JPH06239028A - 光記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH06239028A JPH06239028A JP5049918A JP4991893A JPH06239028A JP H06239028 A JPH06239028 A JP H06239028A JP 5049918 A JP5049918 A JP 5049918A JP 4991893 A JP4991893 A JP 4991893A JP H06239028 A JPH06239028 A JP H06239028A
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐光性の向上した光記録媒体及びその製造方
法を提供する。 【構成】 基材上に、染料および該染料の光安定化剤を
双方ともに難溶である溶剤に分散させた分散液を塗工し
て形成した記録層を有する光記録媒体及びその製造方
法。前記分散液は、染料と光安定化剤を共存させた溶液
を前記染料と光安定化剤がそれぞれ難溶である大量の溶
剤に徐々に混合すると同時に分散調製する。
法を提供する。 【構成】 基材上に、染料および該染料の光安定化剤を
双方ともに難溶である溶剤に分散させた分散液を塗工し
て形成した記録層を有する光記録媒体及びその製造方
法。前記分散液は、染料と光安定化剤を共存させた溶液
を前記染料と光安定化剤がそれぞれ難溶である大量の溶
剤に徐々に混合すると同時に分散調製する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体およびその製
造方法に関し、特にヒートモードの追記型光記録媒体お
よびその製造方法に関する。
造方法に関し、特にヒートモードの追記型光記録媒体お
よびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光記録媒体は、媒体と書き込み及
び読み出しヘッドが非接触なので、記録媒体が磨耗・劣
化しないという特徴を有するために種々の光記録媒体の
開発研究が行われている。
び読み出しヘッドが非接触なので、記録媒体が磨耗・劣
化しないという特徴を有するために種々の光記録媒体の
開発研究が行われている。
【０００３】このような光記録媒体のうち、暗室による
画像処理が不要である等の点でヒートモード光記録媒体
の開発が活発に行なわれている。このヒートモードの光
記録媒体は、記録光を熱として利用する光記録媒体で、
その１例を示すと、レーザー等の記録光で媒体の一部を
融解または除去して、ピットと称される小穴を形成して
書き込みを行い、このピットにより情報を記録し、また
このピットを読み出し光で検出して読み出しを行うもの
である。
画像処理が不要である等の点でヒートモード光記録媒体
の開発が活発に行なわれている。このヒートモードの光
記録媒体は、記録光を熱として利用する光記録媒体で、
その１例を示すと、レーザー等の記録光で媒体の一部を
融解または除去して、ピットと称される小穴を形成して
書き込みを行い、このピットにより情報を記録し、また
このピットを読み出し光で検出して読み出しを行うもの
である。
【０００４】そして、このようなピット形成型の光記録
媒体の１例として、基板上に、光吸収色素からなる記録
層を積層し、光吸収色素を融解してピットを形成するも
のや、樹脂に色素を担持させ、色素の光熱変化で樹脂の
形状を変えて記録するもの等がある。
媒体の１例として、基板上に、光吸収色素からなる記録
層を積層し、光吸収色素を融解してピットを形成するも
のや、樹脂に色素を担持させ、色素の光熱変化で樹脂の
形状を変えて記録するもの等がある。
【０００５】ところで、記録層として光吸収色素を用い
た場合、無機材料に比べ差こそあれ、光安定性が悪いと
いう点がある。例えば、光吸収色素として、シアニン色
素，ポリメチン系色素等が一般に良く使用されている
が、光記録媒体の再生光による劣化や、日常光による劣
化等により、色素を単体で使用する場合には劣化が早く
不安定で実用に供し得ない。
た場合、無機材料に比べ差こそあれ、光安定性が悪いと
いう点がある。例えば、光吸収色素として、シアニン色
素，ポリメチン系色素等が一般に良く使用されている
が、光記録媒体の再生光による劣化や、日常光による劣
化等により、色素を単体で使用する場合には劣化が早く
不安定で実用に供し得ない。
【０００６】この対応策として、色素の耐光性を上げる
ため、色素に光安定化剤として金属キレート錯体を添加
する方法が提案されている。（特開昭５９−５５７９４
号公報、特開昭５９−７８３４１号公報、特開昭５９−
８１１９４号公報、特開昭６０−７３８９１号公報参
照）また、アミニウム・ジイモニウムに代表される赤外
線吸収剤を添加して光安定化する提案もなされている。
（特開昭６０−２３６１３１号公報）
ため、色素に光安定化剤として金属キレート錯体を添加
する方法が提案されている。（特開昭５９−５５７９４
号公報、特開昭５９−７８３４１号公報、特開昭５９−
８１１９４号公報、特開昭６０−７３８９１号公報参
照）また、アミニウム・ジイモニウムに代表される赤外
線吸収剤を添加して光安定化する提案もなされている。
（特開昭６０−２３６１３１号公報）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】これらの従来の方法に
より色素の耐光性は向上し、実用に耐えられる安定性を
得ることができるが、色素に添加する前記の金属キレー
ト錯体および赤外線吸収剤の一部は溶剤への溶解性が悪
く、また記録材料にも難溶性のものが多い。また、溶解
させる溶剤の中には、媒体基板を侵かすものもあり、溶
剤と基板の選択範囲を狭ばめる結果となっている。
より色素の耐光性は向上し、実用に耐えられる安定性を
得ることができるが、色素に添加する前記の金属キレー
ト錯体および赤外線吸収剤の一部は溶剤への溶解性が悪
く、また記録材料にも難溶性のものが多い。また、溶解
させる溶剤の中には、媒体基板を侵かすものもあり、溶
剤と基板の選択範囲を狭ばめる結果となっている。
【０００８】一方、フォトポリマーによる２Ｐ成形法に
より得られた基板は、耐溶剤性は良いものの、光カード
のように密着封止を行うと、有機記録材料の場合、感度
が低下し記録が十分に行えないため、使用に制限が生じ
るか、複雑な層構成となり、生産性の低下、コストの上
昇を招くことになる。
より得られた基板は、耐溶剤性は良いものの、光カード
のように密着封止を行うと、有機記録材料の場合、感度
が低下し記録が十分に行えないため、使用に制限が生じ
るか、複雑な層構成となり、生産性の低下、コストの上
昇を招くことになる。
【０００９】本発明は、この様な従来技術の欠点を改善
するためになされたものであり、溶剤に難溶性である染
料および光安定化剤を混合、分散させることにより、染
料および光安定化剤の溶剤への溶解性を考慮せずとも塗
工を可能にすると共に、基板に悪影響を与えずに記録層
の形成を可能し、耐光性を向上させた光記録媒体および
その光記録媒体を容易に製造する方法を提供するもので
ある。
するためになされたものであり、溶剤に難溶性である染
料および光安定化剤を混合、分散させることにより、染
料および光安定化剤の溶剤への溶解性を考慮せずとも塗
工を可能にすると共に、基板に悪影響を与えずに記録層
の形成を可能し、耐光性を向上させた光記録媒体および
その光記録媒体を容易に製造する方法を提供するもので
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、基材上
に、染料および該染料の光安定化剤を双方ともに難溶で
ある溶剤に分散させた分散液もしくは樹脂・界面活性剤
を含む分散液を塗工して形成した記録層を有することを
特徴とする光記録媒体である。
に、染料および該染料の光安定化剤を双方ともに難溶で
ある溶剤に分散させた分散液もしくは樹脂・界面活性剤
を含む分散液を塗工して形成した記録層を有することを
特徴とする光記録媒体である。
【００１１】また、本発明は、染料および該染料の光安
定化剤を双方ともに難溶である溶剤に分散させた分散液
もしくは樹脂・界面活性剤を含む分散液を、基材上に塗
工して記録層を形成することを特徴とする光記録媒体の
製造方法である。
定化剤を双方ともに難溶である溶剤に分散させた分散液
もしくは樹脂・界面活性剤を含む分散液を、基材上に塗
工して記録層を形成することを特徴とする光記録媒体の
製造方法である。
【００１２】以下、本発明を詳細に説明する。本発明
は、記録材料である染料及び光安定化剤が双方ともに難
溶である溶剤に、両者を共存して分散状態とし、この分
散液を用いて光記録媒体及びその製造方法に係るもので
ある。
は、記録材料である染料及び光安定化剤が双方ともに難
溶である溶剤に、両者を共存して分散状態とし、この分
散液を用いて光記録媒体及びその製造方法に係るもので
ある。
【００１３】本発明における光安定化剤としては、遷移
金属キレート化合物及びアミニウム・ジイモニウム化合
物が用いられる。光安定化剤として用いる遷移金属キレ
ート化合物は、下記一般式（Ｉ），（ＩＩ）または（Ｉ
ＩＩ）で示される化合物が好適である。
金属キレート化合物及びアミニウム・ジイモニウム化合
物が用いられる。光安定化剤として用いる遷移金属キレ
ート化合物は、下記一般式（Ｉ），（ＩＩ）または（Ｉ
ＩＩ）で示される化合物が好適である。
【００１４】
【化１１】
【００１５】（式中、Ｒ１ 〜Ｒ８ はそれぞれ水素原
子，ハロゲン原子，置換または未置換のアルキル基，ア
ルコキシ基，アルコキシアルキル基，アルケニル基，ア
ルキニル基またはジアルキルアミノ基を表わし、Ｒ１
〜Ｒ８ は同じでも異なっていてもよい。Ｍは遷移金属
原子を表わす、ａはイオン体の電価数を表わし、０を含
む正の整数である。Ｃａｔはカチオン体を示し、ａ＝ｂ
・ｃであり，ａ＝０のときは存在しない。）
子，ハロゲン原子，置換または未置換のアルキル基，ア
ルコキシ基，アルコキシアルキル基，アルケニル基，ア
ルキニル基またはジアルキルアミノ基を表わし、Ｒ１
〜Ｒ８ は同じでも異なっていてもよい。Ｍは遷移金属
原子を表わす、ａはイオン体の電価数を表わし、０を含
む正の整数である。Ｃａｔはカチオン体を示し、ａ＝ｂ
・ｃであり，ａ＝０のときは存在しない。）
【００１６】
【化１２】
【００１７】（式中、Ｒ９ 〜Ｒ１２はそれぞれ水素原
子，置換または未置換のアルキル基，アリール基，アル
コキシ基，アルコキシアルキル基またはフェニル基を表
わし、Ｒ９ とＲ１０、Ｒ１１とＲ１２は結合して窒素
原子を含む五員環または六員環を形成してもよい。。Ｒ
９ 〜Ｒ１２は同じでも異っていてもよい。Ｍは遷移金
属原子を表わす。Ｍが電荷を持ちカチオンと塩構造をと
っても良い。ａはイオン体の電価数を表わし、０を含む
正の整数である。Ｃａｔはカチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃ
であり、ａ＝０のとき、ｂ・ｃ＝０でＣａｔは存在せ
ず、化合物は中性体となる。）
子，置換または未置換のアルキル基，アリール基，アル
コキシ基，アルコキシアルキル基またはフェニル基を表
わし、Ｒ９ とＲ１０、Ｒ１１とＲ１２は結合して窒素
原子を含む五員環または六員環を形成してもよい。。Ｒ
９ 〜Ｒ１２は同じでも異っていてもよい。Ｍは遷移金
属原子を表わす。Ｍが電荷を持ちカチオンと塩構造をと
っても良い。ａはイオン体の電価数を表わし、０を含む
正の整数である。Ｃａｔはカチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃ
であり、ａ＝０のとき、ｂ・ｃ＝０でＣａｔは存在せ
ず、化合物は中性体となる。）
【００１８】
【化１３】
【００１９】（式中、Ｒ１３，Ｒ１４，Ｒ１５，Ｒ１６
は置換または未置換のアルキル基，アリール基，アルケ
ニル基，アルキニル基，アルコキシ基，アルコキシアル
キル基，フェニル基またはフェニレン基を表わし、Ｒ
１３とＲ１４、Ｒ１５とＲ１６が連結して環状となって
いてもよい。Ｍは遷移金属を表わす。この場合Ｍが電荷
を持ち、カチオンと塩構造をとっても良い。ａはイオン
体の電価数を表わし、０を含む正の整数である。Ｃａｔ
はカチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃ、であり、ａ＝０のと
き、ｂ・ｃ＝０でＣａｔは存在せず、化合物は中性体と
なる。）
は置換または未置換のアルキル基，アリール基，アルケ
ニル基，アルキニル基，アルコキシ基，アルコキシアル
キル基，フェニル基またはフェニレン基を表わし、Ｒ
１３とＲ１４、Ｒ１５とＲ１６が連結して環状となって
いてもよい。Ｍは遷移金属を表わす。この場合Ｍが電荷
を持ち、カチオンと塩構造をとっても良い。ａはイオン
体の電価数を表わし、０を含む正の整数である。Ｃａｔ
はカチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃ、であり、ａ＝０のと
き、ｂ・ｃ＝０でＣａｔは存在せず、化合物は中性体と
なる。）
【００２０】本発明で使用される遷移金属のキレート化
合物は、中心金属がＣｕ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｐｔ，Ｐｄの遷
移金属類が好ましい。
合物は、中心金属がＣｕ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｐｔ，Ｐｄの遷
移金属類が好ましい。
【００２１】次に、光安定化剤として使用出来るキレー
ト化合物の具体例を以下に挙げる。 １）下記式で示されるチオサリチルアルドキシム系
ト化合物の具体例を以下に挙げる。 １）下記式で示されるチオサリチルアルドキシム系
【００２２】
【化１４】
【００２３】式中、Ｒ26は水素原子，ヒドロキシル基，
アルキル基，アリール基でもう一方のＲ26と結合しても
良い。Ｒ25はアルキル基，ハロゲン原子，水素原子，ニ
トロ基又はベンゾ縮合系基を表わし、中心金属ＭはＣ
ｕ，Ｎｉ，Ｐｔ又はＰｄを表わす。
アルキル基，アリール基でもう一方のＲ26と結合しても
良い。Ｒ25はアルキル基，ハロゲン原子，水素原子，ニ
トロ基又はベンゾ縮合系基を表わし、中心金属ＭはＣ
ｕ，Ｎｉ，Ｐｔ又はＰｄを表わす。
【００２４】 具体例Ｎｏ． Ｒ25 Ｒ26 Ｍ Ｍ−１−１ ＯＨ Ｈ Ｃｕ Ｍ−１−２ ＯＨ Ｈ Ｎｉ Ｍ−１−３ Ｈ ４−Ｃ2 Ｈ5 Ｎｉ Ｍ−１−４ Ｃ2 Ｈ5 ５−Ｃｌ Ｎｉ Ｍ−１−５ ｎ−Ｃ6 Ｈ13 ４−ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−１−６ ｎ−Ｃ6 Ｈ13 ４−ＣＨ3 Ｐｄ Ｍ−１−７ Ｃ6 Ｈ5 Ｈ Ｎｉ Ｍ−１−８ Ｈ ５，６−Ｃ6 Ｈ4 Ｎｉ Ｍ−１−９ −ＣＨ2 − ４−ＮＯ2 Ｎｉ
【００２５】２）下記式で示されるサリチルアルドキシ
ム系
ム系
【００２６】
【化１５】
【００２７】式中、Ｒ27は水素原子，水酸基，アルキル
基，アリール基で、もう一方のＲ27と結合しても良い。
Ｒ28は水素原子，ハロゲン原子，アルキル基，ニトロ基
又はベンゾ縮合系基を表わし、ＭはＣｕ，Ｎｉ，Ｐｔ又
はＰｄを表わす。
基，アリール基で、もう一方のＲ27と結合しても良い。
Ｒ28は水素原子，ハロゲン原子，アルキル基，ニトロ基
又はベンゾ縮合系基を表わし、ＭはＣｕ，Ｎｉ，Ｐｔ又
はＰｄを表わす。
【００２８】 具体例Ｎｏ． Ｒ27 Ｒ28 Ｍ Ｍ−２−１ Ｈ Ｈ Ｃｕ Ｍ−２−２ ＣＨ3 Ｈ Ｎｉ Ｍ−２−３ ＯＨ ５−Ｃ2 Ｈ5 Ｃｕ Ｍ−２−４ Ｃ2 Ｈ5 ５−Ｃ2 Ｈ5 Ｎｉ Ｍ−２−５ Ｃ3 Ｈ7 ４−Ｃｌ Ｎｉ Ｍ−２−６ （ＣＨ2 ）5 ＣＨ3 ４−ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−２−７ （ＣＨ2 ）11ＣＨ3 ５，６−Ｃ6 Ｈ4 Ｎｉ Ｍ−２−８ ｉ−Ｃ3 Ｈ7 ５，６−Ｃ6 Ｈ4 Ｐｔ Ｍ−２−９ ＯＨ ４−Ｃ3 Ｈ7 Ｐｔ Ｍ−２−１０ ＯＨ Ｈ Ｐｄ Ｍ−２−１１ −ＣＨ2 − ４−ＮＯ2 Ｎｉ Ｍ−２−１２ −ＣＨ2 − ４−ＮＯ2 Ｃｕ
【００２９】３）チオアセトチオフェノン系
【００３０】
【化１６】
【００３１】式中、Ｒ29はアルキル基，アリール基、Ｒ
30は水素原子，ハロゲン原子，アルキル基，アリール
基，ニトロ基又はベンゾ縮合系基を表わし、ＭはＣｕ，
Ｎｉ，Ｐｔ又はＰｄを表わす。
30は水素原子，ハロゲン原子，アルキル基，アリール
基，ニトロ基又はベンゾ縮合系基を表わし、ＭはＣｕ，
Ｎｉ，Ｐｔ又はＰｄを表わす。
【００３２】 具体例Ｎｏ． Ｒ29 Ｒ30 Ｍ Ｍ−３−１ ＣＨ3 Ｈ Ｎｉ Ｍ−３−２ Ｃ2 Ｈ5 ４−ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−３−３ Ｃ6 Ｈ5 ４−Ｃ2 Ｈ5 Ｎｉ Ｍ−３−４ ４′−（ＣＨ3 ）2 Ｎ−Ｃ6 Ｈ4 − Ｈ Ｎｉ Ｍ−３−５ ４′−Ｃｌ−Ｃ6 Ｈ4 − ４−ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−３−６ ＣＨ3 ４−ＣＨ3 Ｐｄ Ｍ−３−７ Ｃ2 Ｈ5 ４−Ｃｌ Ｐｄ Ｍ−３−８ ＣＨ3 ４−ＮＯ2 Ｎｉ Ｍ−３−９ Ｃ6 Ｈ5 Ｃ6 Ｈ5 Ｎｉ
【００３３】４）アセトチオフェノン系
【００３４】
【化１７】
【００３５】式中、Ｒ31はアルキル基，アリール基、Ｒ
32は水素原子，ハロゲン原子，アルキル基又はベンゾ縮
合系基を表わし、ＭはＣｕ，Ｎｉ，Ｐｔ又はＰｄを表わ
す。
32は水素原子，ハロゲン原子，アルキル基又はベンゾ縮
合系基を表わし、ＭはＣｕ，Ｎｉ，Ｐｔ又はＰｄを表わ
す。
【００３６】 具体例Ｎｏ． Ｒ31 Ｒ32 Ｍ Ｍ−４−１ ＣＨ3 Ｈ Ｃｕ Ｍ−４−２ Ｃ2 Ｈ5 ４−ＣＨ3 Ｃｕ Ｍ−４−３ ＣＨ3 Ｈ Ｎｉ Ｍ−４−４ Ｃ3 Ｈ7 ４−ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−４−５ （ＣＨ2 ）5 ＣＨ3 Ｃ6 Ｈ5 Ｎｉ Ｍ−４−６ （ＣＨ2 ）7 ＣＨ3 Ｃ6 Ｈ5 Ｎｉ Ｍ−４−７ Ｃ2 Ｈ5 ５，６−Ｃ6 Ｈ4 Ｎｉ Ｍ−４−８ ＣＨ3 Ｈ Ｐｄ Ｍ−４−９ （ＣＨ2 ）5 ＣＨ3 ４−Ｃｌ Ｐｄ
【００３７】５）オキシキサンチオン系
【００３８】
【化１８】
【００３９】式中、Ｒ33は水素原子，ハロゲン原子，ア
ルキル基を表わし、ＭはＣｕ又はＮｉを表わす。
ルキル基を表わし、ＭはＣｕ又はＮｉを表わす。
【００４０】 具体例Ｎｏ． Ｒ33 Ｍ Ｍ−５−１ Ｈ Ｃｕ Ｍ−５−２ Ｈ Ｎｉ Ｍ−５−３ ４−ＣＨ3 Ｎｉ
【００４１】６）ピロメコン酸系
【００４２】
【化１９】
【００４３】式中、Ｒ34は水素原子，又はアルキル基を
表わし、ＭはＣｕ，Ｎｉを表わす。
表わし、ＭはＣｕ，Ｎｉを表わす。
【００４４】 具体例Ｎｏ． Ｒ34 Ｍ Ｍ−６−１ Ｈ Ｍｎ Ｍ−６−２ Ｈ Ｎｉ Ｍ−６−３ ２−Ｃ2 Ｈ5 Ｎｉ
【００４５】７）メルカプトベンゾアゾール系
【００４６】
【化２０】
【００４７】式中、Ｒ35はイオウ原子、置換ないし非置
換のアミノ基，酸素原子又はチオケトン基、Ｒ36は水素
原子，アルキル基，ハロゲン原子又はアミノ基を表わ
し、ＭはＺｎ，Ｃｕ又はＮｉを表わす。
換のアミノ基，酸素原子又はチオケトン基、Ｒ36は水素
原子，アルキル基，ハロゲン原子又はアミノ基を表わ
し、ＭはＺｎ，Ｃｕ又はＮｉを表わす。
【００４８】 具体例Ｎｏ． Ｒ35 Ｒ36 Ｍ Ｍ−７−１ Ｏ Ｈ Ｚｎ Ｍ−７−２ Ｏ ５−ＣＨ3 Ｚｎ Ｍ−７−３ Ｓ Ｈ Ｎｉ Ｍ−７−４ Ｓ ５−Ｃｌ Ｎｉ Ｍ−７−５ Ｓ ５−ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−７−６ Ｓ ４−ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−７−７ Ｓ ５−（ＣＨ3 ）2 Ｎ Ｎｉ Ｍ−７−８ ＮＨ Ｈ Ｎｉ Ｍ−７−９ ＮＨ ５−ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−７−１０ ＮＣＨ3 Ｈ Ｎｉ Ｍ−７−１１ ＮＨ ６−Ｃ2 Ｈ5 Ｎｉ Ｍ−７−１２ Ｃ＝Ｓ Ｈ Ｎｉ
【００４９】８）ヒドロキサム酸系
【００５０】
【化２１】
【００５１】式中、Ｒ37はアルキル基、アリール基又は
スチリル基を表わし、ＭはＣｕ又はＮｉを表わす。
スチリル基を表わし、ＭはＣｕ又はＮｉを表わす。
【００５２】 具体例Ｎｏ． Ｒ37 Ｍ Ｍ−８−１ Ｃ3 Ｈ7 Ｃｕ Ｍ−８−２ Ｃ6 Ｈ5 Ｎｉ Ｍ−８−３ Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ＝ＣＨ− Ｎｉ Ｍ−８−４ Ｃｌ−Ｃ6 Ｈ4 ＣＨ＝ＣＨ− Ｎｉ
【００５３】９）ビスシクロベンタジエン系
【００５４】
【化２２】
【００５５】式中、Ｒ38は水素原子，ハロゲン原子，ア
ルキル基，アシル基又はアリール基を表わし、ＭはＮｉ
を表わす。
ルキル基，アシル基又はアリール基を表わし、ＭはＮｉ
を表わす。
【００５６】 具体例Ｎｏ． Ｒ38 Ｍ Ｘ Ｍ−９−１ Ｈ Ｎｉ − Ｍ−９−２ ＣＨ3 ＣＯ Ｎｉ − Ｍ−９−３ Ｃｌ Ｎｉ − Ｍ−９−４ Ｃ3 Ｈ7 Ｎｉ −
【００５７】１０）ニトロソヒドロキシルアミン系
【００５８】
【化２３】
【００５９】式中、Ｒ39はアルキル基又はアリール基、
ＭはＣｕ，Ｎｉを表わす。
ＭはＣｕ，Ｎｉを表わす。
【００６０】 具体例Ｎｏ． Ｒ39 Ｍ Ｍ−１０−１ Ｃ3 Ｈ7 Ｃｕ Ｍ−１０−２ Ｃ3 Ｈ7 Ｎｉ Ｍ−１０−３ ｐ−（ＣＨ3 ）2 Ｎ−Ｃ6 Ｈ4 − Ｃｕ Ｍ−１０−４ ｐ−（ＣＨ3 ）2 Ｎ−Ｃ6 Ｈ4 − Ｎｉ
【００６１】１１）ジオキシム系
【００６２】
【化２４】
【００６３】式中、Ｒ40，Ｒ41はアルキル基又はアリー
ル基、ＭはＮｉを表わす。
ル基、ＭはＮｉを表わす。
【００６４】 具体例Ｎｏ． Ｒ40 Ｒ41 Ｍ Ｍ−１１−１ ＣＨ3 ＣＨ3 Ｎｉ Ｍ−１１−２ Ｃ2 Ｈ5 Ｃ2 Ｈ5 Ｎｉ Ｍ−１１−３ Ｃ6 Ｈ5 Ｃ6 Ｈ5 Ｎｉ
【００６５】１２）グリオキシム系
【００６６】
【化２５】
【００６７】式中、Ｒ42，Ｒ43はアルキル基，アミノ
基，アリール基又はフラン基，又はＲ42とＲ43で脂環式
化合物を形成しても良い。ＭはＮｉを表わす。
基，アリール基又はフラン基，又はＲ42とＲ43で脂環式
化合物を形成しても良い。ＭはＮｉを表わす。
【００６８】 具体例Ｎｏ． Ｒ42 Ｒ43 Ｍ−１２−１ ＮＨ2 ＮＨ2 Ｍ−１２−２ Ｃ6 Ｈ5 Ｃ6 Ｈ5
【００６９】
【化２６】 Ｍ−１２−４ −ＣＨ2 ＣＨ− −ＣＨ2 ＣＨ− （Ｒ42とＲ43は結合して環を形成） Ｍ−１２−５ ＣＨ3 ＣＨ3 Ｍ−１２−６ Ｃ2 Ｈ5 Ｃ2 Ｈ5
【００７０】１３）下記式で示される化合物
【００７１】
【化２７】
【００７２】式中、Ｒ44，Ｒ45は水素原子，ハロゲン原
子又はアルキル基を表わし、Ｘは酸素原子又は硫黄原
子、ＭはＮｉを表わす。
子又はアルキル基を表わし、Ｘは酸素原子又は硫黄原
子、ＭはＮｉを表わす。
【００７３】 具体例Ｎｏ． Ｒ44 Ｒ45 Ｘ Ｍ−１３−１ Ｈ Ｈ Ｏ Ｍ−１３−２ ５−ＣＨ3 ｍ−ＣＨ3 Ｏ Ｍ−１３−３ ４−ＣＨ3 ｍ−ＣＨ3 Ｏ Ｍ−１３−４ ５−Ｃｌ ｐ−Ｃｌ Ｏ Ｍ−１３−５ Ｈ Ｈ Ｓ Ｍ−１３−６ ５−ＣＨ3 ｍ−ＣＨ3 Ｓ Ｍ−１３−７ ４−ＣＨ3 ｍ−Ｃ2 Ｈ5 Ｓ Ｍ−１３−８ ５−Ｃｌ ｐ−Ｃ2 Ｈ5 Ｓ
【００７４】１４）下記式で示される化合物
【００７５】
【化２８】
【００７６】式中、Ｒ46，Ｒ47は水素原子，アルキル
基，ハロゲン原子又はニトロ基，Ｘは酸素原子又は硫黄
原子、ＭはＮｉ、Ｙ- は４級アンモニウムカチオンを表
わす。
基，ハロゲン原子又はニトロ基，Ｘは酸素原子又は硫黄
原子、ＭはＮｉ、Ｙ- は４級アンモニウムカチオンを表
わす。
【００７７】 具体例Ｎｏ． Ｒ46 Ｒ47 Ｘ Ｍ−１４−１ ３−ＣＨ3 Ｈ Ｏ Ｍ−１４−２ ３−Ｃｌ ４−ＣＨ3 Ｏ Ｍ−１４−３ ４−ＮＯ2 ４−ＣＨ3 Ｏ Ｍ−１４−４ Ｈ ４−ＣＨ3 Ｓ Ｍ−１４−５ ３−ＮＯ2 ４−Ｃ2 Ｈ5 Ｓ
【００７８】１５）アントラニル酸系
【００７９】
【化２９】
【００８０】式中、Ｒ48は水素原子，ハロゲン原子，ア
ルキル基，アシル基，ニトロ基又はアルコキシ基、Ｍは
Ｎｉ又はＣｕを表わす。
ルキル基，アシル基，ニトロ基又はアルコキシ基、Ｍは
Ｎｉ又はＣｕを表わす。
【００８１】 具体例Ｎｏ． Ｒ48 Ｍ Ｍ−１５−１ Ｈ Ｃｕ Ｍ−１５−２ ４−Ｃｌ Ｎｉ Ｍ−１５−３ ４−ＮＯ2 Ｎｉ Ｍ−１５−４ ５−ＣＨ3 Ｎｉ
【００８２】以上の遷移金属キレート錯体の他、より好
適な例として下記の一般式（Ｉ），（ＩＩ）または（Ｉ
ＩＩ）で示される化合物が挙げられる。
適な例として下記の一般式（Ｉ），（ＩＩ）または（Ｉ
ＩＩ）で示される化合物が挙げられる。
【００８３】
【化３０】
【００８４】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1 〜Ｒ8 は
それぞれ水素原子，ハロゲン原子，置換または未置換の
アルキル基，アルコキシ基，アルコキシアルキル基，ア
ルケニル基，アルキニル基またはジアルキルアミノ基を
表わし、Ｒ1 〜Ｒ8 は同じでも異なっていてもよい。Ｍ
は遷移金属原子を表わす、ａはイオン体の電価数を表わ
し、０を含む正の整数である。Ｃａｔはカチオン体を示
し、ａ＝ｂ・ｃであり，ａ＝０のときは存在しない。
それぞれ水素原子，ハロゲン原子，置換または未置換の
アルキル基，アルコキシ基，アルコキシアルキル基，ア
ルケニル基，アルキニル基またはジアルキルアミノ基を
表わし、Ｒ1 〜Ｒ8 は同じでも異なっていてもよい。Ｍ
は遷移金属原子を表わす、ａはイオン体の電価数を表わ
し、０を含む正の整数である。Ｃａｔはカチオン体を示
し、ａ＝ｂ・ｃであり，ａ＝０のときは存在しない。
【００８５】一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例を
下記の表１，２に示す。
下記の表１，２に示す。
【００８６】
【表１】
【００８７】
【表２】
【００８８】
【化３１】
【００８９】上記、一般式（ＩＩ）において、Ｒ9 〜Ｒ
12はそれぞれ水素原子，置換または未置換のアルキル
基，アリール基，アルコキシ基，アルコキシ基，アルコ
キシアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒ9 と
Ｒ10、Ｒ11とＲ12は結合して窒素原子を含む五員環また
は六員環を形成してもよい。。Ｒ9 〜Ｒ12は同じでも異
っていてもよい。Ｍは遷移金属原子を表わす。Ｍが電荷
を持ちカチオンと塩構造をとっても良い。ａはイオン体
の電価数を表わし、０を含む正の整数である。Ｃａｔは
カチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃであり、ａ＝０のとき、ｂ
・ｃ＝０であり、Ｃａｔは存在せず、化合物は中性体と
なる。ＭはＮｉ，Ｃｕ，Ｐｄ，Ｐｔが好ましい。
12はそれぞれ水素原子，置換または未置換のアルキル
基，アリール基，アルコキシ基，アルコキシ基，アルコ
キシアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒ9 と
Ｒ10、Ｒ11とＲ12は結合して窒素原子を含む五員環また
は六員環を形成してもよい。。Ｒ9 〜Ｒ12は同じでも異
っていてもよい。Ｍは遷移金属原子を表わす。Ｍが電荷
を持ちカチオンと塩構造をとっても良い。ａはイオン体
の電価数を表わし、０を含む正の整数である。Ｃａｔは
カチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃであり、ａ＝０のとき、ｂ
・ｃ＝０であり、Ｃａｔは存在せず、化合物は中性体と
なる。ＭはＮｉ，Ｃｕ，Ｐｄ，Ｐｔが好ましい。
【００９０】一般式（ＩＩ）で示される化合物の具体例
を下記に示す。
を下記に示す。
【００９１】 具体例Ｎｏ． Ｍ Ｒ9 ，Ｒ10 Ｒ11，Ｒ12 Ｍ−１７−１ Ｎｉ ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ｎ−Ｃ4 Ｈ9
【００９２】
【化３２】
【００９３】上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ13，Ｒ
14，Ｒ15，Ｒ16は置換または未置換のアルキル基，アリ
ール基，アルケニル基，アルキニル基，アルコキシ基，
アルコキシアルキル基，フェニル基またはフェニレン基
を表わし、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16が連結して環状とな
っていてもよい。Ｍは遷移金属を表わす。この場合Ｍが
電荷を持ち、カチオンと塩構造をとっても良い。ａはイ
オン体の電価数を表わし、０を含む正の整数である。Ｃ
ａｔはカチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃ、であり、ａ＝０の
ときは、ｂ・ｃ＝０であり、Ｃａｔは存在せず、化合物
は中性体となる。
14，Ｒ15，Ｒ16は置換または未置換のアルキル基，アリ
ール基，アルケニル基，アルキニル基，アルコキシ基，
アルコキシアルキル基，フェニル基またはフェニレン基
を表わし、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16が連結して環状とな
っていてもよい。Ｍは遷移金属を表わす。この場合Ｍが
電荷を持ち、カチオンと塩構造をとっても良い。ａはイ
オン体の電価数を表わし、０を含む正の整数である。Ｃ
ａｔはカチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃ、であり、ａ＝０の
ときは、ｂ・ｃ＝０であり、Ｃａｔは存在せず、化合物
は中性体となる。
【００９４】一般式（ＩＩＩ）で示される化合物の具体
例を下記の表３に示す。表中において、ｐｈはフェニル
基、φはフェニレン基などの置換フェニル基を示す。
例を下記の表３に示す。表中において、ｐｈはフェニル
基、φはフェニレン基などの置換フェニル基を示す。
【００９５】
【表３】
【００９６】上記の一般式（Ｉ），（ＩＩ）または（Ｉ
ＩＩ）で示される遷移金属キレート化合物において、遷
移金属は白金，パラジウム，銅，亜鉛またはニッケルが
好ましい。
ＩＩ）で示される遷移金属キレート化合物において、遷
移金属は白金，パラジウム，銅，亜鉛またはニッケルが
好ましい。
【００９７】本発明においては、上記のような遷移金属
キレート化合物と染料を組み合わせることにより反射率
をあげることが出来、耐光性を向上させることが出来る
とともに、高いＣ／Ｎ値を得ることが出来る。このよう
な金属キレート化合物は記録層を形成する記録材料全量
に対し１〜６０重量％程度、好ましくは５〜４０重量
％、さらに好ましくは１０〜３０重量％含有されること
が望ましい。
キレート化合物と染料を組み合わせることにより反射率
をあげることが出来、耐光性を向上させることが出来る
とともに、高いＣ／Ｎ値を得ることが出来る。このよう
な金属キレート化合物は記録層を形成する記録材料全量
に対し１〜６０重量％程度、好ましくは５〜４０重量
％、さらに好ましくは１０〜３０重量％含有されること
が望ましい。
【００９８】次に、本発明における光安定化剤として用
いられるアミニウム・ジイモニウム化合物としては、下
記一般式（ＩＶ），（Ｖ）で示される化合物が好まし
い。
いられるアミニウム・ジイモニウム化合物としては、下
記一般式（ＩＶ），（Ｖ）で示される化合物が好まし
い。
【００９９】
【化３３】
【０１００】（式中、Ａは
【０１０１】
【化３４】
【０１０２】を示し、アルキル基、ハロゲン、アルコキ
シ基で置換されていてもよい。Ｘ−は陰イオンを示す。
Ｒ１７からＲ２４は炭素原子数１〜８の置換基であり、
少なくとも一つがアルコキシアルキル基、アルケニル基
あるいはアルキニル基であっても良く、Ｒ１７と
Ｒ１８，Ｒ１９とＲ２０，Ｒ２１とＲ２２，Ｒ２３とＲ
２４の組合せで少なくとも１組がＮとともに置換もしく
は未置換のピロリジン環、置換もしくは未置換のピペリ
ジン環、置換もしくは未置換のモルホリン環、置換もし
くは未置換のテトラヒドロピリジン環、または置換もし
くは未置換のシクロヘキシルアミン環を形成していても
良い。）
シ基で置換されていてもよい。Ｘ−は陰イオンを示す。
Ｒ１７からＲ２４は炭素原子数１〜８の置換基であり、
少なくとも一つがアルコキシアルキル基、アルケニル基
あるいはアルキニル基であっても良く、Ｒ１７と
Ｒ１８，Ｒ１９とＲ２０，Ｒ２１とＲ２２，Ｒ２３とＲ
２４の組合せで少なくとも１組がＮとともに置換もしく
は未置換のピロリジン環、置換もしくは未置換のピペリ
ジン環、置換もしくは未置換のモルホリン環、置換もし
くは未置換のテトラヒドロピリジン環、または置換もし
くは未置換のシクロヘキシルアミン環を形成していても
良い。）
【０１０３】一般式（ＩＶ），（Ｖ）で示される化合物
の具体例を下記の表４〜６に示す。
の具体例を下記の表４〜６に示す。
【０１０４】
【表４】
【０１０５】
【表５】
【０１０６】
【表６】
【０１０７】一般式（ＩＶ），（Ｖ）において、アルコ
キシアルキル基としては、例えば、メトキシメチル，２
−メトキシエチル，３−メトキシプロピル，２−メトキ
シプロピル，４−メトキシブチル，３−メトキシブチ
ル，２−メトキシブチル，５−メトキシペンチル，４−
メトキシペンチル，３−メトキシペンチル，２−メトキ
シペンチル，６−メトキシヘキシル，エトキシメチル，
２−エトキシエチル，３−エトキシプロピル，２−エト
キシプロピル，４−エトキシブチル，３−エトキシブチ
ル，５−エトキシペンチル，４−エトキシペンチル，６
−エトキシヘキシル，プロポキシメチル，２−プロポキ
シエチル，３−プロポキシプロピル，４−プロポキシブ
チル，５−プロポキシペンチルなどの直鎖あるいは分岐
状アルコキシアルキル基である。
キシアルキル基としては、例えば、メトキシメチル，２
−メトキシエチル，３−メトキシプロピル，２−メトキ
シプロピル，４−メトキシブチル，３−メトキシブチ
ル，２−メトキシブチル，５−メトキシペンチル，４−
メトキシペンチル，３−メトキシペンチル，２−メトキ
シペンチル，６−メトキシヘキシル，エトキシメチル，
２−エトキシエチル，３−エトキシプロピル，２−エト
キシプロピル，４−エトキシブチル，３−エトキシブチ
ル，５−エトキシペンチル，４−エトキシペンチル，６
−エトキシヘキシル，プロポキシメチル，２−プロポキ
シエチル，３−プロポキシプロピル，４−プロポキシブ
チル，５−プロポキシペンチルなどの直鎖あるいは分岐
状アルコキシアルキル基である。
【０１０８】アルケニル基としては、アリル，ブテニ
ル，ペンテニル，ヘキセニル，ヘプテニル，オクテニ
ル，メタクリル，ペンタジエニル，ヘキサジエニルなど
の直鎖あるいは分岐状アルケニル基である。
ル，ペンテニル，ヘキセニル，ヘプテニル，オクテニ
ル，メタクリル，ペンタジエニル，ヘキサジエニルなど
の直鎖あるいは分岐状アルケニル基である。
【０１０９】アルキニル基としては、プロパギル，３−
ブチニル，４−ペンチニル，５−ヘキシニルなどであ
る。
ブチニル，４−ペンチニル，５−ヘキシニルなどであ
る。
【０１１０】Ｘ− は、塩素イオン，臭素イオン，ヨウ
素イオン，過塩素酸塩イオン，硝酸塩イオン，ベンゼン
スルホン酸塩イオン，ｐ−トルエンスルホン酸塩イオ
ン，メチル硫酸塩イオン，エチル硫酸塩イオン，プロピ
ル硫酸塩イオン，テトラフルオロホウ酸塩イオン，テト
ラフエニルホウ酸塩イオン，ヘキサフルオロリン酸塩イ
オン，ベンゼンスルフイン塩酸イオン，酢酸塩イオン，
トリフルオロ酢塩イオン，プロピオン酢酸塩イオン，安
息香酸塩イオン，シユウ酸塩イオン，コハク酸塩イオ
ン，マロン酸塩イオン，オレイン酸塩イオン，ステアリ
ン酸塩イオン，クエン酸塩イオン，一水素二リン酸塩イ
オン，二水素一リン酸塩イオン，ペンタクロロスズ酸塩
イオン，クロロスルホン酸塩イオン，フルオロスルホン
酸塩イオン，トリフルオロメタンスルホン酸塩イオン，
ヘキサフルオロヒ酸塩イオン，ヘキサフルオロアンチモ
ン酸塩イオン，モリブテン酸塩イオン，タングステン酸
塩イオン，チタン酸塩イオン，ジルコン酸塩イオンなど
の陰イオンを表わす。
素イオン，過塩素酸塩イオン，硝酸塩イオン，ベンゼン
スルホン酸塩イオン，ｐ−トルエンスルホン酸塩イオ
ン，メチル硫酸塩イオン，エチル硫酸塩イオン，プロピ
ル硫酸塩イオン，テトラフルオロホウ酸塩イオン，テト
ラフエニルホウ酸塩イオン，ヘキサフルオロリン酸塩イ
オン，ベンゼンスルフイン塩酸イオン，酢酸塩イオン，
トリフルオロ酢塩イオン，プロピオン酢酸塩イオン，安
息香酸塩イオン，シユウ酸塩イオン，コハク酸塩イオ
ン，マロン酸塩イオン，オレイン酸塩イオン，ステアリ
ン酸塩イオン，クエン酸塩イオン，一水素二リン酸塩イ
オン，二水素一リン酸塩イオン，ペンタクロロスズ酸塩
イオン，クロロスルホン酸塩イオン，フルオロスルホン
酸塩イオン，トリフルオロメタンスルホン酸塩イオン，
ヘキサフルオロヒ酸塩イオン，ヘキサフルオロアンチモ
ン酸塩イオン，モリブテン酸塩イオン，タングステン酸
塩イオン，チタン酸塩イオン，ジルコン酸塩イオンなど
の陰イオンを表わす。
【０１１１】また、光安定化剤として既知のＮｉ錯体イ
オンを陰イオンとしても用いてもよい。
オンを陰イオンとしても用いてもよい。
【０１１２】次に、本発明の光記録媒体の記録層を形成
する記録材料である染料は、７００〜９００ｎｍの近赤
外領域の光に吸収を持つ色素が、半導体レーザの利用が
可能となるので好ましい。より具体的には、下記に示す
色素が挙げられる。
する記録材料である染料は、７００〜９００ｎｍの近赤
外領域の光に吸収を持つ色素が、半導体レーザの利用が
可能となるので好ましい。より具体的には、下記に示す
色素が挙げられる。
【０１１３】１）ポリメチン系色素
【０１１４】
【化３５】
【０１１５】
【化３６】
【０１１６】上記式中のＲ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，
Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17，Ｒ18およびＲ19は水素原子，ハロゲ
ン原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしく
は未置換のアリール基、置換もしくは未置換のスチリル
基、または置換もしくは未置換の複数環基を示す。但
し、Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13およびＲ14の少なくとも１つはジ
アルキルアミノ置換アリール基である。ｍ1 は０または
１であり、ｎ1 は０，１または２である。
Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17，Ｒ18およびＲ19は水素原子，ハロゲ
ン原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしく
は未置換のアリール基、置換もしくは未置換のスチリル
基、または置換もしくは未置換の複数環基を示す。但
し、Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13およびＲ14の少なくとも１つはジ
アルキルアミノ置換アリール基である。ｍ1 は０または
１であり、ｎ1 は０，１または２である。
【０１１７】Ａ，Ｂ，ＤおよびＥは、水素原子，ハロゲ
ン原子，置換または未置換のアルキル基，アルケニル
基，置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアリール基を示す。但し、Ａ，Ｂ，ＤおよびＥの少
なくとも１つはジアルキルアミノ置換アリール基であ
る。Ｒ21，Ｒ22，Ｒ23，Ｒ24およびＲ25は、水素原子，
ハロゲン原子、またはアルキル基を示す。ｍ2 ，ｎ2 は
０，１または２である。Ｙは５員環または、６員環を完
成するに必要な原子群を有する２価の残基を示す。
ン原子，置換または未置換のアルキル基，アルケニル
基，置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアリール基を示す。但し、Ａ，Ｂ，ＤおよびＥの少
なくとも１つはジアルキルアミノ置換アリール基であ
る。Ｒ21，Ｒ22，Ｒ23，Ｒ24およびＲ25は、水素原子，
ハロゲン原子、またはアルキル基を示す。ｍ2 ，ｎ2 は
０，１または２である。Ｙは５員環または、６員環を完
成するに必要な原子群を有する２価の残基を示す。
【０１１８】
【化３７】
【０１１９】２）シアニン系色素
【０１２０】
【化３８】
【０１２１】Ｒ1 およびＲ2 は、置換もしくは未置換の
アルキル基、置換もしくは未置換のアラルキル基又はア
ルケニル基を示す。Ｚ1 およびＺ2 は、置換もしくは未
置換の複数環を完成するに必要な原子群を示す。Ｚ3
は、置換もしくは未置換の５員環又は６員環を完成する
に必要な原子群を示し、又前記５員環もしくは６員環は
芳香族環と縮合していてもよい。Ｒ3 は、水素原子又は
ハロゲン原子を示す。Ｒ4 およびＲ5 は、水素原子，ハ
ロゲン原子，ヒドロキシ基，カルボキシル基，アルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基又はアシルオキシ
基を示す。Ｘ- は、酸アニオンを示す。ｌ，ｍおよびｎ
は、０又は１である。
アルキル基、置換もしくは未置換のアラルキル基又はア
ルケニル基を示す。Ｚ1 およびＺ2 は、置換もしくは未
置換の複数環を完成するに必要な原子群を示す。Ｚ3
は、置換もしくは未置換の５員環又は６員環を完成する
に必要な原子群を示し、又前記５員環もしくは６員環は
芳香族環と縮合していてもよい。Ｒ3 は、水素原子又は
ハロゲン原子を示す。Ｒ4 およびＲ5 は、水素原子，ハ
ロゲン原子，ヒドロキシ基，カルボキシル基，アルキル
基、置換もしくは未置換のアリール基又はアシルオキシ
基を示す。Ｘ- は、酸アニオンを示す。ｌ，ｍおよびｎ
は、０又は１である。
【０１２２】３）フタロシアニン／ナフタロシアニン系
色素
色素
【０１２３】
【化３９】
【０１２４】式中、Ｍは金属、金属の酸化合物または金
属のハロゲン化物を表わし、Ｌ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 及びＬ4
は無置換又は１つ以上の一価の置換基−Ｚを有するベン
ゼン環，ナフタレン環，アントラセン環又は含窒素複素
環を表わす。
属のハロゲン化物を表わし、Ｌ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 及びＬ4
は無置換又は１つ以上の一価の置換基−Ｚを有するベン
ゼン環，ナフタレン環，アントラセン環又は含窒素複素
環を表わす。
【０１２５】Ｙは有機置換基を表わし、ｎは１又は２の
整数を表わす。ただし、−Ｚは以下の置換基からなる群
より選択される。ニトロ基，シアノ基，スルホン酸基，
−Ｒ1 ，−ＯＲ2 ，−ＳｉＲ3 Ｒ4 Ｒ5，−ＳＲ6 ，−
ＣＯＲ7 ，−ＣＯＯＲ8 ， −ＣＯＮＨＲ9 ， −ＮＲ
10，Ｒ11，−Ｒ12ＯＲ13，−Ｒ14Ｘ，−ＳＯ2 ＮＲ15Ｒ
16，−ＮＨＣＯＲ17，−Ｎ＝ＮＲ18，−Ｎ＝ＣＨＲ19
整数を表わす。ただし、−Ｚは以下の置換基からなる群
より選択される。ニトロ基，シアノ基，スルホン酸基，
−Ｒ1 ，−ＯＲ2 ，−ＳｉＲ3 Ｒ4 Ｒ5，−ＳＲ6 ，−
ＣＯＲ7 ，−ＣＯＯＲ8 ， −ＣＯＮＨＲ9 ， −ＮＲ
10，Ｒ11，−Ｒ12ＯＲ13，−Ｒ14Ｘ，−ＳＯ2 ＮＲ15Ｒ
16，−ＮＨＣＯＲ17，−Ｎ＝ＮＲ18，−Ｎ＝ＣＨＲ19
【０１２６】（式中、Ｒ1 〜Ｒ19は水素原子、置換又は
未置換のアルキル基，アリール基、複素環残基，アシル
基，シクロアルキル基またはポリエーテル基を表わす。
Ｘはハロゲン原子を表わす。）
未置換のアルキル基，アリール基、複素環残基，アシル
基，シクロアルキル基またはポリエーテル基を表わす。
Ｘはハロゲン原子を表わす。）
【０１２７】４）アズレン系色素
【０１２８】
【化４０】
【０１２９】但し、一般式〔４−１〕，〔４−２〕およ
び〔４−３〕において、Ｒ1 ，Ｒ2，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ
5 ，Ｒ6 およびＲ7 は水素原子，ハロゲン原子又は１価
の有機残基を表わし、又Ｒ1 とＲ2 ，Ｒ3 とＲ4 ，Ｒ4
とＲ5 ，Ｒ5 とＲ6 およびＲ6とＲ7 の組合せのうち、
少なくとも１つの組合せで置換又は未置換の芳香族環を
形成してもよい。Ａは、２重結合によって結合した２価
の有機残基を表わす。Ｚ- はアニオン残基を表わす。な
お、アズレン環を構成する少くとも１つの炭素原子が窒
素原子で置き換えられてアザアズレン環となっていても
よい。
び〔４−３〕において、Ｒ1 ，Ｒ2，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ
5 ，Ｒ6 およびＲ7 は水素原子，ハロゲン原子又は１価
の有機残基を表わし、又Ｒ1 とＲ2 ，Ｒ3 とＲ4 ，Ｒ4
とＲ5 ，Ｒ5 とＲ6 およびＲ6とＲ7 の組合せのうち、
少なくとも１つの組合せで置換又は未置換の芳香族環を
形成してもよい。Ａは、２重結合によって結合した２価
の有機残基を表わす。Ｚ- はアニオン残基を表わす。な
お、アズレン環を構成する少くとも１つの炭素原子が窒
素原子で置き換えられてアザアズレン環となっていても
よい。
【０１３０】５）ピリリウム系色素
【０１３１】
【化４１】
【０１３２】Ｘ1 およびＸ2 ：硫黄原子，酸素原子又は
セレン原子を示す。 Ｚ1 ：置換されてもよいピリリウム，チオピリリウム，
セレナピリリウム，ベンゾピリリウム，ベンゾチオピリ
リウム，ベンゾセレナピリリウム，ナフトピリリウム，
ナフトチオピリリウム又はナフトセレナピリリウムを完
成する必要な原子群からなる炭化水素基を示す。 Ｚ2 ：置換されてもよいピラン，チオピラン，セレナピ
ラン，ベンゾピラン，ベンゾチオピラン，ベンゾセレナ
ピラン，ナフトピラン，ナフトチオピラン又はナフトセ
レナピランを完成するに必要な原子群からなる炭化水素
基を示す。
セレン原子を示す。 Ｚ1 ：置換されてもよいピリリウム，チオピリリウム，
セレナピリリウム，ベンゾピリリウム，ベンゾチオピリ
リウム，ベンゾセレナピリリウム，ナフトピリリウム，
ナフトチオピリリウム又はナフトセレナピリリウムを完
成する必要な原子群からなる炭化水素基を示す。 Ｚ2 ：置換されてもよいピラン，チオピラン，セレナピ
ラン，ベンゾピラン，ベンゾチオピラン，ベンゾセレナ
ピラン，ナフトピラン，ナフトチオピラン又はナフトセ
レナピランを完成するに必要な原子群からなる炭化水素
基を示す。
【０１３３】Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 およびＲ4 ：水素原子，
置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置
換のアリール基を示す。 Ｒ5 ，Ｒ6 およびＲ7 ：水素原子，ハロゲン原子，置換
もしくは未置換のアルキル基，置換もしくは未置換のア
リール基又は置換もしくは未置換のアラルキル基を示
す。 ｍおよびＬ：１又は２を示す。 ｎ：０，１又は２を示す。但し、ｎが２の時、Ｒ5 はそ
れぞれ同一であってもよく又異なっていてもよい、また
Ｒ4 はそれぞれ同一であってもよく、又異なっていても
よい。 Ａ- ：陰イオンを示す。
置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置
換のアリール基を示す。 Ｒ5 ，Ｒ6 およびＲ7 ：水素原子，ハロゲン原子，置換
もしくは未置換のアルキル基，置換もしくは未置換のア
リール基又は置換もしくは未置換のアラルキル基を示
す。 ｍおよびＬ：１又は２を示す。 ｎ：０，１又は２を示す。但し、ｎが２の時、Ｒ5 はそ
れぞれ同一であってもよく又異なっていてもよい、また
Ｒ4 はそれぞれ同一であってもよく、又異なっていても
よい。 Ａ- ：陰イオンを示す。
【０１３４】６）ナフトキノン／アントラキノン系色素
【０１３５】
【化４２】 （ただし、Ｒは水素原子，アルキル基，アリル基，アミ
ノ基または置換アミノ基を示す。）
ノ基または置換アミノ基を示す。）
【０１３６】
【化４３】 （ただし、Ｒは水素原子，アルキル基，アリル基，アミ
ノ基または置換アミノ基を示す。）
ノ基または置換アミノ基を示す。）
【０１３７】
【化４４】 （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基を示す。）
ノ基または置換アミノ基を示す。）
【０１３８】
【化４５】 （ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０〜１０の整
数である）
数である）
【０１３９】
【化４６】 （ただし、Ｘはハロゲン原子である）
【０１４０】
【化４７】 などを挙げることができる。
【０１４１】７）インドフェノール系色素
【０１４２】
【化４８】
【０１４３】（ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原
子、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基または
ハロゲン原子であり、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 はそれぞれ
水素原子、Ｃ1 〜Ｃ20の置換または未置換のアルキル
基、アリール基、複素環またはシクロヘキシル基であ
り、Ａは−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−である。）
子、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基または
ハロゲン原子であり、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 はそれぞれ
水素原子、Ｃ1 〜Ｃ20の置換または未置換のアルキル
基、アリール基、複素環またはシクロヘキシル基であ
り、Ａは−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−である。）
【０１４４】本発明では、上記の色素を含有する分散溶
液を用いて塗工によって記録層を形成する。そのため分
散溶液に用いる溶剤は、塗工に適したものを用いる。ま
た、溶剤は、染料および光安定化剤を分散させるもので
あり、塗布する基板や、他の材料を劣化させることのな
いことが要求される。用いる溶剤はこれらの条件が満足
されれば良く、例えばメタノール，エタノール，イソプ
ロピルアルコール，セルソルブ，ジアセトンアルコー
ル，イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセ
トン，メチルエチルケトン，シクロヘキサノンなどのケ
トン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシ
ドなどのスルホキシド類、テトラヒドロフラン，ジオキ
サン，エチレングリコール，モノメチルエーテルなどの
エーテル類、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸ブチルなど
のエステル類、クロロホルム，塩化メチレン，ジクロル
エチレン，四塩化炭素，トリクロルエチレンなどの脂肪
族ハロゲン化炭化水素類、あるいはベンゼン，トルエ
ン，キシレン，モノクロルベンゼン，ジクロルベンゼ
ン，アニソールなどの芳香族類、またフッ素系アルコー
ル等の含フッ素溶剤などを用いることができる。但し、
ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタアクリレー
ト（ＰＭＭＡ）では、ハロゲン系，芳香族系，ケトン系
の溶剤などは使用に注意が必要である。
液を用いて塗工によって記録層を形成する。そのため分
散溶液に用いる溶剤は、塗工に適したものを用いる。ま
た、溶剤は、染料および光安定化剤を分散させるもので
あり、塗布する基板や、他の材料を劣化させることのな
いことが要求される。用いる溶剤はこれらの条件が満足
されれば良く、例えばメタノール，エタノール，イソプ
ロピルアルコール，セルソルブ，ジアセトンアルコー
ル，イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセ
トン，メチルエチルケトン，シクロヘキサノンなどのケ
トン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシ
ドなどのスルホキシド類、テトラヒドロフラン，ジオキ
サン，エチレングリコール，モノメチルエーテルなどの
エーテル類、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸ブチルなど
のエステル類、クロロホルム，塩化メチレン，ジクロル
エチレン，四塩化炭素，トリクロルエチレンなどの脂肪
族ハロゲン化炭化水素類、あるいはベンゼン，トルエ
ン，キシレン，モノクロルベンゼン，ジクロルベンゼ
ン，アニソールなどの芳香族類、またフッ素系アルコー
ル等の含フッ素溶剤などを用いることができる。但し、
ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタアクリレー
ト（ＰＭＭＡ）では、ハロゲン系，芳香族系，ケトン系
の溶剤などは使用に注意が必要である。
【０１４５】塗工は、浸漬コーティング法，スプレーコ
ーティング法，スピンナーコーティング法，ビードコー
ティング法，ワイヤーバーコーティング法，ナイフコー
ティング法，ブレードコーティング法，ローラーコーテ
ィング法，カーテンコーティング法などのコーティング
法を用いて行なうことができる。
ーティング法，スピンナーコーティング法，ビードコー
ティング法，ワイヤーバーコーティング法，ナイフコー
ティング法，ブレードコーティング法，ローラーコーテ
ィング法，カーテンコーティング法などのコーティング
法を用いて行なうことができる。
【０１４６】これらの方法で形成される記録層の膜厚は
通常５ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍ
が望ましい。
通常５ｎｍ〜１００μｍ、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍ
が望ましい。
【０１４７】記録層を形成する基板の材質には、特に制
限はなく、各種樹脂，ガラス，セラミックス，金属等い
ずれであっても良いが、好ましくは記録光及び再生光に
対しては透明の方が良い。
限はなく、各種樹脂，ガラス，セラミックス，金属等い
ずれであっても良いが、好ましくは記録光及び再生光に
対しては透明の方が良い。
【０１４８】また、形状は使用用途に応じて任意の形状
のもを用いることができ、例えばテープ，ドラム，ベル
ト等、ディスクやカード状が挙げられるがこれらに制限
されるものではない。なお、基板は、通常トラッキング
用の溝を有し、必要に応じて蓄熱層や光吸収層，反射層
を設けても良い。
のもを用いることができ、例えばテープ，ドラム，ベル
ト等、ディスクやカード状が挙げられるがこれらに制限
されるものではない。なお、基板は、通常トラッキング
用の溝を有し、必要に応じて蓄熱層や光吸収層，反射層
を設けても良い。
【０１４９】基板用の樹脂材質としては、ポリメチルメ
タアクリレート（以下、ＰＭＭＡと記す），アクリル樹
脂，エポキシ樹脂，ポリカーボネート樹脂（以下、ＰＣ
と記す），ポリサルフォン樹脂，ポリエーテルサルフォ
ン，メチルペンテンポリマー等の溝付き乃至溝なし基板
が好適である。溝形成のために、紫外線硬化樹脂、電子
線硬化樹脂等により、上記樹脂上に溝の形成を行い、基
板に用いても良い。
タアクリレート（以下、ＰＭＭＡと記す），アクリル樹
脂，エポキシ樹脂，ポリカーボネート樹脂（以下、ＰＣ
と記す），ポリサルフォン樹脂，ポリエーテルサルフォ
ン，メチルペンテンポリマー等の溝付き乃至溝なし基板
が好適である。溝形成のために、紫外線硬化樹脂、電子
線硬化樹脂等により、上記樹脂上に溝の形成を行い、基
板に用いても良い。
【０１５０】基板には、耐溶剤性，濡れ性，表面張力，
熱伝導度等を改善するため、ＵＶ処理，オゾン処理，コ
ロナ放電処理，プライマーコーティング等を行っても良
い。プライマーとしては、例えば、チタン系，シラン
系，アルミ系のカップリング剤や各種感光性樹脂等を用
いることができる。
熱伝導度等を改善するため、ＵＶ処理，オゾン処理，コ
ロナ放電処理，プライマーコーティング等を行っても良
い。プライマーとしては、例えば、チタン系，シラン
系，アルミ系のカップリング剤や各種感光性樹脂等を用
いることができる。
【０１５１】基板は、耐溶剤性の良い材質が好ましい
が、本発明では耐溶剤性が悪くとも、記録層の形成が可
能となるものであり、耐溶剤性は記録材料を溶解・分散
させている溶剤に侵されなければ良い。
が、本発明では耐溶剤性が悪くとも、記録層の形成が可
能となるものであり、耐溶剤性は記録材料を溶解・分散
させている溶剤に侵されなければ良い。
【０１５２】記録層を形成する際に用いる染料の分散溶
液には、必要に応じて樹脂が含まれていても良く、また
形成された記録層中に該樹脂が含まれていても良い。
液には、必要に応じて樹脂が含まれていても良く、また
形成された記録層中に該樹脂が含まれていても良い。
【０１５３】用いる樹脂としては熱可塑性樹脂が好適で
あるが、特に限定するものでなく、本発明の効果を損わ
ない範囲で樹脂の選択を行って良い。好適な例としては
以下のようなものがある。
あるが、特に限定するものでなく、本発明の効果を損わ
ない範囲で樹脂の選択を行って良い。好適な例としては
以下のようなものがある。
【０１５４】１）ポリオレフィン系 例えば、ポリエチレン，ポリプロピレン，ポリ４−メチ
ルペンテン−１など。 ２）ポリオレフィン共重合体系 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体，エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体，エチレン−アクリル酸共重
合体，エチレン−プロピレン共重合体，エチレン−ブテ
ン−１共重合体，エチレン−無水マレイン酸共重合体，
エチレンプロピレンターポリマー（ＥＰＴ）など。 この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。
ルペンテン−１など。 ２）ポリオレフィン共重合体系 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体，エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体，エチレン−アクリル酸共重
合体，エチレン−プロピレン共重合体，エチレン−ブテ
ン−１共重合体，エチレン−無水マレイン酸共重合体，
エチレンプロピレンターポリマー（ＥＰＴ）など。 この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。
【０１５５】３）塩化ビニル共重合体系 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体，塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体，塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体，アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体，アクリロニトリル
−塩化ビニル共重合体，塩化ビニルエーテル共重合体，
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体，エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。この場合、共重合比は任意のものとする
ことができる。
−塩化ビニリデン共重合体，塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体，アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体，アクリロニトリル
−塩化ビニル共重合体，塩化ビニルエーテル共重合体，
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体，エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。この場合、共重合比は任意のものとする
ことができる。
【０１５６】４）塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体，塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体，塩化ビニリ
デン−ブタジエン−ハロゲン化ビニル共重合体など。こ
の場合、共重合比は任意のものとすることができる。
−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体，塩化ビニリ
デン−ブタジエン−ハロゲン化ビニル共重合体など。こ
の場合、共重合比は任意のものとすることができる。
【０１５７】５）ポリスチレン ６）スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体（ＡＳ樹
脂）、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体（ＡＢＳ樹脂），スチレン−無水マレイン酸共重合体
（ＳＭＡ樹脂），スチレン−アクリル酸エステル−アク
リルアミド共重合体，スチレン−ブタジエン共重合体
（ＳＢＲ），スチレン−塩化ビニリデン共重合体，スチ
レン−メチルメタアクリレート共重合体など。この場
合、共重合比は任意のものとすることができる。
脂）、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合
体（ＡＢＳ樹脂），スチレン−無水マレイン酸共重合体
（ＳＭＡ樹脂），スチレン−アクリル酸エステル−アク
リルアミド共重合体，スチレン−ブタジエン共重合体
（ＳＢＲ），スチレン−塩化ビニリデン共重合体，スチ
レン−メチルメタアクリレート共重合体など。この場
合、共重合比は任意のものとすることができる。
【０１５８】７）スチレン型重合体 例えば、α−メチルスチレン，ｐ−メチルスチレン，
２，５−ジクロルスチレン，α，β−ビニルナフタレ
ン，α−ビニルビリジン，アセナフテン，ビニルアント
ラセンなど、あるいはこれらの共重合体、例えば、α−
メチルスチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体。
２，５−ジクロルスチレン，α，β−ビニルナフタレ
ン，α−ビニルビリジン，アセナフテン，ビニルアント
ラセンなど、あるいはこれらの共重合体、例えば、α−
メチルスチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体。
【０１５９】８）クマロン−インデン樹脂 クマロン−インデン−スチレンの共重合体。 ９）テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライ
ト。 １０）アクリル樹脂
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライ
ト。 １０）アクリル樹脂
【０１６０】特に下記式で示される原子団を含むものが
好ましい。
好ましい。
【０１６１】
【化４９】
【０１６２】上記式において、Ｒ10は水素原子またはア
ルキル基を表わし，Ｒ20は置換または未置換のアルキル
基を表わす。この場合、上記式において、Ｒ10は、水素
原子または炭素原子数１〜４の低級アルキル基、特に水
素原子またはメチル基であることが好ましい。
ルキル基を表わし，Ｒ20は置換または未置換のアルキル
基を表わす。この場合、上記式において、Ｒ10は、水素
原子または炭素原子数１〜４の低級アルキル基、特に水
素原子またはメチル基であることが好ましい。
【０１６３】また、Ｒ20は、置換、非置換いずれのアル
キル基であってもよいが、アルキル基の炭素原子数は１
〜８であることが好ましく，また、Ｒ1 が置換アルキル
基であるときには、アルキル基を置換する置換基は、水
酸基、ハロゲン原子またはアミノ基（特に、ジアルキル
アミノ基）であることが好ましい。
キル基であってもよいが、アルキル基の炭素原子数は１
〜８であることが好ましく，また、Ｒ1 が置換アルキル
基であるときには、アルキル基を置換する置換基は、水
酸基、ハロゲン原子またはアミノ基（特に、ジアルキル
アミノ基）であることが好ましい。
【０１６４】このような上記式で示される原子団は、他
のくりかえし原子団とともに、共重合体を形成して各種
アクリル樹脂を構成してもよいが、通常は、上記式に示
される原子団の１種または２種以上をくりかえし単位と
する単独重合体または共重合体を形成してアクリル樹脂
を構成することになる。
のくりかえし原子団とともに、共重合体を形成して各種
アクリル樹脂を構成してもよいが、通常は、上記式に示
される原子団の１種または２種以上をくりかえし単位と
する単独重合体または共重合体を形成してアクリル樹脂
を構成することになる。
【０１６５】１１）ポリアクリロニトリル １２）アクリロニトリル共重合体 例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体，アク
リロニトリル−塩化ビニル共重合体，アクリロニトリル
−スチレン共重合体，アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体，アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体，アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体，
アクリロニトリル−ブタジエン共重合体，アクリロニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。この場合、共重
合比は任意のものとすることができる。
リロニトリル−塩化ビニル共重合体，アクリロニトリル
−スチレン共重合体，アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体，アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体，アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体，
アクリロニトリル−ブタジエン共重合体，アクリロニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。この場合、共重
合比は任意のものとすることができる。
【０１６６】１３）ダイアセトンアクリルアミドポリマ
ーアクリロニトリルにアセトンを作用させたダイアセン
トアクリルアミドポリマー。 １４）ポリ酢酸ビニル １５）酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル，ビニルエーテル，エチレ
ン，塩化ビニル等との共重合体など。 １６）ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル，ポリビニルエチル
エーテル，ポリビニルブチルエーテルなど。
ーアクリロニトリルにアセトンを作用させたダイアセン
トアクリルアミドポリマー。 １４）ポリ酢酸ビニル １５）酢酸ビニル共重合体 例えば、アクリル酸エステル，ビニルエーテル，エチレ
ン，塩化ビニル等との共重合体など。 １６）ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル，ポリビニルエチル
エーテル，ポリビニルブチルエーテルなど。
【０１６７】１７）ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン６，ナイロン
６−６，ナイロン６−１０，ナイロン６−１２，ナイロ
ン９，ナイロン１１，ナイロン１２，ナイロン１３等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン６／６−６／６−１
０，ナイロン６／６−６／１２，ナイロン６／６−６／
６−１１等の重合体や、場合によっては変性ナイロンで
あってもよい。
６−６，ナイロン６−１０，ナイロン６−１２，ナイロ
ン９，ナイロン１１，ナイロン１２，ナイロン１３等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン６／６−６／６−１
０，ナイロン６／６−６／１２，ナイロン６／６−６／
６−１１等の重合体や、場合によっては変性ナイロンで
あってもよい。
【０１６８】１８）ポリエステル 例えば、シユウ酸，コハク酸，マレイン酸，アジピン
酸，セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフ
タル酸，テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール，ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。そして、これらの
うちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリコール類との縮合
物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸との共縮合物は、
特に好適である。さらに、例えば、無水フタル酸とグリ
セリンとの縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天
然樹脂等でエステル化変性した変性グリプタル樹脂等も
好適に使用される。
酸，セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフ
タル酸，テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール，ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。そして、これらの
うちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリコール類との縮合
物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸との共縮合物は、
特に好適である。さらに、例えば、無水フタル酸とグリ
セリンとの縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天
然樹脂等でエステル化変性した変性グリプタル樹脂等も
好適に使用される。
【０１６９】１９）ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコールをアセタール化して得られるポリ
ビニルホルマール，ポリビニルアセタール系樹脂はいず
れも好適に使用される。この場合、ポリビニルアセター
ル系樹のアセタール化度は任意のものとすることができ
る。 ２０）ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。特に、
グリコール類とジイソシアナート類との縮合によって得
られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレングリコ
ールとアルキレンジイソシアナートとの縮合によって得
られるポリウレタン樹脂が好適である。
ビニルホルマール，ポリビニルアセタール系樹脂はいず
れも好適に使用される。この場合、ポリビニルアセター
ル系樹のアセタール化度は任意のものとすることができ
る。 ２０）ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。特に、
グリコール類とジイソシアナート類との縮合によって得
られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレングリコ
ールとアルキレンジイソシアナートとの縮合によって得
られるポリウレタン樹脂が好適である。
【０１７０】２１）ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂，環状アセタールの開環重合
物，ポリエチレンオキサイドおよびグリコール，ポリプ
ロピレンオキサイドおよびグリコール，プロピレンオキ
サイド−エチレンオキサイド共重合体，ポリフエニレン
オキサイドなど。 ２２）セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース，アセチルセルロース，エチ
ルセルロース，アセチルブチルセルロース，ヒドロキシ
エチルセルロース，ヒドロキシプロピルセルロース，メ
チルセルロース，エチルヒドロキシエチルセルロースな
ど、セルロースの各種エステル，エーテルないしこれら
の混合体。
物，ポリエチレンオキサイドおよびグリコール，ポリプ
ロピレンオキサイドおよびグリコール，プロピレンオキ
サイド−エチレンオキサイド共重合体，ポリフエニレン
オキサイドなど。 ２２）セルロース誘導体 例えば、ニトロセルロース，アセチルセルロース，エチ
ルセルロース，アセチルブチルセルロース，ヒドロキシ
エチルセルロース，ヒドロキシプロピルセルロース，メ
チルセルロース，エチルヒドロキシエチルセルロースな
ど、セルロースの各種エステル，エーテルないしこれら
の混合体。
【０１７１】２３）ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフエニルメタンカーボネート，
ジオキシジフエニルプロパンカーボネート等の各種ポリ
カーボネート。 ２４）アイオノマー メタクリン酸，アクリル酸などのＮａ，Ｌｉ，Ｚｎ，Ｍ
ｇ塩など。 ２５）ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフエノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。 ２６）キシレン樹脂 例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。
ジオキシジフエニルプロパンカーボネート等の各種ポリ
カーボネート。 ２４）アイオノマー メタクリン酸，アクリル酸などのＮａ，Ｌｉ，Ｚｎ，Ｍ
ｇ塩など。 ２５）ケトン樹脂 例えば、シクロヘキサノンやアセトフエノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。 ２６）キシレン樹脂 例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。
【０１７２】２７）石油樹脂 Ｃ5 系，Ｃ9 系，Ｃ5 −Ｃ9 共重合系，ジシクロペンタ
ジエン系，あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。 ２８）上記１）〜２７）の２種以上のブレンド体、また
はその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体。
ジエン系，あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。 ２８）上記１）〜２７）の２種以上のブレンド体、また
はその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体。
【０１７３】なお、熱可塑性等の樹脂の分子量等は、種
々のものであってよい。このような樹脂と、前記の色素
とは、通常、重量比で染料対樹脂が１００対０．１〜１
００の広範な量比にて配合される。
々のものであってよい。このような樹脂と、前記の色素
とは、通常、重量比で染料対樹脂が１００対０．１〜１
００の広範な量比にて配合される。
【０１７４】本発明において、染料及び光安定化剤を溶
剤に分散する際、公知の分散方法により行なうことがで
きる。本発明の特徴は、この分散方法の前段階として、
染料及び光安定化剤を混合溶液とし、この混合溶液を、
前記染料及び光安定化剤が難溶である大量の溶剤に除々
に混合し、この混合と同時に公知の分散方法を行うこと
である。
剤に分散する際、公知の分散方法により行なうことがで
きる。本発明の特徴は、この分散方法の前段階として、
染料及び光安定化剤を混合溶液とし、この混合溶液を、
前記染料及び光安定化剤が難溶である大量の溶剤に除々
に混合し、この混合と同時に公知の分散方法を行うこと
である。
【０１７５】最初に、スターラーや振とう機を用いて混
合しても、上記の混合が終了すると、一般的な攪拌装置
の他にホモミキサー、ディスパイザー，アジター、ボー
ルミル、サンドミル、アトライター、ペイントシェーカ
ー等を用いる。分散した添加剤の粒径は０．１μｍ以
下、好ましくは０．０５μｍ以下が望ましい。
合しても、上記の混合が終了すると、一般的な攪拌装置
の他にホモミキサー、ディスパイザー，アジター、ボー
ルミル、サンドミル、アトライター、ペイントシェーカ
ー等を用いる。分散した添加剤の粒径は０．１μｍ以
下、好ましくは０．０５μｍ以下が望ましい。
【０１７６】また、この分散を行なう際に分散剤を使用
しても良い。分散剤としては、界面活性剤が多く、以下
のものが挙げられる。アニオン界面活性剤では、カルボ
ン酸塩，スルホン酸塩，硫酸エステル塩，リン酸エステ
ル塩，ホルマリン縮合系スルホン酸塩、カチオン界面活
性剤では、脂肪族アミン塩，芳香族四級アンモニウム
塩、両性界面活性剤では、ベタイン、アミノカルボン酸
塩，イミダゾリン誘導体。
しても良い。分散剤としては、界面活性剤が多く、以下
のものが挙げられる。アニオン界面活性剤では、カルボ
ン酸塩，スルホン酸塩，硫酸エステル塩，リン酸エステ
ル塩，ホルマリン縮合系スルホン酸塩、カチオン界面活
性剤では、脂肪族アミン塩，芳香族四級アンモニウム
塩、両性界面活性剤では、ベタイン、アミノカルボン酸
塩，イミダゾリン誘導体。
【０１７７】非イオン界面活性剤は、エーテル系，エー
テルエステル，エステル含窒素型、その他には、フッ素
界面活性剤，ポリペブチド誘導体，天然界面活性剤等が
ある。
テルエステル，エステル含窒素型、その他には、フッ素
界面活性剤，ポリペブチド誘導体，天然界面活性剤等が
ある。
【０１７８】添加量は、染料・光安定化剤を含有する溶
液の全体重量で０〜１０ｗｔ％、好ましくは、０〜３．
０ｗｔ％の範囲で使用する。
液の全体重量で０〜１０ｗｔ％、好ましくは、０〜３．
０ｗｔ％の範囲で使用する。
【０１７９】
【実施例】以下、本発明の実施例を挙げ、詳細に説明す
る。
る。
【０１８０】実施例１ 染料として下記構造式に示す化合物を、光安化剤として
金属キレート錯体Ｍ−１８−９を用いた。
金属キレート錯体Ｍ−１８−９を用いた。
【０１８１】
【化５０】
【０１８２】染料と金属キレート錯体Ｍ−８６−９（重
量比７５：２５）をジクロロメタンに混合溶解させた。
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル０．７重量
部、ポリビニルブチラール０．８重量部、ジアセトンア
ルコール９８．５重量部からなる溶剤に、前記溶液を除
々に混合した。その混合中、スターラーで攪拌を続け、
混合終了後、ガラスビーズとペイントシェーカーで２４
時間分散を行った。その後、０．２μｍのフィルターで
濾過し、遠心分離を行った後、ダイレクト・グラビアコ
ーターで、光カード用に熱プレスでトラッキング用溝が
形成されたＰＣ（ポリカーボネート）基板に塗工した。
乾燥後、厚さ約９００Åの記録層を得た。
量比７５：２５）をジクロロメタンに混合溶解させた。
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル０．７重量
部、ポリビニルブチラール０．８重量部、ジアセトンア
ルコール９８．５重量部からなる溶剤に、前記溶液を除
々に混合した。その混合中、スターラーで攪拌を続け、
混合終了後、ガラスビーズとペイントシェーカーで２４
時間分散を行った。その後、０．２μｍのフィルターで
濾過し、遠心分離を行った後、ダイレクト・グラビアコ
ーターで、光カード用に熱プレスでトラッキング用溝が
形成されたＰＣ（ポリカーボネート）基板に塗工した。
乾燥後、厚さ約９００Åの記録層を得た。
【０１８３】ＰＣ製のカード用ウラ材をエチレン−アク
リル酸エステル共重合系ホットメルト型接着剤を用いて
ラミネートしてカード型光記録媒体を作製した。この光
カードを８３０ｎｍの半導体レーザを用いて基板側から
測定したところ、反射率は最大１３．９％であった。
リル酸エステル共重合系ホットメルト型接着剤を用いて
ラミネートしてカード型光記録媒体を作製した。この光
カードを８３０ｎｍの半導体レーザを用いて基板側から
測定したところ、反射率は最大１３．９％であった。
【０１８４】３．２ｍＷのレーザ出力で、送り速度６０
ｍｍ／ｓｅｃ、記録パルス８０μｓｅｃで記録した後、
出力０．２ｍＷで再生したところ、コントラスト比
ｍｍ／ｓｅｃ、記録パルス８０μｓｅｃで記録した後、
出力０．２ｍＷで再生したところ、コントラスト比
【０１８５】
【数１】 は０．５８であった。
【０１８６】光カードにレーザ出力０．２ｍＷの再生光
を一定点に照射し続け、初期反射率の９０％までに低下
するのにかかった時間を再生光劣化時間とする。本実施
例の光カードの再生光劣化時間は３８０秒であった。
を一定点に照射し続け、初期反射率の９０％までに低下
するのにかかった時間を再生光劣化時間とする。本実施
例の光カードの再生光劣化時間は３８０秒であった。
【０１８７】この光カードに０．４ＫＷ／ｍ２ のキセ
ノンランプ光を１００時間照射し耐光試験を行い、反射
率及び初期に記録した個所のコントラストを測定した。
結果を表−７に記す。なお、反射率は光カードのリーダ
ーの反射光量から算出したものである。
ノンランプ光を１００時間照射し耐光試験を行い、反射
率及び初期に記録した個所のコントラストを測定した。
結果を表−７に記す。なお、反射率は光カードのリーダ
ーの反射光量から算出したものである。
【０１８８】実施例２ 染料として下記の構造式で示される化合物を、金属キレ
ート化合物としてＭ−１８−１を用いて、前記染料：Ｍ
−１８−１を７５：２５で混合し、実施例１と同様に光
カードを作成した。実施例１と同様に測定を行なった測
定値を表−７に記す。
ート化合物としてＭ−１８−１を用いて、前記染料：Ｍ
−１８−１を７５：２５で混合し、実施例１と同様に光
カードを作成した。実施例１と同様に測定を行なった測
定値を表−７に記す。
【０１８９】
【化５１】
【０１９０】実施例３ 染料として下記の構造式で示される化合物を、光安定化
剤としてＮ−１−１を用いて、前記染料：光安定化剤を
８５：１５に混合し、ジクロロメタンで溶解した後、ｉ
ｓｏ−プロピルエーテルに混合し分散して、実施例１と
同様に分散液を調整し、ＰＣ基板を用いて光カードを作
成した。実施例１と同様に測定を行なった測定値を表−
７に記す。
剤としてＮ−１−１を用いて、前記染料：光安定化剤を
８５：１５に混合し、ジクロロメタンで溶解した後、ｉ
ｓｏ−プロピルエーテルに混合し分散して、実施例１と
同様に分散液を調整し、ＰＣ基板を用いて光カードを作
成した。実施例１と同様に測定を行なった測定値を表−
７に記す。
【０１９１】
【化５２】
【０１９２】実施例４ 染料として下記の構造式で示される化合物を、光安定化
剤としてＭ−１６−１７を用いて、前記染料：光安定化
剤を８０：２０に混合し、ジクロロエタンに溶解させた
後、ポリオキシエチレンノニルエーテルカルボン酸ナト
リウム１重量％を含むエチルセルソルブに除々に混合
し、ホモジナイザーを用いて分散した後、ダイレクトグ
ラビアロールコートで記録層をＰＭＭＡ基板に形成し、
光カードを作成した。実施例１と同様に測定を行なった
測定値を表−７に記す。
剤としてＭ−１６−１７を用いて、前記染料：光安定化
剤を８０：２０に混合し、ジクロロエタンに溶解させた
後、ポリオキシエチレンノニルエーテルカルボン酸ナト
リウム１重量％を含むエチルセルソルブに除々に混合
し、ホモジナイザーを用いて分散した後、ダイレクトグ
ラビアロールコートで記録層をＰＭＭＡ基板に形成し、
光カードを作成した。実施例１と同様に測定を行なった
測定値を表−７に記す。
【０１９３】
【化５３】
【０１９４】実施例５ 染料として下記の構造式で示される化合物を、光安定化
剤としてＮ−１−７を用いて、前記染料：光安定化剤を
７５：２５に混合し、ジクロロメタンとトルエン１：１
の混合溶剤に溶解させた。この混合溶液をポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル、ポリビニルブチラール
を含むジアセトンアルコールに混合し、２４時間ペイン
トシェーカーで分散し、ポリオレフィン樹脂（日本ゼオ
ン製）シートにロールコートして、光カードを作成し
た。実施例１と同様に測定を行なった測定値を表−７に
記す。
剤としてＮ−１−７を用いて、前記染料：光安定化剤を
７５：２５に混合し、ジクロロメタンとトルエン１：１
の混合溶剤に溶解させた。この混合溶液をポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル、ポリビニルブチラール
を含むジアセトンアルコールに混合し、２４時間ペイン
トシェーカーで分散し、ポリオレフィン樹脂（日本ゼオ
ン製）シートにロールコートして、光カードを作成し
た。実施例１と同様に測定を行なった測定値を表−７に
記す。
【０１９５】
【化５４】
【０１９６】比較例１ 実施例１と同様の方法で、光安定化剤Ｍ−１６−１７を
用いずに光カードを作成した。その評価結果を表−７に
示す。
用いずに光カードを作成した。その評価結果を表−７に
示す。
【０１９７】比較例２ 実施例４の光安定化剤Ｍ−１６−１７を用いずに、他は
実施例４と同様にＰＭＭＡの光カードを作成した。その
評価結果を表−７に示す。
実施例４と同様にＰＭＭＡの光カードを作成した。その
評価結果を表−７に示す。
【０１９８】比較例３ 実施例１と同様の材料を用いて、混合してジクロロメタ
ンに溶かさずに粉末状態でジアセトンアルコール９８．
５重量部、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル
０．７重量部、ポリビニルブチラール０．８重量部の溶
液に混合分散した。分散終了後、分散液をＰＣ基板に塗
布し、光カードを作成して評価した。その評価結果を表
−７に示す。
ンに溶かさずに粉末状態でジアセトンアルコール９８．
５重量部、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル
０．７重量部、ポリビニルブチラール０．８重量部の溶
液に混合分散した。分散終了後、分散液をＰＣ基板に塗
布し、光カードを作成して評価した。その評価結果を表
−７に示す。
【０１９９】実施例６ 実施例１で用いた染料と光安定化剤Ｍ−１８−３を７
５：２５に混合し、ジクロロメタンで溶解後、実施例１
と同様の分散を行い、ジアセトンアルコールの分散液を
調整した。この分散液を用いてＰＣ製光ディスク基板に
スピンコーティングをして厚さ１０００Åの記録層を得
た。
５：２５に混合し、ジクロロメタンで溶解後、実施例１
と同様の分散を行い、ジアセトンアルコールの分散液を
調整した。この分散液を用いてＰＣ製光ディスク基板に
スピンコーティングをして厚さ１０００Åの記録層を得
た。
【０２００】この基板をエアーサンドイッチの光ディス
クにして以下の条件で測定した。ターンテーブルに取り
付け、ターンテーブルをモータで１８００ｒｐｍに回転
させて、発振波長８３０ｎｍの半導体レーザを用いて基
板側より、有機薄膜記録層に、記録パワー８ｍＷ、記録
周波数３ＭＨｚで情報を書込み、読み出しパワー０．８
ｍＷで再生し、その再生波形をスペクトル解析（スキヤ
ニングフィルター、バンド幅３０ＫＨｚ）してＣ／Ｎ比
（キャリア／ノイズ比）を測定した。
クにして以下の条件で測定した。ターンテーブルに取り
付け、ターンテーブルをモータで１８００ｒｐｍに回転
させて、発振波長８３０ｎｍの半導体レーザを用いて基
板側より、有機薄膜記録層に、記録パワー８ｍＷ、記録
周波数３ＭＨｚで情報を書込み、読み出しパワー０．８
ｍＷで再生し、その再生波形をスペクトル解析（スキヤ
ニングフィルター、バンド幅３０ＫＨｚ）してＣ／Ｎ比
（キャリア／ノイズ比）を測定した。
【０２０１】次に、同じ記録媒体の前記測定条件で記録
した部分を繰り返し１０５ 回読み出し後のＣ／Ｎを測
定した。また、実施例１と同様に耐光試験を行った。そ
の測定結果を表−８に記す。反射率の測定は日立分光光
度計Ｕ−３４１０を用いた。
した部分を繰り返し１０５ 回読み出し後のＣ／Ｎを測
定した。また、実施例１と同様に耐光試験を行った。そ
の測定結果を表−８に記す。反射率の測定は日立分光光
度計Ｕ−３４１０を用いた。
【０２０２】実施例７ 染料として下記の構造式で示される化合物を、光安定化
剤としてＭ−１６−６を用いて、前記染料：光安定化剤
を８０：２０に混合し、実施例６と同様に分散塗工を行
いＰＣ基板を作成し、そのＰＣ基板を用いて光ディスク
を作成した。実施例６と同様に測定を行なった評価結果
を表−８に記す。
剤としてＭ−１６−６を用いて、前記染料：光安定化剤
を８０：２０に混合し、実施例６と同様に分散塗工を行
いＰＣ基板を作成し、そのＰＣ基板を用いて光ディスク
を作成した。実施例６と同様に測定を行なった評価結果
を表−８に記す。
【０２０３】
【化５５】
【０２０４】実施例８ 染料として下記の構造式で示される化合物を、光安定化
剤としてＭ−１８−２を用いて、前記染料：光安定化剤
を８０：２０に混合し、ＤＭＦに溶解した。その後、ポ
リオキシエチレンノニルエーテルカルボン酸ナトリウム
とポリビニルブチラールを含むアセトンに混合、分散し
た後、ポリオレフィン（日本ゼオン製）製インジェクシ
ョンディスク基板にスピンコートで塗工し、エアーギャ
ップを有するディスクを作成した。実施例６と同様に測
定を行なった評価結果を表−８に記す。
剤としてＭ−１８−２を用いて、前記染料：光安定化剤
を８０：２０に混合し、ＤＭＦに溶解した。その後、ポ
リオキシエチレンノニルエーテルカルボン酸ナトリウム
とポリビニルブチラールを含むアセトンに混合、分散し
た後、ポリオレフィン（日本ゼオン製）製インジェクシ
ョンディスク基板にスピンコートで塗工し、エアーギャ
ップを有するディスクを作成した。実施例６と同様に測
定を行なった評価結果を表−８に記す。
【０２０５】
【化５６】
【０２０６】比較例４ 実施例８で使用した染料と光安定化剤Ｍ−１８−２を混
合溶液にしないで、実施例８で用いた分散用に調整した
アセトンに分散した。この時の染料と光安定化剤の混合
比は８０：２０である。この分散液で実施例８と同様に
エアーギャップタイプの光ディスクを作成した。その評
価結果を表−８に記す。
合溶液にしないで、実施例８で用いた分散用に調整した
アセトンに分散した。この時の染料と光安定化剤の混合
比は８０：２０である。この分散液で実施例８と同様に
エアーギャップタイプの光ディスクを作成した。その評
価結果を表−８に記す。
【０２０７】
【表７】
【０２０８】
【表８】
【０２０９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
溶剤に難溶性の染料および光安定化剤を混合し分散する
ことにより塗工も可能となり、溶液と同様に取り扱うこ
とができると共に、一度両方を混合溶解してから分散す
るために、各化合物の微小化、耐光性の向上が可能とな
った。
溶剤に難溶性の染料および光安定化剤を混合し分散する
ことにより塗工も可能となり、溶液と同様に取り扱うこ
とができると共に、一度両方を混合溶解してから分散す
るために、各化合物の微小化、耐光性の向上が可能とな
った。
【０２１０】また、汎用性のあるＰＣ，ＰＭＭＡ，ポリ
オレフィンの基材の使用が可能となり、従来のコーティ
ング技術を用いることができるので、性能が良い、生産
性の高い光記録媒体の製造方法を提供できる効果が得ら
れる。
オレフィンの基材の使用が可能となり、従来のコーティ
ング技術を用いることができるので、性能が良い、生産
性の高い光記録媒体の製造方法を提供できる効果が得ら
れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三原 知恵子 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 田村 美樹 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (13)
- 【請求項１】 基材上に、染料および該染料の光安定化
剤を双方ともに難溶である溶剤に分散させた分散液もし
くは樹脂・界面活性剤を含む分散液を塗工して形成した
記録層を有することを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 前記分散液は、染料と光安定化剤を共存
させた溶液を前記染料と光安定化剤がそれぞれ難溶であ
る大量の溶剤に徐々に混合すると同時に分散調製してな
る請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 前記光安定化剤が遷移金属のキレート化
合物である請求項１記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 前記遷移金属のキレート化合物が下記一
般式（Ｉ），（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で示される化合
物である請求項３記載の光記録媒体。 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ8 はそれぞれ水素原子，ハロゲン原
子，置換または未置換のアルキル基，アルコキシ基，ア
ルコキシアルキル基，アルケニル基，アルキニル基また
はジアルキルアミノ基を表わし、Ｒ1 〜Ｒ8 は同じでも
異なっていてもよい。Ｍは遷移金属原子を表わす、ａは
イオン体の電価数を表わし、０を含む正の整数である。
Ｃａｔはカチオン体を示し、ａ＝ｂ・ｃであり，ａ＝０
のときは存在しない。） 【化２】 （式中、Ｒ9 〜Ｒ12はそれぞれ水素原子，置換または未
置換のアルキル基，アリール基，アルコキシ基，アルコ
キシアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒ9と
Ｒ10、Ｒ11とＲ12は結合して窒素原子を含む五員環また
は六員環を形成してもよい。。Ｒ9 〜Ｒ12は同じでも異
っていてもよい。Ｍは遷移金属原子を表わす。Ｍが電荷
を持ちカチオンと塩構造をとっても良い。ａはイオン体
の電価数を表わし、０を含む正の整数である。Ｃａｔは
カチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃであり、ａ＝０のとき、ｂ
・ｃ＝０でＣａｔは存在せず、化合物は中性体とな
る。） 【化３】 （式中、Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16は置換または未置換の
アルキル基，アリール基，アルケニル基，アルキニル
基，アルコキシ基，アルコキシアルキル基，フェニル基
またはフェニレン基を表わし、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16
が連結して環状となっていてもよい。Ｍは遷移金属を表
わす。この場合Ｍが電荷を持ち、カチオンと塩構造をと
っても良い。ａはイオン体の電価数を表わし、０を含む
正の整数である。Ｃａｔはカチオンを示し、ａ＝ｂ・
ｃ、であり、ａ＝０のとき、ｂ・ｃ＝０でＣａｔは存在
せず、化合物は中性体となる。） - 【請求項５】 前記遷移金属が白金，パラジウム，銅，
亜鉛またはニッケルである請求項４記載の光記録媒体。 - 【請求項６】 前記光安定化剤が下記一般式（ＩＶ），
（Ｖ）で示される化合物である請求項１記載の光記録媒
体。 【化４】 （式中、Ａは 【化５】 を示し、アルキル基、ハロゲン、アルコキシ基で置換さ
れていてもよい。Ｘ- は陰イオンを示す。Ｒ17からＲ24
は炭素原子数１〜８の置換基であり、少なくとも一つが
アルコキシアルキル基、アルケニル基あるいはアルキニ
ル基であっても良く、Ｒ17とＲ18，Ｒ19とＲ20，Ｒ21と
Ｒ22，Ｒ23とＲ24の組合せで少なくとも１組がＮととも
に置換もしくは未置換のピロリジン環、置換もしくは未
置換のピペリジン環、置換もしくは未置換のモルホリン
環、置換もしくは未置換のテトラヒドロピリジン環、ま
たは置換もしくは未置換のシクロヘキシルアミン環を形
成していても良い。） - 【請求項７】 基材が、ポリメチルメタクリレート，ポ
リカーボネートまたはポリオレフィンである請求項１記
載の光記録媒体。 - 【請求項８】 染料および該染料の光安定化剤を双方と
もに難溶である溶剤に分散させた分散液もしくは樹脂・
界面活性剤を含む分散液を、基材上に塗工して記録層を
形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 【請求項９】 前記分散液は、染料と光安定化剤を共存
させた溶液を前記染料と光安定化剤がそれぞれ難溶であ
る大量の溶剤に徐々に混合すると同時に分散調製してな
る請求項８記載の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項１０】 前記光安定化剤が遷移金属のキレート
化合物である請求項８記載の光記録媒体。 - 【請求項１１】 前記遷移金属のキレート化合物が下記
一般式（Ｉ），（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で示される化
合物である請求項１０記載の光記録媒体の製造方法。 【化６】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ8 はそれぞれ水素原子，ハロゲン原
子，置換または未置換のアルキル基，アルコキシ基，ア
ルコキシアルキル基，アルケニル基，アルキニル基また
はジアルキルアミノ基を表わし、Ｒ1 〜Ｒ8 は同じでも
異なっていてもよい。Ｍは遷移金属原子を表わす、ａは
イオン体の電価数を表わし、０を含む正の整数である。
Ｃａｔはカチオン体を示し、ａ＝ｂ・ｃであり，ａ＝０
のときは存在しない。） 【化７】 （式中、Ｒ9 〜Ｒ12はそれぞれ水素原子，置換または未
置換のアルキル基，アリール基，アルコキシ基，アルコ
キシアルキル基またはフェニル基を表わし、Ｒ9と
Ｒ10、Ｒ11とＲ12は結合して窒素原子を含む五員環また
は六員環を形成してもよい。。Ｒ9 〜Ｒ12は同じでも異
っていてもよい。Ｍは遷移金属原子を表わす。Ｍが電荷
を持ちカチオンと塩構造をとっても良い。ａはイオン体
の電価数を表わし、０を含む正の整数である。Ｃａｔは
カチオンを示し、ａ＝ｂ・ｃであり、ａ＝０のとき、ｂ
・ｃ＝０でＣａｔは存在せず、化合物は中性体とな
る。） 【化８】 （式中、Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16は置換または未置換の
アルキル基，アリール基，アルケニル基，アルキニル
基，アルコキシ基，アルコキシアルキル基，フェニル基
またはフェニレン基を表わし、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16
が連結して環状となっていてもよい。Ｍは遷移金属を表
わす。この場合Ｍが電荷を持ち、カチオンと塩構造をと
っても良い。ａはイオン体の電価数を表わし、０を含む
正の整数である。Ｃａｔはカチオンを示し、ａ＝ｂ・
ｃ、であり、ａ＝０のとき、ｂ・ｃ＝０でＣａｔは存在
せず、化合物は中性体となる。） - 【請求項１２】 前記遷移金属が白金，パラジウム，
銅，亜鉛またはニッケルである請求項１０記載の光記録
媒体の製造方法。 - 【請求項１３】 前記光安定化剤が下記一般式（Ｉ
Ｖ），（Ｖ）で示される化合物である請求項８記載の光
記録媒体の製造方法。 【化９】 （式中、Ａは 【化１０】 を示し、アルキル基、ハロゲン、アルコキシ基で置換さ
れていてもよい。Ｘ- は陰イオンを示す。Ｒ17からＲ24
は炭素原子数１〜８の置換基であり、少なくとも一つが
アルコキシアルキル基、アルケニル基あるいはアルキニ
ル基であっても良く、Ｒ17とＲ18，Ｒ19とＲ20，Ｒ21と
Ｒ22，Ｒ23とＲ24の組合せで少なくとも１組がＮととも
に置換もしくは未置換のピロリジン環、置換もしくは未
置換のピペリジン環、置換もしくは未置換のモルホリン
環、置換もしくは未置換のテトラヒドロピリジン環、ま
たは置換もしくは未置換のシクロヘキシルアミン環を形
成していても良い。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5049918A JPH06239028A (ja) | 1993-02-17 | 1993-02-17 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5049918A JPH06239028A (ja) | 1993-02-17 | 1993-02-17 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06239028A true JPH06239028A (ja) | 1994-08-30 |
Family
ID=12844395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5049918A Pending JPH06239028A (ja) | 1993-02-17 | 1993-02-17 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06239028A (ja) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2795082A1 (fr) * | 1999-06-01 | 2000-12-22 | Essilor Int | Procede d'impregnation d'un latex par un additif, latex obtenu et son application en optique |
| WO2006011306A1 (ja) | 2004-07-29 | 2006-02-02 | Adeka Corporation | 光学記録材料及び光学記録媒体 |
| WO2006109618A1 (ja) | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Adeka Corporation | シアニン化合物、光学フィルター及び光学記録材料 |
| WO2007105416A1 (ja) | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Adeka Corporation | 光学記録媒体 |
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| WO2008010433A1 (fr) | 2006-07-21 | 2008-01-24 | Adeka Corporation | Composés de cyanine pontés et matières d'enregistrement optique contenant ceux-ci |
| WO2008044534A1 (en) | 2006-10-10 | 2008-04-17 | Adeka Corporation | Optical recording material |
| WO2008123404A1 (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Adeka Corporation | シアニン化合物、該化合物を用いた光学フィルター及び光学記録材料 |
| WO2009050999A1 (ja) | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Adeka Corporation | インドリウム化合物及び該化合物を用いた光学記録材料 |
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| WO2010073857A1 (ja) | 2008-12-25 | 2010-07-01 | 株式会社Adeka | シアニン化合物を用いた近赤外線吸収材料及びシアニン化合物 |
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