JPH06227867A - 窒化アルミニウム焼結体及びその製造方法 - Google Patents
窒化アルミニウム焼結体及びその製造方法Info
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Abstract
改善向上させ、半導体用の放熱板材料や基板材料等とし
て好適な高熱伝導率の窒化アルミニウム焼結体を提供す
る。 【構成】 焼結後1500℃までの降温速度を5℃/分
以下とすることにより製造され、焼結体中の窒化アルミ
ニウム結晶が、ウルツ鉱型六方晶系に属する前記結晶の
単位格子の3つの稜であるa軸、b軸及びc軸のうち、
a軸とb軸の長さの比b/aが窒化アルミニウム結晶の
中央付近で1.000であり、且つ粒界相近傍付近で0.
997〜1.003の範囲内にある窒化アルミニウム焼
結体。
Description
アルミニウム(AlN)焼結体及びその製造方法に関す
る。
率が極めて大きいという特徴を有するため、電力用トラ
ンジスタの放熱板等のベリリア(BeO)代替品としての
ほか、アルミナ(Al2O3)に代わる半導体用の基板やパ
ッケージ材料、或はレーザー管等として窒化アルミニウ
ム焼結体が使用されている。
セラミックスに比較して極めて高いといっても、実際に
工業的に生産されている窒化アルミニウム焼結体では、
理論熱伝導率320w/mKの半分程度に過ぎない。窒
化アルミニウム焼結体の熱伝導率は、ケイ素や酸素の固
溶によって大きく低下することが知られており、最近で
は原料粉末の高純度化や焼結工程の改善により最高で1
80W/mK程度の熱伝導率の焼結体が得られるように
なっている。
結体であっても熱伝導率は十分満足すべきものとは言え
ず、最近のICやLSIの高集積化等に共なって、より
一層高い放熱性を有する半導体用の放熱板や基板、パッ
ケージ材料等への要望が高まっている現状である。
の事情に鑑み、窒化アルミニウム焼結体の熱伝導率を大
幅に改善向上させ、半導体用の放熱板材料や基板材料等
として好適な高熱伝導率の窒化アルミニウム焼結体を提
供することを目的とする。
ニウム焼結体の熱伝導率がその理論熱伝導率に達しない
原因を探るため、透過型電子顕微鏡(以下TEMと略記
する)による収束電子回折法を用いて焼結体中の窒化ア
ルミニウム結晶を詳しく検討した結果、窒化アルミニウ
ム結晶が本来のウルツ鉱型の六方晶に対し、やや歪んだ
構造となっていることを発見した。
1に示す通りウルツ鉱型六方晶系に属し、Al原子とN
原子とで1つの原子に対し他種の原子4個が正4面体形
に配位した構造である。かかる結晶構造の単位格子(図
1の実線部分)では、格子定数のうち3つの稜であるa
軸、b軸及びc軸の長さは、本来a=b≠cとなるべき
である。又、3つの稜であるa軸、b軸及びc軸の間の
角度はα=β=90°で、γ=120°となるべきであ
る。
の窒化アルミニウム焼結体中における窒化アルミニウム
結晶では、その単位格子のa軸とb軸の長さの比b/a
が、窒化アルミニウム結晶の中央付近では理論どおり
1.000であるのに対して、窒化アルミニウム結晶の
粒界相近傍では全て0.996以下であるか又は1.00
4以上となっていることが判明したのである。又、窒化
アルミニウム結晶の歪みが激しい場合には、結晶の中央
付近においてもa軸とb軸の長さが等しくなく、その比
b/aが1.000にならない結晶も存在することも判
った。
よって伝えることが知られており、上記のごとき結晶格
子の歪みがフォノンの伝播を阻害し、窒化アルミニウム
焼結体の熱伝導率を低下させていると考えることが出来
る。
結晶格子では、a軸又はb軸の長さが結晶中央部に比較
して0.4〜0.5%程度長くなっている結果、窒化アル
ミニウム結晶内部に引張応力が働いていることが判る。
従って、この引張応力によって窒化アルミニウム焼結体
が破壊しやすくなり、機械的強度も本来の値より低下し
ているものと考えることが出来る。
体中における窒化アルミニウム結晶の歪みの発生原因及
び発生時期について検討を加え、この歪みは焼結終了後
に1700〜1900℃の焼結温度から1500℃まで
降温する間に発生すること、及びこの歪みは従来の10
〜20℃/分という急激な降温速度が原因となって窒化
アルミニウム結晶と粒界相との間の熱膨張係数の差によ
り発生するとの結論を得た。
焼結体の製造方法において、アルミニウムと窒素を主成
分とする原料粉末の成形体を焼結した後、少なくとも1
500℃まで5℃/分以下の速度で降温することによ
り、窒化アルミニウム結晶の粒界相近傍においても単位
格子のa軸とb軸の長さの比b/aが0.997〜1.0
03の範囲内にある、結晶の歪みを従来よりも低減させ
た窒化アルミニウム焼結体を得ることが出来た。
が少ない高純度のもので、平均粒径の小さいものが好ま
しい。しかし、原料粉末にTi、V、Co、Ca等の化
合物を添加して焼結すれば、窒化アルミニウム結晶の粒
界相近傍での歪みの発生を緩和することが出来る。その
理由は明らかではないが、これらの陽イオン不純物が窒
化アルミニウムの結晶格子のAlサイトに侵入して、歪
みの発生を緩和しているものと考えられる。
結体は、窒化アルミニウム結晶が、ウルツ鉱型六方晶系
に属する前記結晶の単位格子の3つの稜であるa軸、b
軸及びc軸のうち、a軸とb軸の長さの比b/aが窒化
アルミニウム結晶の中央付近で1.000であり、且つ
粒界相近傍付近で0.997〜1.003の範囲内にある
ことを特徴とする。
10〜20℃/分又はそれ以上の降温速度で1500℃
まで冷却して得た従来の窒化アルミニウム焼結体と、本
発明に従って同じ1900℃で焼結後5℃/分以下の降
温速度で1500℃まで冷却した窒化アルミニウム焼結
体について、各焼結体中の窒化アルミニウム結晶をTE
M法による収束電子回折パターンから解析した例を示
す。尚、ここに具体例を示した従来の窒化アルミニウム
焼結体は熱伝導率が175W/mK及び機械的強度が3
3kg/mm2であり、本発明の窒化アルミニウム焼結
体は熱伝導率が230W/mK及び機械的強度が42k
g/mm2のものである。
アルミニウム結晶においては、TEM像(図3の上部)
中に示した結晶中央付近1から得た収束電子回折パター
ン(図3の左下部1)が写真中に示すXY軸に対して鏡
面対象をなし、結晶中央付近1では歪みのない結晶であ
ることが判るが、同じ結晶の粒界相近傍3から得られた
収束電子回折パターン(図3の右下部3)では鏡面対象
性が失われている。この収束電子回折パターンを解析す
ると、結晶の粒界相近傍3では等しいはずのa軸とb軸
の長さが異なり、その比b/aは1.004となってい
る。
ミニウム結晶のTEM像(図4の上部)では、結晶中央
付近1の収束電子回折パターン(図4の左下部1)及び
同じ結晶の粒界相近傍3の収束電子回折パターン(図4
の右下部3)とも鏡面対象性が失われ、a軸とb軸の比
b/aが結晶中央付近で0.997及び粒界相近傍で0.
994となっており、全体が歪んでいると考えられる結
晶も存在することが判る。
結体では、窒化アルミニウム結晶のTEM像(図2の上
部)中に示した結晶中央付近1から得た収束電子回折パ
ターン(図2の左下部1)は鏡面対象性を有し、a軸と
b軸の長さの比b/aが1.000の歪みのない結晶で
あることが判る。又、同じ結晶の粒界相近傍3から得ら
れた収束電子回折パターン(図2の右下部3)では鏡面
対象性が若干失われているものの、a軸とb軸の長さの
比b/aは1.001であって歪みが小さく抑えられて
いることが判る。
体は、窒化アルミニウム結晶の歪みの少なく、窒化アル
ミニウム結晶本来の完全なウルツ鉱型六方晶に極めて近
い結晶構造を有する。その結果、本発明の窒化アルミニ
ウム焼結体の熱伝導率と機械的強度は、例えば焼結温度
1900℃での焼結体の場合で従来に比べて熱伝導率が
35%以上及び機械的強度が30%以上向上し、焼結温
度1800℃での焼結体の場合は熱伝導率が37%以上
及び機械的強度が28%以上向上する。
の原料粉末に焼結助剤としてY2O3を1.0重量%にな
るように添加した後、回転ボールミルを用いてアルコー
ル中で10時間混合し、これにバインダーとしてポリビ
ニルブチラール3重量%を加え、更に混合した後乾燥し
た。
1.5ton/cm2以上で乾式プレス成形し、成形体を
600℃で3時間脱バインダーした後、窒素雰囲気中に
おいて1750℃又は1900℃で3時間焼結し、引き
続き3℃〜15℃/分の降温速度で1500℃まで降温
し、更に常温まで冷却して各焼結体試料を得た。
伝導率、機械的強度を測定した後、TEMによる収束電
子回折法を用いてAlN結晶の粒界相近傍におけるa軸
とb軸の長さの比b/aを10箇所測定し、その平均値
から絶対値|1−b/a|を求めた。これらの測定結果
を、焼結温度及び降温速度と共に表2に示す。
/a|との関係を図5に、|1−b/a|と熱伝導率との
関係を図6に、及び|1−b/a|と機械的強度との関係
を図7にそれぞれ表した。表2及び図5〜7から、降温
速度が5℃/分を越えれば得られるAlN結晶の粒界相
近傍で|1−b/a|の値が急激に大きくなること、従っ
て降温速度を5℃/分以下に制御することによりAlN
結晶の単位格子のa軸とb軸の長さを粒界相近傍におい
ても等しい長さに近くすることができ、その結果AlN
焼結体の熱伝導率、機械的強度を大幅に向上させ得るこ
とが判る。
施例1と同様の方法に従って焼結温度1750℃と19
00℃で各3時間焼結してそれぞれ焼結体試料を製造し
た。ただし、使用した焼結助剤とその添加量及び150
0℃までの降温速度は下記表3の通りとした。
料につき焼結温度は1750℃と1900℃の2通りと
した。
伝導率、機械的強度を測定した後、TEMによる収束電
子回折法を用いてAlN結晶の粒界相近傍におけるa軸
とb軸の長さの比b/aを10箇所測定し、その平均値
から絶対値|1−b/a|を求めた。これらの測定結果
を、焼結温度及び降温速度と共に表4に示す。
の歪みを結晶中央付近はもちろん粒界相近傍においても
無くし又は低減させ得る結果、窒化アルミニウム焼結体
の熱伝導率を大幅に向上させ且つ機械的強度を改善する
ことが出来る。拠って、本発明の窒化アルミニウム焼結
体は、半導体用の放熱板や基板材料、パッケージ材料、
レーザー管材料等として好適である。
の結晶構造を示す模式図であって、実線部分が単位格子
である。
アルミニウムの結晶構造を示す写真であり、上部はその
電子顕微鏡写真、左下部1は結晶中央付近(上部の電子
顕微鏡写真の1の部分)の収束電子回折パターン及び右
下部3は粒界相近傍(上部の電子顕微鏡写真の3の部
分)の収束電子回折パターンである。
アルミニウムの結晶構造を示す写真であり、上部はその
電子顕微鏡写真、左下部1は結晶中央付近(上部の電子
顕微鏡写真の1の部分)の収束電子回折パターン及び右
下部3は粒界相近傍(上部の電子顕微鏡写真の3の部
分)の収束電子回折パターンである。
窒化アルミニウムの結晶構造を示す写真であり、上部は
その電子顕微鏡写真、左下部1は結晶中央付近(上部の
電子顕微鏡写真の1の部分)の収束電子回折パターン及
び右下部3は粒界相近傍(上部の電子顕微鏡写真の3の
部分)の収束電子回折パターンである。
での降温速度と、焼結体中の窒化アルミニウムの結晶格
子の粒界相近傍におけるa軸とb軸の長さの比から求め
た絶対値|1−b/a|との関係を示すグラフである。
相近傍における結晶格子のa軸とb軸の長さの比から求
めた絶対値|1−b/a|と、その焼結体の熱伝導率との
関係を示すグラフである。
相近傍における結晶格子のa軸とb軸の長さの比から求
めた絶対値|1−b/a|と、その焼結体の機械的強度と
の関係を示すグラフである。
Claims (5)
- 【請求項1】 焼結体中の窒化アルミニウム結晶が、ウ
ルツ鉱型六方晶系に属する前記結晶の単位格子の3つの
稜であるa軸、b軸及びc軸のうち、a軸とb軸の長さ
の比b/aが窒化アルミニウム結晶の中央付近で1.0
00であり、且つ粒界相近傍付近で0.997〜1.00
3の範囲内にあることを特徴とする窒化アルミニウム焼
結体。 - 【請求項2】 熱伝導率が150W/mK以上であるこ
とを特徴とする請求項1記載の窒化アルミニウム焼結
体。 - 【請求項3】 機械的強度が35kg/mm2以上であ
ることを特徴とする請求項1記載の窒化アルミニウム焼
結体。 - 【請求項4】 アルミニウムと窒素を主成分とする原料
粉末の成形体を1700〜1900℃で焼結した後、少
なくとも1500℃まで5℃/分以下の速度で降温する
ことを特徴とする窒化アルミニウム焼結体の製造方法。 - 【請求項5】 原料粉末にTi、V、Co、Ca等の化
合物を添加して焼結することを特徴とする、請求項4記
載の窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
Priority Applications (5)
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|---|---|---|---|
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| DE69424821T DE69424821T2 (de) | 1993-02-05 | 1994-02-03 | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumnitrid-Sinterkörpers |
| EP94101648A EP0620203B1 (en) | 1993-02-05 | 1994-02-03 | Method of manufacturing an aluminum nitride sintered body |
| US08/406,242 US5529962A (en) | 1993-02-05 | 1995-03-14 | Aluminum nitride sintered body and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP04227093A JP3633636B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | 窒化アルミニウム焼結体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04227093A Expired - Fee Related JP3633636B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | 窒化アルミニウム焼結体 |
Country Status (4)
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|---|---|
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| EP (1) | EP0620203B1 (ja) |
| JP (1) | JP3633636B2 (ja) |
| DE (1) | DE69424821T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018034371A (ja) * | 2016-08-30 | 2018-03-08 | 京セラ株式会社 | サーマルヘッドおよびサーマルプリンタ |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6830992B1 (en) | 1990-02-28 | 2004-12-14 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Method for manufacturing a gallium nitride group compound semiconductor |
| US6362017B1 (en) | 1990-02-28 | 2002-03-26 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light-emitting semiconductor device using gallium nitride group compound |
| CA2037198C (en) | 1990-02-28 | 1996-04-23 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light-emitting semiconductor device using gallium nitride group compound |
| DE69610673T2 (de) * | 1995-08-03 | 2001-05-10 | Ngk Insulators, Ltd. | Gesinterte Aluminiumnitridkörper und ihr Herstellungsverfahren |
| RU2144010C1 (ru) * | 1998-02-20 | 2000-01-10 | Институт структурной макрокинетики и проблем материаловедения РАН | Способ получения теплопроводной керамики на основе нитрида алюминия |
| EP0970932A1 (en) * | 1998-07-10 | 2000-01-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Ceramic base material |
| WO2001017927A1 (en) * | 1999-09-06 | 2001-03-15 | Ibiden Co., Ltd. | Carbon-containing aluminium nitride sintered compact and ceramic substrate for use in equipment for manufacturing or inspecting semiconductor |
| DE69920230T2 (de) | 1999-10-28 | 2005-04-28 | Société des Produits Nestlé S.A. | Auswurfvorrichtung für Kartusche |
| US20040256811A1 (en) * | 2002-11-22 | 2004-12-23 | Proper George N. | Seal for high-pressure pumping system |
| TW200521103A (en) * | 2003-11-21 | 2005-07-01 | Toshiba Kk | High thermally conductive aluminum nitride sintered product |
| EP2581357B1 (en) * | 2010-06-08 | 2018-02-21 | Denka Company Limited | Circuit board comprising an aluminium nitride substrate and production method thereof |
| JP6262598B2 (ja) * | 2014-05-12 | 2018-01-17 | 住友電気工業株式会社 | AlN焼結体、AlN基板およびAlN基板の製造方法 |
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| US5001089A (en) * | 1985-06-28 | 1991-03-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Aluminum nitride sintered body |
| DE3608326A1 (de) * | 1986-03-13 | 1987-09-17 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Praktisch porenfreie formkoerper aus polykristallinem aluminiumnitrid und verfahren zu ihrer herstellung ohne mitverwendung von sinterhilfsmitteln |
| CA1334475C (en) * | 1986-09-04 | 1995-02-21 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | High purity aluminum nitride of controlled morphology |
| JPS63129075A (ja) * | 1986-11-18 | 1988-06-01 | 旭硝子株式会社 | 窒化アルミニウム焼結体の製造方法 |
| EP0301529B1 (en) * | 1987-07-29 | 1992-05-13 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Method for preparing aluminum nitride and its sinter |
| JPH01203270A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体及びその製造法 |
| JPH06508815A (ja) * | 1991-07-08 | 1994-10-06 | ザ・ダウ・ケミカル・カンパニー | 最小の粒子成長での窒化アルミニウム高密度化 |
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-
1995
- 1995-03-14 US US08/406,242 patent/US5529962A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
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