４から異物信号を受け、上記の光強
度信号及び異物信号に基づき異物場所に連続性及び周期
性が有るか否かを判断し、受けた異物信号のうちから連
続性又は周期性を有する異物信号を除去し、残りの異物
信号である修正異物信号を表示装置６に出力する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体の製造工程に用
いられるリソグラフィーに使用されるレチクル及びペリ
クルに付着する異物を検査するためのレチクル及びペリ
クル異物検査装置である。
いられるリソグラフィーに使用されるレチクル及びペリ
クルに付着する異物を検査するためのレチクル及びペリ
クル異物検査装置である。
【０００２】
【従来の技術】レチクル及びペリクル異物検査装置は、
通常、検査光の光源と、異物からの散乱光を受ける散乱
光受光系とを備えており、この構成によってレチクル及
びペリクルの異物を検出している。
通常、検査光の光源と、異物からの散乱光を受ける散乱
光受光系とを備えており、この構成によってレチクル及
びペリクルの異物を検出している。
【０００３】以下、従来のレチクル及びペリクル異物検
査装置について図面を参照しながら説明する。
査装置について図面を参照しながら説明する。
【０００４】図７は、従来のレチクル及びペリクル異物
検査装置の機能系統図を示しており、同図において、１
は検査光を出射する光源、２は被検査体からの散乱光を
受ける受光系、３は上記の光源１及び受光系２を有する
検出系、４は検出系３からの信号を受け異物の場所を判
定する信号処理系、５は検査しようとするレチクル及び
ペリクルを載置するステージを制御するステージ制御
系、６は検査状況を確認する表示装置である。
検査装置の機能系統図を示しており、同図において、１
は検査光を出射する光源、２は被検査体からの散乱光を
受ける受光系、３は上記の光源１及び受光系２を有する
検出系、４は検出系３からの信号を受け異物の場所を判
定する信号処理系、５は検査しようとするレチクル及び
ペリクルを載置するステージを制御するステージ制御
系、６は検査状況を確認する表示装置である。
【０００５】以下、図８に基づき、上記のように構成さ
れたレチクル及びペリクル異物検査装置の動作を説明す
る。
れたレチクル及びペリクル異物検査装置の動作を説明す
る。
【０００６】図８は、上記レチクル及びペリクル異物検
査装置における検出系３の働きを示しており、同図にお
いて、７は被検査体であるマスク基板、８はマスク基板
７に付着した異物、９は光源１から出た検査光、１０は
検査光９が異物８に当たって散乱した散乱光である。
査装置における検出系３の働きを示しており、同図にお
いて、７は被検査体であるマスク基板、８はマスク基板
７に付着した異物、９は光源１から出た検査光、１０は
検査光９が異物８に当たって散乱した散乱光である。
【０００７】上記のレチクル及びペリクル異物検査装置
においては、光源１から出射された検査光９をマスク基
板７に照射する。マスク基板７上の異物８に検査光９が
当たった場合、散乱光１０が受光系２に至るので、検出
系３は異物が検出されたと認識する。
においては、光源１から出射された検査光９をマスク基
板７に照射する。マスク基板７上の異物８に検査光９が
当たった場合、散乱光１０が受光系２に至るので、検出
系３は異物が検出されたと認識する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、マスク
パターンが微細化するにつれ、上記従来の構成では、受
光系がマスクの繰り返しパターンからの回折光を受けた
ときに、回折光と異物からの散乱光との区別がつかずに
回折光を異物からの散乱光と誤認してしまい、検出系は
異物が付着していないにも拘らず異物が検出されたと認
識するという問題があった。
パターンが微細化するにつれ、上記従来の構成では、受
光系がマスクの繰り返しパターンからの回折光を受けた
ときに、回折光と異物からの散乱光との区別がつかずに
回折光を異物からの散乱光と誤認してしまい、検出系は
異物が付着していないにも拘らず異物が検出されたと認
識するという問題があった。
【０００９】上記に鑑み、本発明は、受光系がマスクの
繰り返しパターンからの回折光を受けた場合に、該回折
光を異物からの散乱光と誤認しないようにすることを目
的とする。
繰り返しパターンからの回折光を受けた場合に、該回折
光を異物からの散乱光と誤認しないようにすることを目
的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項１の発明は、散乱光が発生した位置及び散乱
光の光強度から異物発生場所に連続性及び周期性が有る
か否かを判断し、異物発生場所に連続性又は周期性が有
る場合には異物発生場所とは見做さないものである。
め、請求項１の発明は、散乱光が発生した位置及び散乱
光の光強度から異物発生場所に連続性及び周期性が有る
か否かを判断し、異物発生場所に連続性又は周期性が有
る場合には異物発生場所とは見做さないものである。
【００１１】具体的に請求項１の発明が講じた解決手段
は、レチクル及びペリクル異物検査装置を、検査光を被
検査体に向かって出射する光源と被検査体からの散乱光
を受光する受光系とを有し、散乱光が発生した位置及び
散乱光の光強度を検出すると共に、散乱光が発生した位
置を示す位置信号及び散乱光の光強度を示す光強度信号
をそれぞれ出力する散乱光検出手段と、該散乱光検出手
段からの位置信号及び光強度信号に基づき異物が発生し
ている異物場所を判定すると共に、判定した異物場所を
示す異物信号を出力する異物場所判定手段と、該異物場
所判定手段から異物信号を受け、上記散乱光検出手段か
らの光強度信号及び上記異物場所判定手段からの異物信
号に基づき異物場所に連続性及び周期性が有るか否かを
判断し、上記異物場所判定手段から受けた異物信号のう
ちから連続性又は周期性を有する異物信号を除去し、残
りの異物信号である修正異物信号を出力する異物場所修
正手段と、上記異物場所修正手段からの修正異物信号に
基づいて異物の発生状態を表示する異物表示手段とを備
えている構成とするものである。
は、レチクル及びペリクル異物検査装置を、検査光を被
検査体に向かって出射する光源と被検査体からの散乱光
を受光する受光系とを有し、散乱光が発生した位置及び
散乱光の光強度を検出すると共に、散乱光が発生した位
置を示す位置信号及び散乱光の光強度を示す光強度信号
をそれぞれ出力する散乱光検出手段と、該散乱光検出手
段からの位置信号及び光強度信号に基づき異物が発生し
ている異物場所を判定すると共に、判定した異物場所を
示す異物信号を出力する異物場所判定手段と、該異物場
所判定手段から異物信号を受け、上記散乱光検出手段か
らの光強度信号及び上記異物場所判定手段からの異物信
号に基づき異物場所に連続性及び周期性が有るか否かを
判断し、上記異物場所判定手段から受けた異物信号のう
ちから連続性又は周期性を有する異物信号を除去し、残
りの異物信号である修正異物信号を出力する異物場所修
正手段と、上記異物場所修正手段からの修正異物信号に
基づいて異物の発生状態を表示する異物表示手段とを備
えている構成とするものである。
【００１２】請求項２の発明は、散乱光が発生した位置
及び散乱光の光強度から異物発生場所に連続性及び周期
性が有るか否かを判断し、異物発生場所に連続性又は周
期性が有る場合には受光系に被検査体に対する角度位置
を変えて被検査体からの散乱光を再度検出させるもので
ある。
及び散乱光の光強度から異物発生場所に連続性及び周期
性が有るか否かを判断し、異物発生場所に連続性又は周
期性が有る場合には受光系に被検査体に対する角度位置
を変えて被検査体からの散乱光を再度検出させるもので
ある。
【００１３】具体的に請求項２の発明が講じた解決手段
は、レチクル及びペリクル異物検査装置を、検査光を被
検査体に向かって出射する光源と被検査体からの散乱光
を受光する該被検査体に対する角度位置が可変な受光系
とを有し、散乱光が発生した位置及び散乱光の光強度を
検出すると共に、散乱光が発生した位置を示す位置信号
及び散乱光の光強度を示す光強度信号をそれぞれ出力す
る散乱光検出手段と、該散乱光検出手段からの位置信号
及び光強度信号に基づき異物が発生している異物場所を
判定すると共に、判定した異物場所を示す異物信号を出
力する第１の異物場所判定手段と、該第１の異物場所判
定手段から異物信号を受け、上記散乱光検出手段からの
光強度信号及び上記第１の異物場所判定手段からの異物
信号に基づき異物場所に連続性及び周期性が有るか否か
を判断し、上記第１の異物場所判定手段から受けた異物
信号が連続性又は周期性を有すると判定する場合には、
上記散乱光検出手段に対して上記受光系の被検査体に対
する角度位置を変えて該被検査体からの散乱光を再度検
出せしめると共に再度検出した散乱光の位置及び光強度
に基づく位置信号及び光強度信号をそれぞれ出力せしめ
る再検出信号を上記散乱光検出手段に対して出力する検
出制御手段と、該検出制御手段からの再検出信号に基づ
いて上記散乱光検出手段から出力された位置信号及び光
強度信号に基づき異物が発生している異物場所を再度判
定すると共に、再検出信号に基づき判定した異物場所を
示す確定異物信号を出力する第２の異物場所判定手段
と、該第２の異物場所判定手段から出力された確定異物
信号に基づいて異物の発生状態を表示する異物表示手段
とを備えている構成とするものである。
は、レチクル及びペリクル異物検査装置を、検査光を被
検査体に向かって出射する光源と被検査体からの散乱光
を受光する該被検査体に対する角度位置が可変な受光系
とを有し、散乱光が発生した位置及び散乱光の光強度を
検出すると共に、散乱光が発生した位置を示す位置信号
及び散乱光の光強度を示す光強度信号をそれぞれ出力す
る散乱光検出手段と、該散乱光検出手段からの位置信号
及び光強度信号に基づき異物が発生している異物場所を
判定すると共に、判定した異物場所を示す異物信号を出
力する第１の異物場所判定手段と、該第１の異物場所判
定手段から異物信号を受け、上記散乱光検出手段からの
光強度信号及び上記第１の異物場所判定手段からの異物
信号に基づき異物場所に連続性及び周期性が有るか否か
を判断し、上記第１の異物場所判定手段から受けた異物
信号が連続性又は周期性を有すると判定する場合には、
上記散乱光検出手段に対して上記受光系の被検査体に対
する角度位置を変えて該被検査体からの散乱光を再度検
出せしめると共に再度検出した散乱光の位置及び光強度
に基づく位置信号及び光強度信号をそれぞれ出力せしめ
る再検出信号を上記散乱光検出手段に対して出力する検
出制御手段と、該検出制御手段からの再検出信号に基づ
いて上記散乱光検出手段から出力された位置信号及び光
強度信号に基づき異物が発生している異物場所を再度判
定すると共に、再検出信号に基づき判定した異物場所を
示す確定異物信号を出力する第２の異物場所判定手段
と、該第２の異物場所判定手段から出力された確定異物
信号に基づいて異物の発生状態を表示する異物表示手段
とを備えている構成とするものである。
【００１４】
【作用】請求項１の構成により、異物場所修正手段は、
散乱光検出手段からの光強度信号及び異物場所判定手段
からの異物信号に基づき異物場所に連続性及び周期性が
有るか否かを判断し、異物場所判定手段から受けた異物
信号のうちから連続性又は周期性を有する異物信号を除
去した修正異物信号を出力し、異物表示手段は修正異物
信号に基づいて異物の発生状態を表示するので、異物表
示手段には、マスクの繰り返しパターンからの回折光に
基づく異物信号が表示されず、異物からの散乱光に基づ
く異物信号のみが表示される。
散乱光検出手段からの光強度信号及び異物場所判定手段
からの異物信号に基づき異物場所に連続性及び周期性が
有るか否かを判断し、異物場所判定手段から受けた異物
信号のうちから連続性又は周期性を有する異物信号を除
去した修正異物信号を出力し、異物表示手段は修正異物
信号に基づいて異物の発生状態を表示するので、異物表
示手段には、マスクの繰り返しパターンからの回折光に
基づく異物信号が表示されず、異物からの散乱光に基づ
く異物信号のみが表示される。
【００１５】請求項２の構成により、検査制御手段は、
散乱光検出手段からの光強度信号及び第１の異物場所判
定手段からの異物信号に基づき異物場所に連続性及び周
期性が有るか否かを判断し、第１の異物場所判定手段か
ら受けた異物信号に連続性又は周期性が有ると判定する
場合には、散乱光検出手段に再検出信号を出力して受光
系に被検査体に対する角度位置を変えて被検査体からの
散乱光を再度検出せしめる。第２の異物判定手段は再検
出信号に基づいて散乱光検出手段から出力された位置信
号及び光強度信号に基づき異物が発生している異物場所
を再度判定すると共に、再検出信号に基づき判定した異
物場所を示す確定異物信号を出力する。そして異物表示
手段は確定異物信号に基づいて異物の発生状態を表示す
るので、異物表示手段には、マスクの繰り返しパターン
からの回折光に基づく異物信号が表示されず、異物から
の散乱光に基づく異物信号のみが表示される。
散乱光検出手段からの光強度信号及び第１の異物場所判
定手段からの異物信号に基づき異物場所に連続性及び周
期性が有るか否かを判断し、第１の異物場所判定手段か
ら受けた異物信号に連続性又は周期性が有ると判定する
場合には、散乱光検出手段に再検出信号を出力して受光
系に被検査体に対する角度位置を変えて被検査体からの
散乱光を再度検出せしめる。第２の異物判定手段は再検
出信号に基づいて散乱光検出手段から出力された位置信
号及び光強度信号に基づき異物が発生している異物場所
を再度判定すると共に、再検出信号に基づき判定した異
物場所を示す確定異物信号を出力する。そして異物表示
手段は確定異物信号に基づいて異物の発生状態を表示す
るので、異物表示手段には、マスクの繰り返しパターン
からの回折光に基づく異物信号が表示されず、異物から
の散乱光に基づく異物信号のみが表示される。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。
る。
【００１７】図１は本発明の第１実施例に係るレチクル
及びペリクル異物検査装置の機能構成図を示すものであ
る。
及びペリクル異物検査装置の機能構成図を示すものであ
る。
【００１８】図１において、１は検査光を出射する光
源、２は被検査体からの散乱光を受ける受光系、３は上
記光源１及び受光系２を有し、散乱光が発生した位置及
び散乱光の強度を検出すると共に散乱光の位置信号及び
光強度信号を出力する異物検出手段としての検出系、４
は検出系３からの位置信号及び光強度信号に基づいて異
物が存在している異物場所を判定すると共に異物場所を
示す異物信号を出力する異物場所判定手段としての信号
処理系、５は検査しようとするレチクル及びペリクルを
載置するステージを制御するステージ制御系、６は検査
状況を確認する異物表示手段としての表示装置、１１は
検出系３からの光強度信号と信号処理系４からの異物信
号とに基づき、異物場所の連続性及び周期性の有無を判
断すると共に、信号処理系４から受けた異物信号のうち
から異物場所に連続性又は周期性が有るものを除いて残
りの異物信号を修正異物信号として信号処理系４に出力
する異物場所修正手段としてのデータ処理系である。
源、２は被検査体からの散乱光を受ける受光系、３は上
記光源１及び受光系２を有し、散乱光が発生した位置及
び散乱光の強度を検出すると共に散乱光の位置信号及び
光強度信号を出力する異物検出手段としての検出系、４
は検出系３からの位置信号及び光強度信号に基づいて異
物が存在している異物場所を判定すると共に異物場所を
示す異物信号を出力する異物場所判定手段としての信号
処理系、５は検査しようとするレチクル及びペリクルを
載置するステージを制御するステージ制御系、６は検査
状況を確認する異物表示手段としての表示装置、１１は
検出系３からの光強度信号と信号処理系４からの異物信
号とに基づき、異物場所の連続性及び周期性の有無を判
断すると共に、信号処理系４から受けた異物信号のうち
から異物場所に連続性又は周期性が有るものを除いて残
りの異物信号を修正異物信号として信号処理系４に出力
する異物場所修正手段としてのデータ処理系である。
【００１９】以下、上記のように構成された第１実施例
のレチクル及びペリクル異物検査装置の動作を説明す
る。
のレチクル及びペリクル異物検査装置の動作を説明す
る。
【００２０】検出系３の働きは従来例と同じである。従
来例と異なるのは、データ処理系１１である。
来例と異なるのは、データ処理系１１である。
【００２１】データ処理系１１の働きを図面に基づいて
説明する。図２及び図３はそれぞれ、データ処理系１１
に送られてくる検出系３からの光強度信号の信号強度と
信号処理系４で判定した異物場所との関係をグラフ化し
たものであり、横軸における１〜１０は異物場所を、縦
軸は信号強度を、破線は異物か否かを判定するしきい値
をそれぞれ示している。
説明する。図２及び図３はそれぞれ、データ処理系１１
に送られてくる検出系３からの光強度信号の信号強度と
信号処理系４で判定した異物場所との関係をグラフ化し
たものであり、横軸における１〜１０は異物場所を、縦
軸は信号強度を、破線は異物か否かを判定するしきい値
をそれぞれ示している。
【００２２】データ処理系１１は、光強度と異物場所と
の関係に連続性及び周期性が有るか否かを検出し、図２
又は図３に示すように、光強度と異物場所との関係に連
続性又は周期性がみられる場合にはマスクの繰り返しパ
ターンからの回折光と判断する。その理由は現在のマス
ク製作時の洗浄技術及び確率的に考えて異物付着の分布
が連続的又は周期的になることは考えられないからであ
る。データ処理系１１は信号処理系４で判定した異物場
所の連続性及び周期性を検出し、連続性又は周期性が有
る場合には異物からの散乱光ではなくマスクの繰り返し
パターンからの回折光と判断し、連続性又は周期性の有
る異物場所を除去した修正異物信号を信号処理系４に送
り返す。
の関係に連続性及び周期性が有るか否かを検出し、図２
又は図３に示すように、光強度と異物場所との関係に連
続性又は周期性がみられる場合にはマスクの繰り返しパ
ターンからの回折光と判断する。その理由は現在のマス
ク製作時の洗浄技術及び確率的に考えて異物付着の分布
が連続的又は周期的になることは考えられないからであ
る。データ処理系１１は信号処理系４で判定した異物場
所の連続性及び周期性を検出し、連続性又は周期性が有
る場合には異物からの散乱光ではなくマスクの繰り返し
パターンからの回折光と判断し、連続性又は周期性の有
る異物場所を除去した修正異物信号を信号処理系４に送
り返す。
【００２３】信号処理系４はデータ処理系１１から受け
た修正異物信号を表示装置６に転送し、表示装置６は修
正異物信号に基づいて異物の発生状態を表示する。
た修正異物信号を表示装置６に転送し、表示装置６は修
正異物信号に基づいて異物の発生状態を表示する。
【００２４】この結果、マスクの繰り返しパターンから
の回折光を異物からの散乱光と誤認することなく、的確
な検査をすることができる。
の回折光を異物からの散乱光と誤認することなく、的確
な検査をすることができる。
【００２５】尚、上記第１実施例においては、データ処
理系１１は修正異物信号を信号処理系４を介して表示装
置６に出力しているが、これに代えて、データ処理系１
１は修正異物信号を表示装置６に対して直接に出力して
もよい。
理系１１は修正異物信号を信号処理系４を介して表示装
置６に出力しているが、これに代えて、データ処理系１
１は修正異物信号を表示装置６に対して直接に出力して
もよい。
【００２６】図４は本発明の第２実施例に係るレチクル
及びペリクル異物検査装置の機能構成図を示すものであ
る。
及びペリクル異物検査装置の機能構成図を示すものであ
る。
【００２７】図４において、１は検査光を出射する光
源、１２は被検査体からの散乱光を受けると共に被検査
体に対する角度位置が可変である受光系、１３は上記光
源１及び受光系１２を有し、散乱光が発生した位置及び
散乱光の強度を検出すると共に散乱光の位置信号及び光
強度信号を出力する異物検出手段としての検出系であ
る。１４は検出系１３からの位置信号及び光強度信号に
基づいて異物が存在している異物場所を判定する第１の
異物場所判定手段及び第２の異物場所判定手段としての
信号処理系、１５は検出系１３からの光強度信号と信号
処理系１４からの異物信号とに基づき、異物場所の連続
性及び周期性の有無を判断し、異物場所に連続性又は周
期性が有ると判断する場合には、検出系１３に対して、
受光系１２に被検査体に対する角度位置を変えて該被検
査体からの散乱光を再度検出せしめる再検出信号を出力
する検出制御手段としてのデータ処理系である。
源、１２は被検査体からの散乱光を受けると共に被検査
体に対する角度位置が可変である受光系、１３は上記光
源１及び受光系１２を有し、散乱光が発生した位置及び
散乱光の強度を検出すると共に散乱光の位置信号及び光
強度信号を出力する異物検出手段としての検出系であ
る。１４は検出系１３からの位置信号及び光強度信号に
基づいて異物が存在している異物場所を判定する第１の
異物場所判定手段及び第２の異物場所判定手段としての
信号処理系、１５は検出系１３からの光強度信号と信号
処理系１４からの異物信号とに基づき、異物場所の連続
性及び周期性の有無を判断し、異物場所に連続性又は周
期性が有ると判断する場合には、検出系１３に対して、
受光系１２に被検査体に対する角度位置を変えて該被検
査体からの散乱光を再度検出せしめる再検出信号を出力
する検出制御手段としてのデータ処理系である。
【００２８】以下、上記のように構成された第２実施例
のレチクル及びペリクル異物検査装置の動作を説明す
る。
のレチクル及びペリクル異物検査装置の動作を説明す
る。
【００２９】本第２実施例も検出系１３からの光強度信
号及び信号処理系１４からの異物信号により、異物場所
に連続性及び周期性が有るか否かを判断し、異物場所に
連続性又は周期性がみられる場合には異物からの散乱光
ではなくマスクの繰り返しパターンからの回折光と判断
する点は第１実施例と同様である。
号及び信号処理系１４からの異物信号により、異物場所
に連続性及び周期性が有るか否かを判断し、異物場所に
連続性又は周期性がみられる場合には異物からの散乱光
ではなくマスクの繰り返しパターンからの回折光と判断
する点は第１実施例と同様である。
【００３０】第２実施例が第１実施例と異なるのは、デ
ータ処理系１５において異物場所に連続性又は周期性が
みられる場合には、異物場所に連続性又は周期性がある
部分を受光系１２に散乱光を再検出させる点である。そ
の理由はマスクの繰り返しパターン上に微小な異物があ
った場合には、繰り返しパターンからの回折光の強度が
異物の散乱光の強度に比べて強すぎたり或いは光の干渉
によってまわりの回折光の強度と区別できない場合があ
るためである。
ータ処理系１５において異物場所に連続性又は周期性が
みられる場合には、異物場所に連続性又は周期性がある
部分を受光系１２に散乱光を再検出させる点である。そ
の理由はマスクの繰り返しパターン上に微小な異物があ
った場合には、繰り返しパターンからの回折光の強度が
異物の散乱光の強度に比べて強すぎたり或いは光の干渉
によってまわりの回折光の強度と区別できない場合があ
るためである。
【００３１】以下、散乱光の再検出時の動作について図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
【００３２】図５はマスクの繰り返しパターンからの回
折光の光強度と受光系１２の被検査体に対する角度との
関係を示すグラフであり、図６は異物からの散乱光の光
強度と受光系の被検査体に対する角度の関係を示すグラ
フである。図５及び図６において横軸は受光系１２の被
検査体に対する角度であり、図５の縦軸はマスクの繰り
返しパターンからの回折光の光強度であり、図６の縦軸
は異物からの散乱光の光強度であり、図５及び図６にお
いて点線は検出系で異物か否かを判定するしきい値を示
す。
折光の光強度と受光系１２の被検査体に対する角度との
関係を示すグラフであり、図６は異物からの散乱光の光
強度と受光系の被検査体に対する角度の関係を示すグラ
フである。図５及び図６において横軸は受光系１２の被
検査体に対する角度であり、図５の縦軸はマスクの繰り
返しパターンからの回折光の光強度であり、図６の縦軸
は異物からの散乱光の光強度であり、図５及び図６にお
いて点線は検出系で異物か否かを判定するしきい値を示
す。
【００３３】図５及び図６において、最初の検査時の受
光系１２の角度がａである場合、受光系１２はマスクの
繰り返しパターンからの回折光の強いピークを受けてい
るため検出系１３は繰り返しパターンからの回折光を異
物からの散乱光であると誤認する。しかし再検査時に受
光系１２の被検査体に対する角度位置を変え、受光系１
２の被検査体に対する角度をｂに変えると、受光系１２
はマスクの繰り返しパターンからの回折光の強いピーク
を受けないので検出系１３は異物が存在するとは判断し
ない。また、図６に示すように、異物からの散乱光の分
布はマスクの繰り返しパターンからの回折光と異なり、
受光系１２の位置をａからｂに動かしてもその強度が大
きく変わることがないので検出系１３は異物が存在する
と判断する。
光系１２の角度がａである場合、受光系１２はマスクの
繰り返しパターンからの回折光の強いピークを受けてい
るため検出系１３は繰り返しパターンからの回折光を異
物からの散乱光であると誤認する。しかし再検査時に受
光系１２の被検査体に対する角度位置を変え、受光系１
２の被検査体に対する角度をｂに変えると、受光系１２
はマスクの繰り返しパターンからの回折光の強いピーク
を受けないので検出系１３は異物が存在するとは判断し
ない。また、図６に示すように、異物からの散乱光の分
布はマスクの繰り返しパターンからの回折光と異なり、
受光系１２の位置をａからｂに動かしてもその強度が大
きく変わることがないので検出系１３は異物が存在する
と判断する。
【００３４】以上の観点から、信号処理系１４は、検出
系１３からの位置信号及び光強度信号に基づき異物が発
生している異物場所を判定し、判定した異物場所を示す
異物信号をデータ処理系１５に出力すると共に、データ
処理系１５からの再検出信号に基づいて検出系１３から
出力された位置信号及び光強度信号に基づき異物が発生
している異物場所を再度判定し、判定した異物場所を示
す確定異物信号を表示装置６に出力する。表示装置６は
確定異物信号に基づき異物の発生状態を表示する。
系１３からの位置信号及び光強度信号に基づき異物が発
生している異物場所を判定し、判定した異物場所を示す
異物信号をデータ処理系１５に出力すると共に、データ
処理系１５からの再検出信号に基づいて検出系１３から
出力された位置信号及び光強度信号に基づき異物が発生
している異物場所を再度判定し、判定した異物場所を示
す確定異物信号を表示装置６に出力する。表示装置６は
確定異物信号に基づき異物の発生状態を表示する。
【００３５】この結果、マスクの繰り返しパターンから
の回折光を異物からの散乱光と誤認することがなく、さ
らに異物の検出能力を下げることがなく的確に検査をす
ることができる。
の回折光を異物からの散乱光と誤認することがなく、さ
らに異物の検出能力を下げることがなく的確に検査をす
ることができる。
【００３６】
【発明の効果】請求項１の発明に係るレチクル及びペリ
クル異物検査装置によると、散乱光検出手段からの光強
度信号及び異物場所判定手段からの異物信号に基づき異
物場所に連続性及び周期性が有るか否かを判断し、異物
場所判定手段から受けた異物信号のうちから連続性又は
周期性を有する異物信号を除去した修正異物信号を出力
する異物場所修正手段を備えており、異物表示手段は異
物場所修正手段が出力する修正異物信号に基づいて異物
の発生状態を表示するため、異物表示手段には異物から
の散乱光に基づく異物信号のみが表示されるので、受光
系がマスクの繰り返しパターンからの回折光を受けた場
合でも、該回折光を異物からの散乱光と誤認することは
ない。
クル異物検査装置によると、散乱光検出手段からの光強
度信号及び異物場所判定手段からの異物信号に基づき異
物場所に連続性及び周期性が有るか否かを判断し、異物
場所判定手段から受けた異物信号のうちから連続性又は
周期性を有する異物信号を除去した修正異物信号を出力
する異物場所修正手段を備えており、異物表示手段は異
物場所修正手段が出力する修正異物信号に基づいて異物
の発生状態を表示するため、異物表示手段には異物から
の散乱光に基づく異物信号のみが表示されるので、受光
系がマスクの繰り返しパターンからの回折光を受けた場
合でも、該回折光を異物からの散乱光と誤認することは
ない。
【００３７】請求項２の発明に係るレチクル及びペリク
ル異物検査装置によると、散乱光検出手段からの光強度
信号及び第１の異物場所判定手段からの異物信号に基づ
き異物場所に連続性及び周期性が有るか否かを判断し、
第１の異物場所判定手段から受けた異物信号に連続性又
は周期性が有すると判定する場合には、受光系に被検査
体に対する角度位置を変えて被検査体からの散乱光を再
度検出せしめる再検査信号を出力する検査制御手段と、
再検出信号に基づいて散乱光検出手段から出力された位
置信号及び光強度信号に基づき異物が発生している異物
場所を再度判定し確定異物信号を出力する第２の異物場
所判定手段とを備えており、異物表示手段は第２の異物
場所判定手段が出力する確定異物信号に基づいて異物の
発生状態を表示するため、異物表示手段には異物からの
散乱光に基づく異物信号のみが表示されるので、受光系
がマスクの繰り返しパターンからの回折光を受けた場合
でも、該回折光を異物からの散乱光と誤認することはな
い。
ル異物検査装置によると、散乱光検出手段からの光強度
信号及び第１の異物場所判定手段からの異物信号に基づ
き異物場所に連続性及び周期性が有るか否かを判断し、
第１の異物場所判定手段から受けた異物信号に連続性又
は周期性が有すると判定する場合には、受光系に被検査
体に対する角度位置を変えて被検査体からの散乱光を再
度検出せしめる再検査信号を出力する検査制御手段と、
再検出信号に基づいて散乱光検出手段から出力された位
置信号及び光強度信号に基づき異物が発生している異物
場所を再度判定し確定異物信号を出力する第２の異物場
所判定手段とを備えており、異物表示手段は第２の異物
場所判定手段が出力する確定異物信号に基づいて異物の
発生状態を表示するため、異物表示手段には異物からの
散乱光に基づく異物信号のみが表示されるので、受光系
がマスクの繰り返しパターンからの回折光を受けた場合
でも、該回折光を異物からの散乱光と誤認することはな
い。
【図１】本発明の第１実施例に係るレチクル及びペリク
ル異物検査装置のブロック図である。
ル異物検査装置のブロック図である。
【図２】上記第１実施例に係るレチクル及びペリクル異
物検査装置のデータ処理系に送られてくる検出系からの
光強度信号の信号強度と信号処理系で判定した異物場所
との関係を示すグラフである。
物検査装置のデータ処理系に送られてくる検出系からの
光強度信号の信号強度と信号処理系で判定した異物場所
との関係を示すグラフである。
【図３】上記第１実施例に係るレチクル及びペリクル異
物検査装置のデータ処理系に送られてくる検出系からの
光強度信号の信号強度と信号処理系で判定した異物場所
との関係を示すグラフである。
物検査装置のデータ処理系に送られてくる検出系からの
光強度信号の信号強度と信号処理系で判定した異物場所
との関係を示すグラフである。
【図４】本発明の第２実施例に係るレチクル及びペリク
ル異物検査装置のブロック図である。
ル異物検査装置のブロック図である。
【図５】上記第２実施例に係るレチクル及びペリクル異
物検査装置において受光系で検出したマスクの繰り返し
パターンからの回折光の光強度と受光系の被検査体に対
する角度との関係を示すグラフである。
物検査装置において受光系で検出したマスクの繰り返し
パターンからの回折光の光強度と受光系の被検査体に対
する角度との関係を示すグラフである。
【図６】上記第２実施例に係るレチクル及びペリクル異
物検査装置において受光系で検出した異物からの散乱光
の光強度と受光系の被検査体に対する角度との関係を示
すグラフである。
物検査装置において受光系で検出した異物からの散乱光
の光強度と受光系の被検査体に対する角度との関係を示
すグラフである。
【図７】従来のレチクル及びペリクル異物検査装置のブ
ロック図である。
ロック図である。
【図８】従来のレチクル及びペリクル異物検査装置にお
ける検出系の働きを示す概略斜視図である。
ける検出系の働きを示す概略斜視図である。
１ 光源 ２ 受光系 ３ 検出系（散乱光検出手段） ４ 信号処理系（異物場所判定手段） ５ ステージ制御系 ６ 表示装置（異物表示手段） １１ データ処理系（異物場所修正手段） １２ 受光系 １３ 検出系（散乱光検出手段） １４ 信号処理系（第１の異物場所判定手段及び第２の
異物場所判定手段） １５ データ処理系（検出制御手段）
異物場所判定手段） １５ データ処理系（検出制御手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 検査光を被検査体に向かって出射する光
源と被検査体からの散乱光を受光する受光系とを有し、
散乱光が発生した位置及び散乱光の光強度を検出すると
共に、散乱光が発生した位置を示す位置信号及び散乱光
の光強度を示す光強度信号をそれぞれ出力する散乱光検
出手段と、 該散乱光検出手段からの位置信号及び光強度信号に基づ
き異物が発生している異物場所を判定すると共に、判定
した異物場所を示す異物信号を出力する異物場所判定手
段と、 該異物場所判定手段から異物信号を受け、上記散乱光検
出手段からの光強度信号及び上記異物場所判定手段から
の異物信号に基づき異物場所に連続性及び周期性が有る
か否かを判断し、上記異物場所判定手段から受けた異物
信号のうちから連続性又は周期性を有する異物信号を除
去し、残りの異物信号である修正異物信号を出力する異
物場所修正手段と、 上記異物場所修正手段からの修正異物信号に基づいて異
物の発生状態を表示する異物表示手段とを備えているこ
とを特徴とするレチクル及びペリクル異物検査装置。 - 【請求項２】 検査光を被検査体に向かって出射する光
源と被検査体からの散乱光を受光する該被検査体に対す
る角度位置が可変な受光系とを有し、散乱光が発生した
位置及び散乱光の光強度を検出すると共に、散乱光が発
生した位置を示す位置信号及び散乱光の光強度を示す光
強度信号をそれぞれ出力する散乱光検出手段と、 該散乱光検出手段からの位置信号及び光強度信号に基づ
き異物が発生している異物場所を判定すると共に、判定
した異物場所を示す異物信号を出力する第１の異物場所
判定手段と、 該第１の異物場所判定手段から異物信号を受け、上記散
乱光検出手段からの光強度信号及び上記第１の異物場所
判定手段からの異物信号に基づき異物場所に連続性及び
周期性が有るか否かを判断し、上記第１の異物場所判定
手段から受けた異物信号が連続性又は周期性を有すると
判定する場合には、上記散乱光検出手段に対して上記受
光系の被検査体に対する角度位置を変えて該被検査体か
らの散乱光を再度検出せしめると共に再度検出した散乱
光の位置及び光強度に基づく位置信号及び光強度信号を
それぞれ出力せしめる再検出信号を上記散乱光検出手段
に対して出力する検出制御手段と、 該検出制御手段からの再検出信号に基づいて上記散乱光
検出手段から出力された位置信号及び光強度信号に基づ
き異物が発生している異物場所を再度判定すると共に、
再検出信号に基づき判定した異物場所を示す確定異物信
号を出力する第２の異物場所判定手段と、 該第２の異物場所判定手段から出力された確定異物信号
に基づいて異物の発生状態を表示する異物表示手段とを
備えていることを特徴とするレチクル及びペリクル異物
検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP270993A JPH06207907A (ja) | 1993-01-11 | 1993-01-11 | レチクル及びペリクル異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP270993A JPH06207907A (ja) | 1993-01-11 | 1993-01-11 | レチクル及びペリクル異物検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06207907A true JPH06207907A (ja) | 1994-07-26 |
Family
ID=11536831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP270993A Withdrawn JPH06207907A (ja) | 1993-01-11 | 1993-01-11 | レチクル及びペリクル異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06207907A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100396378B1 (ko) * | 2001-05-08 | 2003-09-02 | 아남반도체 주식회사 | 반도체 노광장비의 레티클 표면 이물질 제거장치 |
| CN107643549A (zh) * | 2017-10-13 | 2018-01-30 | 国电大渡河流域水电开发有限公司龚嘴水力发电总厂 | 非接触式发电机组气隙异物在线检测报警结构及报警方法 |
-
1993
- 1993-01-11 JP JP270993A patent/JPH06207907A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100396378B1 (ko) * | 2001-05-08 | 2003-09-02 | 아남반도체 주식회사 | 반도체 노광장비의 레티클 표면 이물질 제거장치 |
| CN107643549A (zh) * | 2017-10-13 | 2018-01-30 | 国电大渡河流域水电开发有限公司龚嘴水力发电总厂 | 非接触式发电机组气隙异物在线检测报警结构及报警方法 |
| CN107643549B (zh) * | 2017-10-13 | 2024-03-01 | 国能大渡河流域水电开发有限公司龚嘴水力发电总厂 | 非接触式发电机组气隙异物在线检测报警结构及报警方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000404 |