JPH06219708A - 希フッ化水素酸の供給方法及びこの方法に使用する希フッ化水素酸供給装置 - Google Patents
希フッ化水素酸の供給方法及びこの方法に使用する希フッ化水素酸供給装置Info
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- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 196
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 66
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 37
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 5
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 abstract 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 11
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 5
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- -1 and supply processes Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000012384 transportation and delivery Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D11/00—Solvent extraction
- B01D11/04—Solvent extraction of solutions which are liquid
- B01D11/0415—Solvent extraction of solutions which are liquid in combination with membranes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/191—Hydrogen fluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/191—Hydrogen fluoride
- C01B7/195—Separation; Purification
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】高純度フッ化水素酸は製造元から使用現場に移
送される間に不純物が混入して純度が低下する。この純
度の低下をなくする供給方法を提供する。 【構成】樹脂膜２１を介してフッ化水素を超純水中に分
子拡散させることにより、使用現場で極めて容易に高純
度フッ化水素酸を製造することができる。
送される間に不純物が混入して純度が低下する。この純
度の低下をなくする供給方法を提供する。 【構成】樹脂膜２１を介してフッ化水素を超純水中に分
子拡散させることにより、使用現場で極めて容易に高純
度フッ化水素酸を製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体のエッチング剤、
並びに洗浄剤として利用される超高純度の希フッ化水素
酸の供給方法並びにその方法に使用する装置に関する。
並びに洗浄剤として利用される超高純度の希フッ化水素
酸の供給方法並びにその方法に使用する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造のウエットプロセスにおいて
用いられる化学薬品の純度はウエハの性能を左右するの
で、デバイスの高集積化を達成するためには薬品の高品
質化が不可欠の要素である。中でも希フッ化水素酸と超
純水はウエットプロセス最終ステップのエッチング或い
はクリーニングの目的に使用される最も重要なものであ
ることは周知の通りである。
用いられる化学薬品の純度はウエハの性能を左右するの
で、デバイスの高集積化を達成するためには薬品の高品
質化が不可欠の要素である。中でも希フッ化水素酸と超
純水はウエットプロセス最終ステップのエッチング或い
はクリーニングの目的に使用される最も重要なものであ
ることは周知の通りである。
【０００３】現在フッ化水素酸の超高純度化技術はあら
ゆる化学薬品中で最もめざましい進展を見せており、不
純物濃度は 0.1 ppbレベルに達し、更に pptレベルの開
発が進行している。
ゆる化学薬品中で最もめざましい進展を見せており、不
純物濃度は 0.1 ppbレベルに達し、更に pptレベルの開
発が進行している。
【０００４】しかしながら現在のフッ化水素酸の使用方
法は、高濃度フッ化水素酸（通常５０％ＨＦ）を容器で
貯蔵し、輸送し、貯槽に受け入れた後、配管を通して希
釈設備に送液し、通常 0.1〜 0.5％ＨＦに希釈したのち
使用現場に供給される方式である。
法は、高濃度フッ化水素酸（通常５０％ＨＦ）を容器で
貯蔵し、輸送し、貯槽に受け入れた後、配管を通して希
釈設備に送液し、通常 0.1〜 0.5％ＨＦに希釈したのち
使用現場に供給される方式である。
【０００５】この貯蔵、輸送、希釈、供給の全過程で容
器、配管、ポンプ、フィルターなどからの不純物溶出
と、全過程でのハンドリング汚染によって使用現場に到
達したときには数 ppbから場合によっては数 100 ppbの
不純物含量へと品質低下が生じている。即ちフッ化水素
酸自体は極めて高純度の製品が開発されているにも拘わ
らず、これを実際に使用する段階になると、せっかくの
高純度が全く生かされていないのである。
器、配管、ポンプ、フィルターなどからの不純物溶出
と、全過程でのハンドリング汚染によって使用現場に到
達したときには数 ppbから場合によっては数 100 ppbの
不純物含量へと品質低下が生じている。即ちフッ化水素
酸自体は極めて高純度の製品が開発されているにも拘わ
らず、これを実際に使用する段階になると、せっかくの
高純度が全く生かされていないのである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のフッ
化水素酸の供給方式の問題点、即ち超高純度品質を貯
蔵、輸送、移送、配送、希釈などの過程を通して汚染さ
れることを解決するための全く新しい直接希釈方式、清
浄供給方式を開発せんとするものである。
化水素酸の供給方式の問題点、即ち超高純度品質を貯
蔵、輸送、移送、配送、希釈などの過程を通して汚染さ
れることを解決するための全く新しい直接希釈方式、清
浄供給方式を開発せんとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記問題点を
解決するために研究を行い、ウエットプロセス直近にお
いて、超純水ラインに直接フッ化水素を一定速度で供給
する新しい原理を発明した。即ちフッ化水素は樹脂膜を
フッ化水素分圧に従って一定速度で分子拡散すること、
及び不純物イオンに対しては樹脂膜は透過バリヤー性を
有することも見いだした。この原理を用いて一定速度の
超純水供給ラインに樹脂膜を介して濃フッ化水素供給源
を接続することにより、一定濃度の希フッ化水素酸を流
出させる方式を開発したものである。
解決するために研究を行い、ウエットプロセス直近にお
いて、超純水ラインに直接フッ化水素を一定速度で供給
する新しい原理を発明した。即ちフッ化水素は樹脂膜を
フッ化水素分圧に従って一定速度で分子拡散すること、
及び不純物イオンに対しては樹脂膜は透過バリヤー性を
有することも見いだした。この原理を用いて一定速度の
超純水供給ラインに樹脂膜を介して濃フッ化水素供給源
を接続することにより、一定濃度の希フッ化水素酸を流
出させる方式を開発したものである。
【０００８】
【発明の構成並びに作用】本発明の原理を更に具体的に
述べる。発明者は種々のフッ化水素に対し、安定な樹脂
膜のフッ化水素分子拡散速度について研究し、フッ化水
素の膜透過速度は膜の両側のフッ化水素分圧に比例する
ことを見いだした。即ちフッ化水素供給源は濃フッ化水
素酸（例えば５０％ＨＦ）であっても、１００％フッ化
水素ガス又は液であっても、或いは希釈されたフッ化水
素ガスのいずれであってもよい。供給側のフッ化水素分
圧によって希釈側のフッ化水素濃度が定まる。このこと
は希フッ化水素酸を得る手段として、濃フッ化水素酸と
超純水を一定比率で混合する方式によることなく、樹脂
膜を介することにより、一定の速度で超純水を希フッ化
水素酸に転換することが可能であることを意味する。
述べる。発明者は種々のフッ化水素に対し、安定な樹脂
膜のフッ化水素分子拡散速度について研究し、フッ化水
素の膜透過速度は膜の両側のフッ化水素分圧に比例する
ことを見いだした。即ちフッ化水素供給源は濃フッ化水
素酸（例えば５０％ＨＦ）であっても、１００％フッ化
水素ガス又は液であっても、或いは希釈されたフッ化水
素ガスのいずれであってもよい。供給側のフッ化水素分
圧によって希釈側のフッ化水素濃度が定まる。このこと
は希フッ化水素酸を得る手段として、濃フッ化水素酸と
超純水を一定比率で混合する方式によることなく、樹脂
膜を介することにより、一定の速度で超純水を希フッ化
水素酸に転換することが可能であることを意味する。
【０００９】また発明者は樹脂膜は不純物イオンについ
て全く透過能力を持たないことを見いだした。樹脂膜の
「フッ化水素分子拡散性」と「不純物イオン透過バリヤ
ー性」の二つの現象をうまく利用することにより、濃フ
ッ化水素酸或いはフッ化水素の液相又は気相と超純水か
ら一定濃度の希フッ化水素酸を全く汚染なしに連続的に
直接供給しうるシステムを構成することが可能となった
のである。
て全く透過能力を持たないことを見いだした。樹脂膜の
「フッ化水素分子拡散性」と「不純物イオン透過バリヤ
ー性」の二つの現象をうまく利用することにより、濃フ
ッ化水素酸或いはフッ化水素の液相又は気相と超純水か
ら一定濃度の希フッ化水素酸を全く汚染なしに連続的に
直接供給しうるシステムを構成することが可能となった
のである。
【００１０】次にフッ化水素の樹脂膜中の分子拡散につ
いて具体的に種々の条件、即ち樹脂の種類、膜圧、フッ
化水素供給源の条件、即ち形体、濃度、フッ化水素分圧
における透過速度を求めた結果を表１及び表２に示す。
いて具体的に種々の条件、即ち樹脂の種類、膜圧、フッ
化水素供給源の条件、即ち形体、濃度、フッ化水素分圧
における透過速度を求めた結果を表１及び表２に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１はフッ化水素酸中に浸漬した樹脂チュ
ーブに超純水を充填又は通水した時、樹脂チューブを透
過して超純水に吸収されたフッ化水素濃度と透過係数と
を示したものである。表１においては夫々の通水速度に
応じて夫々の希フッ化水素溶液が流出することが認めら
れた。またフッ化水素原液濃度が変化したとき及び通水
速度が変化したときも、透過係数は一定値を示し、かつ
停止充填時得られた透過係数とよく一致することも認め
られる。
ーブに超純水を充填又は通水した時、樹脂チューブを透
過して超純水に吸収されたフッ化水素濃度と透過係数と
を示したものである。表１においては夫々の通水速度に
応じて夫々の希フッ化水素溶液が流出することが認めら
れた。またフッ化水素原液濃度が変化したとき及び通水
速度が変化したときも、透過係数は一定値を示し、かつ
停止充填時得られた透過係数とよく一致することも認め
られる。
【００１３】但し装置の諸条件は以下の通りである。 チューブの内径 ９ｍｍ チューブの外径 １０ｍｍ チューブのフッ化水素酸浸漬長 １００ｍ 浸漬チューブ内超純水量 ６.３６ｌ 透過係数算出式
【００１４】
【式１】 Ｄ＝透過係数 Ｆ＝フッ化水素量（標準状態のフッ化水素気体量） ｄ＝チューブ肉厚 Ｓ＝チューブ面積（対数平均値） Ｔ＝チューブ内滞留時間 Ｐ＝フッ化水素分圧
【００１５】
【表２】
【００１６】表２はフッ化水素ガス中に設けられた樹脂
チューブに超純水を充填したとき、樹脂チューブを透過
して超純水に吸収されたフッ化水素濃度と透過係数を示
したものである。フッ化水素ガスの場合も液と同等の透
過係数を有していることが認められた。フッ化水素は他
の分子に比べ拡散性が強く、目的とするフッ化水素のみ
選択的に分子で透過させることができ、この結果超高純
度の希フッ化水素酸が得られる。
チューブに超純水を充填したとき、樹脂チューブを透過
して超純水に吸収されたフッ化水素濃度と透過係数を示
したものである。フッ化水素ガスの場合も液と同等の透
過係数を有していることが認められた。フッ化水素は他
の分子に比べ拡散性が強く、目的とするフッ化水素のみ
選択的に分子で透過させることができ、この結果超高純
度の希フッ化水素酸が得られる。
【００１７】薄膜として使用できる材質としては、フッ
化水素酸に対し化学的に安定であるかぎり、特に制限さ
れるものではないが、使用するフッ化水素酸が高濃度の
場合にはフロロカーボン樹脂が最適である。フロロカー
ボン樹脂の具体例としてはたとえばテトラフルオロエチ
レン−パーフルオルアルキルビニルエーテル共重合体
（以下ＰＥＡという）、ポリテトラフルオロエチレン、
ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデ
ン、ポリフッ化ビニル、テトラフルオロエチレン−ヘキ
サフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン−
テトラフルオロエチレン共重合体等を例示でき、就中Ｐ
ＦＡ及びＦＥＰが好ましい。フッ化水素酸が低濃度の場
合にはポリエチレン（ＰＥ）やポリアクリロニトリル等
でも充分に使用可能である。使用するフッ化水素酸は工
業用グレードの純度でも十分使用可能であり、濃度も数
十パーセントから百パーセントまで使用でき、またフッ
化水素ガスでもよい。
化水素酸に対し化学的に安定であるかぎり、特に制限さ
れるものではないが、使用するフッ化水素酸が高濃度の
場合にはフロロカーボン樹脂が最適である。フロロカー
ボン樹脂の具体例としてはたとえばテトラフルオロエチ
レン−パーフルオルアルキルビニルエーテル共重合体
（以下ＰＥＡという）、ポリテトラフルオロエチレン、
ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデ
ン、ポリフッ化ビニル、テトラフルオロエチレン−ヘキ
サフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、エチレン−
テトラフルオロエチレン共重合体等を例示でき、就中Ｐ
ＦＡ及びＦＥＰが好ましい。フッ化水素酸が低濃度の場
合にはポリエチレン（ＰＥ）やポリアクリロニトリル等
でも充分に使用可能である。使用するフッ化水素酸は工
業用グレードの純度でも十分使用可能であり、濃度も数
十パーセントから百パーセントまで使用でき、またフッ
化水素ガスでもよい。
【００１８】薄膜の厚みについては、フッ化水素が薄膜
を透過できる程度であればよく、特に限定されるもので
はない。尚薄膜自体の加工性や安全性の点からは 0.1〜
3.0mm程度がよい。薄膜の構造はチューブ状または／及
び隔膜形式等種々採用でき、要はフッ化水素を透過でき
る構造であればよい。また薄膜のいずれの側にフッ化水
素酸が存在していてもよい。薄膜自体はフッ化水素を透
過できる程度の透過性を有しておればよく、通常、フィ
ルム、シート等であるが、織布や不織布でもよい。
を透過できる程度であればよく、特に限定されるもので
はない。尚薄膜自体の加工性や安全性の点からは 0.1〜
3.0mm程度がよい。薄膜の構造はチューブ状または／及
び隔膜形式等種々採用でき、要はフッ化水素を透過でき
る構造であればよい。また薄膜のいずれの側にフッ化水
素酸が存在していてもよい。薄膜自体はフッ化水素を透
過できる程度の透過性を有しておればよく、通常、フィ
ルム、シート等であるが、織布や不織布でもよい。
【００１９】次いで本発明の装置について図面を用いて
説明する。本発明の装置は原則的にはフッ化水素又はフ
ッ化水素酸貯蔵用または超純水貯蔵用容器内にフッ化水
素透過用薄膜を形成したものである。この本発明装置の
好ましい具体例についてその例ごとに以下に説明する。
説明する。本発明の装置は原則的にはフッ化水素又はフ
ッ化水素酸貯蔵用または超純水貯蔵用容器内にフッ化水
素透過用薄膜を形成したものである。この本発明装置の
好ましい具体例についてその例ごとに以下に説明する。
【００２０】図１の具体例において、１はステンレス製
のフッ化水素酸、フッ化水素の液又はガス用容器であ
り、容量は約５０ｌである。２はＰＦＡチューブで内径
９mm、外径１０mm、コイル長約１００ｍである。３は超
純水収納用容器であり、４は超純水の通水量調節器であ
る。５は吸収液中にわずかに含まれる微粒子を除去する
ためのフィルターである。６は製造された希フッ化水素
酸用容器である。
のフッ化水素酸、フッ化水素の液又はガス用容器であ
り、容量は約５０ｌである。２はＰＦＡチューブで内径
９mm、外径１０mm、コイル長約１００ｍである。３は超
純水収納用容器であり、４は超純水の通水量調節器であ
る。５は吸収液中にわずかに含まれる微粒子を除去する
ためのフィルターである。６は製造された希フッ化水素
酸用容器である。
【００２１】この図１の装置を用いて希フッ化水素酸を
製造するに際しては、まず容器１内にフッ化水素酸又は
フッ化水素ガスを入れ、超純水収納容器３より流量を調
節器４で調整しつつチューブ２内に導入して流通せしめ
る。超純水がチューブ２内を流通する間にチューブの膜
を介してフッ化水素が分子拡散して超純水中に移行し、
希釈された希フッ化水素酸となって、フィルター５を通
って希フッ化水素酸用容器６に収納されるか、或いは直
接使用される。
製造するに際しては、まず容器１内にフッ化水素酸又は
フッ化水素ガスを入れ、超純水収納容器３より流量を調
節器４で調整しつつチューブ２内に導入して流通せしめ
る。超純水がチューブ２内を流通する間にチューブの膜
を介してフッ化水素が分子拡散して超純水中に移行し、
希釈された希フッ化水素酸となって、フィルター５を通
って希フッ化水素酸用容器６に収納されるか、或いは直
接使用される。
【００２２】この図１の装置において、容器１はフッ化
水素酸又はフッ化水素ガス用として使用しているが、こ
の容器１を超純水貯蔵用として使用し、３の超純水に代
えてフッ化水素酸を使用してもよい。図２を用いてこの
場合を更に詳しく説明すると以下の通りである。容器１
４に超純水タンク１３から流量調節器１２を介して超純
水を導入する。一方フッ化水素酸又はフッ化水素ガス用
タンク１０より流量調節器１１を介してチューブ１７に
フッ化水素酸又はフッ化水素ガスを流通せしめ、超純水
中へフッ化水素を分子拡散させ、容器１４内の超純水を
希フッ化水素酸となし、生成した希フッ化水素酸は同上
フィルター１５を介して希フッ化水素酸収納用タンク１
６に収納され、或いは直接使用する。
水素酸又はフッ化水素ガス用として使用しているが、こ
の容器１を超純水貯蔵用として使用し、３の超純水に代
えてフッ化水素酸を使用してもよい。図２を用いてこの
場合を更に詳しく説明すると以下の通りである。容器１
４に超純水タンク１３から流量調節器１２を介して超純
水を導入する。一方フッ化水素酸又はフッ化水素ガス用
タンク１０より流量調節器１１を介してチューブ１７に
フッ化水素酸又はフッ化水素ガスを流通せしめ、超純水
中へフッ化水素を分子拡散させ、容器１４内の超純水を
希フッ化水素酸となし、生成した希フッ化水素酸は同上
フィルター１５を介して希フッ化水素酸収納用タンク１
６に収納され、或いは直接使用する。
【００２３】図３は隔膜を有する場合の本発明の装置の
概略説明図であり、２０は容器、２１は薄膜からなる隔
膜であり、２２はフッ化水素導入部、２４は希フッ化水
素酸取出し部である。この図３においてはフッ化水素導
入部２２によりフッ化水素を導入し、２３より超純水を
導入し、取出し部２４から希フッ化水素酸を取り出す。
概略説明図であり、２０は容器、２１は薄膜からなる隔
膜であり、２２はフッ化水素導入部、２４は希フッ化水
素酸取出し部である。この図３においてはフッ化水素導
入部２２によりフッ化水素を導入し、２３より超純水を
導入し、取出し部２４から希フッ化水素酸を取り出す。
【００２４】尚図１乃至図３において容器は金属、樹脂
又は樹脂ライニングした金属から製作されている。
又は樹脂ライニングした金属から製作されている。
【００２５】薄膜透過方式による希フッ化水素酸の製造
方式は従来の容器供給方式に比べて汚染制御・濃度制御
に関し、卓抜した利点を有している。即ち、 （１） オンサイト方式であるため輸送・移送による容
器・貯槽等でのハンドリング汚染を受けない。 （２） フッ化水素の分子拡散方式であるため、イオン
不純物透過による汚染を受けない。 （３） 超純水通水量制御方式により、濃度制御できる
ので希釈設備及び濃度測定が不要の定常濃度供給方式で
ある。
方式は従来の容器供給方式に比べて汚染制御・濃度制御
に関し、卓抜した利点を有している。即ち、 （１） オンサイト方式であるため輸送・移送による容
器・貯槽等でのハンドリング汚染を受けない。 （２） フッ化水素の分子拡散方式であるため、イオン
不純物透過による汚染を受けない。 （３） 超純水通水量制御方式により、濃度制御できる
ので希釈設備及び濃度測定が不要の定常濃度供給方式で
ある。
【００２６】分子拡散によるフッ化水素透過速度は、夫
々の樹脂膜について温度及び膜圧が一定値をとることを
表１に示した。また極めて高濃度のイオン不純物が膜を
透過しないことを表６に示す。
々の樹脂膜について温度及び膜圧が一定値をとることを
表１に示した。また極めて高濃度のイオン不純物が膜を
透過しないことを表６に示す。
【００２７】以上のように本発明の方式は希フッ化水素
酸供給方式として完全な理想的方式である。以下に実施
例によって集積回路のエッチング剤並びに洗浄剤として
用いられる0.1〜0.5％フッ化水素溶液が供給可能である
ことを具体的に示した。
酸供給方式として完全な理想的方式である。以下に実施
例によって集積回路のエッチング剤並びに洗浄剤として
用いられる0.1〜0.5％フッ化水素溶液が供給可能である
ことを具体的に示した。
【００２８】実施例１ 図１に示した装置を用いて、チューブをフッ化水素の液
中に浸漬し、表３の諸条件で超純水をチューブに充填す
るか、又は超純水を一定流速で通水したときに得られる
希フッ化水素酸濃度を表３に示した。
中に浸漬し、表３の諸条件で超純水をチューブに充填す
るか、又は超純水を一定流速で通水したときに得られる
希フッ化水素酸濃度を表３に示した。
【００２９】
【表３】
【００３０】実施例２ 実施例１で用いた図１に示す装置において、チューブを
フッ化水素ガス雰囲気に置き、以下実施例１と同様に処
理した。この際容器は常に一定温度に保ち、容器内に常
に無水フッ化水素酸の液が存在せしめた。したがって容
器内は常に測定中の温度におけるフッ化水素の飽和蒸気
雰囲気に保たれ、フッ化水素ガスよりチューブを介して
チューブ内の超純水中へフッ化水素が分子拡散している
ものである。この結果を表４に示したが、実施例１と同
様な結果が得られた。
フッ化水素ガス雰囲気に置き、以下実施例１と同様に処
理した。この際容器は常に一定温度に保ち、容器内に常
に無水フッ化水素酸の液が存在せしめた。したがって容
器内は常に測定中の温度におけるフッ化水素の飽和蒸気
雰囲気に保たれ、フッ化水素ガスよりチューブを介して
チューブ内の超純水中へフッ化水素が分子拡散している
ものである。この結果を表４に示したが、実施例１と同
様な結果が得られた。
【００３１】
【表４】
【００３２】実施例３ 図２に示した装置を用いてチューブ内へフッ化水素のガ
ス或いは液を通し、チューブ外即ち容器内へは流量制御
された超純水を通した時得られたフッ化水素酸の濃度を
表５に示した。
ス或いは液を通し、チューブ外即ち容器内へは流量制御
された超純水を通した時得られたフッ化水素酸の濃度を
表５に示した。
【００３３】
【表５】
【００３４】実施例４ 吸収に供するフッ化水素酸中の不純物の影響を調べるた
めにフッ化水素酸原液中にＨＦ以外の元素を任意に添加
し、膜透過後の希フッ化水素酸中の各添加した元素の濃
度をＩＣＰ−ＭＳ（セイコー電子製）で測定した。結果
を表６に示す。測定は不純物透過を厳密に確かめるた
め、超純水は流水せずに行った。結果は表６に示すよう
にこのような極端に苛酷な条件においても、各元素共全
てＩＣＰ−ＭＳの検出限界以下であり、添加元素の透過
は認められない。各元素はフッ素化合物の形で８０％Ｈ
Ｆ溶液中へ夫々 0.5％量添加した。装置は実施例１同じ
ものを使用し、２５℃で１２０時間静置した後サンプリ
ング及び分析を行った。また表６の単位はｐｐｂであ
る。
めにフッ化水素酸原液中にＨＦ以外の元素を任意に添加
し、膜透過後の希フッ化水素酸中の各添加した元素の濃
度をＩＣＰ−ＭＳ（セイコー電子製）で測定した。結果
を表６に示す。測定は不純物透過を厳密に確かめるた
め、超純水は流水せずに行った。結果は表６に示すよう
にこのような極端に苛酷な条件においても、各元素共全
てＩＣＰ−ＭＳの検出限界以下であり、添加元素の透過
は認められない。各元素はフッ素化合物の形で８０％Ｈ
Ｆ溶液中へ夫々 0.5％量添加した。装置は実施例１同じ
ものを使用し、２５℃で１２０時間静置した後サンプリ
ング及び分析を行った。また表６の単位はｐｐｂであ
る。
【００３５】
【表６】
【００３６】
【発明の効果】本発明により得られた希フッ化水素酸は
オンサイト方式であるため、輸送・移送による容器・貯
槽等でのハンドリング汚染を受けず、またフッ化水素の
分子拡散方式であるため、イオン不純物透過による汚染
をも受けない。更に超純水通水量制御方式であるため、
濃度制御が可能であり、希釈設備及び濃度測定が不要な
理想的な定常濃度供給方式となっている。
オンサイト方式であるため、輸送・移送による容器・貯
槽等でのハンドリング汚染を受けず、またフッ化水素の
分子拡散方式であるため、イオン不純物透過による汚染
をも受けない。更に超純水通水量制御方式であるため、
濃度制御が可能であり、希釈設備及び濃度測定が不要な
理想的な定常濃度供給方式となっている。
【００３７】
【図１】図１は本発明装置の一具体例を示す概略説明図
である。
である。
【００３８】
【図２】図２は本発明装置の一具体例を示す概略説明図
である。
である。
【００３９】
【図３】図３は本発明装置の一具体例を示す概略説明図
である。
である。
【００４０】
１…容器 ２…薄膜（チューブ状） ３…超純水 ４…流量調節器 ５…フィルター ６…希フッ化水素酸 １０…タンク １１…流量調節器 １２…流量調節器 １３…タンク １４…容器 １５…フィルター １６…希フッ化水素酸収納用タンク １７…チューブ ２０…容器 ２１…薄膜（隔膜状） ２２…フッ化水素導入部 ２３…超純水導入部 ２４…希フッ化水素取出し部
Claims (5)
- 【請求項１】超純水中へ樹脂膜を通してフッ化水素を分
子拡散させることを特徴とする希フッ化水素酸供給方
法。 - 【請求項２】樹脂膜がフッ化水素及びフッ化水素酸に化
学的安定性を有する樹脂からなる請求項１に記載の供給
方法。 - 【請求項３】フッ化水素酸、フッ化水素の液又はガスを
導入するための容器内に、フッ化水素を分子拡散させ得
る薄膜からなる超純水流通用チューブを設置したことを
特徴とする希フッ化水素酸供給装置。 - 【請求項４】超純水乃至生成する希フッ化水素酸を貯留
するための容器内に、フッ化水素を分子拡散させ得る薄
膜からなるフッ化水素酸、フッ化水素の液又はガス流通
用チューブを設置したことを特徴とする希フッ化水素酸
供給用装置。 - 【請求項５】槽内に複数個のフッ化水素を分子拡散させ
得る薄膜を設けて、複数個の部屋に分け、分別された各
部屋に順次、フッ化水素酸、フッ化水素の液又はガスと
超純水とを流通させるようになした希フッ化水素酸供給
用装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06802291A JP3616828B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 希フッ化水素酸の供給方法及びこの方法に使用する希フッ化水素酸供給装置 |
| EP92400596A EP0504028A1 (en) | 1991-03-06 | 1992-03-06 | Method of supplying dilute hydrofluoric acid and apparatus for use in this method for supplying the acid |
| US07/846,233 US5318706A (en) | 1991-03-06 | 1992-03-06 | Method of supplying dilute hydrofluoric acid and apparatus for use in this method for supplying the acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06802291A JP3616828B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 希フッ化水素酸の供給方法及びこの方法に使用する希フッ化水素酸供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06219708A true JPH06219708A (ja) | 1994-08-09 |
| JP3616828B2 JP3616828B2 (ja) | 2005-02-02 |
Family
ID=13361775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06802291A Expired - Fee Related JP3616828B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 希フッ化水素酸の供給方法及びこの方法に使用する希フッ化水素酸供給装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5318706A (ja) |
| EP (1) | EP0504028A1 (ja) |
| JP (1) | JP3616828B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112897467A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-06-04 | 福建省建阳金石氟业有限公司 | 一种电子级氢氟酸的生产方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6350425B2 (en) * | 1994-01-07 | 2002-02-26 | Air Liquide America Corporation | On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF and ammonium fluoride |
| US5785820A (en) * | 1994-01-07 | 1998-07-28 | Startec Ventures, Inc. | On-site manufacture of ultra-high-purity hydrofluoric acid for semiconductor processing |
| DE10036691A1 (de) * | 2000-07-27 | 2002-02-14 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren zur chemischen Behandlung von Halbleiterscheiben |
| NO322065B1 (no) * | 2004-05-14 | 2006-08-07 | In 2 Group As | Oral sammensetning |
| CN107986420B (zh) * | 2017-12-29 | 2023-05-26 | 马鞍山市华清环保工程有限公司 | 一种壳管式氢氟酸废液处理装置及其方法 |
| CN114146586B (zh) * | 2021-12-30 | 2023-11-21 | 金宏气体股份有限公司 | 一种氢氟酸溶液的配置装置及方法 |
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|---|---|---|---|---|
| US4199445A (en) * | 1970-06-16 | 1980-04-22 | Monsanto Company | Process for separating aqueous mineral acid mixtures |
| US3956112A (en) * | 1973-01-02 | 1976-05-11 | Allied Chemical Corporation | Membrane solvent extraction |
| US4108765A (en) * | 1975-12-01 | 1978-08-22 | Monsanto Company | Membrane separation of methanol from formaldehyde aqueous mixtures |
| JPS5895541A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-07 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 気体分離膜 |
| US4424067A (en) * | 1982-07-29 | 1984-01-03 | Allied Corporation | Purification of anhydrous hydrogen fluoride |
| US4738272A (en) * | 1984-05-21 | 1988-04-19 | Mcconnell Christopher F | Vessel and system for treating wafers with fluids |
| US4633893A (en) * | 1984-05-21 | 1987-01-06 | Cfm Technologies Limited Partnership | Apparatus for treating semiconductor wafers |
| US4767533A (en) * | 1987-03-13 | 1988-08-30 | Baxter Travenol Laboratories, Inc. | Method of making a family of blended fiber filtration devices |
| US5084073A (en) * | 1990-10-11 | 1992-01-28 | Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation | Membrane drying process and system |
| US5064538A (en) * | 1990-10-25 | 1991-11-12 | Cominco Ltd. | Membrane process for acid recovery |
| US5196616A (en) * | 1991-10-18 | 1993-03-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for separating and recovering fluorocarbons and hydrogen fluoride from mixtures thereof |
-
1991
- 1991-03-06 JP JP06802291A patent/JP3616828B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-03-06 US US07/846,233 patent/US5318706A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-03-06 EP EP92400596A patent/EP0504028A1/en not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112897467A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-06-04 | 福建省建阳金石氟业有限公司 | 一种电子级氢氟酸的生产方法 |
| CN112897467B (zh) * | 2021-03-18 | 2022-09-30 | 福建省建阳金石氟业有限公司 | 一种电子级氢氟酸的生产方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5318706A (en) | 1994-06-07 |
| JP3616828B2 (ja) | 2005-02-02 |
| EP0504028A1 (en) | 1992-09-16 |
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