JPH0621537Y2 - 酸素製造用昇圧装置 - Google Patents
酸素製造用昇圧装置Info
- Publication number
- JPH0621537Y2 JPH0621537Y2 JP6687788U JP6687788U JPH0621537Y2 JP H0621537 Y2 JPH0621537 Y2 JP H0621537Y2 JP 6687788 U JP6687788 U JP 6687788U JP 6687788 U JP6687788 U JP 6687788U JP H0621537 Y2 JPH0621537 Y2 JP H0621537Y2
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- Japan
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- tank
- pressure
- oxygen
- gas
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Links
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Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は吸着性物質の圧力差による吸着作用を利用した
分離法であるＰＳＡ法によって空気から分離した酸素ガ
スを、所定値以上の濃度を維持しながら高圧タンクに圧
送する昇圧装置に関するものである。
分離法であるＰＳＡ法によって空気から分離した酸素ガ
スを、所定値以上の濃度を維持しながら高圧タンクに圧
送する昇圧装置に関するものである。
［従来技術と問題点］ ゼオライト等多孔質吸着性物質を充填した吸着塔Ａによ
って、ブロワＢの送入空気から酸素ガスを分離し、レシ
ーバタンクＲに貯える装置は公知である。第２図の如く
レシーバタンクＲに圧縮機Ｃを接続し、高圧化した酸素
ガスを高圧タンクＴに蓄積することも行われている。
って、ブロワＢの送入空気から酸素ガスを分離し、レシ
ーバタンクＲに貯える装置は公知である。第２図の如く
レシーバタンクＲに圧縮機Ｃを接続し、高圧化した酸素
ガスを高圧タンクＴに蓄積することも行われている。
しかし以上の装置では圧縮機Ｃの駆動によりレシーバタ
ンクＲ内のガス圧は次第に低下し、吸着塔内で十分に吸
着工程を経ていないガスまでが、強制吸出しされる可能
性がある。一方ＰＳＡ法による空気分離装置の欠点とし
て起動時の濃度の低下あるいは昼夜、夏冬の気温の変化
による生産量及び濃度の変動が問題となっており、この
欠点をカバーすることが出来る昇圧装置の開発が望まれ
ていた。
ンクＲ内のガス圧は次第に低下し、吸着塔内で十分に吸
着工程を経ていないガスまでが、強制吸出しされる可能
性がある。一方ＰＳＡ法による空気分離装置の欠点とし
て起動時の濃度の低下あるいは昼夜、夏冬の気温の変化
による生産量及び濃度の変動が問題となっており、この
欠点をカバーすることが出来る昇圧装置の開発が望まれ
ていた。
［問題点解決の手段］ たんなるガス溜めであったレシーバタンクＲの後に調整
タンクＭを設け、このタンクの圧力変化及び濃度変化に
よって圧縮機Ｃの駆動停止を自動的に制御できるように
する。即ちタンクＭの圧力が所定下限または濃度が所定
以下に達したとき圧縮機が自動停止し、所定上限または
所定濃度に達したとき起動するようにする。これにより
レシーバタンクＲから無理な吸気を行わないようにす
る。又ＰＳＡ装置からの生産ガスの流量及び濃度の変動
を調整タンクＭでコントロールする事により、高圧タン
クＴ内に所定濃度のガスを蓄圧できる。
タンクＭを設け、このタンクの圧力変化及び濃度変化に
よって圧縮機Ｃの駆動停止を自動的に制御できるように
する。即ちタンクＭの圧力が所定下限または濃度が所定
以下に達したとき圧縮機が自動停止し、所定上限または
所定濃度に達したとき起動するようにする。これにより
レシーバタンクＲから無理な吸気を行わないようにす
る。又ＰＳＡ装置からの生産ガスの流量及び濃度の変動
を調整タンクＭでコントロールする事により、高圧タン
クＴ内に所定濃度のガスを蓄圧できる。
［実施例］ 第１図について説明する。ブロワＢ、吸着塔Ａ、レシー
バタンクＲから構成する酸素製造装置Ｓおよび調整タン
クＭ、ガス圧縮機Ｃ、高圧タンクＴがこの順に管で接続
されている。調整タンクには酸素濃度計Ｎと圧力スイッ
チＰとが附設され、タンク内ガスを大気中へ放出或は閉
塞可能な電磁弁Ｖ１も設けてある。また圧縮機には起動
時に過大負荷をかけないためにバイパス電磁弁Ｖ２及び
高圧タンクＴへの通路には逆止弁Ｖ３がある。
バタンクＲから構成する酸素製造装置Ｓおよび調整タン
クＭ、ガス圧縮機Ｃ、高圧タンクＴがこの順に管で接続
されている。調整タンクには酸素濃度計Ｎと圧力スイッ
チＰとが附設され、タンク内ガスを大気中へ放出或は閉
塞可能な電磁弁Ｖ１も設けてある。また圧縮機には起動
時に過大負荷をかけないためにバイパス電磁弁Ｖ２及び
高圧タンクＴへの通路には逆止弁Ｖ３がある。
ブロワＢにより送られる空気は、吸着塔Ａにおいて、酸
素ガスが分離濃縮され、レシーバタンクＲに蓄蔵された
後タンクＭへ送りこまれるが、酸素濃度計Ｎが所定濃度
（９３％前後）に達するまでは電磁弁Ｖ１が開放され、
ガスは外界へ放出される。
素ガスが分離濃縮され、レシーバタンクＲに蓄蔵された
後タンクＭへ送りこまれるが、酸素濃度計Ｎが所定濃度
（９３％前後）に達するまでは電磁弁Ｖ１が開放され、
ガスは外界へ放出される。
レシーバタンクＲからの酸素ガスが所定濃度に達したと
き電磁弁Ｖ１を閉鎖する。タンクＭ内のガス圧は次第に
上昇し、所定の上限（０．５気圧前後）に達したとき圧
縮機Ｃが起動する。圧縮機の起動時にバイパス電磁弁Ｖ
２は開き、数秒後に閉じ高圧タンクＴへ昇圧送気を開始
する。これにより調整タンクＭの圧力は次第に低下する
が、それが所定下限（０．１気圧前後）まできたとき、
圧縮機Ｃは停止し、バイパス電磁弁Ｖ２は開となる。再
びタンクＭの圧力は上昇しはじめ、ついには圧縮機Ｃを
起動するに至る。以上の作動の反復によってタンクＴの
圧力は増大し、所定値（９気圧前後）に達したとき、圧
縮機Ｃは停止し、バイパス電磁弁Ｖ２も開となる。この
時必要に応じ酸素製造装置Ｓを停止することができる。
これらの圧力制御中においてもタンクＭの酸素濃度は検
知され、所定濃度以下のときは圧縮機Ｃは停止し電磁弁
Ｖ１が開く。
き電磁弁Ｖ１を閉鎖する。タンクＭ内のガス圧は次第に
上昇し、所定の上限（０．５気圧前後）に達したとき圧
縮機Ｃが起動する。圧縮機の起動時にバイパス電磁弁Ｖ
２は開き、数秒後に閉じ高圧タンクＴへ昇圧送気を開始
する。これにより調整タンクＭの圧力は次第に低下する
が、それが所定下限（０．１気圧前後）まできたとき、
圧縮機Ｃは停止し、バイパス電磁弁Ｖ２は開となる。再
びタンクＭの圧力は上昇しはじめ、ついには圧縮機Ｃを
起動するに至る。以上の作動の反復によってタンクＴの
圧力は増大し、所定値（９気圧前後）に達したとき、圧
縮機Ｃは停止し、バイパス電磁弁Ｖ２も開となる。この
時必要に応じ酸素製造装置Ｓを停止することができる。
これらの圧力制御中においてもタンクＭの酸素濃度は検
知され、所定濃度以下のときは圧縮機Ｃは停止し電磁弁
Ｖ１が開く。
圧縮機ＣをタンクＭの圧力の上限下限及びタンクＭ内の
酸素ガス濃度によって駆動或は停止させ、高圧タンクの
圧力上限でも停止させるようすることは、電気的に制御
が容易である。一方バイパス電磁弁Ｖ２及び逆止弁Ｖ３
の併用によって圧縮機の起動時の過負荷を低減し消費電
力を小さくしている。
酸素ガス濃度によって駆動或は停止させ、高圧タンクの
圧力上限でも停止させるようすることは、電気的に制御
が容易である。一方バイパス電磁弁Ｖ２及び逆止弁Ｖ３
の併用によって圧縮機の起動時の過負荷を低減し消費電
力を小さくしている。
［効果］ 以上の如く本考案では調整タンクＭの圧力及び酸素ガス
濃度と圧縮機Ｃの駆動とを有機的に関連させたため、レ
シーバタンクＲの過度の吸引が行われず、調整タンク内
酸素ガスはほぼ一定値以上の濃度に維持して昇圧するこ
とができる。従って高圧タンクＴ内ガスも所要濃度のも
のとなる。
濃度と圧縮機Ｃの駆動とを有機的に関連させたため、レ
シーバタンクＲの過度の吸引が行われず、調整タンク内
酸素ガスはほぼ一定値以上の濃度に維持して昇圧するこ
とができる。従って高圧タンクＴ内ガスも所要濃度のも
のとなる。
第１図は本考案の各装置の配置図、第２図は従来のもの
の配置図である。 Ｂ……ブロワ、Ａ……吸着塔、Ｍ……調整タンク、Ｃ…
…圧縮機、Ｔ……高圧タンク、Ｎ……酸素濃度計、Ｒ…
…レシーバタンク。
の配置図である。 Ｂ……ブロワ、Ａ……吸着塔、Ｍ……調整タンク、Ｃ…
…圧縮機、Ｔ……高圧タンク、Ｎ……酸素濃度計、Ｒ…
…レシーバタンク。
Claims (1)
- 【請求項１】吸着性物質を充填しブロワによる送入空気
から酸素ガスを分離送出可能な吸着塔と、その空気から
分離された酸素ガスを貯えるレシーバタンクとからなる
酸素製造装置に連設され、酸素濃度計と上限と下限を設
定できる圧力スイッチが附設されレシーバタンクからの
酸素濃度が一定値をこえた後の酸素ガスを蓄積する調整
タンクと、気体圧縮機と、圧力スイッチが附設された高
圧タンクとをこの順に管で接続して成る酸素製造用昇圧
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6687788U JPH0621537Y2 (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 酸素製造用昇圧装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6687788U JPH0621537Y2 (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 酸素製造用昇圧装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01170424U JPH01170424U (ja) | 1989-12-01 |
| JPH0621537Y2 true JPH0621537Y2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=31292265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6687788U Expired - Lifetime JPH0621537Y2 (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 酸素製造用昇圧装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621537Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107407272A (zh) * | 2015-02-04 | 2017-11-28 | 株式会社日立产机系统 | 气体升压压缩装置和气体压缩机 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015075840A1 (ja) * | 2013-11-25 | 2015-05-28 | ギガフォトン株式会社 | ガス精製システム及びレーザ装置 |
| CN116272242A (zh) * | 2023-01-18 | 2023-06-23 | 湖南卓誉科技有限公司 | 制氧设备控制方法和制氧设备 |
-
1988
- 1988-05-23 JP JP6687788U patent/JPH0621537Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107407272A (zh) * | 2015-02-04 | 2017-11-28 | 株式会社日立产机系统 | 气体升压压缩装置和气体压缩机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01170424U (ja) | 1989-12-01 |
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