JPH06226484A - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
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- JPH06226484A JPH06226484A JP5017719A JP1771993A JPH06226484A JP H06226484 A JPH06226484 A JP H06226484A JP 5017719 A JP5017719 A JP 5017719A JP 1771993 A JP1771993 A JP 1771993A JP H06226484 A JPH06226484 A JP H06226484A
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- JP
- Japan
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- vacuum container
- heat
- outlet
- defoaming
- heat treatment
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- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 脱泡処理後に加熱処理を連続して行うことが
できる熱処理装置を提供する。 【構成】 被処理物P は、入口側ウオーキングビーム3
により保温槽1 の入口7から真空容器11まで搬送され
る。真空容器11は、遠赤ヒータ12を有する真空容器上半
部9 および上下動自在でかつ被処理物受台14を備えた真
空容器下半部10よりなる。真空容器11内が加熱下で真空
とされることにより被処理物P 中の気泡が除去される。
脱泡処理後の被処理物P は、出口側ウオーキングビーム
4 により真空容器11から保温槽1 の出口8 まで搬送さ
れ、この間に、出口側ウオーキングビーム4 上方に配置
された出口側加熱源6 により、加熱処理される。
できる熱処理装置を提供する。 【構成】 被処理物P は、入口側ウオーキングビーム3
により保温槽1 の入口7から真空容器11まで搬送され
る。真空容器11は、遠赤ヒータ12を有する真空容器上半
部9 および上下動自在でかつ被処理物受台14を備えた真
空容器下半部10よりなる。真空容器11内が加熱下で真空
とされることにより被処理物P 中の気泡が除去される。
脱泡処理後の被処理物P は、出口側ウオーキングビーム
4 により真空容器11から保温槽1 の出口8 まで搬送さ
れ、この間に、出口側ウオーキングビーム4 上方に配置
された出口側加熱源6 により、加熱処理される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電子回路基板製造時
のはんだ付け、電子部品組立時の接着、電子回路のシー
リング等を行うさいに使用される熱処理装置に関する。
のはんだ付け、電子部品組立時の接着、電子回路のシー
リング等を行うさいに使用される熱処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】はんだリフロー、電子回路基板製造時の
はんだ付け、電子部品組立時の接着、電子回路のシーリ
ング等は、熱処理装置により行われていたが、それぞれ
次のような問題があった。
はんだ付け、電子部品組立時の接着、電子回路のシーリ
ング等は、熱処理装置により行われていたが、それぞれ
次のような問題があった。
【０００３】はんだ付けは、はんだリフロー炉内でペー
スト状はんだを使用して行われるが、リフロー後の残留
フラックス成分により、絶縁不良、接触不良、外観不良
等が生じるという問題があった。また、電子部品組立時
の接着においては、接着面に部品をセットしたときに接
着剤に気泡が閉じ込められ、接着強度が弱くなるという
問題があった。また、電子回路のシーリングは樹脂を注
入後これを加熱硬化することにより行われるが、樹脂注
入時に気泡が生じ、加熱硬化時に気泡が膨張し、製品表
面にブローホールが生じるという問題があった。
スト状はんだを使用して行われるが、リフロー後の残留
フラックス成分により、絶縁不良、接触不良、外観不良
等が生じるという問題があった。また、電子部品組立時
の接着においては、接着面に部品をセットしたときに接
着剤に気泡が閉じ込められ、接着強度が弱くなるという
問題があった。また、電子回路のシーリングは樹脂を注
入後これを加熱硬化することにより行われるが、樹脂注
入時に気泡が生じ、加熱硬化時に気泡が膨張し、製品表
面にブローホールが生じるという問題があった。
【０００４】上記問題を解消するために、被処理物が納
められた真空容器内を真空とすることにより被処理物の
気泡を除去する脱泡装置を、熱処理装置とは独立して設
けることが提案されている（特開昭６３−２２８６３０
号公報参照）。
められた真空容器内を真空とすることにより被処理物の
気泡を除去する脱泡装置を、熱処理装置とは独立して設
けることが提案されている（特開昭６３−２２８６３０
号公報参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記の提案では、脱泡
装置は熱処理装置とは独立に設けられているため、脱泡
処理前に高温であった被処理物の温度は、脱泡処理中お
よび脱泡処理前後の搬送中に降温してしまい、熱処理装
置における加熱処理を連続して行うことができず、また
都度、昇降温しているためにエネルギーの無駄があっ
た。
装置は熱処理装置とは独立に設けられているため、脱泡
処理前に高温であった被処理物の温度は、脱泡処理中お
よび脱泡処理前後の搬送中に降温してしまい、熱処理装
置における加熱処理を連続して行うことができず、また
都度、昇降温しているためにエネルギーの無駄があっ
た。
【０００６】この発明の目的は、被処理物が納められた
真空容器内を真空とすることにより被処理物中の気泡を
除去することができ、かつ脱泡処理中に被処理物の温度
が低下することなく、脱泡処理後に加熱処理を連続して
行うことができる熱処理装置を提供することにある。
真空容器内を真空とすることにより被処理物中の気泡を
除去することができ、かつ脱泡処理中に被処理物の温度
が低下することなく、脱泡処理後に加熱処理を連続して
行うことができる熱処理装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明による熱処理装
置は、保温槽と、保温槽１内に配置される真空容器を有
し被処理物が納められた真空容器を真空とすることによ
り被処理物の気泡を除去する脱泡装置と、保温槽の入口
から真空容器まで被処理物を搬送する入口側搬送装置
と、脱泡処理後の被処理物を真空容器から保温槽の出口
まで搬送する出口側搬送装置と、保温槽内の出口側搬送
装置上方に配置された出口側加熱源とを備え、真空容器
が、保温槽内の搬送路上方に固定されかつ真空容器内加
熱源を有する真空容器上半部および真空容器上半部の下
方に上下動自在に設けられかつ被処理物受台を備えた真
空容器下半部よりなるものである。
置は、保温槽と、保温槽１内に配置される真空容器を有
し被処理物が納められた真空容器を真空とすることによ
り被処理物の気泡を除去する脱泡装置と、保温槽の入口
から真空容器まで被処理物を搬送する入口側搬送装置
と、脱泡処理後の被処理物を真空容器から保温槽の出口
まで搬送する出口側搬送装置と、保温槽内の出口側搬送
装置上方に配置された出口側加熱源とを備え、真空容器
が、保温槽内の搬送路上方に固定されかつ真空容器内加
熱源を有する真空容器上半部および真空容器上半部の下
方に上下動自在に設けられかつ被処理物受台を備えた真
空容器下半部よりなるものである。
【０００８】
【作用】被処理物は、入口側搬送装置により保温槽入口
から真空容器まで搬送され、ここで真空容器内に納めら
れる。そして、真空容器内が加熱下で真空とされること
により被処理物中の気泡が除去される。脱泡処理後の被
処理物は、出口側搬送装置により真空容器から保温槽出
口まで搬送される。この搬送の間に、保温槽内の出口側
搬送装置上方に配置された出口側加熱源により、加熱処
理される。したがって、この発明の熱処理装置による
と、脱泡処理中および脱泡処理後の搬送中に被処理物の
温度は低下することがない。
から真空容器まで搬送され、ここで真空容器内に納めら
れる。そして、真空容器内が加熱下で真空とされること
により被処理物中の気泡が除去される。脱泡処理後の被
処理物は、出口側搬送装置により真空容器から保温槽出
口まで搬送される。この搬送の間に、保温槽内の出口側
搬送装置上方に配置された出口側加熱源により、加熱処
理される。したがって、この発明の熱処理装置による
と、脱泡処理中および脱泡処理後の搬送中に被処理物の
温度は低下することがない。
【０００９】
【実施例】この発明の実施例を、以下図面を参照して説
明する。この明細書において、前後は被処理物の移動方
向を基準とし、その移動方向前方、すなわち図１の右側
を前、これと反対側を後というものとする。
明する。この明細書において、前後は被処理物の移動方
向を基準とし、その移動方向前方、すなわち図１の右側
を前、これと反対側を後というものとする。
【００１０】図１から図２までは、この発明の熱処理装
置の第１実施例を示しており、熱処理装置は、断熱層で
囲まれた保温槽(1) と、保温槽(1) 内に配置される真空
容器(11)を有し被処理物(P) が納められた真空容器(11)
を真空とすることにより被処理物(P) の気泡を除去する
脱泡装置(2) と、保温槽(1) の入口(7) から真空容器(1
1)まで被処理物(P) を搬送する入口側搬送装置(3) と、
脱泡処理後の被処理物(P) を真空容器(11)から保温槽
(1) の出口(8) まで搬送する出口側搬送装置(4)と、保
温槽(1) 内の入口側搬送装置(3) 上方に配置された入口
側シーズヒータ（入口側加熱源）(5) と、保温槽(1) 内
の出口側搬送装置(4) 上方に配置された出口側シーズヒ
ータ（出口側加熱源）(6) とを備えている。保温槽(1)
内は、熱風循環により所定の温度に制御されている。
置の第１実施例を示しており、熱処理装置は、断熱層で
囲まれた保温槽(1) と、保温槽(1) 内に配置される真空
容器(11)を有し被処理物(P) が納められた真空容器(11)
を真空とすることにより被処理物(P) の気泡を除去する
脱泡装置(2) と、保温槽(1) の入口(7) から真空容器(1
1)まで被処理物(P) を搬送する入口側搬送装置(3) と、
脱泡処理後の被処理物(P) を真空容器(11)から保温槽
(1) の出口(8) まで搬送する出口側搬送装置(4)と、保
温槽(1) 内の入口側搬送装置(3) 上方に配置された入口
側シーズヒータ（入口側加熱源）(5) と、保温槽(1) 内
の出口側搬送装置(4) 上方に配置された出口側シーズヒ
ータ（出口側加熱源）(6) とを備えている。保温槽(1)
内は、熱風循環により所定の温度に制御されている。
【００１１】脱泡装置(2) は、保温槽(1) 内の搬送路上
方に固定された真空容器上半部(9)およびこれの下方に
設けられた上下動自在の真空容器下半部(10)よりなる真
空容器(11)と、真空容器上半部(9) の上方内側に設けら
れた加熱用遠赤ヒータ（真空容器内加熱源）(12)と、保
温槽(1) 外に設けられ真空容器上半部(9) と連通する真
空ポンプ(13)と、真空容器下半部(10)に設けられた脱泡
時被処理物受台(14)と、真空容器下半部(10)を上下動さ
せる上向き流体圧シリンダ(15)とよりなる。真空容器(1
1)は保温槽(1) 内の中央より若干後寄りに配置されてい
る。真空容器下半部(10)の周壁上縁部には、真空容器下
半部(10)が上昇して真空容器上半部(9)と一体となって
真空容器(11)を形成したときに、真空容器(11)内を気密
状態に保つシール材(16)が取り付けられている。真空ポ
ンプ(13)と真空容器上半部(9) とを連通する配管の途中
にはフィルタ（図示略）が設けられている。
方に固定された真空容器上半部(9)およびこれの下方に
設けられた上下動自在の真空容器下半部(10)よりなる真
空容器(11)と、真空容器上半部(9) の上方内側に設けら
れた加熱用遠赤ヒータ（真空容器内加熱源）(12)と、保
温槽(1) 外に設けられ真空容器上半部(9) と連通する真
空ポンプ(13)と、真空容器下半部(10)に設けられた脱泡
時被処理物受台(14)と、真空容器下半部(10)を上下動さ
せる上向き流体圧シリンダ(15)とよりなる。真空容器(1
1)は保温槽(1) 内の中央より若干後寄りに配置されてい
る。真空容器下半部(10)の周壁上縁部には、真空容器下
半部(10)が上昇して真空容器上半部(9)と一体となって
真空容器(11)を形成したときに、真空容器(11)内を気密
状態に保つシール材(16)が取り付けられている。真空ポ
ンプ(13)と真空容器上半部(9) とを連通する配管の途中
にはフィルタ（図示略）が設けられている。
【００１２】入口側搬送装置(3) は、入口側ウオーキン
グビーム(17)と、入口側ウオーキングビーム(17)上方の
搬送路に沿って配置された搬入時受台(18)および１また
は複数の（この実施例では１つの）予備加熱時受台(19)
とよりなる。搬入時受台(18)は保温槽(1) 外に、予備加
熱時受台(19)は保温槽(1) 内の入口側シーズヒータ(5)
下方にそれぞれ位置させられている。入口側ウオーキン
グビーム(17)は、保温槽(1) 外にある駆動源(17a) によ
り駆動されて、上昇、前進、下降、後退をこの順序で繰
り返す。搬入時受台(18)、予備加熱時受台(19)および脱
泡時受台(14)の隣り合うもの同士の間は、等ピッチにな
されており、入口側ウオーキングビーム(17)は、ちょう
ど１ピッチ分ずつ前進および後退する。
グビーム(17)と、入口側ウオーキングビーム(17)上方の
搬送路に沿って配置された搬入時受台(18)および１また
は複数の（この実施例では１つの）予備加熱時受台(19)
とよりなる。搬入時受台(18)は保温槽(1) 外に、予備加
熱時受台(19)は保温槽(1) 内の入口側シーズヒータ(5)
下方にそれぞれ位置させられている。入口側ウオーキン
グビーム(17)は、保温槽(1) 外にある駆動源(17a) によ
り駆動されて、上昇、前進、下降、後退をこの順序で繰
り返す。搬入時受台(18)、予備加熱時受台(19)および脱
泡時受台(14)の隣り合うもの同士の間は、等ピッチにな
されており、入口側ウオーキングビーム(17)は、ちょう
ど１ピッチ分ずつ前進および後退する。
【００１３】入口側ウオーキングビーム(17)の前部(17
b) は、入口側ウオーキングビーム(17)が前進したさい
に真空容器下半部(10)と干渉しないようにその上半部が
後方に凹まされている。
b) は、入口側ウオーキングビーム(17)が前進したさい
に真空容器下半部(10)と干渉しないようにその上半部が
後方に凹まされている。
【００１４】出口側搬送装置(4) は、出口側ウオーキン
グビーム(20)と、出口側ウオーキングビーム(20)上方の
搬送路に沿って配置された１または複数の（この実施例
では２つの）本加熱時受台(21)および搬出時受台(22)と
よりなる。出口側ウオーキングビーム(20)は、保温槽
(1) 外にある駆動源(20a) により駆動されて、後退、上
昇、前進、下降をこの順序で繰り返す。脱泡時受台(1
4)、本加熱時受台(21)および搬出時受台(22)の隣り合う
もの同士の間は、等ピッチになされており、出口側ウオ
ーキングビーム(20)は、ちょうど１ピッチ分ずつ前進お
よび後退する。出口側ウオーキングビーム(20)の後部(2
0b) は、真空容器下半部(10)と干渉しないようにその上
半部が前方に凹まされている。
グビーム(20)と、出口側ウオーキングビーム(20)上方の
搬送路に沿って配置された１または複数の（この実施例
では２つの）本加熱時受台(21)および搬出時受台(22)と
よりなる。出口側ウオーキングビーム(20)は、保温槽
(1) 外にある駆動源(20a) により駆動されて、後退、上
昇、前進、下降をこの順序で繰り返す。脱泡時受台(1
4)、本加熱時受台(21)および搬出時受台(22)の隣り合う
もの同士の間は、等ピッチになされており、出口側ウオ
ーキングビーム(20)は、ちょうど１ピッチ分ずつ前進お
よび後退する。出口側ウオーキングビーム(20)の後部(2
0b) は、真空容器下半部(10)と干渉しないようにその上
半部が前方に凹まされている。
【００１５】また、保温槽(1) 壁の入口側ウオーキング
ビーム(17)および出口側ウオーキングビーム(20)の通路
となるところには、ウオーキングビーム(17)(20)と干渉
しないようにスリット(23)が設けられている。
ビーム(17)および出口側ウオーキングビーム(20)の通路
となるところには、ウオーキングビーム(17)(20)と干渉
しないようにスリット(23)が設けられている。
【００１６】上記熱処理装置において、被処理物(P) は
次のようにして処理されていく。
次のようにして処理されていく。
【００１７】入口側ウオーキングビーム(17)は、図１に
実線で示した後退位置において上昇することにより搬入
時受台(18)および予備加熱時受台(19)上にある２つの被
処理物(P) を同時に支持し、そのまま前進した後、下降
し、図１に鎖線で示した位置まで移動する。この操作に
より、搬入時受台(18)上にある被処理物(P) は予備加熱
時受台(19)上に移動し、予備加熱時受台(19)上にある被
処理物(P) は、脱泡時受台(14)に載せられる。被処理物
(P) が脱泡時受台(14)に載せられると、真空容器下半部
(10)がシリンダ(15)により持ち上げられ、真空容器上半
部(9) に当接させられて、１つの真空容器(11)が形成さ
れる。次に、遠赤ヒータ(12)により温度制御しながら、
真空ポンプ(13)により真空容器(11)内を加熱下で真空と
する。これにより、被処理物(P) が脱泡される。次い
で、真空容器下半部(10)が下降し、出口側ウオーキング
ビーム(20)が、図１に実線で示した前進位置から後退し
た後に上昇することにより脱泡時受台(14)および２つの
本加熱時受台(21)上にある３つの被処理物(P) を同時に
支持し、そのまま前進した後、下降し、図１に鎖線で示
した位置まで移動する。この操作により、各被処理物
(P) が１ピッチずつ前進し、脱泡時受台(14)上にある被
処理物(P) は後側の本加熱時受台(21)上に移動し、後側
の本加熱時受台(21)上にある被処理物(P) は前側の本加
熱時受台(21)上に移動し、前側の本加熱時受台(21)上に
ある被処理物(P) は搬出時受台(22)に移動する。このよ
うにして、脱泡された被処理物(P) は、出口側ウオーキ
ングビーム(20)上方に配置された出口側シーズヒータ
(6) により加熱処理された後、搬出される。
実線で示した後退位置において上昇することにより搬入
時受台(18)および予備加熱時受台(19)上にある２つの被
処理物(P) を同時に支持し、そのまま前進した後、下降
し、図１に鎖線で示した位置まで移動する。この操作に
より、搬入時受台(18)上にある被処理物(P) は予備加熱
時受台(19)上に移動し、予備加熱時受台(19)上にある被
処理物(P) は、脱泡時受台(14)に載せられる。被処理物
(P) が脱泡時受台(14)に載せられると、真空容器下半部
(10)がシリンダ(15)により持ち上げられ、真空容器上半
部(9) に当接させられて、１つの真空容器(11)が形成さ
れる。次に、遠赤ヒータ(12)により温度制御しながら、
真空ポンプ(13)により真空容器(11)内を加熱下で真空と
する。これにより、被処理物(P) が脱泡される。次い
で、真空容器下半部(10)が下降し、出口側ウオーキング
ビーム(20)が、図１に実線で示した前進位置から後退し
た後に上昇することにより脱泡時受台(14)および２つの
本加熱時受台(21)上にある３つの被処理物(P) を同時に
支持し、そのまま前進した後、下降し、図１に鎖線で示
した位置まで移動する。この操作により、各被処理物
(P) が１ピッチずつ前進し、脱泡時受台(14)上にある被
処理物(P) は後側の本加熱時受台(21)上に移動し、後側
の本加熱時受台(21)上にある被処理物(P) は前側の本加
熱時受台(21)上に移動し、前側の本加熱時受台(21)上に
ある被処理物(P) は搬出時受台(22)に移動する。このよ
うにして、脱泡された被処理物(P) は、出口側ウオーキ
ングビーム(20)上方に配置された出口側シーズヒータ
(6) により加熱処理された後、搬出される。
【００１８】図３は、この発明の熱処理装置の第２実施
例を示す。第２実施例は第１実施例と、入口側搬送装置
および出口側搬送装置が異なっている。同一部分には同
一の符号を付して、説明を省略する。
例を示す。第２実施例は第１実施例と、入口側搬送装置
および出口側搬送装置が異なっている。同一部分には同
一の符号を付して、説明を省略する。
【００１９】図３において、保温槽(1) 入口から真空容
器(11)まで被処理物(P) を搬送する入口側搬送装置(31)
は、入口側ベルトコンベヤ(32)と、入口側ベルトコンベ
ヤ(32)の前端から脱泡時受台(14)に移し替える入口側移
載機(33)とよりなり、脱泡処理後の被処理物(P) を真空
容器(11)から保温槽(1) 出口まで搬送する出口側搬送装
置(34)は、出口側ベルトコンベヤ(35)と、脱泡時受台(1
4)から出口側ベルトコンベヤ(35)の後端に移し替える出
口側移載機(36)とよりなる。
器(11)まで被処理物(P) を搬送する入口側搬送装置(31)
は、入口側ベルトコンベヤ(32)と、入口側ベルトコンベ
ヤ(32)の前端から脱泡時受台(14)に移し替える入口側移
載機(33)とよりなり、脱泡処理後の被処理物(P) を真空
容器(11)から保温槽(1) 出口まで搬送する出口側搬送装
置(34)は、出口側ベルトコンベヤ(35)と、脱泡時受台(1
4)から出口側ベルトコンベヤ(35)の後端に移し替える出
口側移載機(36)とよりなる。
【００２０】入口側移載機(33)は、上下および前後に移
動自在のトロリ(37)と、被処理物(P) の前後両端部の支
持およびその解除を行うチャック部(38)とを備えてい
る。入口側移載機(33)は、図３に示した入口側ベルトコ
ンベヤ(32)前端部上方位置から、下降、入口側ベルトコ
ンベヤ(32)前端部上にある被処理物(P) の支持、上昇、
真空容器下半部(10)上方位置まで前進、下降、被処理物
(P) の支持を解除して脱泡時受台(14)上に積載、上昇、
入口側ベルトコンベヤ(32)上方位置まで後退をこの順序
で繰り返す。出口側移載機(36)は、入口側移載機(33)と
同じ構成であり、上下および前後に移動自在のトロリ(3
9)と、被処理物(P) の前後両端部の支持およびその解除
を行うチャック部(40)とを備えている。出口側移載機(3
6)は、図３に鎖線で示した出口側ベルトコンベヤ(35)後
端部上方位置から、真空容器下半部(10)上方位置まで後
退、下降、被処理物(P) の支持、上昇、出口側ベルトコ
ンベヤ(35)後端部上方位置まで前進、下降、被処理物
(P) の支持を解除して出口側ベルトコンベヤ(35)上に積
載、上昇をこの順序で繰り返す。
動自在のトロリ(37)と、被処理物(P) の前後両端部の支
持およびその解除を行うチャック部(38)とを備えてい
る。入口側移載機(33)は、図３に示した入口側ベルトコ
ンベヤ(32)前端部上方位置から、下降、入口側ベルトコ
ンベヤ(32)前端部上にある被処理物(P) の支持、上昇、
真空容器下半部(10)上方位置まで前進、下降、被処理物
(P) の支持を解除して脱泡時受台(14)上に積載、上昇、
入口側ベルトコンベヤ(32)上方位置まで後退をこの順序
で繰り返す。出口側移載機(36)は、入口側移載機(33)と
同じ構成であり、上下および前後に移動自在のトロリ(3
9)と、被処理物(P) の前後両端部の支持およびその解除
を行うチャック部(40)とを備えている。出口側移載機(3
6)は、図３に鎖線で示した出口側ベルトコンベヤ(35)後
端部上方位置から、真空容器下半部(10)上方位置まで後
退、下降、被処理物(P) の支持、上昇、出口側ベルトコ
ンベヤ(35)後端部上方位置まで前進、下降、被処理物
(P) の支持を解除して出口側ベルトコンベヤ(35)上に積
載、上昇をこの順序で繰り返す。
【００２１】この実施例においては、ベルトコンベヤ(3
2)(35)の代わりにチェーンコンベヤを使用することも勿
論可能である。
2)(35)の代わりにチェーンコンベヤを使用することも勿
論可能である。
【００２２】なお、上記第１および第２実施例におい
て、真空容器(11)は保温槽(1) 内の中央より若干後寄り
に配置されているが、真空容器(11)が配置される位置
は、用途に合わせて適宜変更される。また、真空容器(1
1)内に設けられる加熱源(12)としては、遠赤ヒータ以外
のものを用いることもできる。
て、真空容器(11)は保温槽(1) 内の中央より若干後寄り
に配置されているが、真空容器(11)が配置される位置
は、用途に合わせて適宜変更される。また、真空容器(1
1)内に設けられる加熱源(12)としては、遠赤ヒータ以外
のものを用いることもできる。
【００２３】
【発明の効果】この発明の熱処理装置によると、被処理
物を加熱下で脱泡することができ、しかも、脱泡処理中
に被処理物の温度を低下させることなく、脱泡処理後に
加熱処理を連続して行うことができる。
物を加熱下で脱泡することができ、しかも、脱泡処理中
に被処理物の温度を低下させることなく、脱泡処理後に
加熱処理を連続して行うことができる。
【図１】この発明による熱処理装置の第１実施例を概略
的に示す垂直縦断面図である。
的に示す垂直縦断面図である。
【図２】図１のII-II 線に沿う断面図である。
【図３】この発明による熱処理装置の第２実施例を概略
的に示す垂直縦断面図である。
的に示す垂直縦断面図である。
(1) 保温槽 (2) 脱泡装置 (3) 入口側搬送装置 (4) 出口側搬送装置 (6) 出口側シーズヒータ（出口側加熱源） (7) 入口 (8) 出口 (9) 真空容器上半部 (10) 真空容器下半部 (11) 真空容器 (12) 遠赤ヒータ（真空容器内加熱源） (14) 脱泡時被処理物受台 (31) 入口側搬送装置 (34) 出口側搬送装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/34 Ｔ 7128−4Ｅ // Ｂ２９Ｌ 31:34 4Ｆ
Claims (1)
- 【請求項１】 保温槽(1) と、保温槽(1) 内に配置され
る真空容器(11)を有し被処理物(P) が納められた真空容
器(11)を真空とすることにより被処理物(P)の気泡を除
去する脱泡装置(2) と、保温槽(1) の入口(7) から真空
容器(11)まで被処理物(P) を搬送する入口側搬送装置
(3)(31) と、脱泡処理後の被処理物(P)を真空容器(11)
から保温槽(1) の出口(8) まで搬送する出口側搬送装置
(4)(34)と、保温槽(1) 内の出口側搬送装置(4) 上方に
配置された出口側加熱源(6) とを備え、真空容器(11)
が、保温槽(1) 内の搬送路上方に固定されかつ真空容器
内加熱源(12)を有する真空容器上半部(9) および真空容
器上半部(9) の下方に上下動自在に設けられかつ被処理
物受台(14)を備えた真空容器下半部(10)よりなる熱処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5017719A JPH06226484A (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5017719A JPH06226484A (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | 熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06226484A true JPH06226484A (ja) | 1994-08-16 |
Family
ID=11951562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5017719A Withdrawn JPH06226484A (ja) | 1993-02-04 | 1993-02-04 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06226484A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1993
- 1993-02-04 JP JP5017719A patent/JPH06226484A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000404 |