JPH06239873A - オルガノシリコン化合物の製造方法 - Google Patents
オルガノシリコン化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH06239873A JPH06239873A JP5274562A JP27456293A JPH06239873A JP H06239873 A JPH06239873 A JP H06239873A JP 5274562 A JP5274562 A JP 5274562A JP 27456293 A JP27456293 A JP 27456293A JP H06239873 A JPH06239873 A JP H06239873A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- platinum
- silicon
- reaction
- complex
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- -1 chlorosilane Chemical class 0.000 abstract description 24
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract description 9
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 abstract description 4
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 7
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 5
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[6-(trimethylazaniumyl)hexyl]azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- LRIUTQPZISVIHK-FNORWQNLSA-N (3e)-tetradeca-1,3-diene Chemical group CCCCCCCCCC\C=C\C=C LRIUTQPZISVIHK-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- KLFRPGNCEJNEKU-FDGPNNRMSA-L (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;platinum(2+) Chemical compound [Pt+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O KLFRPGNCEJNEKU-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004013 NO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003060 catalysis inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N deca-1,9-diene Chemical compound C=CCCCCCCC=C NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CHSOOADWBVJAOF-VOTSOKGWSA-N dichloro-[(E)-hex-1-enyl]-methylsilane Chemical compound CCCC\C=C\[Si](C)(Cl)Cl CHSOOADWBVJAOF-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- IYPLTVKTLDQUGG-UHFFFAOYSA-N dodeca-1,11-diene Chemical compound C=CCCCCCCCCC=C IYPLTVKTLDQUGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000320 mechanical mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- KGRJUMGAEQQVFK-UHFFFAOYSA-L platinum(2+);dibromide Chemical compound Br[Pt]Br KGRJUMGAEQQVFK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0876—Reactions involving the formation of bonds to a Si atom of a Si-O-Si sequence other than a bond of the Si-O-Si linkage
- C07F7/0878—Si-C bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 シリコンに結合した末端不飽和の置換基、例
えばヘキセニル基を有するオルガノシリコン化合物を製
造する方法を提供する。 【構成】 白金化合物または錯体および少なくとも１つ
のアミノ基を有する化合物との混合物および／または反
応生成物である触媒の存在下、≡ＳｉＨをジエンと反応
させる。 【効果】 ≡ＳｉＨとジエンとの付加反応の際に起こる
二重結合の移行の量が著しく減少する。
えばヘキセニル基を有するオルガノシリコン化合物を製
造する方法を提供する。 【構成】 白金化合物または錯体および少なくとも１つ
のアミノ基を有する化合物との混合物および／または反
応生成物である触媒の存在下、≡ＳｉＨをジエンと反応
させる。 【効果】 ≡ＳｉＨとジエンとの付加反応の際に起こる
二重結合の移行の量が著しく減少する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はオルガノシリコン化合物
の製造方法に関し、また≡ＳｉＨを有する化合物とジエ
ンとの反応に関するものである。
の製造方法に関し、また≡ＳｉＨを有する化合物とジエ
ンとの反応に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および課題】シリコン化合物、例えばシラ
ンおよびポリシロキサン等の≡ＳｉＨを有する化合物と
オレフィン系またはアセチレン系不飽和結合を有する化
合物との反応はよく知られている。この方法は、しばし
ばハイドロシリレーションまたはハイドロシレーション
と呼ばれ、オルガノシリコン化合物の製造に広く使用さ
れている方法である。このハイドロシリレーション反応
の触媒として有効なものとしては多くの物質が知られて
いるが、最も普通のものは遷移金属、例えば白金、ロジ
ウム、パラジウムの化合物や錯体がある。これらの触媒
の特別な例としては、白金またはロジウムのハロゲン化
物、例えばＨ2ＰｔＣｌ6、ＰｔＣｌ2、ＲｈＣｌ3、Ｒｈ
Ｃｌ3（ＳＥｔ2）3（ここに、Ｅｔはエチル）、Ｒｈ
2（ＣＯ）4Ｃｌ2、塩化白金と不飽和基含有シロキサン
との錯体および白金化合物のオレフィンとの錯体等があ
る。
ンおよびポリシロキサン等の≡ＳｉＨを有する化合物と
オレフィン系またはアセチレン系不飽和結合を有する化
合物との反応はよく知られている。この方法は、しばし
ばハイドロシリレーションまたはハイドロシレーション
と呼ばれ、オルガノシリコン化合物の製造に広く使用さ
れている方法である。このハイドロシリレーション反応
の触媒として有効なものとしては多くの物質が知られて
いるが、最も普通のものは遷移金属、例えば白金、ロジ
ウム、パラジウムの化合物や錯体がある。これらの触媒
の特別な例としては、白金またはロジウムのハロゲン化
物、例えばＨ2ＰｔＣｌ6、ＰｔＣｌ2、ＲｈＣｌ3、Ｒｈ
Ｃｌ3（ＳＥｔ2）3（ここに、Ｅｔはエチル）、Ｒｈ
2（ＣＯ）4Ｃｌ2、塩化白金と不飽和基含有シロキサン
との錯体および白金化合物のオレフィンとの錯体等があ
る。
【０００３】多くのオルガノシリコン化合物はハイドロ
シリレーション反応で合成することができる。有機官能
シランおよびシロキサンはシランやシロキサン中の≡Ｓ
ｉＨのオレフィン系不飽和化合物、例えばアリルクロラ
イドまたはアリルグリシジルエーテルへの付加により得
られる。同様な方法で、≡ＳｉＨはオレフィン、例えば
ヘキセン−１またはデセン−１と反応して、それぞれシ
リコンに結合したヘキシルまたはデシル基を有するシラ
ンまたはシロキサンを製造することができる。このハイ
ドロシリレーション反応はまた、≡ＳｉＨとジエンとを
反応させて、シリコンに結合したオレフィン系不飽和基
を有するオルガノシリコン化合物を得るのにも使用され
る。そのような不飽和オルガノシリコン化合物は他のＳ
ｉＨ含有オルガノシリコン化合物と反応し、エラストマ
ーならびにプラスチックや紙その他の基材に塗布する塗
料などの有用な製品を得ることができる。しかしなが
ら、我々はハイドロシリレーション反応の間にジエンの
異性化が起きて、所望のシリコン結合基のなかで二重結
合が末端部から内部に移行することが判った。そのよう
な内部不飽和結合を有する生成物は、さらにハイドロシ
リレーションをしてエラストマーや他の製品を作る際に
反応性が悪く、望ましくない反応生成物を得ることにな
る。
シリレーション反応で合成することができる。有機官能
シランおよびシロキサンはシランやシロキサン中の≡Ｓ
ｉＨのオレフィン系不飽和化合物、例えばアリルクロラ
イドまたはアリルグリシジルエーテルへの付加により得
られる。同様な方法で、≡ＳｉＨはオレフィン、例えば
ヘキセン−１またはデセン−１と反応して、それぞれシ
リコンに結合したヘキシルまたはデシル基を有するシラ
ンまたはシロキサンを製造することができる。このハイ
ドロシリレーション反応はまた、≡ＳｉＨとジエンとを
反応させて、シリコンに結合したオレフィン系不飽和基
を有するオルガノシリコン化合物を得るのにも使用され
る。そのような不飽和オルガノシリコン化合物は他のＳ
ｉＨ含有オルガノシリコン化合物と反応し、エラストマ
ーならびにプラスチックや紙その他の基材に塗布する塗
料などの有用な製品を得ることができる。しかしなが
ら、我々はハイドロシリレーション反応の間にジエンの
異性化が起きて、所望のシリコン結合基のなかで二重結
合が末端部から内部に移行することが判った。そのよう
な内部不飽和結合を有する生成物は、さらにハイドロシ
リレーションをしてエラストマーや他の製品を作る際に
反応性が悪く、望ましくない反応生成物を得ることにな
る。
【０００４】我々は、驚くべきことに、白金化合物また
は錯体および少なくとも１つのアミノ基を有する触媒を
使用することにより、≡ＳｉＨとジエンとの付加反応の
際に起こる二重結合の移行の量が著しく減少することを
見いだした。
は錯体および少なくとも１つのアミノ基を有する触媒を
使用することにより、≡ＳｉＨとジエンとの付加反応の
際に起こる二重結合の移行の量が著しく減少することを
見いだした。
【０００５】英国特許第１０５４６５８号は、オレフィ
ン系ポリシロキサンと水素含有ポリシロキサンから比較
的に安定なオルガノシリコン組成物を得るに際し、組成
物中に（ｉ）白金含有触媒および（ii）ある種の脂肪族
または芳香族化合物から選ばれた窒素含有リガンド、ま
たは（iii）有機ホスフォラスリガンドの機械的混合物
または予め調製された錯体を包含させることを開示して
いる。
ン系ポリシロキサンと水素含有ポリシロキサンから比較
的に安定なオルガノシリコン組成物を得るに際し、組成
物中に（ｉ）白金含有触媒および（ii）ある種の脂肪族
または芳香族化合物から選ばれた窒素含有リガンド、ま
たは（iii）有機ホスフォラスリガンドの機械的混合物
または予め調製された錯体を包含させることを開示して
いる。
【０００６】英国特許第１４５４０５１号は、塩化白金
酸をアミノオルガノシリコン化合物と反応させることに
より得られたアンモニウム−白金−オルガノシリコン化
合物を開示している。それはまた、それらの化合物をハ
イドロシリレーション触媒として使用することも開示し
ている。
酸をアミノオルガノシリコン化合物と反応させることに
より得られたアンモニウム−白金−オルガノシリコン化
合物を開示している。それはまた、それらの化合物をハ
イドロシリレーション触媒として使用することも開示し
ている。
【０００７】米国特許第４２９２４３４号は、シリコン
結合水素の脂肪族多重結合への付加についての改良され
たプロセスを開示し、そこではその付加反応を、ハロゲ
ン化白金とオレフィンの反応および得られた溶液をその
後第１または第２アミンとともに加熱することにより得
られた触媒溶液の存在下に行う。
結合水素の脂肪族多重結合への付加についての改良され
たプロセスを開示し、そこではその付加反応を、ハロゲ
ン化白金とオレフィンの反応および得られた溶液をその
後第１または第２アミンとともに加熱することにより得
られた触媒溶液の存在下に行う。
【０００８】米国特許第４４１７０６８号においては、
ＳｉＨ基含有のシランまたはシロキサンとある種のオレ
フィン系化合物との付加反応を、ＹＸ2（ＮＨ3）2
（ここで、ＹはＰｔまたはＰｄ、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉま
たはＮＯ2である）の触媒の存在下に行うことを開示し
ている。
ＳｉＨ基含有のシランまたはシロキサンとある種のオレ
フィン系化合物との付加反応を、ＹＸ2（ＮＨ3）2
（ここで、ＹはＰｔまたはＰｄ、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉま
たはＮＯ2である）の触媒の存在下に行うことを開示し
ている。
【０００９】米国特許第４５８４３６１号は、（１）ビ
ニル含有オルガノシロキサンポリマー、（２）オルガノ
水素シロキサン、（３）白金触媒および（４）Ｒ4ＮＨ2
またはＲ'2ＮＲ3ＮＲ2 2 （ここで、Ｒ'は１〜４Ｃアル
キル、Ｒ2はＲ’またはＨ、Ｒ3は２〜４Ｃアルキレン、
およびＲ4は２〜４Ｃアルキルである）の白金触媒抑制
剤を混合することにより得られる、貯蔵安定性および熱
硬化性があり、一部がポリオルガノシロキサンである組
成物を開示している。
ニル含有オルガノシロキサンポリマー、（２）オルガノ
水素シロキサン、（３）白金触媒および（４）Ｒ4ＮＨ2
またはＲ'2ＮＲ3ＮＲ2 2 （ここで、Ｒ'は１〜４Ｃアル
キル、Ｒ2はＲ’またはＨ、Ｒ3は２〜４Ｃアルキレン、
およびＲ4は２〜４Ｃアルキルである）の白金触媒抑制
剤を混合することにより得られる、貯蔵安定性および熱
硬化性があり、一部がポリオルガノシロキサンである組
成物を開示している。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）分子中
に少なくとも１つのシリコン結合水素原子を有するシリ
コン化合物と（Ｂ）炭素数６〜１４で不飽和結合が末端
炭素原子にあるジエンとを（Ｃ）白金化合物または錯体
および少なくとも１つのアミノ基を有する化合物との混
合物および／または反応生成物である触媒の存在下に反
応させることよりなる、末端オレフィン性不飽和結合を
有する少なくとも１つのシリコン結合炭化水素を有する
オルガノシリコン化合物の製造方法を提供するものであ
る。
に少なくとも１つのシリコン結合水素原子を有するシリ
コン化合物と（Ｂ）炭素数６〜１４で不飽和結合が末端
炭素原子にあるジエンとを（Ｃ）白金化合物または錯体
および少なくとも１つのアミノ基を有する化合物との混
合物および／または反応生成物である触媒の存在下に反
応させることよりなる、末端オレフィン性不飽和結合を
有する少なくとも１つのシリコン結合炭化水素を有する
オルガノシリコン化合物の製造方法を提供するものであ
る。
【００１１】シリコン化合物（Ａ）としては、本発明で
は少なくとも１つの≡ＳｉＨを有するモノマーまたはオ
リゴマーの化合物を使用することができる。このような
化合物およびそのハイドロシリレーション反応への使用
は、当業界での文献によく記載されており、これにはシ
ラン、リニアポリシロキサン、有枝ポリシロキサンおよ
び環状シロキサン等がある。水素の他に存在するシリコ
ンに結合した置換基の性質は厳密ではないが、通常はこ
れらの置換基は、炭素数１〜１０の脂肪族不飽和のない
炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、ハロゲン原子、お
よび炭素数８より少ないアルコキシ基から選ばれる。そ
こで、シリコンに結合した置換基の例としては、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、ブチル、オクタデシル、塩
素、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、およびブト
キシである。化合物（Ａ）の例としては、Ｃ6Ｈ5ＳｉＨ
Ｃｌ2、ＨＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＨＳｉＣｌ3、ＣＨ3ＨＳ
ｉ（ＯＣ2Ｈ5）2、（ＣＨ3）2ＨＳｉＣｌ、メチル水素
ポリシロキサンおよびメチル水素シロキサンと他の１ま
たはそれ以上のシロキサン単位、例えばジメチルシロキ
サン、トリメチルシロキサンおよびジメチル水素シロキ
サン単位との共重合体等がある。本発明の方法は、しか
しながら、クロロシラン、例えばＣＨ3ＨＳｉＣｌ2、Ｈ
ＳｉＣｌ3の反応の関係において特に興味がある。これ
らは生成物中における結合の移行を非常に減少させるよ
うである。
は少なくとも１つの≡ＳｉＨを有するモノマーまたはオ
リゴマーの化合物を使用することができる。このような
化合物およびそのハイドロシリレーション反応への使用
は、当業界での文献によく記載されており、これにはシ
ラン、リニアポリシロキサン、有枝ポリシロキサンおよ
び環状シロキサン等がある。水素の他に存在するシリコ
ンに結合した置換基の性質は厳密ではないが、通常はこ
れらの置換基は、炭素数１〜１０の脂肪族不飽和のない
炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、ハロゲン原子、お
よび炭素数８より少ないアルコキシ基から選ばれる。そ
こで、シリコンに結合した置換基の例としては、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、ブチル、オクタデシル、塩
素、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、およびブト
キシである。化合物（Ａ）の例としては、Ｃ6Ｈ5ＳｉＨ
Ｃｌ2、ＨＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＨＳｉＣｌ3、ＣＨ3ＨＳ
ｉ（ＯＣ2Ｈ5）2、（ＣＨ3）2ＨＳｉＣｌ、メチル水素
ポリシロキサンおよびメチル水素シロキサンと他の１ま
たはそれ以上のシロキサン単位、例えばジメチルシロキ
サン、トリメチルシロキサンおよびジメチル水素シロキ
サン単位との共重合体等がある。本発明の方法は、しか
しながら、クロロシラン、例えばＣＨ3ＨＳｉＣｌ2、Ｈ
ＳｉＣｌ3の反応の関係において特に興味がある。これ
らは生成物中における結合の移行を非常に減少させるよ
うである。
【００１２】反応剤（Ｂ）はＣ６〜１４のジエンであ
り、この中ではオレフィン性不飽和は非共役であり、末
端炭素原子にあり、例えば１,５−ヘキサジエン、１,９
−デカジエン、１,１１−ドデカジエンおよび１,１３−
テトラデカジエンである。一般に、好ましいジエンは炭
素原子数６〜１０を有するものである。
り、この中ではオレフィン性不飽和は非共役であり、末
端炭素原子にあり、例えば１,５−ヘキサジエン、１,９
−デカジエン、１,１１−ドデカジエンおよび１,１３−
テトラデカジエンである。一般に、好ましいジエンは炭
素原子数６〜１０を有するものである。
【００１３】触媒（Ｃ）は、白金化合物または錯体およ
び少なくとも１つのアミノ基を有する化合物との混合物
および／または反応生成物である。白金錯体はどのよう
なものでも、ハイドロシリレーションに有効なものは使
用することができる。そのような化合物や錯体は種々知
られており、例えば、塩化白金酸、塩化白金、臭化白
金、塩化白金酸の塩、例えばＮａ2ＰｔＣｌ4、白金アセ
チルアセトネート、ハロゲン化白金とアルコールとアル
デヒドとの錯体、およびハロゲン化白金とオレフィン性
不飽和結合を有する有機化合物およびオルガノシリコン
化合物、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シク
ロヘキセン、シクロプロパンおよび１,３−ジビニルテ
トラメチルジシロキサンとの錯体等がある。触媒（Ｃ）
として好ましい白金化合物は、塩化白金酸およびハロゲ
ン化白金、例えば塩化白金および塩化白金酸とシリコン
結合ビニル基を有するシロキサンオリゴマーとの錯体で
ある。後者の錯体が最も好ましい。
び少なくとも１つのアミノ基を有する化合物との混合物
および／または反応生成物である。白金錯体はどのよう
なものでも、ハイドロシリレーションに有効なものは使
用することができる。そのような化合物や錯体は種々知
られており、例えば、塩化白金酸、塩化白金、臭化白
金、塩化白金酸の塩、例えばＮａ2ＰｔＣｌ4、白金アセ
チルアセトネート、ハロゲン化白金とアルコールとアル
デヒドとの錯体、およびハロゲン化白金とオレフィン性
不飽和結合を有する有機化合物およびオルガノシリコン
化合物、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シク
ロヘキセン、シクロプロパンおよび１,３−ジビニルテ
トラメチルジシロキサンとの錯体等がある。触媒（Ｃ）
として好ましい白金化合物は、塩化白金酸およびハロゲ
ン化白金、例えば塩化白金および塩化白金酸とシリコン
結合ビニル基を有するシロキサンオリゴマーとの錯体で
ある。後者の錯体が最も好ましい。
【００１４】アミノ基を有する化合物としては、有機
（脂肪族および芳香族を含む）アミンおよびポリアミ
ン、および少なくとも１つのアミノ基を有するシリコン
結合基を有するオルガノシリコン化合物が使用され得
る。このアミノ基は第１級、第２級または第３級であっ
てもよい。実施可能なアミンの例としては、ｎ−ブチル
アミン、ｎ−オクチルアミン、デシルアミン、シクロヘ
キシルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、
テトラメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、テト
ラメチルエチレンジアミン、Ｃ6Ｈ11ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓ
ｉＣＨ3（ＯＣ2Ｈ5）2、ＮＨ2（ＣＨ2）4Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3、Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）ＮＨＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2
Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）Ｎ
Ｈ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）3、［Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3Ｓ
ｉ（ＣＨ3）2］2ＯおよびＣＨ3Ｓｉ（ＮＨＣ4Ｈ9）3等
がある。また、実施可能なアミノ化合物の例としては、
窒素原子が脂肪族また芳香族異節環状化合物中に存在す
る、例えばピリジン、およびアミン基が芳香族環に直
接、または脂肪族炭素を介して付加している、例えばア
ニリンおよびベンジルアミン等がある。一般に、アミノ
基を含有する好ましい化合物は、脂肪族アミンおよびポ
リアミンである。
（脂肪族および芳香族を含む）アミンおよびポリアミ
ン、および少なくとも１つのアミノ基を有するシリコン
結合基を有するオルガノシリコン化合物が使用され得
る。このアミノ基は第１級、第２級または第３級であっ
てもよい。実施可能なアミンの例としては、ｎ−ブチル
アミン、ｎ−オクチルアミン、デシルアミン、シクロヘ
キシルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、
テトラメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、テト
ラメチルエチレンジアミン、Ｃ6Ｈ11ＮＨ（ＣＨ2）3Ｓ
ｉＣＨ3（ＯＣ2Ｈ5）2、ＮＨ2（ＣＨ2）4Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3、Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）ＮＨＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2
Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）2ＮＨ（ＣＨ2）Ｎ
Ｈ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）3、［Ｈ2Ｎ（ＣＨ2）3Ｓ
ｉ（ＣＨ3）2］2ＯおよびＣＨ3Ｓｉ（ＮＨＣ4Ｈ9）3等
がある。また、実施可能なアミノ化合物の例としては、
窒素原子が脂肪族また芳香族異節環状化合物中に存在す
る、例えばピリジン、およびアミン基が芳香族環に直
接、または脂肪族炭素を介して付加している、例えばア
ニリンおよびベンジルアミン等がある。一般に、アミノ
基を含有する好ましい化合物は、脂肪族アミンおよびポ
リアミンである。
【００１５】アミンと白金化合物または錯体との相対的
比率は、広範囲に変わり得る。白金原子１つ当たり窒素
原子０.５という少ない比率でも、生成物中の望ましく
ない異性体の量を減少させることができる。もし所望な
らば、白金１原子当たり窒素原子５０またはそれ以上の
比率でアミンを使用することもできる。しかしながら、
多くの場合、そのように高い比率で使用してもなんら利
点はなく、通常は白金１原子当たり窒素原子１〜１５が
好ましい。
比率は、広範囲に変わり得る。白金原子１つ当たり窒素
原子０.５という少ない比率でも、生成物中の望ましく
ない異性体の量を減少させることができる。もし所望な
らば、白金１原子当たり窒素原子５０またはそれ以上の
比率でアミンを使用することもできる。しかしながら、
多くの場合、そのように高い比率で使用してもなんら利
点はなく、通常は白金１原子当たり窒素原子１〜１５が
好ましい。
【００１６】シリコン−水素化合物（Ａ）とジエン
（Ｂ）との反応は、通常のプロセス技術で行うことがで
きる。例えば、常圧、減圧、または加圧下に、溶媒の存
在または不存在下に、２０℃以下から１６０℃以上の温
度で行うことができる。通常は、温度約６０℃から１８
０℃の範囲で、もし所望ならば加圧下に行って、反応を
促進することが好ましい。シリコン−水素化合物とジエ
ンの不飽和基の両方との反応を最小にするためには、ジ
エンは少なくとも化学量論的量の２倍使用するのが好ま
しい。触媒（Ｃ）を含有するアミノ化合物および白金化
合物または錯体の混合物は、これらの２つの成分を別々
に反応混合物に加えることによって、その場で形成する
ことができる。しかしながら、いくつかの実験による
と、アミンおよび白金化合物または錯体は、成分（Ａ）
および（Ｂ）を加える前に混合すると、より改良された
結果が得られることが判った。
（Ｂ）との反応は、通常のプロセス技術で行うことがで
きる。例えば、常圧、減圧、または加圧下に、溶媒の存
在または不存在下に、２０℃以下から１６０℃以上の温
度で行うことができる。通常は、温度約６０℃から１８
０℃の範囲で、もし所望ならば加圧下に行って、反応を
促進することが好ましい。シリコン−水素化合物とジエ
ンの不飽和基の両方との反応を最小にするためには、ジ
エンは少なくとも化学量論的量の２倍使用するのが好ま
しい。触媒（Ｃ）を含有するアミノ化合物および白金化
合物または錯体の混合物は、これらの２つの成分を別々
に反応混合物に加えることによって、その場で形成する
ことができる。しかしながら、いくつかの実験による
と、アミンおよび白金化合物または錯体は、成分（Ａ）
および（Ｂ）を加える前に混合すると、より改良された
結果が得られることが判った。
【００１７】この発明の方法により得られる生成物は、
オレフィン性不飽和基を含有するシリコン−結合炭化水
素基を有するシラン類およびシロキサン類である。触媒
（Ｃ）を使用することにより、より通常の白金含有触媒
を使用したプロセスに比較して、非末端のオレフィン性
不飽和の比率が著しく小さい生成物が得られることが判
った。本発明の方法の生成物は、オルガノシリコン組成
物、例えばハイドロシリレーションまたは他の反応によ
り硬化可能な、エラストマーやコーティングのための組
成物の製造に用いることができる。次に、実施例により
本発明を説明する。ここで、Ｍｅはメチルを、Ｅｔはエ
チルを表わす。
オレフィン性不飽和基を含有するシリコン−結合炭化水
素基を有するシラン類およびシロキサン類である。触媒
（Ｃ）を使用することにより、より通常の白金含有触媒
を使用したプロセスに比較して、非末端のオレフィン性
不飽和の比率が著しく小さい生成物が得られることが判
った。本発明の方法の生成物は、オルガノシリコン組成
物、例えばハイドロシリレーションまたは他の反応によ
り硬化可能な、エラストマーやコーティングのための組
成物の製造に用いることができる。次に、実施例により
本発明を説明する。ここで、Ｍｅはメチルを、Ｅｔはエ
チルを表わす。
【００１８】
【実施例】実施例 １ 次の一般的方法によって、１,５−ヘキサジエンとＨＭ
ｅＳｉＣｌ2との一連の実験を行った。凝縮器、滴下ロ
ート、撹拌機および温度計を備えた２５０ｍｌのフラス
コに、１,５−ヘキサジエン（４９.２ｇ、０.６モ
ル）、白金触媒（１０-5モルＰｔ）、および所要量のオ
クチルアミンを加えた。滴下ロートにＨＭｅＳｉＣｌ2
（２３ｇ、０.２モル）を装入した。フラスコの内容物
を還流温度（５９℃）に加熱し、ＨＭｅＳｉＣｌ2の滴
下を開始した。ＨＭｅＳｉＣｌ2の滴下が完了したとき
温度は７２℃に上昇し、反応が完了したことを示した。
これに要した時間は約１時間であった。
ｅＳｉＣｌ2との一連の実験を行った。凝縮器、滴下ロ
ート、撹拌機および温度計を備えた２５０ｍｌのフラス
コに、１,５−ヘキサジエン（４９.２ｇ、０.６モ
ル）、白金触媒（１０-5モルＰｔ）、および所要量のオ
クチルアミンを加えた。滴下ロートにＨＭｅＳｉＣｌ2
（２３ｇ、０.２モル）を装入した。フラスコの内容物
を還流温度（５９℃）に加熱し、ＨＭｅＳｉＣｌ2の滴
下を開始した。ＨＭｅＳｉＣｌ2の滴下が完了したとき
温度は７２℃に上昇し、反応が完了したことを示した。
これに要した時間は約１時間であった。
【００１９】反応混合物を放冷し、過剰のヘキサジエン
を減圧下に除去し、ヘキセニルメチルジクロロシランを
得た。これをガスクロマトグラフにより分析し、二重結
合の移行により生じた異性化の割合を測定した。４種類
の異なった白金を使用して得られた結果を、次の表に示
す。
を減圧下に除去し、ヘキセニルメチルジクロロシランを
得た。これをガスクロマトグラフにより分析し、二重結
合の移行により生じた異性化の割合を測定した。４種類
の異なった白金を使用して得られた結果を、次の表に示
す。
【００２０】
【表１】 表 １ 比率 異 性 化 ％ Ｎ：Ｐt Ｈ2ＰtＣl6・6Ｈ2Ｏ(ａ) Ｎa2ＰtＣl4 Ｐt(ｂ) Ｐt(ｃ) ０：１ ３３ ３４ ３０ ２１.４ ２：１ ５.４ ３.４ ４.８ ３.０ （ａ）イソプロピルアルコール中 （ｂ）Ｈ2ＰtＣl6・6Ｈ2Ｏ錯体およびジビニルテトラメ
チルジシロキサン （ｃ）ＰtＣl2錯体およびジビニルテトラメチルジシロ
キサン
チルジシロキサン （ｃ）ＰtＣl2錯体およびジビニルテトラメチルジシロ
キサン
【００２１】実施例 ２ 白金化合物としてＰt(ｃ)、および異なったオクチルア
ミンの割合でＮ対Ｐｔ原子の比率を変えて、実施例１の
方法を繰り返した。それぞれの比率における異性化のパ
ーセントは次の表２のとおりであった。
ミンの割合でＮ対Ｐｔ原子の比率を変えて、実施例１の
方法を繰り返した。それぞれの比率における異性化のパ
ーセントは次の表２のとおりであった。
【００２２】
【表２】 表 ２ Ｎ：Ｐt比率 ０：１ ０.５：１ ２：１ ２：１（ｄ） ５０：１ 異性化％ ２１.４ １７.７ ３.０ １.０ ＜１.０ （ｄ）使用の１６時間前に白金錯体とオクチルアミンと
を予備混合
を予備混合
【００２３】実施例 ３ オクチルアミンに変えて他のアミンを使用した他は実施
例１と同様にして繰り返した。反応に使用した白金化合
物はＰt(ｃ)であった。次の表３に示すように、アミン
は異性化パーセントを著しく減少するのに有効であっ
た。
例１と同様にして繰り返した。反応に使用した白金化合
物はＰt(ｃ)であった。次の表３に示すように、アミン
は異性化パーセントを著しく減少するのに有効であっ
た。
【００２４】
【表３】 ＴＭＥＤＡ：テトラメチルエチレンジアミン アミンＡ ：(ＭeＯ)3Ｓi(ＣＨ2)3ＮＨ2 アミンＢ ：(ＭeＯ)3Ｓi(ＣＨ2)3ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＮＨ
ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2 ＊ ：緩徐反応
ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ2 ＊ ：緩徐反応
【００２５】実施例 ４ 触媒としてＰt（ｃ）を用い、オクチルアミン対Ｐｔの
比率２：１で、実施例１の方法により、１,５−ヘキサ
ジエンをそれぞれ（ｘ）ＨＭe2ＳiＣｌ、（ｙ）ＨＳiＣ
l3、および（ｚ）Ｍe3ＳiＯ(ＳiＨＭeＯ)2ＳiＭe3と反
応させた。異性化パーセントは次の表４のとおりであっ
た。
比率２：１で、実施例１の方法により、１,５−ヘキサ
ジエンをそれぞれ（ｘ）ＨＭe2ＳiＣｌ、（ｙ）ＨＳiＣ
l3、および（ｚ）Ｍe3ＳiＯ(ＳiＨＭeＯ)2ＳiＭe3と反
応させた。異性化パーセントは次の表４のとおりであっ
た。
【００２６】
【表４】表 ４ 反応剤 異性化％ ｘ ４.８ ｙ １.９ ｚ ０.９
【００２７】実施例 ５ 触媒としてＰt（ｃ）を用い、オクチルアミン対Ｐｔの
比率２：１で、実施例１の方法により、１,９-デカジエ
ンをＨＭeＳiＣl2と反応させた。生成したデセニルメチ
ルジクロロシランは、異性化物を１５重量％含有してい
た。この反応をオクチルアミンを除いて繰り返したとこ
ろ、異性化物は３３重量％であった。
比率２：１で、実施例１の方法により、１,９-デカジエ
ンをＨＭeＳiＣl2と反応させた。生成したデセニルメチ
ルジクロロシランは、異性化物を１５重量％含有してい
た。この反応をオクチルアミンを除いて繰り返したとこ
ろ、異性化物は３３重量％であった。
【００２８】
【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、白
金化合物または錯体および少なくとも１つのアミノ基を
有する触媒を使用することにより、≡ＳｉＨとジエンと
の付加反応の際に起こる二重結合の移行の量が著しく減
少する。
金化合物または錯体および少なくとも１つのアミノ基を
有する触媒を使用することにより、≡ＳｉＨとジエンと
の付加反応の際に起こる二重結合の移行の量が著しく減
少する。
Claims (4)
- 【請求項１】 （Ａ）分子中に少なくとも１つのシリコ
ン結合水素原子を有するシリコン化合物と（Ｂ）ジエン
とを（Ｃ）白金含有触媒の存在下に反応させることより
なる、オレフィン性不飽和結合を有する少なくとも１つ
のシリコン結合炭化水素を有するオルガノシリコン化合
物の製造方法において、（Ｂ）が６〜１４個の炭素原子
を有し、（Ｃ）が白金化合物または錯体および少なくと
も１つのアミノ基を有する化合物との混合物および／ま
たは反応生成物であることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 （Ａ）シリコン化合物がクロロシランで
あることを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 少なくとも１つのアミノ基を有する化合
物が脂肪族アミンまたは脂肪族ポリアミンであることを
特徴とする請求項１または２に記載の方法。 - 【請求項４】 少なくとも１つのアミノ基を有する化合
物および白金化合物または錯体が、化合物（Ａ）および
（Ｂ）に添加する前に混合されていることを特徴とす
る、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB929223335A GB9223335D0 (en) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | Hydrosilylation process |
| GB9223335.2 | 1992-11-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06239873A true JPH06239873A (ja) | 1994-08-30 |
| JP3753255B2 JP3753255B2 (ja) | 2006-03-08 |
Family
ID=10724684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27456293A Expired - Lifetime JP3753255B2 (ja) | 1992-11-06 | 1993-11-02 | オルガノシリコン化合物の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5359112A (ja) |
| EP (1) | EP0596646B1 (ja) |
| JP (1) | JP3753255B2 (ja) |
| DE (1) | DE69328606T2 (ja) |
| GB (1) | GB9223335D0 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11217505A (ja) * | 1997-11-05 | 1999-08-10 | Dow Corning Corp | アミノ酸エステルによるシリコーン・エラストマーの後硬化停止法 |
| JP2006506507A (ja) * | 2002-11-18 | 2006-02-23 | ダウ・コーニング・コーポレイション | オルガノシロキサン樹脂−ポリエン材料 |
| JP2008120975A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Momentive Performance Materials Japan Kk | 付加反応用触媒 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19508459A1 (de) * | 1995-03-09 | 1996-09-12 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylsilanen mit sperrigen Alkylresten |
| DE19644561C2 (de) * | 1996-10-26 | 2003-10-16 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Fluoralkyl-Gruppen tragenden Silicium-organischen Verbindungen |
| DE19847786A1 (de) | 1998-10-16 | 2000-04-20 | Degussa | Vorrichtung und Verfahren zum Befüllen und Entleeren eines mit brennbarem sowie aggressivem Gas beaufschlagten Behälters |
| US6696538B2 (en) * | 1999-07-27 | 2004-02-24 | Lg Chemical Ltd. | Semiconductor interlayer dielectric material and a semiconductor device using the same |
| US6365696B1 (en) | 1999-12-17 | 2002-04-02 | Crompton Corporation | Process for producing epoxyorganosilicon compounds |
| US20040038048A1 (en) * | 2000-02-02 | 2004-02-26 | Lg Chemical Ltd. | Semiconductor interlayer dielectric material and a semiconductor device using the same |
| US20040096893A1 (en) * | 2000-11-16 | 2004-05-20 | Rabah Boukherroub | Functionalised silicon surfaces, and method for their production |
| US6677163B1 (en) * | 2000-11-16 | 2004-01-13 | National Research Council Of Canada | Functionalized silicon surfaces, and method for their production |
| EP1306381B1 (de) * | 2001-10-10 | 2012-09-12 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur Hydrosilylierung ungesättigter aliphatischer Verbindungen |
| US6590117B1 (en) * | 2001-11-15 | 2003-07-08 | Crompton Corporation | Promoted hydrosilation reactions |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE553159A (ja) * | 1955-12-05 | |||
| US3188299A (en) * | 1963-02-28 | 1965-06-08 | Gen Electric | Preparation of stable mixtures of organosilicon compositions in the presence of a nitrogen-containing ligand |
| DE1768785C3 (de) * | 1968-06-29 | 1975-01-23 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von OrganosiHciumverbindungen |
| US3795656A (en) * | 1973-01-02 | 1974-03-05 | Stauffer Chemical Co | Organosilicon compositions containing ammonium platinum adducts |
| US3925434A (en) * | 1975-01-22 | 1975-12-09 | Union Carbide Corp | The reaction of chlorosilanes with unsaturated organic compounds |
| DE3000768A1 (de) * | 1980-01-10 | 1981-07-16 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zum anlagern von si-gebundenem wasserstoff an aliphatische mehrfachbindung |
| DE3131954C2 (de) * | 1981-08-13 | 1984-10-31 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Metallkomplexe von polymeren, gegebenenfalls vernetzten Organosiloxanaminen, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
| DE3133869C1 (de) * | 1981-08-27 | 1983-05-05 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen | Verfahren zur Addition von organischen Siliciumverbindungen mit SiH-Gruppen an Verbindungen mit olefinischen Doppelbindungen |
| US4398010A (en) * | 1981-12-07 | 1983-08-09 | Sws Silicones Corporation | Method for accelerating the activity of a hydrosilation catalyst |
| US4417069A (en) * | 1983-02-22 | 1983-11-22 | General Electric Company | Method of preparing β-phenylethylchlorosilanes |
| DE3404703A1 (de) * | 1984-02-10 | 1985-09-05 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von 3-chlorpropyltrichlorsilan |
| US4584361A (en) * | 1985-06-03 | 1986-04-22 | Dow Corning Corporation | Storage stable, one part polyorganosiloxane compositions |
| US5103033A (en) * | 1991-06-24 | 1992-04-07 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of β-cyanoalkylsilanes |
| GB9126049D0 (en) * | 1991-12-07 | 1992-02-05 | Dow Corning | Hydrosilylation process |
| US5191103A (en) * | 1991-12-30 | 1993-03-02 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Process and composition for promoting hydrosilylation reactions using sterically hindered nitrogen-containing and phosphorus-containing compounds |
| US5258480A (en) * | 1992-05-18 | 1993-11-02 | General Electric Company | Syntheses of epoxysilicones |
| US5206402A (en) * | 1992-09-17 | 1993-04-27 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of Ω-alkenylchlorosilanes |
-
1992
- 1992-11-06 GB GB929223335A patent/GB9223335D0/en active Pending
-
1993
- 1993-10-27 EP EP93308559A patent/EP0596646B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-27 DE DE69328606T patent/DE69328606T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-11-02 US US08/144,365 patent/US5359112A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-11-02 JP JP27456293A patent/JP3753255B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11217505A (ja) * | 1997-11-05 | 1999-08-10 | Dow Corning Corp | アミノ酸エステルによるシリコーン・エラストマーの後硬化停止法 |
| JP2006506507A (ja) * | 2002-11-18 | 2006-02-23 | ダウ・コーニング・コーポレイション | オルガノシロキサン樹脂−ポリエン材料 |
| JP2008120975A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Momentive Performance Materials Japan Kk | 付加反応用触媒 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69328606D1 (de) | 2000-06-15 |
| EP0596646B1 (en) | 2000-05-10 |
| US5359112A (en) | 1994-10-25 |
| JP3753255B2 (ja) | 2006-03-08 |
| DE69328606T2 (de) | 2000-10-05 |
| GB9223335D0 (en) | 1992-12-23 |
| EP0596646A1 (en) | 1994-05-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5175325A (en) | Platinum complexes and use thereof | |
| US3296291A (en) | Reaction of silanes with unsaturated olefinic compounds | |
| KR20000048250A (ko) | 다수의 가수분해성 기와 함께 적어도 하나의 유기작용기를갖는 폴리오르가노실록산 | |
| JP3753255B2 (ja) | オルガノシリコン化合物の製造方法 | |
| JPH06136126A (ja) | エポキシシロキサンモノマー及びポリマー合成の為の位置特異的触媒 | |
| FI94031B (fi) | Rodium-kolloidi, menetelmä sen valmistamiseksi ja sen käyttö | |
| CN101959938B (zh) | 用于生产硅酮聚醚的方法 | |
| JP6689005B2 (ja) | シクロジエン添加剤を使用する白金触媒ヒドロシリル化反応 | |
| JPH1067786A (ja) | アルキル置換シロキサンおよびアルキル置換ポリエーテル流体 | |
| JPH0353317B2 (ja) | ||
| KR100540298B1 (ko) | 치환된실에틸렌그룹으로부분적으로말단차단된폴리디오가노실록산의제조방법 | |
| JP3349735B2 (ja) | ヒドロシリル化法 | |
| US10513584B2 (en) | Platinum catalyzed hydrosilylation reactions utilizing cyclodiene additives | |
| JP2000103859A (ja) | エポキシ基含有オルガノポリシロキサン又はエポキシ基含有オルガノシランの製造方法 | |
| JP4253664B2 (ja) | シラノール基を有する有機ケイ素化合物の製造方法及びかかる化合物 | |
| JPH0616812A (ja) | 三官能性の水素化シロキサン流体 | |
| CN106536046A (zh) | 二烷基钴催化剂及它们用于氢化硅烷化和脱氢硅烷化的用途 | |
| JP3839498B2 (ja) | 白金−オルガノシロキサン錯体の調製方法 | |
| CN120693340A (zh) | 用于经由内烯烃的异构化和氢化硅烷化制备有机硅化合物的方法和催化剂组合物 | |
| JP7107636B2 (ja) | シクロジエン添加剤を使用する白金触媒ヒドロシリル化反応 | |
| JPS6220194B2 (ja) | ||
| JP5001981B2 (ja) | ヒドロシリル化法 | |
| US4033902A (en) | Cobalt-platinum catalyst | |
| KR19990007045A (ko) | N-[ω-(메틸),ω-(실릴)]알킬-Ｎ-오가노카복스아미드, 이의 올리고머성 및 중축합된 Ｓｉ 함유 화합물, 이의 제조방법 및 이의 용도 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040609 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20040615 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20040915 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20040921 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041215 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051108 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051208 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131222 Year of fee payment: 8 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |