JPH06219765A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
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- JPH06219765A JPH06219765A JP2851293A JP2851293A JPH06219765A JP H06219765 A JPH06219765 A JP H06219765A JP 2851293 A JP2851293 A JP 2851293A JP 2851293 A JP2851293 A JP 2851293A JP H06219765 A JPH06219765 A JP H06219765A
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- JP
- Japan
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- fluorine
- silica glass
- doped
- core rod
- optical fiber
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低損失の純粋石英コア−フッ素ドープ石英ク
ラッドファイバの製造方法を提供する。 【構成】 コア用ロッドとして、その表面にフッ素がド
ープされた石英ガラス部分を有する純粋石英ガラスを用
いる。このロッドの上に外付け法によって純粋石英ガラ
ス微粒子層を堆積させ、このガラス微粒子層を脱水後、
フッ素含有ガス雰囲気で透明ガラス化して光ファイバ母
材とする。コア用ロッドはその上に外付け法によってガ
ラス微粒子層を堆積させる際に高温に曝されるが、その
表面にフッ素がドープされた石英ガラス部分が存在する
ので、たとえロッドの外周面に水分が付着していてもＨ
Ｆとなって飛散してしまうため母材内への水分の残存が
抑制され、得られたファイバはＯＨ基による吸収損失の
小さなものとなる。
ラッドファイバの製造方法を提供する。 【構成】 コア用ロッドとして、その表面にフッ素がド
ープされた石英ガラス部分を有する純粋石英ガラスを用
いる。このロッドの上に外付け法によって純粋石英ガラ
ス微粒子層を堆積させ、このガラス微粒子層を脱水後、
フッ素含有ガス雰囲気で透明ガラス化して光ファイバ母
材とする。コア用ロッドはその上に外付け法によってガ
ラス微粒子層を堆積させる際に高温に曝されるが、その
表面にフッ素がドープされた石英ガラス部分が存在する
ので、たとえロッドの外周面に水分が付着していてもＨ
Ｆとなって飛散してしまうため母材内への水分の残存が
抑制され、得られたファイバはＯＨ基による吸収損失の
小さなものとなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、純粋石英コア−フッ
素ドープ石英クラッド型の光ファイバ母材の製造方法に
関するもので、ＯＨ基による吸収損失の小さい光ファイ
バが得られる方法を提供するものである。
素ドープ石英クラッド型の光ファイバ母材の製造方法に
関するもので、ＯＨ基による吸収損失の小さい光ファイ
バが得られる方法を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバの低損失化を達成しようとす
る場合、コアに純粋石英ガラスを使用することがある。
その理由は、純粋石英ガラスがＧｅドープ石英ガラスと
比較するとレーリ散乱による損失が小さいことによる。
一般に、純粋石英コアファイバの製造方法は、先ず、純
粋石英ガラス棒を用意し、この周りにいわゆる外付け法
によって純粋石英からなるガラス微粒子を堆積させ、こ
のガラス微粒子を脱水し、その後フッ素含有ガス例えば
ＳｉＦ4 の雰囲気で透明ガラス化させてフッ素がドープ
された石英クラッドを形成してコア−クラッド型の光フ
ァイバ母材とする方法である。
る場合、コアに純粋石英ガラスを使用することがある。
その理由は、純粋石英ガラスがＧｅドープ石英ガラスと
比較するとレーリ散乱による損失が小さいことによる。
一般に、純粋石英コアファイバの製造方法は、先ず、純
粋石英ガラス棒を用意し、この周りにいわゆる外付け法
によって純粋石英からなるガラス微粒子を堆積させ、こ
のガラス微粒子を脱水し、その後フッ素含有ガス例えば
ＳｉＦ4 の雰囲気で透明ガラス化させてフッ素がドープ
された石英クラッドを形成してコア−クラッド型の光フ
ァイバ母材とする方法である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この方法は
コア材に直接クラッド材を外付けする方法であるため、
不純物が混入しやすく、とりわけコア材に付着した水が
残留してＯＨ基となり、波長１．３９μｍにその吸収が
現れ損失が大きくなるということがあった。そこで、本
発明者等は種々検討した結果、コア材にフッ素が含まれ
ているものに同様にして外付け法によってクラッドとな
るフッ素ドープ石英クラッドを形成して光ファイバ母材
とし、この母材を溶融線引きして得たファイバはＯＨ基
による吸収損失が小さいとの知見を得た。これは、フッ
素がドープされたコア材は高温にさらされたときに表面
からフッ素が飛散するめ、水分が存在しても反応してＨ
Ｆとなって飛ばされるからであると考えられる。
コア材に直接クラッド材を外付けする方法であるため、
不純物が混入しやすく、とりわけコア材に付着した水が
残留してＯＨ基となり、波長１．３９μｍにその吸収が
現れ損失が大きくなるということがあった。そこで、本
発明者等は種々検討した結果、コア材にフッ素が含まれ
ているものに同様にして外付け法によってクラッドとな
るフッ素ドープ石英クラッドを形成して光ファイバ母材
とし、この母材を溶融線引きして得たファイバはＯＨ基
による吸収損失が小さいとの知見を得た。これは、フッ
素がドープされたコア材は高温にさらされたときに表面
からフッ素が飛散するめ、水分が存在しても反応してＨ
Ｆとなって飛ばされるからであると考えられる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、以上の観点
からなされたもので、その特徴とする請求項１記載の発
明は、その表面にフッ素がドープされた石英ガラス部分
を含む純粋石英ガラスからなるコア用ロッドを用意し、
その周りに外付け法によりフッ素がドープされた石英ガ
ラスクラッド層とする光ファイバの製造方法にある。こ
こで、外付け法とはコア用ロッドの外周上にガラス層を
形成するという意味で、形成される石英ガラス層は火災
加水分解法によって一旦石英ガラス微粒子層を形成し、
これを透明ガラス化したものでも良いし、プラズマ法に
よって直接ガラス化されたものでも良い。また、フッ素
のドープ手段は石英ガラス微粒子から透明ガラスを得る
場合は例えばフッ素含有ガス雰囲気で石英ガラス微粒子
を透明ガラス化すれば良く、直接ガラス化の場合はプラ
ズマ炎中に石英ガラス生成原料ガスと酸素ガス及びフッ
素含有ガスを供給反応させれば良い。なお、純粋石英コ
アの表面に形成されたフッ素がドープされた部分は、フ
ッ素のドープ量を調整して最終的にクラッドのそれと一
致させるようにすることによりクラッドの一部とするこ
とができる。また、その表面にフッ素がドープされた部
分を有する純粋石英コアロッドは、いわゆるＶＡＤ法に
よって中心バーナとサイドバーナとを用い、中心バーナ
には例えばＳｉＣｌ4 のみを供給し、サイドバーナには
ＳｉＣｌ4 とフッ素含有ガスとを供給することにより作
製することができる。
からなされたもので、その特徴とする請求項１記載の発
明は、その表面にフッ素がドープされた石英ガラス部分
を含む純粋石英ガラスからなるコア用ロッドを用意し、
その周りに外付け法によりフッ素がドープされた石英ガ
ラスクラッド層とする光ファイバの製造方法にある。こ
こで、外付け法とはコア用ロッドの外周上にガラス層を
形成するという意味で、形成される石英ガラス層は火災
加水分解法によって一旦石英ガラス微粒子層を形成し、
これを透明ガラス化したものでも良いし、プラズマ法に
よって直接ガラス化されたものでも良い。また、フッ素
のドープ手段は石英ガラス微粒子から透明ガラスを得る
場合は例えばフッ素含有ガス雰囲気で石英ガラス微粒子
を透明ガラス化すれば良く、直接ガラス化の場合はプラ
ズマ炎中に石英ガラス生成原料ガスと酸素ガス及びフッ
素含有ガスを供給反応させれば良い。なお、純粋石英コ
アの表面に形成されたフッ素がドープされた部分は、フ
ッ素のドープ量を調整して最終的にクラッドのそれと一
致させるようにすることによりクラッドの一部とするこ
とができる。また、その表面にフッ素がドープされた部
分を有する純粋石英コアロッドは、いわゆるＶＡＤ法に
よって中心バーナとサイドバーナとを用い、中心バーナ
には例えばＳｉＣｌ4 のみを供給し、サイドバーナには
ＳｉＣｌ4 とフッ素含有ガスとを供給することにより作
製することができる。
【０００５】
【作用】純粋石英ガラスからなるコア用ロッドは、その
表面にフッ素を含んだ石英ガラス部分を備えているの
で、このロッドの上に外付け法によって純粋石英ガラス
微粒子層を堆積させる過程でロッドが高温にさらされて
も、ロッド外周面の水分はＨＦとなって飛散するため、
得られるファイバはＯＨ基による吸収損失の少ないもの
となる。
表面にフッ素を含んだ石英ガラス部分を備えているの
で、このロッドの上に外付け法によって純粋石英ガラス
微粒子層を堆積させる過程でロッドが高温にさらされて
も、ロッド外周面の水分はＨＦとなって飛散するため、
得られるファイバはＯＨ基による吸収損失の少ないもの
となる。
【０００６】
【実施例１】コア用微粒子の作製にＶＡＤ法を採用し
た。具体的には、中心バーナを用いて垂直に支持された
出発部材の先端に純粋石英ガラス微粒子をロッド状に堆
積させつつ、サイドバーナを用いてその周りにフッ素ド
ープ石英ガラス微粒子を堆積させた。中心バーナにはＳ
ｉＣｌ4 を０．１モル／分、Ｈ2 を４リットル／分、Ｏ
2 を２リットル／分供給し、サイドバーナにはＳｉＣｌ
4 を０．１モル／分、ＳｉＦ4 を０．０５モル／分、Ｈ
2 を４リットル／分、Ｏ2 を２リットル／分供給した。
この後このコア用微粒子体をＣｌ2 ０．５％、Ｈｅ９
９．５％の雰囲気で脱水し、次いで透明ガラス化して長
さ２００ｍｍ、外径３０ｍｍφの透明ガラスロッドとし
た。得られたコア用ロッドの純粋石英の部分は２５ｍｍ
φ、その外側のフッ素がドープされた石英部分の厚さは
２．５ｍｍ、両者の比屈折率差は０．３％であった。こ
のロッドを１０ｍｍφに延伸して、その周囲に外付け法
によって純粋石英ガラス微粒子を堆積してその外径を７
０ｍｍφとした。その際、バーナにはＳｉＣｌ4 を０．
１モル／分、Ｈ2 を４リットル／分、Ｏ2 を２リットル
／分供給した。次いで、このガラス微粒子層をＣｌ
2 ０．５％、Ｈｅ９９．５％の雰囲気で脱水し、引続い
てＳｉＦ4 ０．３％、Ｈｅ９９．６％の雰囲気で透明ガ
ラス化して３５ｍｍφの透明ガラスロッドとした。この
ロッドをさらに延伸して１０ｍｍφとし、再度その上に
上と同一条件の下で外付け法によりフッ素ドープ石英層
を形成し、同様に脱水、透明ガラス化して最終的に３０
ｍｍφ、長さ５００ｍｍの光ファイバ用母材とした。こ
の母材を一端から溶融線引きして外径が１２５μｍのフ
ァイバに線引きし、その上にＵＶ樹脂を被覆した。得ら
れた光ファイバの損失はＯＨ基による吸収損失が現れる
波長１．３９μｍで１ｄＢ／ｋｍであり、波長１．５５
μｍでは０．２ｄＢ／ｋｍと低損失であった。因みに、
出発コア材にフッ素をドープしないものは、波長１．３
９μｍにおける６０ｄＢ／ｋｍであり、波長１．５５μ
ｍにおける損失は０．８ｄＢ／ｋｍであった。
た。具体的には、中心バーナを用いて垂直に支持された
出発部材の先端に純粋石英ガラス微粒子をロッド状に堆
積させつつ、サイドバーナを用いてその周りにフッ素ド
ープ石英ガラス微粒子を堆積させた。中心バーナにはＳ
ｉＣｌ4 を０．１モル／分、Ｈ2 を４リットル／分、Ｏ
2 を２リットル／分供給し、サイドバーナにはＳｉＣｌ
4 を０．１モル／分、ＳｉＦ4 を０．０５モル／分、Ｈ
2 を４リットル／分、Ｏ2 を２リットル／分供給した。
この後このコア用微粒子体をＣｌ2 ０．５％、Ｈｅ９
９．５％の雰囲気で脱水し、次いで透明ガラス化して長
さ２００ｍｍ、外径３０ｍｍφの透明ガラスロッドとし
た。得られたコア用ロッドの純粋石英の部分は２５ｍｍ
φ、その外側のフッ素がドープされた石英部分の厚さは
２．５ｍｍ、両者の比屈折率差は０．３％であった。こ
のロッドを１０ｍｍφに延伸して、その周囲に外付け法
によって純粋石英ガラス微粒子を堆積してその外径を７
０ｍｍφとした。その際、バーナにはＳｉＣｌ4 を０．
１モル／分、Ｈ2 を４リットル／分、Ｏ2 を２リットル
／分供給した。次いで、このガラス微粒子層をＣｌ
2 ０．５％、Ｈｅ９９．５％の雰囲気で脱水し、引続い
てＳｉＦ4 ０．３％、Ｈｅ９９．６％の雰囲気で透明ガ
ラス化して３５ｍｍφの透明ガラスロッドとした。この
ロッドをさらに延伸して１０ｍｍφとし、再度その上に
上と同一条件の下で外付け法によりフッ素ドープ石英層
を形成し、同様に脱水、透明ガラス化して最終的に３０
ｍｍφ、長さ５００ｍｍの光ファイバ用母材とした。こ
の母材を一端から溶融線引きして外径が１２５μｍのフ
ァイバに線引きし、その上にＵＶ樹脂を被覆した。得ら
れた光ファイバの損失はＯＨ基による吸収損失が現れる
波長１．３９μｍで１ｄＢ／ｋｍであり、波長１．５５
μｍでは０．２ｄＢ／ｋｍと低損失であった。因みに、
出発コア材にフッ素をドープしないものは、波長１．３
９μｍにおける６０ｄＢ／ｋｍであり、波長１．５５μ
ｍにおける損失は０．８ｄＢ／ｋｍであった。
【０００７】
【発明の効果】この発明方法による光ファイバの製造方
法は、コア用ロッドとしてその表面にフッ素がドープさ
れた石英ガラス部分を有する純粋石英ガラスからなるも
のであるので、その上に外付け法によってクラッドとな
るガラス微粒子層を堆積させる際にロッドが高温にさら
されても、ロッド表面の水分はＨＦとなって飛散し、以
ってファイバ内に残存することがないのでＯＨ基による
吸収損失の小さなファイバが得られる。
法は、コア用ロッドとしてその表面にフッ素がドープさ
れた石英ガラス部分を有する純粋石英ガラスからなるも
のであるので、その上に外付け法によってクラッドとな
るガラス微粒子層を堆積させる際にロッドが高温にさら
されても、ロッド表面の水分はＨＦとなって飛散し、以
ってファイバ内に残存することがないのでＯＨ基による
吸収損失の小さなファイバが得られる。
Claims (4)
- 【請求項１】 その表面にフッ素がドープされた石英ガ
ラス部分を含む純粋石英ガラスからなるコア用ロッドを
用意し、その周りに外付け法によりフッ素がドープされ
た石英ガラスクラッド層を形成することを特徴とする光
ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項２】 その表面にフッ素がドープされた石英ガ
ラス部分を含む純粋石英ガラスからなるコア用ロッドを
用意し、その周りに外付け法により純粋石英ガラス微粒
子を層状に堆積させ、この純粋石英ガラス微粒子層を脱
水し、その後この純粋石英ガラス微粒子層をフッ素含有
ガス雰囲気で透明ガラス化させてフッ素がドープされた
ラッド層とすることを特徴とする光ファイバ母材の製造
方法。 - 【請求項３】 コア用ロッド表面のフッ素がドープされ
た石英ガラス部分がクラッドの一部を形成することを特
徴とする請求項１記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項４】 ＶＡＤ法によって、垂直に支持された出
発部材の先端にコアとなる純粋石英ガラス微粒子をロッ
ド状に堆積させつつ、その周りにフッ素がドープされた
石英ガラス微粒子を層状に堆積させて光ファイバ用ガラ
ス微粒子体となし、このガラス粒子体を脱水、透明ガラ
ス化することにより、その表面にフッ素がドープされた
石英ガラス部分を含む純粋石英ガラスからなるコア用ロ
ッドとすることを特徴とする請求項２記載の光ファイバ
母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2851293A JPH06219765A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2851293A JPH06219765A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06219765A true JPH06219765A (ja) | 1994-08-09 |
Family
ID=12250740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2851293A Pending JPH06219765A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06219765A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006083354A3 (en) * | 2004-11-18 | 2006-11-30 | Nextrom Holding Sa | Low-water optical fiber preform and process for making it |
| US9006765B2 (en) | 2003-05-13 | 2015-04-14 | Bridelux, Inc. | Multi-chip LED diode apparatus |
-
1993
- 1993-01-26 JP JP2851293A patent/JPH06219765A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9006765B2 (en) | 2003-05-13 | 2015-04-14 | Bridelux, Inc. | Multi-chip LED diode apparatus |
| WO2006083354A3 (en) * | 2004-11-18 | 2006-11-30 | Nextrom Holding Sa | Low-water optical fiber preform and process for making it |
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