JPH0621532A - 微小回転機構 - Google Patents
微小回転機構Info
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- JPH0621532A JPH0621532A JP4177062A JP17706292A JPH0621532A JP H0621532 A JPH0621532 A JP H0621532A JP 4177062 A JP4177062 A JP 4177062A JP 17706292 A JP17706292 A JP 17706292A JP H0621532 A JPH0621532 A JP H0621532A
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- rotating shaft
- rotation mechanism
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 回転子の安定回転時において、回転子が回転
軸と、アキシャル方向のみではなく、ラジアル方向にも
摩擦接触することはなく、回転ロスを大幅に減らすこと
ができる微小回転機構を得ることを目的とする。 【構成】 基板４上に回転軸２を有し、回転子１により
回転する微小回転機構において、この回転軸２の回転子
１と対向する面と、回転軸２の中心軸を含む平面との交
線は、この中心軸に対して斜めになっている微小回転機
構である。
軸と、アキシャル方向のみではなく、ラジアル方向にも
摩擦接触することはなく、回転ロスを大幅に減らすこと
ができる微小回転機構を得ることを目的とする。 【構成】 基板４上に回転軸２を有し、回転子１により
回転する微小回転機構において、この回転軸２の回転子
１と対向する面と、回転軸２の中心軸を含む平面との交
線は、この中心軸に対して斜めになっている微小回転機
構である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、いわゆるマイクロマシ
ンの分野に属する微小回転機構に関する。
ンの分野に属する微小回転機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】昨今、超小型の機械を意味するマイクロ
マシンが、大学や学会だけにとどまらず、産業界でも口
頭に上ることが多くなってきた。米国の半導体研究者を
中心に研究が活発化したマイクロマシンは、アクチュエ
ーターや歯車などの機械素子とセンサや演算制御回路な
どの電子素子を同時に作製し、マイクロサイズのメカト
ロニック・システムを創製しようというものである。こ
のテーマは、電子工学にとどまらず、多くの分野の研究
者に大きな夢を抱かせるものである。特に、機能材料を
はじめとする材料物性研究と応用研究との距離が従来以
上に近くなる分野でもある。
マシンが、大学や学会だけにとどまらず、産業界でも口
頭に上ることが多くなってきた。米国の半導体研究者を
中心に研究が活発化したマイクロマシンは、アクチュエ
ーターや歯車などの機械素子とセンサや演算制御回路な
どの電子素子を同時に作製し、マイクロサイズのメカト
ロニック・システムを創製しようというものである。こ
のテーマは、電子工学にとどまらず、多くの分野の研究
者に大きな夢を抱かせるものである。特に、機能材料を
はじめとする材料物性研究と応用研究との距離が従来以
上に近くなる分野でもある。
【０００３】マイクロマシンの分野に属するものの１つ
として微小回転機構というものがある。これは、シリコ
ンなどの基板上に作られる可動機構素子、すなわち、シ
リコンなどの基板上に半導体製造プロセスである写真露
光技術によるパターン形成、ＣＶＤ法などによる薄膜形
成、選択的エッチング等を駆使して、回転軸及び回転子
を作製したものである。
として微小回転機構というものがある。これは、シリコ
ンなどの基板上に作られる可動機構素子、すなわち、シ
リコンなどの基板上に半導体製造プロセスである写真露
光技術によるパターン形成、ＣＶＤ法などによる薄膜形
成、選択的エッチング等を駆使して、回転軸及び回転子
を作製したものである。
【０００４】図５及び図６は、この微小回転機構の例を
示したものである。ここで、図５の中央にある８つの突
起を持っているものが、多結晶シリコン（ポリシリコ
ン）でできた回転子１であり、それを取り囲んでいる１
２本の突起が固定子７である。回転子１は、回転子１が
飛び出さないようにするためのストッパーを上部に持つ
回転軸２に対して、回転自在に配されている。
示したものである。ここで、図５の中央にある８つの突
起を持っているものが、多結晶シリコン（ポリシリコ
ン）でできた回転子１であり、それを取り囲んでいる１
２本の突起が固定子７である。回転子１は、回転子１が
飛び出さないようにするためのストッパーを上部に持つ
回転軸２に対して、回転自在に配されている。
【０００５】上述の固定子に電圧を印加すると、回転子
１の外側に反対の電荷が寄ってきて集まり、固定子７と
回転子１は、引きつけ合うことになる。この電圧を交流
として、固定子７の電圧を順に変わるように回して行く
と、回転子１は、それぞれ、次の固定子７に引き付けら
れて回転するようになる。以上が駆動原理である。
１の外側に反対の電荷が寄ってきて集まり、固定子７と
回転子１は、引きつけ合うことになる。この電圧を交流
として、固定子７の電圧を順に変わるように回して行く
と、回転子１は、それぞれ、次の固定子７に引き付けら
れて回転するようになる。以上が駆動原理である。
【０００６】次に、この微小回転機構の製造方法を図７
〜図９を用いて、具体的に説明することとする。まず、
図７Ａに示すように、Ｓｉよりなる基板４をＯ2 やＨ2
Ｏの酸化性雰囲気の中で高温に熱し、酸化膜のＳｉＯ2
層を基板４上に形成する。次に、高分子材であるフォト
レジスト８をＳｉＯ2 上に塗布する（図７Ｂ）。次に、
露光マスク５を用いてパターン通りにフォトレジストを
感光させる（図７Ｃ）。次に、余分なフォトレジスト８
を洗浄して除去する（図８Ａ）。次に、ＨＦ水溶液を用
いて露出しているＳｉＯ2 層のみを溶かし、レジスト８
や基板４は侵さないようにする（図８Ｂ）。次に、有機
溶剤を用いて、レジスト８を除去する（図８Ｃ）。次
に、回転子１になるポリシリコン（Ｐｏｌｙ Ｓｉ）層
をＰＳＧ層（第１層）のＳｉＯ2 層上にＣＶＤ（ケミカ
ルベーパーデポジション）法を用いて形成する。すなわ
ち、図９Ａに示すポリシリコン層（第２層）である。こ
こで、除去されるＳｉＯ2 層をＰＳＧ（犠牲層）と呼ぶ
のは、完成時には除去されてしまうためである。次に、
回転軸２を形成するための前工程として、再びＳｉＯ2
層をＣＶＤ法により形成する。すなわち、図９Ｂに示す
ＳｉＯ2 層からなるＰＳＧ層（第３層）である。次に、
回転軸２となるポリシリコン層をＣＶＤにより形成す
る。すなわち、図９Ｃに示すポリシリコン層（第４層）
である。最後に、図９Ｄに示すように、再び、ＨＦ水溶
液を用いてＳｉＯ2 層のみを除去することにより、微小
回転機構が完成する。
〜図９を用いて、具体的に説明することとする。まず、
図７Ａに示すように、Ｓｉよりなる基板４をＯ2 やＨ2
Ｏの酸化性雰囲気の中で高温に熱し、酸化膜のＳｉＯ2
層を基板４上に形成する。次に、高分子材であるフォト
レジスト８をＳｉＯ2 上に塗布する（図７Ｂ）。次に、
露光マスク５を用いてパターン通りにフォトレジストを
感光させる（図７Ｃ）。次に、余分なフォトレジスト８
を洗浄して除去する（図８Ａ）。次に、ＨＦ水溶液を用
いて露出しているＳｉＯ2 層のみを溶かし、レジスト８
や基板４は侵さないようにする（図８Ｂ）。次に、有機
溶剤を用いて、レジスト８を除去する（図８Ｃ）。次
に、回転子１になるポリシリコン（Ｐｏｌｙ Ｓｉ）層
をＰＳＧ層（第１層）のＳｉＯ2 層上にＣＶＤ（ケミカ
ルベーパーデポジション）法を用いて形成する。すなわ
ち、図９Ａに示すポリシリコン層（第２層）である。こ
こで、除去されるＳｉＯ2 層をＰＳＧ（犠牲層）と呼ぶ
のは、完成時には除去されてしまうためである。次に、
回転軸２を形成するための前工程として、再びＳｉＯ2
層をＣＶＤ法により形成する。すなわち、図９Ｂに示す
ＳｉＯ2 層からなるＰＳＧ層（第３層）である。次に、
回転軸２となるポリシリコン層をＣＶＤにより形成す
る。すなわち、図９Ｃに示すポリシリコン層（第４層）
である。最後に、図９Ｄに示すように、再び、ＨＦ水溶
液を用いてＳｉＯ2 層のみを除去することにより、微小
回転機構が完成する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の微小回転機構では、構成部自体の大きさが微小
であるため、ころがり軸受けなどの回転をスムーズにさ
せる構成部品を設けることができない。
た従来の微小回転機構では、構成部自体の大きさが微小
であるため、ころがり軸受けなどの回転をスムーズにさ
せる構成部品を設けることができない。
【０００８】また、オイルやグリースなども粘性ロスが
大きくなるので使用できないため、このままでは、回転
子１と、基板４または回転軸２と間の摩擦が大きく、微
小回転機構自体の寿命も短くなってしまうといった問題
があった。
大きくなるので使用できないため、このままでは、回転
子１と、基板４または回転軸２と間の摩擦が大きく、微
小回転機構自体の寿命も短くなってしまうといった問題
があった。
【０００９】特に、半導体プロセスを応用した稼働機構
は、平面的であり、厚みのある立体構造を採ることが困
難であるため、回転子１のラジアル方向に対する回転軸
２との摩擦、摩耗についてあまり考慮が払われていない
などの問題があった。
は、平面的であり、厚みのある立体構造を採ることが困
難であるため、回転子１のラジアル方向に対する回転軸
２との摩擦、摩耗についてあまり考慮が払われていない
などの問題があった。
【００１０】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであり、回転子の安定回転時において、回転子が回
転軸と、アキシャル方向のみではなく、ラジアル方向に
も摩擦接触することはなく、回転ロスを大幅に減らすこ
とができる微小回転機構を得ることを目的とする。
ものであり、回転子の安定回転時において、回転子が回
転軸と、アキシャル方向のみではなく、ラジアル方向に
も摩擦接触することはなく、回転ロスを大幅に減らすこ
とができる微小回転機構を得ることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の微小回転機構
は、例えば図１に示すように、基板４上に回転軸２を有
し、回転子１により回転する微小回転機構において、こ
の回転軸２の回転子１と対向する面と、回転軸２の中心
軸を含む平面との交線は、この中心軸に対して斜めにな
っているものである。
は、例えば図１に示すように、基板４上に回転軸２を有
し、回転子１により回転する微小回転機構において、こ
の回転軸２の回転子１と対向する面と、回転軸２の中心
軸を含む平面との交線は、この中心軸に対して斜めにな
っているものである。
【００１２】また、本発明の微小回転機構は、回転軸２
の回転子１と対向する面が、グルーブを有するものであ
る上述構成の微小回転機構である。また、本発明の微小
回転機構は、グルーブが、フィッシュボーン形状を有す
るものである上述構成の微小回転機構である。
の回転子１と対向する面が、グルーブを有するものであ
る上述構成の微小回転機構である。また、本発明の微小
回転機構は、グルーブが、フィッシュボーン形状を有す
るものである上述構成の微小回転機構である。
【００１３】
【作用】本発明の微小回転機構によれば、基板４上に回
転軸２を有し、回転子１により回転する微小回転機構に
おいて、この回転軸２の回転子１と対向する面と、回転
軸２の中心軸を含む平面との交線は、この中心軸に対し
て斜めになっているものとすることにより、回転軸２の
傾斜部２ａ及び回転子１で動圧効果を発生しているた
め、安定回転時には、回転軸２と回転子１は、摩擦接触
することはなく、これは、アキシャル方向のみではな
く、従来余り考慮されいなかったいラジアル方向にも効
果が現れ、厚みの余りない構造においても、回転ロスを
大幅に減らすことができる。
転軸２を有し、回転子１により回転する微小回転機構に
おいて、この回転軸２の回転子１と対向する面と、回転
軸２の中心軸を含む平面との交線は、この中心軸に対し
て斜めになっているものとすることにより、回転軸２の
傾斜部２ａ及び回転子１で動圧効果を発生しているた
め、安定回転時には、回転軸２と回転子１は、摩擦接触
することはなく、これは、アキシャル方向のみではな
く、従来余り考慮されいなかったいラジアル方向にも効
果が現れ、厚みの余りない構造においても、回転ロスを
大幅に減らすことができる。
【００１４】また、本発明の微小回転機構によれば、回
転軸２の回転子１と対向する面が、グルーブを有するも
のである上述構成の微小回転機構とすることにより、上
述の効果にさらに、溝パターンによる動圧効果を発生さ
せ、回転子１のラジアル方向、アキシャル方向の両方向
をエアフィルムで受け、回転ロスを減少させることがで
きる。
転軸２の回転子１と対向する面が、グルーブを有するも
のである上述構成の微小回転機構とすることにより、上
述の効果にさらに、溝パターンによる動圧効果を発生さ
せ、回転子１のラジアル方向、アキシャル方向の両方向
をエアフィルムで受け、回転ロスを減少させることがで
きる。
【００１５】また、本発明の微小回転機構によれば、グ
ルーブが、フィッシュボーン形状を有するものである上
述構成の微小回転機構とすることにより、上述の効果に
さらに、フィッシュボーン形状の溝パターンによる一様
な高い動圧効果を発生させ、回転子１のラジアル方向、
アキシャル方向の両方向をエアフィルムで受け、回転ロ
スを減少させることができる。
ルーブが、フィッシュボーン形状を有するものである上
述構成の微小回転機構とすることにより、上述の効果に
さらに、フィッシュボーン形状の溝パターンによる一様
な高い動圧効果を発生させ、回転子１のラジアル方向、
アキシャル方向の両方向をエアフィルムで受け、回転ロ
スを減少させることができる。
【００１６】
【００１７】以下、本発明微小回転機構の一実施例につ
いて図１〜図３を参照しながら、製造方法とともに説明
することとする。
いて図１〜図３を参照しながら、製造方法とともに説明
することとする。
【００１８】まず、図２Ａに示すように、基板４を円錐
形の一部を形成するようにエッチングして、傾斜部２ａ
を作製する。次に、基板４の傾斜部２ａに、図４に示す
ようなフィッシュボーン形状の溝パターンをフォトリソ
グラフィにより形成する（図２Ｂ）。
形の一部を形成するようにエッチングして、傾斜部２ａ
を作製する。次に、基板４の傾斜部２ａに、図４に示す
ようなフィッシュボーン形状の溝パターンをフォトリソ
グラフィにより形成する（図２Ｂ）。
【００１９】次に、基板４上にＳｉＯ2 層４ａをＣＶＤ
により形成する（図２Ｃ）。次に、このＳｉＯ2 層４ａ
上に回転子１となるポリシリコンをＣＶＤにより形成す
る（図２Ｄ）。次に、このポリシリコン層１の上に、回
転軸２を形成する前工程としてＣＶＤによりＳｉＯ2 膜
４ｂを形成する（図３Ａ）。
により形成する（図２Ｃ）。次に、このＳｉＯ2 層４ａ
上に回転子１となるポリシリコンをＣＶＤにより形成す
る（図２Ｄ）。次に、このポリシリコン層１の上に、回
転軸２を形成する前工程としてＣＶＤによりＳｉＯ2 膜
４ｂを形成する（図３Ａ）。
【００２０】次に、円錐形の一部を形成した傾斜部２ａ
上に、回転軸２となるポリシリコンをＣＶＤにより形成
する（図３Ｂ）。ここで、回転軸２は、回転子１を保持
するものであり、回転軸２は途中から、下部に行くに従
って円錐状に広がった形状を維持しながら基板４と連続
している。この円錐形の部分において回転子１と接する
ものである。また、回転軸２の上部には、回転子１が脱
離しないように円盤状のストッパーが設けられている。
上に、回転軸２となるポリシリコンをＣＶＤにより形成
する（図３Ｂ）。ここで、回転軸２は、回転子１を保持
するものであり、回転軸２は途中から、下部に行くに従
って円錐状に広がった形状を維持しながら基板４と連続
している。この円錐形の部分において回転子１と接する
ものである。また、回転軸２の上部には、回転子１が脱
離しないように円盤状のストッパーが設けられている。
【００２１】最後に、ＨＦ水溶液を用いて、全てのＳｉ
Ｏ2 層を除去し、本例の微小回転機構が完成する（図３
Ｃ、図１））。ここで、回転子１は、回転軸２に保持さ
れ、この回転軸２を中心として回転するところのもので
あり、本例の微小回転機構の中心的な構成をなすもので
ある。この回転子１の回転軸２と接触する内周面（動圧
軸受け部１ａ）は、回転軸２の円錐部と同じ形状を有す
るものであり、回転子１が静止しているときには、回転
軸２に密着するようになる。また、この回転軸２の動圧
軸受け部１ａの直径は、適当な範囲とすることにより、
回転子１の下面が基板４の上面と接触しないように、一
定の隙間を確保するようにする。
Ｏ2 層を除去し、本例の微小回転機構が完成する（図３
Ｃ、図１））。ここで、回転子１は、回転軸２に保持さ
れ、この回転軸２を中心として回転するところのもので
あり、本例の微小回転機構の中心的な構成をなすもので
ある。この回転子１の回転軸２と接触する内周面（動圧
軸受け部１ａ）は、回転軸２の円錐部と同じ形状を有す
るものであり、回転子１が静止しているときには、回転
軸２に密着するようになる。また、この回転軸２の動圧
軸受け部１ａの直径は、適当な範囲とすることにより、
回転子１の下面が基板４の上面と接触しないように、一
定の隙間を確保するようにする。
【００２２】ここにおいて、回転軸２の傾斜部２ａを形
成する方法としては、基板４を異方性エッチングなどで
削って形成する方法の他に、基板４上にＣＶＤ法などで
膜形成した後に、作製する方法でも形成できる。また、
回転軸２の上部及び回転子１は、上述したように、膜形
成と選択的エッチングなどを駆使して構成することがで
きる。
成する方法としては、基板４を異方性エッチングなどで
削って形成する方法の他に、基板４上にＣＶＤ法などで
膜形成した後に、作製する方法でも形成できる。また、
回転軸２の上部及び回転子１は、上述したように、膜形
成と選択的エッチングなどを駆使して構成することがで
きる。
【００２３】回転軸２の傾斜部２ａには、写真露光技術
によるパターン形成とエッチングを駆使して、図４の例
に示したような溝パターンを形成し、回転子１の回転に
より動圧効果でエアフィルムが発生するようにしてい
る。溝パターンは、図４のフィッシュボーン形状に限ら
ず、スパイラル形状のものなどでも動圧効果を出すこと
ができる。
によるパターン形成とエッチングを駆使して、図４の例
に示したような溝パターンを形成し、回転子１の回転に
より動圧効果でエアフィルムが発生するようにしてい
る。溝パターンは、図４のフィッシュボーン形状に限ら
ず、スパイラル形状のものなどでも動圧効果を出すこと
ができる。
【００２４】また、図１の見てもわかるように、静止状
態では、回転子１は、基板４とは接触しておらず、回転
軸２の傾斜部２ａのみと接触しているので、図６の従来
例（図の表現により、回転子１と基板４は接触していな
いが、回転子の静止時には、回転子１の底面全体が基板
４の上面と接触することになる。）の回転子１よりも、
接触面積が少なく、スティクションという回転子１が張
りついて動作不能となってしまう現象を防ぐことができ
る。また、本例は、モータの回転部分のみならず、動力
伝達手段である歯車などの回転機構に対しても有効であ
る。
態では、回転子１は、基板４とは接触しておらず、回転
軸２の傾斜部２ａのみと接触しているので、図６の従来
例（図の表現により、回転子１と基板４は接触していな
いが、回転子の静止時には、回転子１の底面全体が基板
４の上面と接触することになる。）の回転子１よりも、
接触面積が少なく、スティクションという回転子１が張
りついて動作不能となってしまう現象を防ぐことができ
る。また、本例は、モータの回転部分のみならず、動力
伝達手段である歯車などの回転機構に対しても有効であ
る。
【００２５】以上のように、本例によれば、基板４上に
回転軸２を有し、回転子１により回転する微小回転機構
において、この回転軸２の回転子１と対向する面と、回
転軸２の中心軸を含む平面との交線は、この中心軸に対
して斜めになっているものとすることにより、回転軸２
の傾斜部２ａ及び回転子１で動圧効果を発生しているた
め、安定回転時には、回転軸２と回転子１は、摩擦接触
することはなく、これは、アキシャル方向のみではな
く、従来余り考慮されいなかったいラジアル方向にも効
果が現れ、厚みの余りない構造においても、回転ロスを
大幅に減らすことができる。また、二次的効果として、
構成上、静止時には、回転軸２と回転子１は、傾斜部２
ａでのみ接触することになるので、従来のものよりも、
接触面積が、かなり小さいのでスティクションを防止す
ることができる。 さらに、本例を実施するに当たって
は、従来からの半導体製造プロセスの応用で製造するこ
とができるので、大量生産が可能である。
回転軸２を有し、回転子１により回転する微小回転機構
において、この回転軸２の回転子１と対向する面と、回
転軸２の中心軸を含む平面との交線は、この中心軸に対
して斜めになっているものとすることにより、回転軸２
の傾斜部２ａ及び回転子１で動圧効果を発生しているた
め、安定回転時には、回転軸２と回転子１は、摩擦接触
することはなく、これは、アキシャル方向のみではな
く、従来余り考慮されいなかったいラジアル方向にも効
果が現れ、厚みの余りない構造においても、回転ロスを
大幅に減らすことができる。また、二次的効果として、
構成上、静止時には、回転軸２と回転子１は、傾斜部２
ａでのみ接触することになるので、従来のものよりも、
接触面積が、かなり小さいのでスティクションを防止す
ることができる。 さらに、本例を実施するに当たって
は、従来からの半導体製造プロセスの応用で製造するこ
とができるので、大量生産が可能である。
【００２６】また、本例によれば、回転軸２の回転子１
と対向する面が、グルーブを有するものである上述構成
の微小回転機構とすることにより、上述の効果にさら
に、溝パターンによる動圧効果を発生させ、回転子１の
ラジアル方向、アキシャル方向の両方向をエアフィルム
で受け、回転ロスを減少させることができる。
と対向する面が、グルーブを有するものである上述構成
の微小回転機構とすることにより、上述の効果にさら
に、溝パターンによる動圧効果を発生させ、回転子１の
ラジアル方向、アキシャル方向の両方向をエアフィルム
で受け、回転ロスを減少させることができる。
【００２７】また、本例によれば、グルーブが、フィッ
シュボーン形状を有するものである上述構成の微小回転
機構とすることにより、上述の効果にさらに、フィッシ
ュボーン形状の溝パターンによる一様な高い動圧効果を
発生させ、回転子１のラジアル方向、アキシャル方向の
両方向をエアフィルムで受け、回転ロスを減少させるこ
とができる。
シュボーン形状を有するものである上述構成の微小回転
機構とすることにより、上述の効果にさらに、フィッシ
ュボーン形状の溝パターンによる一様な高い動圧効果を
発生させ、回転子１のラジアル方向、アキシャル方向の
両方向をエアフィルムで受け、回転ロスを減少させるこ
とができる。
【００２８】なお、本発明は上述の実施例に限らず本発
明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採り得
ることはもちろんである。
明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採り得
ることはもちろんである。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
回転軸２の傾斜部２ａ及び回転子１で動圧効果を発生し
ているため、安定回転時には、回転軸２と回転子１は、
摩擦接触することはなく、これは、アキシャル方向のみ
ではなく、従来余り考慮されいなかったいラジアル方向
にも効果が現れ、厚みの余りない構造においても、回転
ロスを大幅に減らすこと、すなわち、溝パターンによる
動圧効果を発生させ、回転子１のラジアル方向、アキシ
ャル方向の両方向をエアフィルムで受け、回転ロスを減
少させることができる。また、二次的効果として、構成
上、静止時には、回転軸２と回転子１は、傾斜部２ａで
のみ接触することになるので、従来のものよりも、接触
面積が、かなり小さいのでスティクションを防止するこ
とができる。 さらに、本例を実施するに当たっては、
従来からの半導体製造プロセスの応用で製造することが
できるので、大量生産が可能である。
回転軸２の傾斜部２ａ及び回転子１で動圧効果を発生し
ているため、安定回転時には、回転軸２と回転子１は、
摩擦接触することはなく、これは、アキシャル方向のみ
ではなく、従来余り考慮されいなかったいラジアル方向
にも効果が現れ、厚みの余りない構造においても、回転
ロスを大幅に減らすこと、すなわち、溝パターンによる
動圧効果を発生させ、回転子１のラジアル方向、アキシ
ャル方向の両方向をエアフィルムで受け、回転ロスを減
少させることができる。また、二次的効果として、構成
上、静止時には、回転軸２と回転子１は、傾斜部２ａで
のみ接触することになるので、従来のものよりも、接触
面積が、かなり小さいのでスティクションを防止するこ
とができる。 さらに、本例を実施するに当たっては、
従来からの半導体製造プロセスの応用で製造することが
できるので、大量生産が可能である。
【図１】本発明微小回転機構の一実施例を示す構成図で
ある。
ある。
【図２】本発明微小回転機構の一実施例の製造過程図で
ある。
ある。
【図３】本発明微小回転機構の一実施例の製造過程図で
ある。
ある。
【図４】動圧軸受け部の溝パターン例を示す説明図であ
る。
る。
【図５】従来の微小回転機構の例を示す構成図である。
【図６】従来の微小回転機構の例を示す構成図である。
【図７】従来例の微小回転機構の製造過程図である。
【図８】従来例の微小回転機構の製造過程図である。
【図９】従来例の微小回転機構の製造過程図である。
１ 回転子 １ａ 動圧軸受け部 ２ 回転軸 ２ａ 傾斜部 ４ 基板
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に回転軸を有し、回転子により回
転する微小回転機構において、 上記回転軸の回転子と対向する面と、回転軸の中心軸を
含む平面との交線は、この中心軸に対して斜めになって
いることを特徴とする微小回転機構。 - 【請求項２】 回転軸の回転子と対向する面は、グルー
ブを有するものであることを特徴とする請求項１記載の
微小回転機構。 - 【請求項３】 グルーブは、フィッシュボーン形状を有
するものであることを特徴とする請求項２記載の微小回
転機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17706292A JP3297755B2 (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 微小回転機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17706292A JP3297755B2 (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 微小回転機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0621532A true JPH0621532A (ja) | 1994-01-28 |
| JP3297755B2 JP3297755B2 (ja) | 2002-07-02 |
Family
ID=16024459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17706292A Expired - Fee Related JP3297755B2 (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 微小回転機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3297755B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7088019B2 (en) * | 2002-12-10 | 2006-08-08 | Sony Corporation | Air bearing for MEMS based motor |
| US8022794B2 (en) | 2006-04-28 | 2011-09-20 | Panasonic Corporation | Micromachine switch, filter circuit, duplexer circuit, and communication device |
-
1992
- 1992-07-03 JP JP17706292A patent/JP3297755B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7088019B2 (en) * | 2002-12-10 | 2006-08-08 | Sony Corporation | Air bearing for MEMS based motor |
| US8022794B2 (en) | 2006-04-28 | 2011-09-20 | Panasonic Corporation | Micromachine switch, filter circuit, duplexer circuit, and communication device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3297755B2 (ja) | 2002-07-02 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |