JPH10273193A - 高純度薬液輸送用大型容器 - Google Patents
高純度薬液輸送用大型容器Info
- Publication number
- JPH10273193A JPH10273193A JP9080523A JP8052397A JPH10273193A JP H10273193 A JPH10273193 A JP H10273193A JP 9080523 A JP9080523 A JP 9080523A JP 8052397 A JP8052397 A JP 8052397A JP H10273193 A JPH10273193 A JP H10273193A
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- Japan
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- container
- filter
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- chemical solution
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Abstract
(57)【要約】
【課題】輸送時及び保管時に薬液を清浄に保持しうる高
純度薬液用大型容器を提供する。 【解決手段】容器本体１、フィルター４、送液ポンプ３
及び配管からなり、フィルター、送液ポンプ及び配管
が、容器内の薬液をフィルターで循環濾過するよう配置
されていることを特徴とする高純度薬液輸送用大型容
器。
純度薬液用大型容器を提供する。 【解決手段】容器本体１、フィルター４、送液ポンプ３
及び配管からなり、フィルター、送液ポンプ及び配管
が、容器内の薬液をフィルターで循環濾過するよう配置
されていることを特徴とする高純度薬液輸送用大型容
器。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造分野に
使用される電子工業用薬液の輸送用大型容器に関する。
使用される電子工業用薬液の輸送用大型容器に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子工業分野では半導体や液晶表示装置
の製造に当たって種々の高純度薬液が使用されている。
例えば、高純度過酸化水素水、高純度アンモニア水、高
純度テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶
液、高純度硫酸、高純度フッ酸等である。これらの薬液
中に微量の不純物や微粒子が存在すると半導体素子や液
晶表示装置の素子特性に悪影響を与えるため、薬液は高
純度品である必要がある。要求される純度は例えば全金
属が１ｐｐｂ以下、０．２μｍ以上の大きさの異物、す
なわちパーティクルが１００個／ｍｌ以下等極めて高純
度である。このため、容器材質からの不純物溶出やパー
ティクル発生は厳密に管理しなければならない。
の製造に当たって種々の高純度薬液が使用されている。
例えば、高純度過酸化水素水、高純度アンモニア水、高
純度テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶
液、高純度硫酸、高純度フッ酸等である。これらの薬液
中に微量の不純物や微粒子が存在すると半導体素子や液
晶表示装置の素子特性に悪影響を与えるため、薬液は高
純度品である必要がある。要求される純度は例えば全金
属が１ｐｐｂ以下、０．２μｍ以上の大きさの異物、す
なわちパーティクルが１００個／ｍｌ以下等極めて高純
度である。このため、容器材質からの不純物溶出やパー
ティクル発生は厳密に管理しなければならない。
【０００３】さて、一般に大量の薬液を輸送するには容
量数百ｋｇ以上のコンテナやタンクローリー等が用いら
れる。このような容器を用いた場合、容器からの金属等
の不純物溶出は少ないものの、パーティクル発生につい
ては許容できないほど多く発生する場合があり、問題と
なっている。パーティクルが仮に全て金属からなるとし
ても０．２μｍ以上のパーティクル１００個／ｍｌは金
属濃度としてサブｐｐｔにしか相当しない。よって、パ
ーティクルの管理は金属等の不純物溶出よりもはるかに
厳格に行なわなければならない。
量数百ｋｇ以上のコンテナやタンクローリー等が用いら
れる。このような容器を用いた場合、容器からの金属等
の不純物溶出は少ないものの、パーティクル発生につい
ては許容できないほど多く発生する場合があり、問題と
なっている。パーティクルが仮に全て金属からなるとし
ても０．２μｍ以上のパーティクル１００個／ｍｌは金
属濃度としてサブｐｐｔにしか相当しない。よって、パ
ーティクルの管理は金属等の不純物溶出よりもはるかに
厳格に行なわなければならない。
【０００４】薬液製造元で容器に薬液を充填しユースポ
イントまで輸送する場合、輸送による振動等で更に容器
からパーティクルが発生し、薬液への混入が助長され
る。また近年、海外での高純度薬液の使用が多くなり、
日本国内から当該国へ輸送する機会が多いが、輸送時
間、輸送距離が長くなればなるほど、容器からのパーテ
ィクル混入量は増加してしまう。このため、現状では高
純度薬液を輸送するために大型容器を用いた場合、清浄
に薬液を管理することは極めて難しかった。
イントまで輸送する場合、輸送による振動等で更に容器
からパーティクルが発生し、薬液への混入が助長され
る。また近年、海外での高純度薬液の使用が多くなり、
日本国内から当該国へ輸送する機会が多いが、輸送時
間、輸送距離が長くなればなるほど、容器からのパーテ
ィクル混入量は増加してしまう。このため、現状では高
純度薬液を輸送するために大型容器を用いた場合、清浄
に薬液を管理することは極めて難しかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高純
度薬液を充填した容器において、高純度薬液を使用する
際に清浄な薬液を提供できる輸送用大型容器に関する。
度薬液を充填した容器において、高純度薬液を使用する
際に清浄な薬液を提供できる輸送用大型容器に関する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意努力の
結果、輸送時あるいは保管時に容器内の薬液をフィルタ
ーで循環濾過すれば、容器内の薬液を清浄に保持しうる
ことを見いだし本発明に到達した。
結果、輸送時あるいは保管時に容器内の薬液をフィルタ
ーで循環濾過すれば、容器内の薬液を清浄に保持しうる
ことを見いだし本発明に到達した。
【０００７】即ち本発明は、容器本体１、フィルター
４、送液ポンプ３及び配管からなり、フィルター、送液
ポンプ及び配管が、容器内の薬液をフィルターで循環濾
過するよう配置されていることを特徴とする高純度薬液
輸送用大型容器に関するものである。
４、送液ポンプ３及び配管からなり、フィルター、送液
ポンプ及び配管が、容器内の薬液をフィルターで循環濾
過するよう配置されていることを特徴とする高純度薬液
輸送用大型容器に関するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明を図１により詳細に説明す
る。容器１には配管２、送液ポンプ３，フィルター４が
接続されている。さらにフィルター４からの流出口には
容器１に戻るように配管５が接続されている。必要に応
じて各場所に開閉バルブを設けても良い。
る。容器１には配管２、送液ポンプ３，フィルター４が
接続されている。さらにフィルター４からの流出口には
容器１に戻るように配管５が接続されている。必要に応
じて各場所に開閉バルブを設けても良い。
【０００９】このような形態で必要に応じ送液ポンプを
駆動することにより大型容器内の高純度薬液は常に清浄
に保つことができる。濾過を行なう回数、期間に制限は
ない。すなわち、大型容器を輸送中あるいは放置中、連
続して濾過を行なっても良いし、断続的に行なっても良
い。さらには高純度薬液を使用するにあたり、容器から
抜き出す直前に濾過を行なっても良い。
駆動することにより大型容器内の高純度薬液は常に清浄
に保つことができる。濾過を行なう回数、期間に制限は
ない。すなわち、大型容器を輸送中あるいは放置中、連
続して濾過を行なっても良いし、断続的に行なっても良
い。さらには高純度薬液を使用するにあたり、容器から
抜き出す直前に濾過を行なっても良い。
【００１０】ここで、配管２、５のタンクへの接続位置
に制限はない。但し、配管２はタンク内の薬液液面よ
り、下部に設置しなければならないし、配管５も無用な
気泡発生を抑えるため薬液液面より下部に設置すること
が望ましい。
に制限はない。但し、配管２はタンク内の薬液液面よ
り、下部に設置しなければならないし、配管５も無用な
気泡発生を抑えるため薬液液面より下部に設置すること
が望ましい。
【００１１】さらに、フィルター４からの流出口と容器
１に戻る配管にバルブ６、分岐配管７を設けてもよい。
この場合、分岐配管７は容器から薬液を抜き出す際用い
ることができる。この時、送液ポンプ３を稼働させるこ
とで容器内の薬液をフィルター４，分岐配管７を通し、
抜き出しても良いし、容器内を高純度窒素等の圧送ガス
により加圧することで薬液を抜き出しても良い。さらに
は系外のポンプを分岐配管７の先に設置し、抜き出して
も良い。
１に戻る配管にバルブ６、分岐配管７を設けてもよい。
この場合、分岐配管７は容器から薬液を抜き出す際用い
ることができる。この時、送液ポンプ３を稼働させるこ
とで容器内の薬液をフィルター４，分岐配管７を通し、
抜き出しても良いし、容器内を高純度窒素等の圧送ガス
により加圧することで薬液を抜き出しても良い。さらに
は系外のポンプを分岐配管７の先に設置し、抜き出して
も良い。
【００１２】単位時間当たりの濾過流量にも制限はな
い。但し、循環濾過を行なう場合は濾過にかける時間を
踏まえ、その時間内で大型容器内の薬液が十分清浄にな
るだけの流量で濾過する。
い。但し、循環濾過を行なう場合は濾過にかける時間を
踏まえ、その時間内で大型容器内の薬液が十分清浄にな
るだけの流量で濾過する。
【００１３】大型容器、フィルター、配管、送液ポンプ
の材質に制限はない。しかしながら、それらの接液部が
高純度薬液に接触しても不純物溶出が極めて少ない材質
を用いることが必要である。例としてポリテトラフルオ
ロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチ
レン（ＰＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・パーフ
ルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）など
のフッ素樹脂が好適に使用される。また、これらの樹脂
をライニングしたものでもよい。
の材質に制限はない。しかしながら、それらの接液部が
高純度薬液に接触しても不純物溶出が極めて少ない材質
を用いることが必要である。例としてポリテトラフルオ
ロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチ
レン（ＰＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン・パーフ
ルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）など
のフッ素樹脂が好適に使用される。また、これらの樹脂
をライニングしたものでもよい。
【００１４】送液ポンプの方式に制限はない。いわゆる
ベローズポンプ、あるいは渦巻ポンプなどが挙げられ
る。但し、不純物溶出、パーティクル発生が少ないこと
からベローズ方式が好適に使用される。
ベローズポンプ、あるいは渦巻ポンプなどが挙げられ
る。但し、不純物溶出、パーティクル発生が少ないこと
からベローズ方式が好適に使用される。
【００１５】フィルターは平均孔径０．１μｍ以下のも
のが使用される。フィルターの孔径を規定するにあたっ
ては、ポリスチレンラテックス標準粒子による方法を用
いている。ポリスチレンラテックス標準粒子としては、
例えばダウケミカル（株）や日本合成ゴム（株）製のも
のが使用される。この方法は平均直径の異なるポリスチ
レンラテックス標準粒子を分散した超純水を該フィルタ
ーにそれぞれ通過させ、その通過前後の超純水について
ＵＶ光による濁度測定を行い、通過を阻止される粒子の
割合を求める。通過試験では複数の異なる平均直径を有
する標準粒子を順次通過させる。通過阻止率が初めて７
０％を越えた時点の平均直径をそのフィルターの平均孔
径とする。
のが使用される。フィルターの孔径を規定するにあたっ
ては、ポリスチレンラテックス標準粒子による方法を用
いている。ポリスチレンラテックス標準粒子としては、
例えばダウケミカル（株）や日本合成ゴム（株）製のも
のが使用される。この方法は平均直径の異なるポリスチ
レンラテックス標準粒子を分散した超純水を該フィルタ
ーにそれぞれ通過させ、その通過前後の超純水について
ＵＶ光による濁度測定を行い、通過を阻止される粒子の
割合を求める。通過試験では複数の異なる平均直径を有
する標準粒子を順次通過させる。通過阻止率が初めて７
０％を越えた時点の平均直径をそのフィルターの平均孔
径とする。
【００１６】フィルターの形状にも制限はない。すなわ
ち、平膜、プリーツ型、スパイラル型、中空糸型など、
どのような形状であっても良い。さらに、フィルターに
関しては孔径の異なる複数のフィルターを平均孔径の大
きい順に直列に並べ段階的に薬液中のパーティクルを除
去しても良い。
ち、平膜、プリーツ型、スパイラル型、中空糸型など、
どのような形状であっても良い。さらに、フィルターに
関しては孔径の異なる複数のフィルターを平均孔径の大
きい順に直列に並べ段階的に薬液中のパーティクルを除
去しても良い。
【００１７】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものでは
ない。なお、パーティクル量の測定には、レーザー光散
乱を利用する方式によるリオン製ＫＬ−２０を用いた。
本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものでは
ない。なお、パーティクル量の測定には、レーザー光散
乱を利用する方式によるリオン製ＫＬ−２０を用いた。
【００１８】実施例 容器容量９トンの図１に示すような輸送用大型容器に３
１重量％高純度過酸化水素水を８トン充填した。充填時
の過酸化水素水中のパーティクル数は０．２μｍ以上で
５個／ｍｌであった。なお、フィルターは平均孔径０．
１μｍのフィルターであり、またポンプはベローズ式の
ポンプであった。また、容器を含む全ての過酸化水素水
の接液部はＰＦＡであった。
１重量％高純度過酸化水素水を８トン充填した。充填時
の過酸化水素水中のパーティクル数は０．２μｍ以上で
５個／ｍｌであった。なお、フィルターは平均孔径０．
１μｍのフィルターであり、またポンプはベローズ式の
ポンプであった。また、容器を含む全ての過酸化水素水
の接液部はＰＦＡであった。
【００１９】この容器を３日かけて距離２０００ｋｍの
輸送に供した。輸送中常にポンプを起動させ、循環濾過
を継続した。輸送後大型容器から過酸化水素水を抜き出
し、その中の０．２μｍ以上のパーティクル数を測定し
たところ１０個／ｍｌであった。
輸送に供した。輸送中常にポンプを起動させ、循環濾過
を継続した。輸送後大型容器から過酸化水素水を抜き出
し、その中の０．２μｍ以上のパーティクル数を測定し
たところ１０個／ｍｌであった。
【００２０】比較例 図１においてフィルター４やポンプ３、配管２等の本発
明による装置が設置されていない大型容器を用い、循環
濾過を行なわなかった以外は実施例と同様に行なった。
輸送後における過酸化水素水中の０．２μｍ以上のパー
ティクル数は３００個／ｍｌであった。
明による装置が設置されていない大型容器を用い、循環
濾過を行なわなかった以外は実施例と同様に行なった。
輸送後における過酸化水素水中の０．２μｍ以上のパー
ティクル数は３００個／ｍｌであった。
【００２１】
【発明の効果】本発明の大型容器を用いることで、高純
度薬液を保存、輸送する際の容器に由来するパーティク
ル発生の影響がなく、清浄な薬液を提供することができ
る。
度薬液を保存、輸送する際の容器に由来するパーティク
ル発生の影響がなく、清浄な薬液を提供することができ
る。
【図１】本発明の高純度薬液輸送用大型容器
１：容器本体 ２：配管 ３：送液ポンプ ４：フィルター ５：配管 ６：バルブ ７：分岐配管
Claims (2)
- 【請求項１】 容器本体１、フィルター４、送液ポンプ
３及び配管からなり、フィルター、送液ポンプ及び配管
が、容器内の薬液をフィルターで循環濾過するよう配置
されていることを特徴とする高純度薬液輸送用大型容
器。 - 【請求項２】 フィルターの平均孔径が０．１μｍ以下
であることを特徴とする請求項１記載の高純度薬液輸送
用大型容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9080523A JPH10273193A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 高純度薬液輸送用大型容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9080523A JPH10273193A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 高純度薬液輸送用大型容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10273193A true JPH10273193A (ja) | 1998-10-13 |
Family
ID=13720685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9080523A Pending JPH10273193A (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | 高純度薬液輸送用大型容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10273193A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004361132A (ja) * | 2003-06-02 | 2004-12-24 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ライニングの剥離検査方法 |
| JP2005157361A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-16 | Merck Patent Gmbh | 液晶を詰め、輸送し、貯蔵し、回収するための方法およびシステム |
| JP2015147606A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 株式会社Ihi | アンモニア貯蔵設備 |
| JP2015534256A (ja) * | 2012-08-09 | 2015-11-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | 液体試薬の超高純度保存および分注 |
| JP2021097237A (ja) * | 2016-03-31 | 2021-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 半導体製造用処理液が収容された収容容器 |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP9080523A patent/JPH10273193A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004361132A (ja) * | 2003-06-02 | 2004-12-24 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | ライニングの剥離検査方法 |
| JP2005157361A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-16 | Merck Patent Gmbh | 液晶を詰め、輸送し、貯蔵し、回収するための方法およびシステム |
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| JP2021097237A (ja) * | 2016-03-31 | 2021-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 半導体製造用処理液が収容された収容容器 |
| JP2023016885A (ja) * | 2016-03-31 | 2023-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 半導体製造用処理液、半導体製造用処理液が収容された収容容器、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 |
| US11693321B2 (en) | 2016-03-31 | 2023-07-04 | Fujifilm Corporation | Treatment liquid for manufacturing semiconductor, storage container storing treatment liquid for manufacturing semiconductor, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device |
| TWI814345B (zh) * | 2016-03-31 | 2023-09-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 半導體製造用處理液及圖案形成方法 |
| US11892775B2 (en) | 2016-03-31 | 2024-02-06 | Fujifilm Corporation | Storage container storing treatment liquid for manufacturing semiconductor |
| TWI847824B (zh) * | 2016-03-31 | 2024-07-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 圖案形成方法及半導體元件的製造方法 |
| TWI903544B (zh) * | 2016-03-31 | 2025-11-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 半導體元件的製造方法 |
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