JPH06220601A - 磁気−サーメット誘電体複合粒子をプラズマスプレーすることにより被覆層を形成する方法 - Google Patents
磁気−サーメット誘電体複合粒子をプラズマスプレーすることにより被覆層を形成する方法Info
- Publication number
- JPH06220601A JPH06220601A JP5179380A JP17938093A JPH06220601A JP H06220601 A JPH06220601 A JP H06220601A JP 5179380 A JP5179380 A JP 5179380A JP 17938093 A JP17938093 A JP 17938093A JP H06220601 A JPH06220601 A JP H06220601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- composite fine
- fine particles
- particles
- coating layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000011195 cermet Substances 0.000 title claims description 9
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 title description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract 19
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 22
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KCZFLPPCFOHPNI-UHFFFAOYSA-N alumane;iron Chemical compound [AlH3].[Fe] KCZFLPPCFOHPNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XWHPIFXRKKHEKR-UHFFFAOYSA-N iron silicon Chemical compound [Si].[Fe] XWHPIFXRKKHEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005237 degreasing agent Methods 0.000 claims description 2
- 239000013527 degreasing agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- ZJRXSAYFZMGQFP-UHFFFAOYSA-N barium peroxide Chemical compound [Ba+2].[O-][O-] ZJRXSAYFZMGQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910001119 inconels 625 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910000601 superalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/06—Metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T50/00—Aeronautics or air transport
- Y02T50/60—Efficient propulsion technologies, e.g. for aircraft
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】セラミックマトリックス中に非常に小さな磁性
粒子を分散させた複合体粒子を基材表面にプラズマスプ
レーすることにより耐高熱性被覆を形成することを目的
とする。 【構成】被覆されるべき表面は溶媒洗浄、グリットブラ
ストなどの研磨により前処理される。また、この表面と
複合体被覆との中間の熱膨脹係数を有する薄い導電性遷
移層をその表面に予め被覆してもよい。セラミックマト
リックス中に非常に小さな磁性金属粒子を分散させた複
合体粒子を用意する。この複合体粒子により小さい純粋
なマトリックス粒子、または低融点の粒子を少量混合
し、接着性を向上させてもよい。この複合体粒子は基材
表面に複合体粒子表面のみが溶融するような温度でプラ
ズマスプレーされ、過度の導電性コーティングを形成す
ることなく、より高い磁性材料の充填を可能にする。 【効果】得られた被覆層は耐久性、耐熱性がありマイク
ロ波を吸収する。
粒子を分散させた複合体粒子を基材表面にプラズマスプ
レーすることにより耐高熱性被覆を形成することを目的
とする。 【構成】被覆されるべき表面は溶媒洗浄、グリットブラ
ストなどの研磨により前処理される。また、この表面と
複合体被覆との中間の熱膨脹係数を有する薄い導電性遷
移層をその表面に予め被覆してもよい。セラミックマト
リックス中に非常に小さな磁性金属粒子を分散させた複
合体粒子を用意する。この複合体粒子により小さい純粋
なマトリックス粒子、または低融点の粒子を少量混合
し、接着性を向上させてもよい。この複合体粒子は基材
表面に複合体粒子表面のみが溶融するような温度でプラ
ズマスプレーされ、過度の導電性コーティングを形成す
ることなく、より高い磁性材料の充填を可能にする。 【効果】得られた被覆層は耐久性、耐熱性がありマイク
ロ波を吸収する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマスプレーによ
り被覆層を形成することに係わり、特に複合粒子をプラ
ズマスプレーすることにより磁気−サーメット誘電体被
覆層を形成することに関する。
り被覆層を形成することに係わり、特に複合粒子をプラ
ズマスプレーすることにより磁気−サーメット誘電体被
覆層を形成することに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気−サーメット誘電体被覆層は
液体キャリア中に金属粒子とセラミック粒子の混合物を
溶かしたものを基板上にコーティングし、液体を蒸発さ
せ、大気中でセラミックの焼結温度にて１時間以上加熱
することにより形成されていた。これにより、金属粒子
相互が離間し、または絶縁性酸化層の介在により十分に
分離された絶縁層が形成され、導電性が十分に低い被覆
層が得られる。
液体キャリア中に金属粒子とセラミック粒子の混合物を
溶かしたものを基板上にコーティングし、液体を蒸発さ
せ、大気中でセラミックの焼結温度にて１時間以上加熱
することにより形成されていた。これにより、金属粒子
相互が離間し、または絶縁性酸化層の介在により十分に
分離された絶縁層が形成され、導電性が十分に低い被覆
層が得られる。
【０００３】この方法のものは、ある用途については適
しているが、多くの欠点または問題点がある。例えば、
コーティングされるべき部品の大きさは焼結炉の大きさ
によって限定される。また、焼成温度は、用いられるセ
ラミックまたはガラスフリットにもよるが、しばしば８
００℃を超える温度で比較的長時間を要し、大気中にお
けるこのような焼成温度により損傷を受けるポリマー材
料、炭素−炭素複合体のような基板は使用できない。ま
た、焼成温度から冷却する場合、被覆層と基板とが熱膨
張係数（ＣＴＥ）が可なり異なる場合は、被覆層に割
れ、剥離が生じることになる。この損傷を受けた部分の
修理は部品全体が焼成条件にさらされるので、困難であ
る。
しているが、多くの欠点または問題点がある。例えば、
コーティングされるべき部品の大きさは焼結炉の大きさ
によって限定される。また、焼成温度は、用いられるセ
ラミックまたはガラスフリットにもよるが、しばしば８
００℃を超える温度で比較的長時間を要し、大気中にお
けるこのような焼成温度により損傷を受けるポリマー材
料、炭素−炭素複合体のような基板は使用できない。ま
た、焼成温度から冷却する場合、被覆層と基板とが熱膨
張係数（ＣＴＥ）が可なり異なる場合は、被覆層に割
れ、剥離が生じることになる。この損傷を受けた部分の
修理は部品全体が焼成条件にさらされるので、困難であ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなことから、
種々の大きさの基板に被覆を行うことができれば、磁気
−サーメット誘電体被覆層の有用性は現在のマイクロ波
吸収のための使用範囲を越えて広げることができる。例
えばマイクロ波オーブンに用いられる調理器具、焼き皿
にマイクロ波コーティングを施せば、食品の表面近傍で
の誘電加熱を行うことができるという利益を受けること
ができる。このようなコーティングは非鉄金属合金の熱
処理のような工業的プロセスのための誘電加熱にも適用
することができる。さらに締りばめ、溶接、半田での適
用、コンピュータメモリーディスクドライブのための非
鉄金属合金プレートへの磁気コーティングの製造にも適
用することができる。また、その耐熱性のため、航空機
エンジン排気部品などのためのマイクロ波吸収体として
も適用することができる。
種々の大きさの基板に被覆を行うことができれば、磁気
−サーメット誘電体被覆層の有用性は現在のマイクロ波
吸収のための使用範囲を越えて広げることができる。例
えばマイクロ波オーブンに用いられる調理器具、焼き皿
にマイクロ波コーティングを施せば、食品の表面近傍で
の誘電加熱を行うことができるという利益を受けること
ができる。このようなコーティングは非鉄金属合金の熱
処理のような工業的プロセスのための誘電加熱にも適用
することができる。さらに締りばめ、溶接、半田での適
用、コンピュータメモリーディスクドライブのための非
鉄金属合金プレートへの磁気コーティングの製造にも適
用することができる。また、その耐熱性のため、航空機
エンジン排気部品などのためのマイクロ波吸収体として
も適用することができる。
【０００５】このように、上述のような問題点を回避し
うる磁気−サーメット誘電体被覆層の形成方法の改良に
ついて、現在も強い要望がある。本発明は、従来の上記
欠点を回避し得る磁気−誘電体被覆層の形成方法を提供
することを目的とするものである。
うる磁気−サーメット誘電体被覆層の形成方法の改良に
ついて、現在も強い要望がある。本発明は、従来の上記
欠点を回避し得る磁気−誘電体被覆層の形成方法を提供
することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の磁気
−誘電体被覆層の形成方法は、コーティングされるべき
基板表面を清浄化する工程と、磁性金属粒子とセラミッ
ク粒子の適当な混合物を用意する工程と、この混合物を
適当な条件下で上記基板表面にプラズマスプレーし、こ
れにより上記基板表面に磁気−セラミック誘電体層を形
成する工程とを含むことを特徴とする。
−誘電体被覆層の形成方法は、コーティングされるべき
基板表面を清浄化する工程と、磁性金属粒子とセラミッ
ク粒子の適当な混合物を用意する工程と、この混合物を
適当な条件下で上記基板表面にプラズマスプレーし、こ
れにより上記基板表面に磁気−セラミック誘電体層を形
成する工程とを含むことを特徴とする。
【０００７】基板が金属の場合、薄く強い遷移層を基板
にプラズマスプレーし、熱膨張係数の高い基板と熱膨張
係数の低い誘電体層との間に緩やかな移行が与えられる
ようにすることが好ましい。この中間遷移層は厚みが５
ないし７ミルであって、外側誘電体層を形成するために
用いられるのと同じく、ほぼ５０容量％づつの金属粒子
とセラミックマトリックス物質の混合物からなる。しか
し、外側誘電体層の場合と異なり、プラズマスプレー条
件はこの混合粒子が十分に溶解して上記遷移層を形成す
るように選択される。これにより、基板上への溶融スプ
レー滴の衝突により形成された金属の跳ね返りの積み重
ねと絡み合った導電性遷移層が形成される。このような
遷移層は炭素−炭素基板のような熱膨張係数の低い非金
属基板については通常、必要でない。
にプラズマスプレーし、熱膨張係数の高い基板と熱膨張
係数の低い誘電体層との間に緩やかな移行が与えられる
ようにすることが好ましい。この中間遷移層は厚みが５
ないし７ミルであって、外側誘電体層を形成するために
用いられるのと同じく、ほぼ５０容量％づつの金属粒子
とセラミックマトリックス物質の混合物からなる。しか
し、外側誘電体層の場合と異なり、プラズマスプレー条
件はこの混合粒子が十分に溶解して上記遷移層を形成す
るように選択される。これにより、基板上への溶融スプ
レー滴の衝突により形成された金属の跳ね返りの積み重
ねと絡み合った導電性遷移層が形成される。このような
遷移層は炭素−炭素基板のような熱膨張係数の低い非金
属基板については通常、必要でない。
【０００８】熱膨張係数の低い基板が用いられ、しかし
最終被覆製品が厳しい熱サイクルにさらされる場合、セ
ラミックマトリックス物質のみからなる遷移層を形成す
ることにより外側誘電体層の結合性を改良することが可
能となる。
最終被覆製品が厳しい熱サイクルにさらされる場合、セ
ラミックマトリックス物質のみからなる遷移層を形成す
ることにより外側誘電体層の結合性を改良することが可
能となる。
【０００９】清浄化工程としては特に制限はないが、基
板表面に脱脂剤のような溶媒を適用し、ついで研磨する
ことが好ましい。炭素−炭素基板および多くの非鉄金属
基板の場合は、単に溶媒で洗浄し、ついで乾燥すれば十
分である。また、表面が研磨され、または極めて平滑な
場合は中間グレードのサンドペーパーで軽く研磨すれば
十分である。
板表面に脱脂剤のような溶媒を適用し、ついで研磨する
ことが好ましい。炭素−炭素基板および多くの非鉄金属
基板の場合は、単に溶媒で洗浄し、ついで乾燥すれば十
分である。また、表面が研磨され、または極めて平滑な
場合は中間グレードのサンドペーパーで軽く研磨すれば
十分である。
【００１０】この複合粒子は複数の非常に小さい金属粒
子を分散させた導電性セラミックマトリックスからな
る。これらの粒子は適当なプラズマスプレー方法および
装置により、好ましくは粒子の表面のみが溶けるような
温度条件で適用される。
子を分散させた導電性セラミックマトリックスからな
る。これらの粒子は適当なプラズマスプレー方法および
装置により、好ましくは粒子の表面のみが溶けるような
温度条件で適用される。
【００１１】
【実施例】以下、図示の実施例を参照して本発明をより
具体的に説明する。図１は、本発明の方法の好ましい例
を工程順に示すブロック図である。最初に、ブロック１
０に示すように複合粒子が製造、用意される。好ましい
例としては、この粒子は粒径約６０ないし７５μｍのセ
ラミックまたはガラス粒子からなり、細かい磁性金属粒
子がその中に分散しているものである。好ましくはこの
金属粒子は平均粒径が約１ないし５μｍであり、粒子全
体の５０ないし７５容量％を占めるように構成される。
具体的に説明する。図１は、本発明の方法の好ましい例
を工程順に示すブロック図である。最初に、ブロック１
０に示すように複合粒子が製造、用意される。好ましい
例としては、この粒子は粒径約６０ないし７５μｍのセ
ラミックまたはガラス粒子からなり、細かい磁性金属粒
子がその中に分散しているものである。好ましくはこの
金属粒子は平均粒径が約１ないし５μｍであり、粒子全
体の５０ないし７５容量％を占めるように構成される。
【００１２】この複合粒子はいかなる方法で作ってもよ
い。例えばセラミック物質のゲルに金属粒子を分散さ
せ、固化させ、焼結させて所望の粒子を得るゾル−ゲル
法を用いることができる。他の方法としては、セラミッ
クの薄い層をガラス様に形成し、細かい磁性金属粒子を
その表面全体に亘って広げ、セラミックを軟化点まで加
熱し、ついで金属粒子をセラミック中に分散させ、つい
で冷却して固相状態とする。セラミックおよび金属粒子
の層をさらに付加、軟化して、より厚い層を形成仕手も
よい。この複合体は冷却し、破壊し、ついで粉砕、篩別
して所望の粒径の複合粒子とする。
い。例えばセラミック物質のゲルに金属粒子を分散さ
せ、固化させ、焼結させて所望の粒子を得るゾル−ゲル
法を用いることができる。他の方法としては、セラミッ
クの薄い層をガラス様に形成し、細かい磁性金属粒子を
その表面全体に亘って広げ、セラミックを軟化点まで加
熱し、ついで金属粒子をセラミック中に分散させ、つい
で冷却して固相状態とする。セラミックおよび金属粒子
の層をさらに付加、軟化して、より厚い層を形成仕手も
よい。この複合体は冷却し、破壊し、ついで粉砕、篩別
して所望の粒径の複合粒子とする。
【００１３】導電性セラミック物質についても特に制限
はない。典型的セラミックの例としては、二酸化珪素、
二酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化硼素、酸化カ
ルシウム、酸化ストロンチュウム、カリウム、またはこ
れらの混合物の酸化物である。これらの内、珪素、バリ
ウム、硼素の酸化物を適当な割合で含む混合物を用い、
これにより従来の超合金基板がさらされる最大温度に近
い約１０００℃の加工温度で軟化するガラス状物質を形
成する。金属粒子は鉄、鉄−アルミニウム、鉄−珪素、
コバルト、またはこれらの混合物などから選ばれるよう
な、いかなる磁性金属から作られたものであってもよ
い。
はない。典型的セラミックの例としては、二酸化珪素、
二酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化硼素、酸化カ
ルシウム、酸化ストロンチュウム、カリウム、またはこ
れらの混合物の酸化物である。これらの内、珪素、バリ
ウム、硼素の酸化物を適当な割合で含む混合物を用い、
これにより従来の超合金基板がさらされる最大温度に近
い約１０００℃の加工温度で軟化するガラス状物質を形
成する。金属粒子は鉄、鉄−アルミニウム、鉄−珪素、
コバルト、またはこれらの混合物などから選ばれるよう
な、いかなる磁性金属から作られたものであってもよ
い。
【００１４】ついで、ブロック１２に示すように、基板
が清浄化される。汚染物質のない表面を形成し得るいか
なる清浄化方法も採用しうる。好ましくは基板表面を溶
媒で洗浄し、ついで研磨する。金属基板の場合は、脱脂
蒸気を適用し、ついで２０ないし８０メッシュのアルミ
ナで表面をグリットブラストし、最後に残渣を残さない
溶媒、例えばアセトンで洗浄することが好ましく、これ
により被覆層または遷移コーティングを適用するのに最
適な表面を得ることができる。
が清浄化される。汚染物質のない表面を形成し得るいか
なる清浄化方法も採用しうる。好ましくは基板表面を溶
媒で洗浄し、ついで研磨する。金属基板の場合は、脱脂
蒸気を適用し、ついで２０ないし８０メッシュのアルミ
ナで表面をグリットブラストし、最後に残渣を残さない
溶媒、例えばアセトンで洗浄することが好ましく、これ
により被覆層または遷移コーティングを適用するのに最
適な表面を得ることができる。
【００１５】グリットブラストが適用できないような平
滑な金属基板の場合、あるいは平滑で光沢のある炭素−
炭素および有機樹脂マトリックス基板の場合、基板の均
一で細かい研磨がブロック１４で示すように好ましい。
ほとんどの金属基板の場合、２０ないし８０メッシュの
アルミナを用いたグリットブラストで十分である。アセ
トンのような残渣を残さない溶媒で最終的に濯ぐことに
より、表面から全ての粉体、その他の汚染物を除去する
ことができる。通常、遷移層を必要としない非鉄金属基
板の場合、例えば有機樹脂マトリックス複合体、炭素−
炭素複合体の場合、溶媒で洗浄し、ついで乾燥させるだ
けで十分である。また、表面が研磨され、または極めて
平滑な場合は中間グレードのサンドペーパーで軽く研磨
すれば十分である。
滑な金属基板の場合、あるいは平滑で光沢のある炭素−
炭素および有機樹脂マトリックス基板の場合、基板の均
一で細かい研磨がブロック１４で示すように好ましい。
ほとんどの金属基板の場合、２０ないし８０メッシュの
アルミナを用いたグリットブラストで十分である。アセ
トンのような残渣を残さない溶媒で最終的に濯ぐことに
より、表面から全ての粉体、その他の汚染物を除去する
ことができる。通常、遷移層を必要としない非鉄金属基
板の場合、例えば有機樹脂マトリックス複合体、炭素−
炭素複合体の場合、溶媒で洗浄し、ついで乾燥させるだ
けで十分である。また、表面が研磨され、または極めて
平滑な場合は中間グレードのサンドペーパーで軽く研磨
すれば十分である。
【００１６】複合体粒子はブロック１６で示すようにプ
ラズマスプレーにより基板上に適用される。本発明の磁
気−サーメット誘電性被覆層を形成するのに用いられる
プラズマスプレー装置については、従来の適当なものを
使用することができ、特に制限はない。この被覆層の形
成は好ましくは粒子の外側表面のみが溶融するような温
度条件で行う。この場合、過度の溶融は各複合体粒子中
または被覆層中に金属粒子の凝集を生じさせ、異常に高
い導電性を有するコーティングを生じさせる。個々の金
属粒子とセラミックとの組合わせについて最良の温度条
件を選びプラズマスプレーを行うことができる。最適温
度より低い温度でのプラズマスプレーは多孔質で結合性
の弱いコーティングを生じさせる。最良の温度、衝突速
度を選ぶことにより所望の誘電特性の平滑なコーティン
グを得ることができる。過度に高い温度でのプラズマス
プレーは誘電特性の劣るコーティングを生じさせる。最
良の結果を得るため、プラズマスプレー条件および誘電
体層の厚みを調整し、周波数５ないし１６ＧＨｚの範囲
内で最大マイクロ波吸収を示すコーティングを生じさせ
る。
ラズマスプレーにより基板上に適用される。本発明の磁
気−サーメット誘電性被覆層を形成するのに用いられる
プラズマスプレー装置については、従来の適当なものを
使用することができ、特に制限はない。この被覆層の形
成は好ましくは粒子の外側表面のみが溶融するような温
度条件で行う。この場合、過度の溶融は各複合体粒子中
または被覆層中に金属粒子の凝集を生じさせ、異常に高
い導電性を有するコーティングを生じさせる。個々の金
属粒子とセラミックとの組合わせについて最良の温度条
件を選びプラズマスプレーを行うことができる。最適温
度より低い温度でのプラズマスプレーは多孔質で結合性
の弱いコーティングを生じさせる。最良の温度、衝突速
度を選ぶことにより所望の誘電特性の平滑なコーティン
グを得ることができる。過度に高い温度でのプラズマス
プレーは誘電特性の劣るコーティングを生じさせる。最
良の結果を得るため、プラズマスプレー条件および誘電
体層の厚みを調整し、周波数５ないし１６ＧＨｚの範囲
内で最大マイクロ波吸収を示すコーティングを生じさせ
る。
【００１７】図２は、磁気−サーメット誘電性被覆層を
適用するための好ましいシステムの側面を示している。
被処理物２０を外囲器２４内のターンテーブル２２上に
置く。ロボットアーム２６がプラズマガン２８を支持し
ている。このロボットアーム２６およびターンテーブル
２２は通常のソフトウエアによりコントローラ３０にて
制御され、プラズマガン２８が所定のパターンでコーテ
ィングされるべき表面上に移動される。プラズマガン２
８およびパワーフィーダー３２は電源３４、高周波ユニ
ット３６およびコントロールコンソール３８の制御下で
操作される。このコントロールコンソール３８はインタ
ーフェイスユニット４０を介してロボットコントローラ
３０に接続されている。プラズマガン２８からのオーバ
ースプレーはスプレーフード４２にて捕捉され、ダスト
コレクター４４に集められる。
適用するための好ましいシステムの側面を示している。
被処理物２０を外囲器２４内のターンテーブル２２上に
置く。ロボットアーム２６がプラズマガン２８を支持し
ている。このロボットアーム２６およびターンテーブル
２２は通常のソフトウエアによりコントローラ３０にて
制御され、プラズマガン２８が所定のパターンでコーテ
ィングされるべき表面上に移動される。プラズマガン２
８およびパワーフィーダー３２は電源３４、高周波ユニ
ット３６およびコントロールコンソール３８の制御下で
操作される。このコントロールコンソール３８はインタ
ーフェイスユニット４０を介してロボットコントローラ
３０に接続されている。プラズマガン２８からのオーバ
ースプレーはスプレーフード４２にて捕捉され、ダスト
コレクター４４に集められる。
【００１８】以下、本発明の方法の詳細、好ましい具体
例について下記実施例を参照して説明する。 （実施例１）導電体マトリックス中に細かい金属粒子を
分散させた複合体粒子を最初に製造する。二酸化珪素４
５重量％、酸化バリウム４６重量％、酸化硼素９重量％
からなる混合物をプラズマスプレーにより、基盤表面に
０．５ミルの厚みに堆積させる。鉄９０重量％、アルミ
ニウム１０重量％を含む合金粒子で平均粒径３μｍのも
のを、このガラス様のセラミック表面に広げた。このセ
ラミックを約１０００℃まで急速に加熱し、セラミック
表面が軟化するまでこの温度にて保持し、可なりの酸化
が起こる前に金属粒子を保護セラミック中に沈めさせ
た。このプラズマスプレー、金属粒子の適用、および加
熱工程はさらに５回繰り返し、最終的に約３ミルの厚み
に形成させた。得られた金属−セラミック複合体をこの
基板表面から除去し、粉砕し、篩別して約６０μｍの平
均粒径の複合体粒子を得た。
例について下記実施例を参照して説明する。 （実施例１）導電体マトリックス中に細かい金属粒子を
分散させた複合体粒子を最初に製造する。二酸化珪素４
５重量％、酸化バリウム４６重量％、酸化硼素９重量％
からなる混合物をプラズマスプレーにより、基盤表面に
０．５ミルの厚みに堆積させる。鉄９０重量％、アルミ
ニウム１０重量％を含む合金粒子で平均粒径３μｍのも
のを、このガラス様のセラミック表面に広げた。このセ
ラミックを約１０００℃まで急速に加熱し、セラミック
表面が軟化するまでこの温度にて保持し、可なりの酸化
が起こる前に金属粒子を保護セラミック中に沈めさせ
た。このプラズマスプレー、金属粒子の適用、および加
熱工程はさらに５回繰り返し、最終的に約３ミルの厚み
に形成させた。得られた金属−セラミック複合体をこの
基板表面から除去し、粉砕し、篩別して約６０μｍの平
均粒径の複合体粒子を得た。
【００１９】インコネル６２５合金のシートを１，１，
１−トリクロロエタンで約５分間脱脂した。ついで、一
方の表面を２０ないし８０μｍのアルミナ粒子混合物で
約２０分グリットブラストし、均一に研磨された表面を
形成させた。この表面をアセトンで洗浄し、きれいなゴ
ミのない表面を得た。
１−トリクロロエタンで約５分間脱脂した。ついで、一
方の表面を２０ないし８０μｍのアルミナ粒子混合物で
約２０分グリットブラストし、均一に研磨された表面を
形成させた。この表面をアセトンで洗浄し、きれいなゴ
ミのない表面を得た。
【００２０】ついで、別の上記マトリックス／合金粒子
（５０／５０容量％）混合物（粒径１０ないし４５μ
ｍ）を２０００℃以上の温度でプラズマスプレーするこ
とにより厚み約６ミルの強い導電層を形成することによ
り遷移層を形成させた。なお、このプラズマスプレーに
おいて粒子はほぼ完全に溶融した。
（５０／５０容量％）混合物（粒径１０ないし４５μ
ｍ）を２０００℃以上の温度でプラズマスプレーするこ
とにより厚み約６ミルの強い導電層を形成することによ
り遷移層を形成させた。なお、このプラズマスプレーに
おいて粒子はほぼ完全に溶融した。
【００２１】この複合体粒子をＭｉｌｌｅｒ Ｔｈｅｒ
ｍａｌ Ｉｎｃ．社製のＳＧ−１００スプレーガンを用
いて基板表面にプラズマスプレーした。このプラズマス
プレーの間、この複合体粒子は約１０００℃の表面温度
にまで加熱され、これにより粒子の外側部分のみが軟化
した。したがって、複合体粒子内に分散された個々の金
属粒子の位置が乱れることがなかった。その結果、接着
性の均一な低導電性複合体被覆が４５ミルの厚みで形成
された。これを軽く表面サンド掛けして、約２５０ＡＡ
の表面仕上げが得られた。この被覆されたシートを８７
５℃に長時間加熱したり、約５００℃と−５５℃の間で
繰り返し熱サイクルを与えたが機械的損傷は認められな
かった。
ｍａｌ Ｉｎｃ．社製のＳＧ−１００スプレーガンを用
いて基板表面にプラズマスプレーした。このプラズマス
プレーの間、この複合体粒子は約１０００℃の表面温度
にまで加熱され、これにより粒子の外側部分のみが軟化
した。したがって、複合体粒子内に分散された個々の金
属粒子の位置が乱れることがなかった。その結果、接着
性の均一な低導電性複合体被覆が４５ミルの厚みで形成
された。これを軽く表面サンド掛けして、約２５０ＡＡ
の表面仕上げが得られた。この被覆されたシートを８７
５℃に長時間加熱したり、約５００℃と−５５℃の間で
繰り返し熱サイクルを与えたが機械的損傷は認められな
かった。
【００２２】（実施例２）実施例１と同様にして金属−
セラミック複合体粒子を得た。直径約２０μｍの純粋な
マトリックスセラミック粒子をこの複合体粒子に対し約
３０容量％混合した。
セラミック複合体粒子を得た。直径約２０μｍの純粋な
マトリックスセラミック粒子をこの複合体粒子に対し約
３０容量％混合した。
【００２３】３−Ｄ炭素−炭素材料からなる平坦なプレ
ートを４００グリットサンドペーパーで軽くサンド掛け
し、アセトンで洗浄して清浄な無埃表面を得た。この表
面全体を約９００℃の温度で上記粒子を用いてプラズマ
スプレーし、厚み約４５ミルの層を形成した。この被覆
されたプレートを空気中で約１１００℃の温度に短時間
さらし、表面層を十分に溶解させた。その結果、均一平
滑で実質的に気密性の接着性被覆が得られた。これは１
１００℃で１０時間さらしたのちも炭素−炭素材料の酸
化はほとんど起こらず数％の重量変化が生じたに過ぎな
かった。
ートを４００グリットサンドペーパーで軽くサンド掛け
し、アセトンで洗浄して清浄な無埃表面を得た。この表
面全体を約９００℃の温度で上記粒子を用いてプラズマ
スプレーし、厚み約４５ミルの層を形成した。この被覆
されたプレートを空気中で約１１００℃の温度に短時間
さらし、表面層を十分に溶解させた。その結果、均一平
滑で実質的に気密性の接着性被覆が得られた。これは１
１００℃で１０時間さらしたのちも炭素−炭素材料の酸
化はほとんど起こらず数％の重量変化が生じたに過ぎな
かった。
【００２４】以上の好ましい実施例として、特定の材
料、条件、パラメータについて記載したが、本発明は当
然、これらに限定されるものでなく、これらを変化させ
ても同様の結果を得ることができることは当業者にとっ
て自明であり、このような変形例も当然本発明の範囲に
含まれる。
料、条件、パラメータについて記載したが、本発明は当
然、これらに限定されるものでなく、これらを変化させ
ても同様の結果を得ることができることは当業者にとっ
て自明であり、このような変形例も当然本発明の範囲に
含まれる。
【図１】本発明の方法を工程順に記載したブロック図。
【図２】本発明の方法を実施するための装置の模式的側
面図。
面図。
２０…被処理物、２２…ターンテーブル、２４…外囲
器、２６…ロボットアーム、２８…プラズマガン、３０
…コントローラ、３２…パワーフィーダー、３４…電
源、３６…高周波ユニット、３８…コントロールコンソ
ール、４０…インターフェイスユニット、４２…スプレ
ーフード、４４…ダストコレクター
器、２６…ロボットアーム、２８…プラズマガン、３０
…コントローラ、３２…パワーフィーダー、３４…電
源、３６…高周波ユニット、３８…コントロールコンソ
ール、４０…インターフェイスユニット、４２…スプレ
ーフード、４４…ダストコレクター
Claims (16)
- 【請求項１】 コーティングされるべき基板表面を清浄
化する工程と、 粒径６０ないし７５μｍの複合微粒子であって、この複
合微粒子が平均粒径１ないし５μｍの複数の磁性金属粒
子を互いに離間しつつ５０ないし７５容量％を構成する
ようにして含む電気絶縁性セラミックマトリックスから
なるものを用意する工程と、 該複合微粒子をその表面部分のみが溶解する温度条件下
で上記基板表面にプラズマスプレーし、これにより上記
基板表面に磁気−セラミック誘電体層を形成する工程
と、 を含むことを特徴とする基板表面に磁気−サーメット誘
電性被覆層を形成する方法。 - 【請求項２】 上記基板表面に磁気−セラミック誘電体
層を形成する前に、予め、該複合微粒子と実質的に同じ
組成の粒子を、粒子全体がほぼ溶解する温度条件下で上
記基板表面にプラズマスプレーし、これにより上記基板
表面に厚み５ないし７ミルの遷移層を形成し、これによ
り該基板と磁気−セラミック誘電体層との中間の熱膨張
係数を有する導電層を形成することを特徴とする請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】 該遷移層を形成するのに用いられる粒子
の粒径を１０ないし４５μｍとすることを特徴とする請
求項２記載の方法。 - 【請求項４】 該基板表面が金属からなり、該清浄化工
程が、該基板表面に脱脂剤を適用し、ついで粒径２０な
いし８０μｍのアルミナ粒子を該基板表面に当てること
により該基板表面を研磨したのち、残渣を残さない溶媒
で該基板表面を洗浄することからなることを特徴とする
請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 該金属粒子が鉄、鉄−アルミニウム、鉄
−珪素、コバルト、またはこれらの混合物から選ばれる
金属からなることを特徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項６】 該セラミックマトリックスが、珪素、バ
リウム、アルミニウム、硼素、カルシウム、ストロンチ
ュウム、カリウム、またはこれらの混合物の酸化物から
選ばれるものであることを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項７】 該セラミックマトリックスが、酸化珪素
４５重量％、酸化バリウム４６重量％、酸化硼素９重量
％からなることを特徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項８】 該プラズマスプレーにより周波数５ない
し１６ＧＨｚの範囲内で最大マイクロ波吸収を示す被覆
層を形成することを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項９】 該プラズマスプレーにより膜厚３５ない
し５５ミルの被覆層を形成することを特徴とする請求項
１記載の方法。 - 【請求項１０】 コーティングされるべき基板表面を清
浄化する工程と、 粒径１０ないし４５μｍの第１の複合微粒子であって、
この第１の複合微粒子が平均粒径１ないし５μｍの複数
の第１の磁性金属粒子を互いに離間しつつ５０ないし７
５容量％を構成するようにして含む第１の電気絶縁性セ
ラミックマトリックスからなるものを用意する工程と、 該第１の複合微粒子をほぼ完全に溶解する温度条件下で
上記基板表面にプラズマスプレーし、これにより上記基
板表面に導電性遷移層を形成する工程と、 粒径６０ないし７５μｍの第２の複合微粒子であって、
この第２の複合微粒子が平均粒径１ないし５μｍの複数
の第２の磁性金属粒子を互いに離間しつつ５０ないし７
５容量％を構成するようにして含む第２の電気絶縁性セ
ラミックマトリックスからなるものを用意する工程と、 該第２の複合微粒子をその表面部分のみが溶解する温度
条件下で上記基板表面にプラズマスプレーし、これによ
り上記基板表面に磁気−セラミック誘電体層を形成する
工程と、 を含むことを特徴とする基板表面に磁気−サーメット誘
電性被覆層を形成する方法。 - 【請求項１１】 直径以外については、該第１の複合微
粒子と第２の複合微粒子の組成および物理的特性が実質
的に同一であることを特徴とする請求項１０記載の方
法。 - 【請求項１２】 該第１の複合微粒子と第２の複合微粒
子が鉄、鉄−アルミニウム、鉄−珪素、コバルト、また
はこれらの混合物から選ばれる金属からなることを特徴
とする請求項１０記載の方法。 - 【請求項１３】 該第１および第２のセラミックマトリ
ックスが、珪素、バリウム、アルミニウム、硼素、カル
シウム、ストロンチュウム、カリウム、またはこれらの
混合物の酸化物から選ばれるものであることを特徴とす
る請求項１０記載の方法。 - 【請求項１４】 該第１および第２のセラミックマトリ
ックスが、酸化珪素４５重量％、酸化バリウム４６重量
％、酸化硼素９重量％からなることを特徴とする請求項
１０記載の方法。 - 【請求項１５】 第２回目のプラズマスプレーにより周
波数５ないし１６ＧＨｚの範囲内で最大マイクロ波吸収
を示す誘電性被覆層を形成することを特徴とする請求項
１０記載の方法。 - 【請求項１６】 第１回目のプラズマスプレーにより厚
み５ないし７ミルの遷移層を形成し、第２回目のプラズ
マスプレーにより膜厚３５ないし５５ミルの誘電性被覆
層を形成することを特徴とする請求項１０記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/916,446 US5320879A (en) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | Method of forming coatings by plasma spraying magnetic-cerment dielectric composite particles |
| US916446 | 1992-07-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06220601A true JPH06220601A (ja) | 1994-08-09 |
| JP2690260B2 JP2690260B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=25437276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5179380A Expired - Lifetime JP2690260B2 (ja) | 1992-07-20 | 1993-07-20 | 磁気−サーメット誘電体複合粒子をプラズマスプレーすることにより被覆層を形成する方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5320879A (ja) |
| EP (1) | EP0580097B1 (ja) |
| JP (1) | JP2690260B2 (ja) |
| KR (1) | KR970002241B1 (ja) |
| AU (1) | AU660225B2 (ja) |
| CA (1) | CA2100724C (ja) |
| DE (1) | DE69307796T2 (ja) |
| ES (1) | ES2099325T3 (ja) |
| IL (1) | IL106370A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002299648A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Hitachi Ltd | 光送信・受信モジュール |
Families Citing this family (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5486382A (en) * | 1993-05-06 | 1996-01-23 | Hughes Missile Systems Company | Method for preparing a cermet-coated article |
| DE69525214T2 (de) * | 1994-10-18 | 2002-07-11 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Verfahren zur Wiederherstellung eines Aufladungselements |
| FR2727464A1 (fr) | 1994-11-29 | 1996-05-31 | Schlumberger Services Petrol | Capteur de diagraphie electrique et son procede de realisation |
| WO1997042004A1 (en) * | 1996-05-03 | 1997-11-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of making a porous abrasive article |
| DE69627538T2 (de) * | 1996-05-03 | 2004-04-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company, St. Paul | Nichtgewebte schleifmittel |
| WO1997042003A1 (en) * | 1996-05-03 | 1997-11-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method and apparatus for manufacturing abrasive articles |
| FR2782736B1 (fr) * | 1998-09-01 | 2000-10-06 | Fond Franco Belges | Recipient culinaire pour appareil de cuisson par induction et son procede de fabrication |
| EP1037509A3 (en) * | 1999-03-08 | 2002-05-15 | Mama Co. Ltd. | A ceramic bowl of an induction-heating ceramic cooker and a method for production thereof |
| FR2795933B1 (fr) * | 1999-07-07 | 2001-10-12 | Fond Franco Belges | Recipient culinaire a chauffage par induction |
| KR20020004130A (ko) * | 2000-07-03 | 2002-01-16 | 이종국 | 열 안정성이 우수한 세리아 안정화 지르코니아의 제조법 |
| US6927361B2 (en) * | 2003-09-04 | 2005-08-09 | Thomas Joseph Kelly | Surface oxide weld penetration enhancement method and article |
| WO2005060802A1 (de) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Empa | Keramisches kochgefäss, insbesondere ein fondue-caquelon |
| US7488515B2 (en) * | 2004-03-19 | 2009-02-10 | All-Clad Metalcrafters Llc | Method of making non-stick cookware |
| US8814861B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-08-26 | Innovatech, Llc | Electrosurgical electrode and method of manufacturing same |
| US7147634B2 (en) | 2005-05-12 | 2006-12-12 | Orion Industries, Ltd. | Electrosurgical electrode and method of manufacturing same |
| US8840960B2 (en) * | 2006-11-01 | 2014-09-23 | United Technologies Corporation | Method of cleaning carbon composite prior to application of thermal coating |
| US8852720B2 (en) | 2009-07-17 | 2014-10-07 | Rolls-Royce Corporation | Substrate features for mitigating stress |
| EP2524069B1 (en) | 2010-01-11 | 2018-03-07 | Rolls-Royce Corporation | Features for mitigating thermal or mechanical stress on an environmental barrier coating |
| TWI466650B (zh) * | 2010-11-08 | 2015-01-01 | Ind Tech Res Inst | 鍋具及其製造方法 |
| WO2012067695A1 (en) * | 2010-11-15 | 2012-05-24 | Masco Bath Corporation | Method for bathing vessel having wood-containing base board |
| ITPI20120081A1 (it) * | 2012-07-20 | 2014-01-21 | Nuova Connavi S R L | Metodo per realizzare manufatti compositi elettricamente conduttivi e metodo per realizzare una giunzione di tali manufatti, in particolare in un involucro schermante per la radiazione elettromagnetica |
| WO2014144152A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Rolls-Royce Corporation | Improved coating interface |
| US20160208371A1 (en) * | 2013-08-27 | 2016-07-21 | Agency For Science, Technology And Research | Method of treating a thermal barrier coating |
| CN104087887B (zh) * | 2014-06-17 | 2016-09-07 | 宁国东方碾磨材料股份有限公司 | 一种高硬度涂层磨段 |
| CN104087841B (zh) * | 2014-06-17 | 2016-01-20 | 宁国东方碾磨材料股份有限公司 | 一种高韧性涂层磨段 |
| CN104032253B (zh) * | 2014-06-19 | 2016-09-14 | 河北科技大学 | 一种Ti-B-C-N陶瓷涂层及其制备方法 |
| CN104762584B (zh) * | 2015-01-26 | 2017-05-17 | 河北工业大学 | 反应喷涂陶瓷固溶体基陶瓷‑金属共晶纳米复合涂层的制备方法 |
| CH711291A1 (de) | 2015-07-03 | 2017-01-13 | Amt Ag | Anordnung sowie Verfahren zum Beschichten von Werkstücken. |
| JP6859146B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2021-04-14 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用スラリー |
| CN115368133B (zh) * | 2022-09-20 | 2023-10-10 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种高温陶瓷粉末的制备方法及应用 |
| CN116254032B (zh) * | 2022-12-29 | 2024-02-09 | 北京卫星制造厂有限公司 | 一种适用于多种基材表面的月尘防护涂层及其制备方法 |
| CN116179988B (zh) * | 2023-02-16 | 2024-09-20 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种复合陶瓷材料、吸波陶瓷涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4328257A (en) * | 1979-11-26 | 1982-05-04 | Electro-Plasma, Inc. | System and method for plasma coating |
| EP0217991A1 (en) * | 1985-10-04 | 1987-04-15 | Repco Limited | Ceramic material coatings |
| US4588607A (en) * | 1984-11-28 | 1986-05-13 | United Technologies Corporation | Method of applying continuously graded metallic-ceramic layer on metallic substrates |
| US4593007A (en) * | 1984-12-06 | 1986-06-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Aluminum and silica clad refractory oxide thermal spray powder |
| JPS62227073A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-06 | Shinko Kiko Kk | アルミニウム製品の表面にセラミツクス被膜を形成する方法 |
| IL84067A (en) * | 1986-10-30 | 1992-03-29 | United Technologies Corp | Thermal barrier coating system |
| US5122182A (en) * | 1990-05-02 | 1992-06-16 | The Perkin-Elmer Corporation | Composite thermal spray powder of metal and non-metal |
-
1992
- 1992-07-20 US US07/916,446 patent/US5320879A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-07-16 CA CA002100724A patent/CA2100724C/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-07-16 IL IL106370A patent/IL106370A/en not_active IP Right Cessation
- 1993-07-17 DE DE69307796T patent/DE69307796T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-17 EP EP93111513A patent/EP0580097B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-17 ES ES93111513T patent/ES2099325T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-19 KR KR1019930013537A patent/KR970002241B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-20 AU AU42091/93A patent/AU660225B2/en not_active Ceased
- 1993-07-20 JP JP5179380A patent/JP2690260B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002299648A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Hitachi Ltd | 光送信・受信モジュール |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0580097B1 (en) | 1997-01-29 |
| CA2100724C (en) | 1997-05-27 |
| DE69307796T2 (de) | 1997-08-14 |
| IL106370A (en) | 1998-02-08 |
| KR940006427A (ko) | 1994-03-23 |
| ES2099325T3 (es) | 1997-05-16 |
| DE69307796D1 (de) | 1997-03-13 |
| AU4209193A (en) | 1994-01-27 |
| CA2100724A1 (en) | 1994-01-21 |
| JP2690260B2 (ja) | 1997-12-10 |
| US5320879A (en) | 1994-06-14 |
| AU660225B2 (en) | 1995-06-15 |
| EP0580097A1 (en) | 1994-01-26 |
| KR970002241B1 (ko) | 1997-02-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2690260B2 (ja) | 磁気−サーメット誘電体複合粒子をプラズマスプレーすることにより被覆層を形成する方法 | |
| KR102266655B1 (ko) | 이트륨계 과립 분말을 이용한 용사 피막의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 이트륨계 용사 피막 | |
| JPH0969554A (ja) | 静電チャック部材およびその製造方法 | |
| US5211991A (en) | Method of plasma spraying magnetic-cermet dielectric coatings | |
| US3607381A (en) | Spray process for creating electrical circuits | |
| EP0623415B1 (en) | Method of making cathode targets comprising silicon | |
| US4159353A (en) | Platinum coating dense refractories | |
| US20070065678A1 (en) | Electro-static chuck with non-sintered aln and a method of preparing the same | |
| CN114032537B (zh) | 一种增强冷喷涂涂层与基材结合强度的方法 | |
| CN112553564A (zh) | 一种进一步提高高熵合金涂层耐磨性的方法 | |
| GB2116992A (en) | Abrasive materials | |
| US2990293A (en) | Method of impregnating and rustproofing metal articles | |
| JPH06346232A (ja) | スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 | |
| CN113416913B (zh) | 一种氧化镁靶材背板的氧化铝涂层制备方法 | |
| JPH05271900A (ja) | 溶射皮膜の加熱加圧方法 | |
| KR101922805B1 (ko) | 박리방지를 위한 용사코팅층 제조방법 및 이를 이용한 용사코팅층 | |
| JPS62112769A (ja) | 耐摩耗性、耐食性、耐久性に優れる容射被膜の形成方法 | |
| GB2341603A (en) | Method of applying glass ceramic dielectric layers to metal substrates | |
| GB2074152A (en) | Coating method | |
| JPS5838111A (ja) | セラミツク薄板の製造方法 | |
| JPH0347979A (ja) | 金属表面のガラス被膜形成方法 | |
| SU1135728A1 (ru) | Способ обработки подложки из ситалла | |
| JP2025088600A (ja) | 耐食性被膜の製造方法及び静電チャック装置の製造方法 | |
| CN121491347A (zh) | 表面多孔管的制备方法 | |
| JPS61102744A (ja) | 半導体装置用基板およびその製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100829 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110829 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120829 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130829 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |