JPH06219988A - ラジカルグラフト化による環状カルボニル含有化合物 - Google Patents
ラジカルグラフト化による環状カルボニル含有化合物Info
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- JPH06219988A JPH06219988A JP5275537A JP27553793A JPH06219988A JP H06219988 A JPH06219988 A JP H06219988A JP 5275537 A JP5275537 A JP 5275537A JP 27553793 A JP27553793 A JP 27553793A JP H06219988 A JPH06219988 A JP H06219988A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規なカルボニル含有構造体を提供する。
【構成】 ラジカル開始剤の存在下に、飽和炭化水素、
置換飽和炭化水素、ポリマー又はこれらの混合物と次式
で示される構造を有するカルボニル含有化合物又はそれ
らの混合物とを接触させて形成されるカルボニル含有構
造体： 【化１】 （ＱはＨＯＨ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ又はｎ−ＢｕＯＨ；
ｎは０，１又は＞１；Ｘ及びＹは独立にＣＨ2 又はＣ＝
Ｏ；Ｗは独立にＣＨ2 、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、ＮＨ、ＣＭｅ2 、
Ｃ＝Ｎ−アルキル又はＮ−アルキル（ここに、アルキル
は炭素原子数１〜１８）、Ｕ及びＶは独立にＷと同じ基
から選ばれ、又は、Ｕ及びＶは共同して１，２−フェニ
レン、１，８−ナフタレン−ジイル及び１，２−ナフタ
レン−ジイルを形成するような基）。
置換飽和炭化水素、ポリマー又はこれらの混合物と次式
で示される構造を有するカルボニル含有化合物又はそれ
らの混合物とを接触させて形成されるカルボニル含有構
造体： 【化１】 （ＱはＨＯＨ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ又はｎ−ＢｕＯＨ；
ｎは０，１又は＞１；Ｘ及びＹは独立にＣＨ2 又はＣ＝
Ｏ；Ｗは独立にＣＨ2 、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、ＮＨ、ＣＭｅ2 、
Ｃ＝Ｎ−アルキル又はＮ−アルキル（ここに、アルキル
は炭素原子数１〜１８）、Ｕ及びＶは独立にＷと同じ基
から選ばれ、又は、Ｕ及びＶは共同して１，２−フェニ
レン、１，８−ナフタレン−ジイル及び１，２−ナフタ
レン−ジイルを形成するような基）。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な飽和炭化水素、
特にポリマー状炭化水素を含むカルボニル含有化合物に
関する。
特にポリマー状炭化水素を含むカルボニル含有化合物に
関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】米国特
許Ｎo.５，０５７，５６４には、新規な環状カルボニル
含有化合物が開示されている。これらの化合物はエン反
応性カルボニル基を有するカルボニル化合物と不飽和ポ
リマーの混合物を加熱することにより製造される。この
方法と生成物は非常に有用であるが、それでも飽和炭化
水素、特に飽和ポリマーのカルボニル変性化合物を形成
することができるのは望ましいであろう。
許Ｎo.５，０５７，５６４には、新規な環状カルボニル
含有化合物が開示されている。これらの化合物はエン反
応性カルボニル基を有するカルボニル化合物と不飽和ポ
リマーの混合物を加熱することにより製造される。この
方法と生成物は非常に有用であるが、それでも飽和炭化
水素、特に飽和ポリマーのカルボニル変性化合物を形成
することができるのは望ましいであろう。
【０００３】
【課題を解決するための手段】従って、ラジカル開始剤
の存在下に、飽和炭化水素、置換飽和炭化水素、ポリマ
ー及びこれらの混合物からなる群から選ばれる化合物と
次式で示される構造を有するカルボニル含有化合物又は
それらの混合物とを接触させることにより、新規なカル
ボニル含有構造体が調製される：
の存在下に、飽和炭化水素、置換飽和炭化水素、ポリマ
ー及びこれらの混合物からなる群から選ばれる化合物と
次式で示される構造を有するカルボニル含有化合物又は
それらの混合物とを接触させることにより、新規なカル
ボニル含有構造体が調製される：
【化３】 ここに、ＱはＨＯＨ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ又はｎ−Ｂｕ
ＯＨであり；ｎは０，１又は＞１であり；Ｘ及びＹは独
立にＣＨ2 及びＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；Ｗは独立
にＣＨ2 、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、ＮＨ、ＣＭｅ2 、Ｃ＝Ｎ−アル
キル及びＮ−アルキル（ここに、アルキルは炭素原子数
１〜１８である）からなる群から選ばれ、Ｕ及びＶは独
立にＷと同じ基から選ばれ、又は、、Ｕ及びＶは共同し
て１，２−フェニレン、１，８−ナフタレン−ジイル及
び１，２−ナフタレン−ジイルを形成するような基であ
る。
ＯＨであり；ｎは０，１又は＞１であり；Ｘ及びＹは独
立にＣＨ2 及びＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；Ｗは独立
にＣＨ2 、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、ＮＨ、ＣＭｅ2 、Ｃ＝Ｎ−アル
キル及びＮ−アルキル（ここに、アルキルは炭素原子数
１〜１８である）からなる群から選ばれ、Ｕ及びＶは独
立にＷと同じ基から選ばれ、又は、、Ｕ及びＶは共同し
て１，２−フェニレン、１，８−ナフタレン−ジイル及
び１，２−ナフタレン−ジイルを形成するような基であ
る。
【０００４】一般に、前記接触は、新規な構造体を生成
するに充分な温度及び時間行われる。
するに充分な温度及び時間行われる。
【０００５】本発明の構造体は、特に溶液ビスコシフィ
ケイション(viscosification) 剤として有用である。
ケイション(viscosification) 剤として有用である。
【０００６】本発明によれば、ラジカル開始剤の存在下
に、飽和炭化水素又はそれらの混合物と次式で示される
構造を有するカルボニル含有化合物又はそれらの混合物
とを接触させることにより、新規なカルボニル含有構造
体が調製される：
に、飽和炭化水素又はそれらの混合物と次式で示される
構造を有するカルボニル含有化合物又はそれらの混合物
とを接触させることにより、新規なカルボニル含有構造
体が調製される：
【化４】 ここに、ＱはＨＯＨ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ又はｎ−Ｂｕ
ＯＨであり；ｎは０，１又は＞１であり；Ｘ及びＹは独
立にＣＨ2 及びＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；Ｗは独立
にＣＨ2 、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、ＮＨ、ＣＭｅ2 、Ｃ＝Ｎ−アル
キル及びＮ−アルキル（ここに、アルキルは炭素原子数
１〜１８である）からなる群から選ばれ、Ｕ及びＶは独
立にＷと同じ基から選ばれ、又は、Ｕ及びＶは共同して
１，２−フェニレン、１，８−ナフタレン−ジイル及び
１，２−ナフタレン−ジイルを形成するような基であ
る。
ＯＨであり；ｎは０，１又は＞１であり；Ｘ及びＹは独
立にＣＨ2 及びＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；Ｗは独立
にＣＨ2 、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、ＮＨ、ＣＭｅ2 、Ｃ＝Ｎ−アル
キル及びＮ−アルキル（ここに、アルキルは炭素原子数
１〜１８である）からなる群から選ばれ、Ｕ及びＶは独
立にＷと同じ基から選ばれ、又は、Ｕ及びＶは共同して
１，２−フェニレン、１，８−ナフタレン−ジイル及び
１，２−ナフタレン−ジイルを形成するような基であ
る。
【０００７】典型的なカルボニルモノマーとしては、ア
ロキサン、１，３−ジメチルアロキサン、インダントリ
オン、テトラリンテトロン、１，８−ナフタレン−トリ
オン、シクロペンタン−１，２，３−トリオン、シクロ
ヘキサン−１，２，３−トリオン、テトラヒドロフラン
−２，３，４−トリオン、ピロリジン−２，３，４−ト
リオン、ベンゾピラン−２，３，４−トリオン、キノリ
ン−２，３，４−トリオン、ロジゾン酸、クロコン酸、
トリキノイル、ロイコン酸、イソプロピリデンケトマロ
ネート及びデヒドロアスコルビン酸誘導体が含まれる。
ロキサン、１，３−ジメチルアロキサン、インダントリ
オン、テトラリンテトロン、１，８−ナフタレン−トリ
オン、シクロペンタン−１，２，３−トリオン、シクロ
ヘキサン−１，２，３−トリオン、テトラヒドロフラン
−２，３，４−トリオン、ピロリジン−２，３，４−ト
リオン、ベンゾピラン−２，３，４−トリオン、キノリ
ン−２，３，４−トリオン、ロジゾン酸、クロコン酸、
トリキノイル、ロイコン酸、イソプロピリデンケトマロ
ネート及びデヒドロアスコルビン酸誘導体が含まれる。
【０００８】本発明の化合物を形成するのに用いられる
有用なラジカル開始剤としては、ジアルキルパーオキサ
イド、例えば、ジ−ターシャリー−ブチルパーオキサイ
ド、２，５−ジメチル−２，５−ジ−ターシャリー−ブ
チル−パーオキシヘキサン、ジ−クミルパーオキサイ
ド；アルキルパーオキサイド、例えば、ターシャリー−
ブチルハイドロパーオキサイド、ターシャリー−オクチ
ルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサ
イド；アロイルパーオキサイド、例えば、ベンゾイルパ
ーオキサイド；パーオキシエステル、例えば、ターシャ
リー−ブチルパーオキシピバレート、ターシャリー−ブ
チルパーベンゾエート；及びアゾ化合物、例えば、アゾ
−ビス−イソブチロニトリルがある。上記反応温度で適
当な半減期を有するラジカル開始剤なら何でも用いう
る。
有用なラジカル開始剤としては、ジアルキルパーオキサ
イド、例えば、ジ−ターシャリー−ブチルパーオキサイ
ド、２，５−ジメチル−２，５−ジ−ターシャリー−ブ
チル−パーオキシヘキサン、ジ−クミルパーオキサイ
ド；アルキルパーオキサイド、例えば、ターシャリー−
ブチルハイドロパーオキサイド、ターシャリー−オクチ
ルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサ
イド；アロイルパーオキサイド、例えば、ベンゾイルパ
ーオキサイド；パーオキシエステル、例えば、ターシャ
リー−ブチルパーオキシピバレート、ターシャリー−ブ
チルパーベンゾエート；及びアゾ化合物、例えば、アゾ
−ビス−イソブチロニトリルがある。上記反応温度で適
当な半減期を有するラジカル開始剤なら何でも用いう
る。
【０００９】カルボニルモノマーのラジカル開始反応
は、広範な炭化水素に適用可能である。前記炭化水素
は、ノルマルアルカン、例えば、デカン、ヘキサデカ
ン、オクタデカン、トリコサン、炭素原子数１０〜約５
０のパラフィン；分岐アルカン、例えば、ジメチルヘキ
サン、トリメチルデカン、テトラメチルデカン（プリス
タン）；ホワイトオイル、ヌジョール、エチレン、プロ
ピレン、ブチレン及び炭素原子数１０〜約５００の高分
子量オレフィンオリゴマーの水素化したオリゴマー又は
共オリゴマー；ＯＨ、Ｏ（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）x Ｈ（ここ
にｘ＝１〜１０）、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯアル
キル、Ｃ（＝Ｏ）アルキル（ここに、アルキルは炭素原
子数１〜１８である）、アリール及びエチレン基の少な
くとも１つを含むノルマル及び分岐アルカンからなる置
換炭化水素である。有用な置換炭化水素の例は、デカノ
ール、オクタデカノール、エトキシル化オクタデカノー
ル、ステアリン酸、ステアリン酸エチル、メチルデシル
ケトン、テトラプロピルベンゼン、オクタデカン、テト
ラプロピレン、テトライソブチレン、鉱物油及び合成潤
滑油からなる。
は、広範な炭化水素に適用可能である。前記炭化水素
は、ノルマルアルカン、例えば、デカン、ヘキサデカ
ン、オクタデカン、トリコサン、炭素原子数１０〜約５
０のパラフィン；分岐アルカン、例えば、ジメチルヘキ
サン、トリメチルデカン、テトラメチルデカン（プリス
タン）；ホワイトオイル、ヌジョール、エチレン、プロ
ピレン、ブチレン及び炭素原子数１０〜約５００の高分
子量オレフィンオリゴマーの水素化したオリゴマー又は
共オリゴマー；ＯＨ、Ｏ（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）x Ｈ（ここ
にｘ＝１〜１０）、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＯＯＨ、ＣＯＯアル
キル、Ｃ（＝Ｏ）アルキル（ここに、アルキルは炭素原
子数１〜１８である）、アリール及びエチレン基の少な
くとも１つを含むノルマル及び分岐アルカンからなる置
換炭化水素である。有用な置換炭化水素の例は、デカノ
ール、オクタデカノール、エトキシル化オクタデカノー
ル、ステアリン酸、ステアリン酸エチル、メチルデシル
ケトン、テトラプロピルベンゼン、オクタデカン、テト
ラプロピレン、テトライソブチレン、鉱物油及び合成潤
滑油からなる。
【００１０】有用なポリマーは、次のモノマーの１又は
それ以上から誘導されたポリマーを含むが、これらに限
定されない：エチレン、プロピレン、ブテン、高級アル
ファーオレフィン、スチレン、アリルエステル、ビニル
エステル、及びハロゲン化物、例えば、酢酸ビニル及び
塩化ビニル；アクリル酸、アクリロニトリル等。ポリマ
ーは直鎖状又は分岐状でありえ、高分子量又は低分子量
（Ｍｎ＝５００〜１０００万）でありうる。高密度及び
低密度ポリエチレンのようなエチレンのホモポリマー、
アタクチック又は結晶性ポリプロピレン、ポリブテン、
ポリイソブチレン、高級アルファオレフィンのホモポリ
マー又はコポリマー、エチレンとプロピレンのコポリマ
ー、ＥＰＲ、非共役ジエンを含むＥＰＲ（ＥＰＤＭ）、
エチレンとブテン又は高級アルファオレフィンとのコポ
リマー、プロピレンとブテン類及び高級アルファオレフ
ィンとのコポリマー。ジエン、例えばブタジエン及びイ
ソプレンをコポリマーの形成に用いたときは、得られる
ポリマーは、好ましくは水素化され、実質的に全てのエ
チレン性不飽和は飽和される。有用なポリマーとして
は、水素化スチレンブタジエンブロック及びスターポリ
マー並びに水素化スチレンイソプレンブロック及びスタ
ーポリマーである。
それ以上から誘導されたポリマーを含むが、これらに限
定されない：エチレン、プロピレン、ブテン、高級アル
ファーオレフィン、スチレン、アリルエステル、ビニル
エステル、及びハロゲン化物、例えば、酢酸ビニル及び
塩化ビニル；アクリル酸、アクリロニトリル等。ポリマ
ーは直鎖状又は分岐状でありえ、高分子量又は低分子量
（Ｍｎ＝５００〜１０００万）でありうる。高密度及び
低密度ポリエチレンのようなエチレンのホモポリマー、
アタクチック又は結晶性ポリプロピレン、ポリブテン、
ポリイソブチレン、高級アルファオレフィンのホモポリ
マー又はコポリマー、エチレンとプロピレンのコポリマ
ー、ＥＰＲ、非共役ジエンを含むＥＰＲ（ＥＰＤＭ）、
エチレンとブテン又は高級アルファオレフィンとのコポ
リマー、プロピレンとブテン類及び高級アルファオレフ
ィンとのコポリマー。ジエン、例えばブタジエン及びイ
ソプレンをコポリマーの形成に用いたときは、得られる
ポリマーは、好ましくは水素化され、実質的に全てのエ
チレン性不飽和は飽和される。有用なポリマーとして
は、水素化スチレンブタジエンブロック及びスターポリ
マー並びに水素化スチレンイソプレンブロック及びスタ
ーポリマーである。
【００１１】過剰のエチレン性不飽和を含むポリマーは
ラジカルグラフト化の間に架橋反応する傾向があるの
で、残留量(residual level)のエチレン性不飽和のみを
含むポリマーが好ましい。
ラジカルグラフト化の間に架橋反応する傾向があるの
で、残留量(residual level)のエチレン性不飽和のみを
含むポリマーが好ましい。
【００１２】典型的な反応機構は、以下の式で示され
る：
る：
【化５】 ここに、Ｒ−Ｈは炭化水素又はポリマーを示し、Ｉはラ
ジカル開始剤を示し、構造〔Ａ〕及び〔Ｂ〕は環状カル
ボニル化合物を、そして〔Ｃ〕及び〔Ｄ〕はラジカル付
加物を表す。
ジカル開始剤を示し、構造〔Ａ〕及び〔Ｂ〕は環状カル
ボニル化合物を、そして〔Ｃ〕及び〔Ｄ〕はラジカル付
加物を表す。
【００１３】環状カルボニルモノマーと炭化水素及び／
又はポリマー基体との反応は、溶液中、溶融物中、及び
ポリマー加工装置、例えばゴム用ロール機、ブラベンダ
ー、押出機、又はバンバリーミキサー中で起こりうる。
又はポリマー基体との反応は、溶液中、溶融物中、及び
ポリマー加工装置、例えばゴム用ロール機、ブラベンダ
ー、押出機、又はバンバリーミキサー中で起こりうる。
【００１４】一般には溶液中でグラフトするときは、ポ
リマーはクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、又は鉱油
のような適当な溶媒中に溶解され、用いられるラジカル
開始剤に依存して約９０℃〜約１８０℃の温度に加熱さ
れる。カルボニルモノマーを加え、適当な期間加熱して
いずれかのラジカル反応性カルボニル基を放出し、この
カルボニル基は水和物、アルコラート、又は極性溶媒和
物として結合される。この時点で、ラジカル開始剤を一
括して、又は適当な期間、通常は約５〜６０分かけて、
滴々添加する。他の方法は、適当な溶媒中のモノマー及
び過酸化物の混合物を炭化水素又はポリマーの溶液に、
ラジカル開始剤の半減期に調和した添加速度及び適当な
反応温度で加えることである。肉眼で捉えうる色変化、
赤外分析、及び／又はＮＭＲ分析が、カルボニルモノマ
ーの炭化水素へのラジカル付加が完了したことを示す
迄、反応混合物を攪拌しつつ加熱する。無水インダント
リオンのようなカルボニルモノマーを用いるグラフト反
応は、薄紫色、緑色、黄色から出発して金色に変わる特
色ある色変化を示し、これはホモリシスグラフト反応に
おける完全なモノマー消費のしるしである。ヒドロカル
ビル(hydrocarbyl) ラジカルの、インダントリオンのよ
うなカルボニルモノマーへの添加の間に生じる肉眼で捉
えうる色変化は、グラフト反応の進行を監視するのによ
い方法を提供する。温度及び濃度に依存して、ラジカル
付加物への高い添加率を達成するのに、約０．１〜１２
時間の反応時間が通常充分である。
リマーはクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、又は鉱油
のような適当な溶媒中に溶解され、用いられるラジカル
開始剤に依存して約９０℃〜約１８０℃の温度に加熱さ
れる。カルボニルモノマーを加え、適当な期間加熱して
いずれかのラジカル反応性カルボニル基を放出し、この
カルボニル基は水和物、アルコラート、又は極性溶媒和
物として結合される。この時点で、ラジカル開始剤を一
括して、又は適当な期間、通常は約５〜６０分かけて、
滴々添加する。他の方法は、適当な溶媒中のモノマー及
び過酸化物の混合物を炭化水素又はポリマーの溶液に、
ラジカル開始剤の半減期に調和した添加速度及び適当な
反応温度で加えることである。肉眼で捉えうる色変化、
赤外分析、及び／又はＮＭＲ分析が、カルボニルモノマ
ーの炭化水素へのラジカル付加が完了したことを示す
迄、反応混合物を攪拌しつつ加熱する。無水インダント
リオンのようなカルボニルモノマーを用いるグラフト反
応は、薄紫色、緑色、黄色から出発して金色に変わる特
色ある色変化を示し、これはホモリシスグラフト反応に
おける完全なモノマー消費のしるしである。ヒドロカル
ビル(hydrocarbyl) ラジカルの、インダントリオンのよ
うなカルボニルモノマーへの添加の間に生じる肉眼で捉
えうる色変化は、グラフト反応の進行を監視するのによ
い方法を提供する。温度及び濃度に依存して、ラジカル
付加物への高い添加率を達成するのに、約０．１〜１２
時間の反応時間が通常充分である。
【００１５】一般に、用いられるカルボニルモノマーの
量はラジカル付加物中の望ましい官能基の量により指示
される。炭化水素及びポリマー上へのラジカルのグラフ
トの量を０．１ｗｔ％〜約２０ｗｔ％カルボニルモノマ
ーとすることは容易に達成しうる。更に、本発明のカル
ボニルモノマーを用いて高いグラフト効率を実現するの
に、通常過剰のカルボニルモノマーの使用を必要としな
い。加えて、環状カルボニルモノマーの炭化水素及びポ
リマー基体へのラジカルのグラフトの効率を高くするの
に、通常ストリッピング又はろ過過程は必要でない。
量はラジカル付加物中の望ましい官能基の量により指示
される。炭化水素及びポリマー上へのラジカルのグラフ
トの量を０．１ｗｔ％〜約２０ｗｔ％カルボニルモノマ
ーとすることは容易に達成しうる。更に、本発明のカル
ボニルモノマーを用いて高いグラフト効率を実現するの
に、通常過剰のカルボニルモノマーの使用を必要としな
い。加えて、環状カルボニルモノマーの炭化水素及びポ
リマー基体へのラジカルのグラフトの効率を高くするの
に、通常ストリッピング又はろ過過程は必要でない。
【００１６】必要なときは、官能化された生成物は蒸発
法を用いる溶媒分離により単離でき、官能化ポリマーの
場合には、反応混合物を、官能化ポリマーの沈殿を引き
起こす極性溶媒、例えばアセトン又はメタノールに加え
ることにより単離できる。
法を用いる溶媒分離により単離でき、官能化ポリマーの
場合には、反応混合物を、官能化ポリマーの沈殿を引き
起こす極性溶媒、例えばアセトン又はメタノールに加え
ることにより単離できる。
【００１７】ポリマーのラジカルグラフトは、溶媒無し
で、溶融物中で、又はポリマー加工装置、例えばゴム用
ロール機、押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー
ミキサー、等の中でも行いうる。ラジカルグラフトをバ
ルク中で行うときは、一般には、反応温度は約９０℃〜
約２２０℃であり、反応時間は約０．０５〜約１時間で
ある。
で、溶融物中で、又はポリマー加工装置、例えばゴム用
ロール機、押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー
ミキサー、等の中でも行いうる。ラジカルグラフトをバ
ルク中で行うときは、一般には、反応温度は約９０℃〜
約２２０℃であり、反応時間は約０．０５〜約１時間で
ある。
【００１８】用いられるラジカル開始剤の量は一般にカ
ルボニルモノマーの重量を基準にして１〜１００ｗｔ％
であり、しばしば、ラジカル開始剤の性質、及びグラフ
トされる炭化水素又はポリマー基体に依存する。ある種
のポリマーは架橋及び／又は鎖切断し易いので薬剤濃
度、時間、温度、及びプロセス条件に関する注意深い裁
量が必要である。これらパラメーターは、全てグラフト
過程における従属変数だからである。通常、約１２０℃
〜約１８０℃の範囲のグラフト温度で、酸素の無い反応
器中で約１０ｗｔ％〜約５０ｗｔ％の量のラジカル開始
剤を用いるグラフト過程は、相当量の付加カルボニルモ
ノマーの付いた官能性ポリマーを生ずる。
ルボニルモノマーの重量を基準にして１〜１００ｗｔ％
であり、しばしば、ラジカル開始剤の性質、及びグラフ
トされる炭化水素又はポリマー基体に依存する。ある種
のポリマーは架橋及び／又は鎖切断し易いので薬剤濃
度、時間、温度、及びプロセス条件に関する注意深い裁
量が必要である。これらパラメーターは、全てグラフト
過程における従属変数だからである。通常、約１２０℃
〜約１８０℃の範囲のグラフト温度で、酸素の無い反応
器中で約１０ｗｔ％〜約５０ｗｔ％の量のラジカル開始
剤を用いるグラフト過程は、相当量の付加カルボニルモ
ノマーの付いた官能性ポリマーを生ずる。
【００１９】
（例１）３４．１ｇのｎ−デカン及び１ｇのインダント
リオン（ＩＴ）の混合物を窒素雰囲気下で１６０℃に加
熱した。幾らかの溶解したＩＴは１６０℃で反応混合物
に緑色を与えた。１６０℃の攪拌された混合物に０．５
mLのｔ−ブチルパーオキサイドを添加（目盛り付きピペ
ットからの一括投与）の後、前記ＩＴは徐々に溶解し、
約１０分後に金色の溶液を得た。１６０℃で１時間加熱
した後、この溶液を回転蒸発し(rotoevaporate) た。残
渣は、赤外スペクトルにおいて５．８μmに強い吸収帯
を示し、ＵＶ−可視スペクトルにおいて２２６．５nmに
強いバンドを示し、ＧＣ−質量スペクトルはｍ／ｅ＝３
０２に分子イオンを有する幾つかの異性体を表示した。
リオン（ＩＴ）の混合物を窒素雰囲気下で１６０℃に加
熱した。幾らかの溶解したＩＴは１６０℃で反応混合物
に緑色を与えた。１６０℃の攪拌された混合物に０．５
mLのｔ−ブチルパーオキサイドを添加（目盛り付きピペ
ットからの一括投与）の後、前記ＩＴは徐々に溶解し、
約１０分後に金色の溶液を得た。１６０℃で１時間加熱
した後、この溶液を回転蒸発し(rotoevaporate) た。残
渣は、赤外スペクトルにおいて５．８μmに強い吸収帯
を示し、ＵＶ−可視スペクトルにおいて２２６．５nmに
強いバンドを示し、ＧＣ−質量スペクトルはｍ／ｅ＝３
０２に分子イオンを有する幾つかの異性体を表示した。
【００２０】（例２）磁気攪拌機、温度計、還流コンデ
ンサー、及び滴下ロートを備えた１００mL三つ口丸底フ
ラスコに、３４．１mLのプリスタン（２，６，１０，１
４−テトラメチルペンタデカン）及び１．０ｇの無水ニ
ンヒドリンを装填した。攪拌しつつ混合物を徐々に１５
０℃に加熱して紫色のニンヒドリンを溶解したところ、
暗青色の溶液を得た。反応温度が１６０℃に到達したと
き、０．５mLのジ−ｔ−ブチルパーオキサイドを一括し
て、目盛り付きピペットを通して攪拌された反応溶液に
加えた。反応温度は自発的に１６３℃に上昇し、約８分
で溶液の色は暗青色から緑色に、黄色に、最後に橙色に
変わった。
ンサー、及び滴下ロートを備えた１００mL三つ口丸底フ
ラスコに、３４．１mLのプリスタン（２，６，１０，１
４−テトラメチルペンタデカン）及び１．０ｇの無水ニ
ンヒドリンを装填した。攪拌しつつ混合物を徐々に１５
０℃に加熱して紫色のニンヒドリンを溶解したところ、
暗青色の溶液を得た。反応温度が１６０℃に到達したと
き、０．５mLのジ−ｔ−ブチルパーオキサイドを一括し
て、目盛り付きピペットを通して攪拌された反応溶液に
加えた。反応温度は自発的に１６３℃に上昇し、約８分
で溶液の色は暗青色から緑色に、黄色に、最後に橙色に
変わった。
【００２１】この混合物を真空蒸留すると、残渣を生じ
た。この残渣は、赤外スペクトルにおいて、５．８５μ
m に顕著なカルボニルの吸収帯を有し、ＧＣ−質量スペ
クトルはｍ／ｅ＝４２８に分子イオンを有する異性体類
を示し、炭素磁気共鳴スペクトルはプリスタンのインダ
ン−１，２，３−トリオンへのラジカル付加から誘導さ
れる異性体の混合物に一致した。
た。この残渣は、赤外スペクトルにおいて、５．８５μ
m に顕著なカルボニルの吸収帯を有し、ＧＣ−質量スペ
クトルはｍ／ｅ＝４２８に分子イオンを有する異性体類
を示し、炭素磁気共鳴スペクトルはプリスタンのインダ
ン−１，２，３−トリオンへのラジカル付加から誘導さ
れる異性体の混合物に一致した。
【００２２】（例３）１ｇのインダントリオン、１０mL
のプリスタン、及び２０ｇの１，２−ジクロロベンゼン
を窒素雰囲気下の反応器に入れ、攪拌し、透明な暗緑色
の溶液が得られる迄１６０℃に加熱した。ラジカル開始
剤（１mLのｔ−ブチルパーオキサイド）を、５分間かけ
て滴々添加した。この期間に、この溶液の色は緑色から
黄色に変わり、最後に鮮やかな橙色になった。加熱を１
６０℃で半時間続け、この溶液を回転蒸発させ(rotoeva
porate) た。残渣のＧＣ−質量スペクトル分析をしたと
ころ、プリスタン基のインダントリオンへの付加から生
ずる異性体の存在が示された。生成物のＵＶ−可視スペ
クトルは２９５nmに強い吸収帯を示した。
のプリスタン、及び２０ｇの１，２−ジクロロベンゼン
を窒素雰囲気下の反応器に入れ、攪拌し、透明な暗緑色
の溶液が得られる迄１６０℃に加熱した。ラジカル開始
剤（１mLのｔ−ブチルパーオキサイド）を、５分間かけ
て滴々添加した。この期間に、この溶液の色は緑色から
黄色に変わり、最後に鮮やかな橙色になった。加熱を１
６０℃で半時間続け、この溶液を回転蒸発させ(rotoeva
porate) た。残渣のＧＣ−質量スペクトル分析をしたと
ころ、プリスタン基のインダントリオンへの付加から生
ずる異性体の存在が示された。生成物のＵＶ−可視スペ
クトルは２９５nmに強い吸収帯を示した。
【００２３】（例４）１ｇのインダントリオン、２０mL
の１，２−ジクロロベンゼン、及び１０mLのｎ−ノナノ
ールを磁気攪拌機、コンデンサー、及び添加ロートを備
えた５０mLの三つ口丸底フラスコに加えた。この混合物
を、透明な暗緑色の溶液が得られる迄１６０℃で攪拌し
た。マイクロピペットを用いて、１mLのｔ−ブチルパー
オキサイドを、１６０℃の攪拌された暗緑色の溶液に一
括して加えた。１１分間に、この溶液の色は暗緑色から
金色に、そして最後に鮮やかな橙色に変わった。回転蒸
発すると、残渣が得られ、これは赤外スペクトルにおい
て、約３μm の所に水酸基吸収帯を、５．８μm の所に
カルボニルの吸収を示し、質量スペクトルにおいて、ｎ
−ノナノールのインダントリオンへのラジカル付加から
生ずる異性付加体の存在が明らかとなった。
の１，２−ジクロロベンゼン、及び１０mLのｎ−ノナノ
ールを磁気攪拌機、コンデンサー、及び添加ロートを備
えた５０mLの三つ口丸底フラスコに加えた。この混合物
を、透明な暗緑色の溶液が得られる迄１６０℃で攪拌し
た。マイクロピペットを用いて、１mLのｔ−ブチルパー
オキサイドを、１６０℃の攪拌された暗緑色の溶液に一
括して加えた。１１分間に、この溶液の色は暗緑色から
金色に、そして最後に鮮やかな橙色に変わった。回転蒸
発すると、残渣が得られ、これは赤外スペクトルにおい
て、約３μm の所に水酸基吸収帯を、５．８μm の所に
カルボニルの吸収を示し、質量スペクトルにおいて、ｎ
−ノナノールのインダントリオンへのラジカル付加から
生ずる異性付加体の存在が明らかとなった。
【００２４】（例５）例７の方法に従って、カプロン酸
エチルをインダントリオンと反応させたところ、このエ
ステルのインダントリオンへの付加と一致する赤外スペ
クトル及び質量スペクトルを有する生成物が得られた。
エチルをインダントリオンと反応させたところ、このエ
ステルのインダントリオンへの付加と一致する赤外スペ
クトル及び質量スペクトルを有する生成物が得られた。
【００２５】（例６）１ｇの１，３−ジメチルアロキサ
ン、２０ｇの１，２−ジクロロベンゼン、及び１０mLの
プリスタンの混合物を、コンデンサー、磁気攪拌機、温
度計、及び滴下ロートを備えた、窒素ガスシールした１
００mLの丸底フラスコに入れた。温度が１６０℃になっ
たとき、ラジカル開始剤、ｔ−ブチルパーオキサイド
（０．５mL）を一挙に入れ、透明な溶液が得られるまで
（約１時間）、この混合物を１６０℃で攪拌した。この
溶液を回転蒸発する(rotoevaporation) と、残渣が得ら
れ、このものは赤外スペクトルにおいて５．９μm の所
に強いカルボニルの吸収が示され、質量スペクトルにお
いてプリスタンのジメチルアロキサンへのラジカル付加
によって形成される付加体の存在が明らかとなった。
ン、２０ｇの１，２−ジクロロベンゼン、及び１０mLの
プリスタンの混合物を、コンデンサー、磁気攪拌機、温
度計、及び滴下ロートを備えた、窒素ガスシールした１
００mLの丸底フラスコに入れた。温度が１６０℃になっ
たとき、ラジカル開始剤、ｔ−ブチルパーオキサイド
（０．５mL）を一挙に入れ、透明な溶液が得られるまで
（約１時間）、この混合物を１６０℃で攪拌した。この
溶液を回転蒸発する(rotoevaporation) と、残渣が得ら
れ、このものは赤外スペクトルにおいて５．９μm の所
に強いカルボニルの吸収が示され、質量スペクトルにお
いてプリスタンのジメチルアロキサンへのラジカル付加
によって形成される付加体の存在が明らかとなった。
【００２６】（例７）例９の一般的な方法に従って、ア
ロキサンを、オクタデカン及びプリスタンから生ずるラ
ジカルに別々に付加させ、それぞれ５−オクタデシル−
及び５−プリスチル−５−ヒドロキシ−バルビツル酸の
異性体混合物を得た。ラジカル付加体のそれぞれは５．
９μm の所に強いカルボニルの吸収を有する赤外スペク
トル、及び各原料に由来するラジカル付加体に一致する
質量スペクトルを表示した。
ロキサンを、オクタデカン及びプリスタンから生ずるラ
ジカルに別々に付加させ、それぞれ５−オクタデシル−
及び５−プリスチル−５−ヒドロキシ−バルビツル酸の
異性体混合物を得た。ラジカル付加体のそれぞれは５．
９μm の所に強いカルボニルの吸収を有する赤外スペク
トル、及び各原料に由来するラジカル付加体に一致する
質量スペクトルを表示した。
【００２７】（例８）１０ｇのポリイソブチレン（Ｍｎ
＝９５０）、２０mLの１，２−ジクロロ−ベンゼン、及
び２ｇのインダントリオン水和物の混合物を窒素雰囲気
でシールした反応器に入れ、機械的に攪拌し、１６０℃
に加熱した。開始剤、ｔ−ブチルパーオキサイド（０．
５mL）を１５分かけて、１６０℃で攪拌されている暗緑
色の混合物に滴々添加した。この期間に、この混合物の
色は緑色から金色に変わった。加熱を更に２時間続け
た。冷却した混合物を２００mLのシクロヘキサンで希釈
し、２回ろ過し、回転蒸発により濃縮した。残渣は赤外
スペクトルにおいて、５．８μm の所に強いカルボニル
の吸収帯を示し、分析したところ、３．５０％の酸素を
示した。
＝９５０）、２０mLの１，２−ジクロロ−ベンゼン、及
び２ｇのインダントリオン水和物の混合物を窒素雰囲気
でシールした反応器に入れ、機械的に攪拌し、１６０℃
に加熱した。開始剤、ｔ−ブチルパーオキサイド（０．
５mL）を１５分かけて、１６０℃で攪拌されている暗緑
色の混合物に滴々添加した。この期間に、この混合物の
色は緑色から金色に変わった。加熱を更に２時間続け
た。冷却した混合物を２００mLのシクロヘキサンで希釈
し、２回ろ過し、回転蒸発により濃縮した。残渣は赤外
スペクトルにおいて、５．８μm の所に強いカルボニル
の吸収帯を示し、分析したところ、３．５０％の酸素を
示した。
【００２８】（例９）溶媒を用いない他は、例１１と同
様にして、１３ｇのポリイソブチレン（Ｍｎ＝１３０
０）を、半mLのｔ−ブチルパーオキサイドを用いて１６
０で１．６ｇの無水インダントリオンでラジカルグラフ
トした。数時間加熱すると、暗褐色の反応混合物が得ら
れ、これを冷却して２００mLのシクロヘキサンで希釈
し、ろ過した。ろ液を回転蒸発すると残渣が得られ、こ
れは５．８μm に顕著なカルボニルの吸収帯を示し、分
析すると３．０５％の酸素があった。
様にして、１３ｇのポリイソブチレン（Ｍｎ＝１３０
０）を、半mLのｔ−ブチルパーオキサイドを用いて１６
０で１．６ｇの無水インダントリオンでラジカルグラフ
トした。数時間加熱すると、暗褐色の反応混合物が得ら
れ、これを冷却して２００mLのシクロヘキサンで希釈
し、ろ過した。ろ液を回転蒸発すると残渣が得られ、こ
れは５．８μm に顕著なカルボニルの吸収帯を示し、分
析すると３．０５％の酸素があった。
【００２９】（例１０）２２．５ｇのポリイソブチレン
（Ｍｎ＝２２５０）及び１．６ｇの紫色のインダントリ
オンを１６０℃に加熱し、次いで０．１０mLの開始剤
（ｔ−ブチルパーオキサイド）を一回の投与で加えて処
理した。１６０℃で３時間攪拌した後、反応混合物を冷
却し、２００mLのシクロヘキサンで希釈し、２回ろ過し
た。ろ液を回転蒸発すると残渣が得られ、これは５．８
μm に強いカルボニルの吸収帯を示し、分析すると２．
２％の酸素があった。
（Ｍｎ＝２２５０）及び１．６ｇの紫色のインダントリ
オンを１６０℃に加熱し、次いで０．１０mLの開始剤
（ｔ−ブチルパーオキサイド）を一回の投与で加えて処
理した。１６０℃で３時間攪拌した後、反応混合物を冷
却し、２００mLのシクロヘキサンで希釈し、２回ろ過し
た。ろ液を回転蒸発すると残渣が得られ、これは５．８
μm に強いカルボニルの吸収帯を示し、分析すると２．
２％の酸素があった。
【００３０】（例１１）１０ｇのポリイソブチレン（Ｍ
ｎ＝９５０）のサンプルを窒素でシールした反応器に装
填し、１７０℃に加熱した。１．６ｇの無水アロキサン
及び１．０mLのｔ−ブチルパーオキサイドを含むジオキ
サン溶液２０mLを、攪拌された１７０℃のポリイソブチ
レンに１時間かけて滴々加えた。ジオキサン溶液が加え
られるに従ってジオキサンが反応器から蒸発するに任せ
ることにより温度を１７０℃に維持した。１７０℃で４
時間加熱した後、反応混合物を冷却し、約２００mLのシ
クロヘキサンで希釈し、ろ過した。回転蒸発すると残渣
が得られ、これは赤外スペクトルにおいて５．９μm の
所に強いカルボニルの吸収を示し、分析すると１．６２
％の窒素があった。
ｎ＝９５０）のサンプルを窒素でシールした反応器に装
填し、１７０℃に加熱した。１．６ｇの無水アロキサン
及び１．０mLのｔ−ブチルパーオキサイドを含むジオキ
サン溶液２０mLを、攪拌された１７０℃のポリイソブチ
レンに１時間かけて滴々加えた。ジオキサン溶液が加え
られるに従ってジオキサンが反応器から蒸発するに任せ
ることにより温度を１７０℃に維持した。１７０℃で４
時間加熱した後、反応混合物を冷却し、約２００mLのシ
クロヘキサンで希釈し、ろ過した。回転蒸発すると残渣
が得られ、これは赤外スペクトルにおいて５．９μm の
所に強いカルボニルの吸収を示し、分析すると１．６２
％の窒素があった。
【００３１】（例１２）昇華した１，３−ジメチル−ア
ロキサン（１．７ｇ）をポリイソブチレン（Ｍｎ＝９５
０）にグラフトした。この際、モノマーを１０ｇのポリ
イソブチレン及び２０mLの１，２−ジクロロベンゼンと
組み合わせ、この混合物を１６０℃に加熱し、０．５mL
のｔ−ブチルパーオキサイドを滴々加えることによりラ
ジカル過程を開始した。得られた溶液を４時間加熱し、
冷却し、３００mLのシクロヘキサンで希釈し、ろ過し
た。ろ液を回転蒸発すると残渣が得られ、これは赤外ス
ペクトルにおいて５．９μm の所に強いカルボニルの吸
収を示し、分析すると１．４８％の窒素があった。
ロキサン（１．７ｇ）をポリイソブチレン（Ｍｎ＝９５
０）にグラフトした。この際、モノマーを１０ｇのポリ
イソブチレン及び２０mLの１，２−ジクロロベンゼンと
組み合わせ、この混合物を１６０℃に加熱し、０．５mL
のｔ−ブチルパーオキサイドを滴々加えることによりラ
ジカル過程を開始した。得られた溶液を４時間加熱し、
冷却し、３００mLのシクロヘキサンで希釈し、ろ過し
た。ろ液を回転蒸発すると残渣が得られ、これは赤外ス
ペクトルにおいて５．９μm の所に強いカルボニルの吸
収を示し、分析すると１．４８％の窒素があった。
【００３２】（例１３）５５ｗｔ％のプロピレンを含み
Ｍｎ＝５４，０００であるエチレン−プロピレンコポリ
マー１０ｇを１ｇの無水インダントリオンで、両薬剤を
約１６０℃の１，２−ジクロロベンゼン９０mLに溶解す
ることにより、変性した。０．５mLのｔ−ブチルパーオ
キサイドを加えると、緑色の溶液は橙金色に変わり、１
５分経過すると非常に粘稠になった。５０mLのジクロロ
ベンゼンを加えて溶液を希釈し（ゲルの形成は観察され
なかった）、１６０℃での攪拌を４時間続けた。冷却し
た溶液を１００mLのシクロヘキサンで希釈し、１Ｌのア
セトンにゆっくりと加えた。沈殿したポリマーをシクロ
ヘキサンに再溶解し、大量のアセトンから再び沈殿し、
真空炉中４０℃で一夜乾燥した。このポリマーは、赤外
スペクトル（フィルム）において５．８μm の所に顕著
なカルボニルの吸収を示し、分析すると２．１０％の酸
素があった。
Ｍｎ＝５４，０００であるエチレン−プロピレンコポリ
マー１０ｇを１ｇの無水インダントリオンで、両薬剤を
約１６０℃の１，２−ジクロロベンゼン９０mLに溶解す
ることにより、変性した。０．５mLのｔ−ブチルパーオ
キサイドを加えると、緑色の溶液は橙金色に変わり、１
５分経過すると非常に粘稠になった。５０mLのジクロロ
ベンゼンを加えて溶液を希釈し（ゲルの形成は観察され
なかった）、１６０℃での攪拌を４時間続けた。冷却し
た溶液を１００mLのシクロヘキサンで希釈し、１Ｌのア
セトンにゆっくりと加えた。沈殿したポリマーをシクロ
ヘキサンに再溶解し、大量のアセトンから再び沈殿し、
真空炉中４０℃で一夜乾燥した。このポリマーは、赤外
スペクトル（フィルム）において５．８μm の所に顕著
なカルボニルの吸収を示し、分析すると２．１０％の酸
素があった。
【００３３】（例１４）例１６で用いたエチレン−プロ
ピレンコポリマーのサンプル１０ｇ及び９０ｇのジクロ
ロベンゼンを窒素でシールした反応器中に装填し、１５
０℃に加熱した。１ｇの無水アロキサン及び０．５mLの
ｔ−ブチルパーオキサイドを含むジオキサン２０mLを、
１６０℃の攪拌されたポリマー溶液に１５分かけて滴々
加えた。前記ジオキサン溶液を加えるとき反応器からジ
オキサンを蒸発させることにより、この温度を１６０℃
に維持した。１６０℃に約２時間加熱した後、反応混合
物を冷却し、約２００mLのシクロヘキサンで希釈し、１
Ｌのアセトンに加えて官能化したポリマーを沈殿した。
橙色のポリマーをシクロヘキサンに再溶解し、再度大量
のアセトンに加えた。沈殿されたポリマーを真空炉中４
０℃で一夜乾燥した。この乾燥したポリマーは、赤外ス
ペクトル（フィルム）において５．９μm の所に強いカ
ルボニルの吸収を示し、分析すると０．６５％の窒素が
あった。
ピレンコポリマーのサンプル１０ｇ及び９０ｇのジクロ
ロベンゼンを窒素でシールした反応器中に装填し、１５
０℃に加熱した。１ｇの無水アロキサン及び０．５mLの
ｔ−ブチルパーオキサイドを含むジオキサン２０mLを、
１６０℃の攪拌されたポリマー溶液に１５分かけて滴々
加えた。前記ジオキサン溶液を加えるとき反応器からジ
オキサンを蒸発させることにより、この温度を１６０℃
に維持した。１６０℃に約２時間加熱した後、反応混合
物を冷却し、約２００mLのシクロヘキサンで希釈し、１
Ｌのアセトンに加えて官能化したポリマーを沈殿した。
橙色のポリマーをシクロヘキサンに再溶解し、再度大量
のアセトンに加えた。沈殿されたポリマーを真空炉中４
０℃で一夜乾燥した。この乾燥したポリマーは、赤外ス
ペクトル（フィルム）において５．９μm の所に強いカ
ルボニルの吸収を示し、分析すると０．６５％の窒素が
あった。
【００３４】（例１５）４０ｇのジクロロベンゼンに溶
解された１０ｇの水素化されたポリ−アルファ−オレフ
ィン、特に、ポリデセン−１（Ｍｎ＝約４０００）及び
５０ｇのジクロロベンゼンに溶解した無水インダントリ
オンを窒素でシールした反応器に入れ、約１６０℃に加
熱した。この約１６０℃に維持され攪拌された緑色溶液
に１mLのｔ−ブチルパーオキサイドを一括して加えた。
約１５分後に、溶液の色は緑色から金色に変わり、イン
ダントリオンモノマーがラジカルで推進されるグラフト
反応に完全に消費されたことを示した。回転蒸発させる
と残渣が得られ、これは約５．８μm の所での強いケト
ンカルボニルの吸収によって支配された赤外スペクト
ル、出発ポリマーと同じ多分散度を有する官能性ポリマ
ーの存在を確認するＵＶ−ゲルパーミエーションクロマ
トグラム、及びこの官能性ポリマーが２．２％の酸素を
含むことを示す元素分析値で特徴付けられた。
解された１０ｇの水素化されたポリ−アルファ−オレフ
ィン、特に、ポリデセン−１（Ｍｎ＝約４０００）及び
５０ｇのジクロロベンゼンに溶解した無水インダントリ
オンを窒素でシールした反応器に入れ、約１６０℃に加
熱した。この約１６０℃に維持され攪拌された緑色溶液
に１mLのｔ−ブチルパーオキサイドを一括して加えた。
約１５分後に、溶液の色は緑色から金色に変わり、イン
ダントリオンモノマーがラジカルで推進されるグラフト
反応に完全に消費されたことを示した。回転蒸発させる
と残渣が得られ、これは約５．８μm の所での強いケト
ンカルボニルの吸収によって支配された赤外スペクト
ル、出発ポリマーと同じ多分散度を有する官能性ポリマ
ーの存在を確認するＵＶ−ゲルパーミエーションクロマ
トグラム、及びこの官能性ポリマーが２．２％の酸素を
含むことを示す元素分析値で特徴付けられた。
【００３５】（例１６）ペンタエリスリトールをアルカ
ン酸の混合物でエステル化することにより得られたポリ
エステルベースストック(basestock) （ピークＭｗ＝４
２７）１０ｇ、及び１ｇの無水インダントリオンを窒素
でシールした反応器に入れ、インダントリオンモノマー
が溶解する迄約１６０℃に加熱した。この攪拌され、約
１６０℃に維持された緑色の溶液に約１mLのｔ−ブチル
パーオキサイドを一括して加えた。１時間後に、この溶
液の色は緑色から金色に変わった。溶射ＭＳ(thermal s
pray MS)による冷却残渣の分析をすると、インダントリ
オンがポリエステルベースストックに付加したことが明
らかであった。
ン酸の混合物でエステル化することにより得られたポリ
エステルベースストック(basestock) （ピークＭｗ＝４
２７）１０ｇ、及び１ｇの無水インダントリオンを窒素
でシールした反応器に入れ、インダントリオンモノマー
が溶解する迄約１６０℃に加熱した。この攪拌され、約
１６０℃に維持された緑色の溶液に約１mLのｔ−ブチル
パーオキサイドを一括して加えた。１時間後に、この溶
液の色は緑色から金色に変わった。溶射ＭＳ(thermal s
pray MS)による冷却残渣の分析をすると、インダントリ
オンがポリエステルベースストックに付加したことが明
らかであった。
【００３６】（例１７）９０ｇのクロロベンゼンに溶解
した１０ｇの水素化スター形ポリイソプレンポリマー、
及び１００ｇのクロロベンゼンに溶解した０．２５ｇの
無水インダントリオンを窒素でシールした反応器に入
れ、約１００℃に加熱した。半ｇのｔ−ブチルパーオキ
シピバレートを攪拌された緑色の溶液に一括して加え
た。７０分後にこの溶液の色は緑色から金色に変わっ
た。単離されたポリマーは赤外スペクトルにおいて５．
８μm にカルボニルの吸収帯を示し、分析によれば２．
１８％の酸素を有していた。
した１０ｇの水素化スター形ポリイソプレンポリマー、
及び１００ｇのクロロベンゼンに溶解した０．２５ｇの
無水インダントリオンを窒素でシールした反応器に入
れ、約１００℃に加熱した。半ｇのｔ−ブチルパーオキ
シピバレートを攪拌された緑色の溶液に一括して加え
た。７０分後にこの溶液の色は緑色から金色に変わっ
た。単離されたポリマーは赤外スペクトルにおいて５．
８μm にカルボニルの吸収帯を示し、分析によれば２．
１８％の酸素を有していた。
【００３７】（例１８）１０ｇのスター形ポリイソプレ
ンポリマー及び０．２５ｇの無水インダントリオンを窒
素でシールした反応器中の１６０℃のジクロロベンゼン
１９０ｇに溶解した。この緑色の溶液を０．２５mLのｔ
−ブチルパーオキサイドで処理したところ、４０分以内
に色が緑色から金色に変わった。単離されたポリマーは
赤外スペクトルにおいて５．８μm にカルボニルの強い
吸収帯を示し、分析によれば１．０９％の酸素を有して
いた。
ンポリマー及び０．２５ｇの無水インダントリオンを窒
素でシールした反応器中の１６０℃のジクロロベンゼン
１９０ｇに溶解した。この緑色の溶液を０．２５mLのｔ
−ブチルパーオキサイドで処理したところ、４０分以内
に色が緑色から金色に変わった。単離されたポリマーは
赤外スペクトルにおいて５．８μm にカルボニルの強い
吸収帯を示し、分析によれば１．０９％の酸素を有して
いた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｆ 8/00 ＭＨＺ 7308−4Ｊ
Claims (2)
- 【請求項１】 ラジカル開始剤の存在下に、飽和炭化水
素、置換飽和炭化水素、ポリマー及びこれらの混合物と
次式で示される構造を有するカルボニル含有化合物又は
それらの混合物からなる群から選ばれる化合物とを接触
させることにより形成されるカルボニル含有構造体： 【化１】 ここに、ＱはＨＯＨ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ又はｎ−Ｂｕ
ＯＨであり；ｎは０，１又は＞１であり；Ｘ及びＹは独
立にＣＨ2 及びＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；Ｗは独立
にＣＨ2 、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、ＮＨ、ＣＭｅ2 、Ｃ＝Ｎ−アル
キル及びＮ−アルキル（ここに、アルキルは炭素原子数
１〜１８である）からなる群から選ばれ、Ｕ及びＶは独
立にＷと同じ基から選ばれ、又は、Ｕ及びＶは共同して
１，２−フェニレン、１，８−ナフタレン−ジイル及び
１，２−ナフタレン−ジイルを形成するような基であ
る。 - 【請求項２】 次の（ａ）及び（ｂ）を含む化合物： （ａ）炭化水素基及び （ｂ）次のものからなる群れから選ばれる環状基： 【化２】 ここに、ＱはＨＯＨ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ又はｎ−Ｂｕ
ＯＨであり；ｎは０，１又は＞１であり；Ｘ及びＹは独
立にＣＨ2 及びＣ＝Ｏからなる群から選ばれ；Ｗは独立
にＣＨ2 、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、ＮＨ、ＣＭｅ2 、Ｃ＝Ｎ−アル
キル及びＮ−アルキル（ここに、アルキルは炭素原子数
１〜１８である）からなる群から選ばれ、Ｕ及びＶは独
立にＷと同じ基から選ばれ、又は、Ｕ及びＶは共同して
１，２−フェニレン、１，８−ナフタレン−ジイル及び
１，２−ナフタレン−ジイルを形成するような基であ
る。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/972,270 US5288811A (en) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | Cyclic carbonyl containing compounds via radical grafting |
| US972270 | 1992-11-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06219988A true JPH06219988A (ja) | 1994-08-09 |
Family
ID=25519438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5275537A Pending JPH06219988A (ja) | 1992-11-05 | 1993-11-04 | ラジカルグラフト化による環状カルボニル含有化合物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5288811A (ja) |
| EP (1) | EP0596671B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06219988A (ja) |
| KR (1) | KR100249986B1 (ja) |
| BR (1) | BR9304405A (ja) |
| CA (1) | CA2102476A1 (ja) |
| DE (1) | DE69320912T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US5646098A (en) * | 1990-07-23 | 1997-07-08 | Exxon Chemical Patents Inc | Carbonyl containing compounds and their derivatives as multi-functional fuel and lube additives |
| AU683453B2 (en) * | 1993-12-03 | 1997-11-13 | Exxon Research And Engineering Company | Carbonyl containing compounds |
| DE19854573A1 (de) | 1998-11-26 | 2000-05-31 | Basf Ag | Verfahren zur Nachvernetzung von Hydrogelen mit 2-Oxo-tetrahydro-1,3-oxazinen |
| ES2323217T3 (es) * | 1999-11-30 | 2009-07-09 | Electric Power Research Institute | Metodo para la deteccion fotometrica de iones utilizados en sondas de electroforesis capilar, procedimiento de fabricacion y utilizacion de estas sondas. |
| US7550065B2 (en) * | 2005-04-21 | 2009-06-23 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Method for recovering solvents |
| KR102244399B1 (ko) * | 2020-07-20 | 2021-04-26 | 경해정공 주식회사 | 케이블 덕트 제조장치 |
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|---|---|---|---|---|
| US3554973A (en) * | 1963-09-12 | 1971-01-12 | Monsanto Co | Modifying halogenated cycloalkenyl ketone containing alpha olefin polymers |
| JPS58444B2 (ja) * | 1979-01-19 | 1983-01-06 | 三枝 武夫 | 大環状ビス↓−１，３↓−ジケトンを有するスチレン系重合体およびその製造方法 |
| JPS5834180B2 (ja) * | 1979-04-28 | 1983-07-25 | 岩夫 田伏 | 重金属捕促剤およびその製造方法 |
| NL8301035A (nl) * | 1983-03-23 | 1984-10-16 | Organon Teknika Bv | Macromoleculair materiaal met carbonylgroepen geschikt als sorbent voor stikstofverbindingen. |
| DE4008218A1 (de) * | 1990-03-15 | 1991-09-19 | Huels Chemische Werke Ag | Formmassen auf basis von thermoplastisch verarbeitbaren, funktionalisierten, olefinischen polymeren und polyamiden |
| US5057564A (en) * | 1990-07-23 | 1991-10-15 | Exxon Research And Engineering Company | Cyclic carbonyl containing polymers |
-
1992
- 1992-11-05 US US07/972,270 patent/US5288811A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-10-29 DE DE69320912T patent/DE69320912T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-29 EP EP93308675A patent/EP0596671B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-29 BR BR9304405A patent/BR9304405A/pt not_active IP Right Cessation
- 1993-11-04 JP JP5275537A patent/JPH06219988A/ja active Pending
- 1993-11-04 CA CA002102476A patent/CA2102476A1/en not_active Abandoned
- 1993-11-04 KR KR1019930023315A patent/KR100249986B1/ko not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0596671B1 (en) | 1998-09-09 |
| KR940011509A (ko) | 1994-06-21 |
| KR100249986B1 (ko) | 2000-03-15 |
| BR9304405A (pt) | 1994-07-05 |
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| DE69320912T2 (de) | 1999-02-11 |
| CA2102476A1 (en) | 1994-05-06 |
| EP0596671A2 (en) | 1994-05-11 |
| DE69320912D1 (de) | 1998-10-15 |
| US5288811A (en) | 1994-02-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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