JPH0624182B2 - 基板交換装置 - Google Patents
基板交換装置Info
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- JPH0624182B2 JPH0624182B2 JP61010684A JP1068486A JPH0624182B2 JP H0624182 B2 JPH0624182 B2 JP H0624182B2 JP 61010684 A JP61010684 A JP 61010684A JP 1068486 A JP1068486 A JP 1068486A JP H0624182 B2 JPH0624182 B2 JP H0624182B2
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- substrate holder
- holder
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、電子ビーム描画装置等の基板交換装置に関す
るものである。
るものである。
電子ビーム描画装置等の基板交換装置は、従来基板をあ
らかじめ治具上で基板ホルダにセットし、この基板のセ
ットされた基板ホルダを複数枚装填できる基板ホルダマ
ガジン（以下ホルダマガジンと云う）５３（第５図参
照）に挿入し、このホルダマガジン５３を第５図に示す
ように、電子ビーム描画装置等の試料室１にゲートバル
ブ３を介して接続された真空チヤンバ５０の内のリフタ
５１に載置し、ホルダ搬送装置５２で前記試料室１に基
板ホルダ２５をロードし、描画された後再びホルダマガ
ジン５３に戻している、ホルダマガジン５３はリフタ５
１により１段ずつリフトされ、次の未処理基板４を基板
ホルダ２５と共に再び試料室１に送り込む操作を繰返す
ものである。なお第５図において、２は描画ステージ、
２７および３３は真空排気装置、５４は基板ホルダの出
入れのための扉である。
らかじめ治具上で基板ホルダにセットし、この基板のセ
ットされた基板ホルダを複数枚装填できる基板ホルダマ
ガジン（以下ホルダマガジンと云う）５３（第５図参
照）に挿入し、このホルダマガジン５３を第５図に示す
ように、電子ビーム描画装置等の試料室１にゲートバル
ブ３を介して接続された真空チヤンバ５０の内のリフタ
５１に載置し、ホルダ搬送装置５２で前記試料室１に基
板ホルダ２５をロードし、描画された後再びホルダマガ
ジン５３に戻している、ホルダマガジン５３はリフタ５
１により１段ずつリフトされ、次の未処理基板４を基板
ホルダ２５と共に再び試料室１に送り込む操作を繰返す
ものである。なお第５図において、２は描画ステージ、
２７および３３は真空排気装置、５４は基板ホルダの出
入れのための扉である。
このように、従来は、基板４の基板ホルダ２５に対する
取付・取外し作業とホルダマガジン５３に対する基板ホ
ルダ２５の挿入・抜取り作業を人手によっており、時間
も長くかかり、不能率であると共により多くの汚染原因
を試料室内へ持込む欠点があった。
取付・取外し作業とホルダマガジン５３に対する基板ホ
ルダ２５の挿入・抜取り作業を人手によっており、時間
も長くかかり、不能率であると共により多くの汚染原因
を試料室内へ持込む欠点があった。
本発明は、基板の基板ホルダに対する取付・取外しを自
動化して作業能率のアップを計ると共に、試料室内への
汚染原因の持込みを減少させることを目的としている。
動化して作業能率のアップを計ると共に、試料室内への
汚染原因の持込みを減少させることを目的としている。
上記目的を達成するための本発明は、電子ビーム描画装
置等における真空の試料室と、同試料室にゲートバルブ
を介して接続されると共に真空引き可能になされた予備
室と、試料室内において処理すべき基板を着脱可能に保
持する基板ホルダを、試料室と予備室との間で交互に移
送する手段と、予備室内にある基板ホルダに対し別のゲ
ートバルブを介して基板をロード・アンロードする手段
と、予備室内にある「空」の基板ホルダと予備室外にあ
る別の「空」の基板ホルダとをさらに別のゲートバルブ
を介して交換する手段とからなり、通常の運転時には、
基板ホルダを試料室及び予備室から外部へ出すことな
く、基板を基板ホルダに対向してロード・アンロード
し、基板のサイズが異なるときには、基板ホルダをその
交換手段によって交換し、交換した基板ホルダに対して
上記と同様に基板をロード・アンロードするようにした
ものである。
置等における真空の試料室と、同試料室にゲートバルブ
を介して接続されると共に真空引き可能になされた予備
室と、試料室内において処理すべき基板を着脱可能に保
持する基板ホルダを、試料室と予備室との間で交互に移
送する手段と、予備室内にある基板ホルダに対し別のゲ
ートバルブを介して基板をロード・アンロードする手段
と、予備室内にある「空」の基板ホルダと予備室外にあ
る別の「空」の基板ホルダとをさらに別のゲートバルブ
を介して交換する手段とからなり、通常の運転時には、
基板ホルダを試料室及び予備室から外部へ出すことな
く、基板を基板ホルダに対向してロード・アンロード
し、基板のサイズが異なるときには、基板ホルダをその
交換手段によって交換し、交換した基板ホルダに対して
上記と同様に基板をロード・アンロードするようにした
ものである。
以下本発明の一実施例を示す第１図ないし第４図につい
て説明する。第１図ないし第２図において、電子ビーム
描画装置等の試料室１は真空排気され、その内部の描画
ステージ２上に基板４を保持する基板ホルダ２５を載置
し、電子光学鏡筒（ＥＯＳ）２４により電子ビームを走
査し、基板４上に描画がなされる。基板ホルダ２５はゲ
ートバルブ３を開いた状態で試料室１の描画ステージ２
と予備室内の移動ステージ２２との間でホルダ移送装置
１８によりやりとりが行なわれる。なおこのホルダ移送
装置１８は、第５図に示した従来から用いられているホ
ルダ搬送装置５２と同様であるため詳述を避ける。描画
中にはゲートバルブ３が閉じられて予備室５に対する試
料室１の真空気密が保たれる。第３図に示すように、移
動ステージ２２は、モータ２１、ボールネジ２３等の駆
動装置により基板ホルダ保持部Ａ，ＢのピッチＰだけシ
ヤトル移動する。移動ステージ２２上には基板ホルダ２
５を保持する箇所がＡ，Ｂの２箇所あり、Ａは処理済の
基板ホルダ２５を保持し、Ｂは未処理の基板ホルダ２５
を保持し、第３図の状態は、Ｂの位置にあった基板ホル
ダ２５を移動ステージ２２上から試料室１に移送して
「空」になった状態を示し、Ａの位置ある処理済の基板
ホルダ２５は後述するアンロードステーション１９に描
画済基板４がこれからアンロードされる状態を示す。基
板４がアンロードステーション１９にアンロードされた
後「空」になった基板ホルダ２５をＡの位置からＢの位
置に移動装置３１でピッチＰ移動させ、さらに移動ステ
ージ２２をＰだけ後述するロードステーション１２の方
に駆動装置２１により移動させる。基板ホルダ２５に対
する基板４のクランプは基板ホルダ２５に設けられてい
る図示しないスプリングにより行なわれ、第１図に示す
リリーズ機構７，７′により、該スプリングを押圧して
開放される。従って基板ホルダ２５に基板４をロードま
たはアンロードする際はリリーズ機構７または７′を作
動させて、クランプを開放した状態で行なわれる。ロー
ドステーション１２とアンロードステーション１９は第
１図と第４図で説明するロードステーション１２とアン
ロードステーション１９は、ほゞ同じ構造で、移動ステ
ージ２２上の基板ホルダ２５に基板４を送り込む機能と
受取る機能の違いだけであり、各部を示す番号も同じ番
号とし、アンロードステーション用には番号にダッシュ
（′）をつけてある。ゲートバルブ８，８′は予備室５
とロードステーション１２、アンロードステーション１
９を接続し、基板４のやりとりの際のみ開放される。基
板カセット９，９′はそれぞれ未処理および処理済の基
板４を収納し、エレベータ１０，１０′に載置されて上
下する基板搬送板１１，１１′は基板４を基板カセット
９から受取りまたは基板カセット９′に受渡し、モータ
１４，１４′、ボールネジ１５，１５′によりガイドレ
ール１３，１３′に沿って移動する。３４，３４′はエ
レベータ１０，１０′の駆動用モータであり、２０，２
０′はボールネジである。
て説明する。第１図ないし第２図において、電子ビーム
描画装置等の試料室１は真空排気され、その内部の描画
ステージ２上に基板４を保持する基板ホルダ２５を載置
し、電子光学鏡筒（ＥＯＳ）２４により電子ビームを走
査し、基板４上に描画がなされる。基板ホルダ２５はゲ
ートバルブ３を開いた状態で試料室１の描画ステージ２
と予備室内の移動ステージ２２との間でホルダ移送装置
１８によりやりとりが行なわれる。なおこのホルダ移送
装置１８は、第５図に示した従来から用いられているホ
ルダ搬送装置５２と同様であるため詳述を避ける。描画
中にはゲートバルブ３が閉じられて予備室５に対する試
料室１の真空気密が保たれる。第３図に示すように、移
動ステージ２２は、モータ２１、ボールネジ２３等の駆
動装置により基板ホルダ保持部Ａ，ＢのピッチＰだけシ
ヤトル移動する。移動ステージ２２上には基板ホルダ２
５を保持する箇所がＡ，Ｂの２箇所あり、Ａは処理済の
基板ホルダ２５を保持し、Ｂは未処理の基板ホルダ２５
を保持し、第３図の状態は、Ｂの位置にあった基板ホル
ダ２５を移動ステージ２２上から試料室１に移送して
「空」になった状態を示し、Ａの位置ある処理済の基板
ホルダ２５は後述するアンロードステーション１９に描
画済基板４がこれからアンロードされる状態を示す。基
板４がアンロードステーション１９にアンロードされた
後「空」になった基板ホルダ２５をＡの位置からＢの位
置に移動装置３１でピッチＰ移動させ、さらに移動ステ
ージ２２をＰだけ後述するロードステーション１２の方
に駆動装置２１により移動させる。基板ホルダ２５に対
する基板４のクランプは基板ホルダ２５に設けられてい
る図示しないスプリングにより行なわれ、第１図に示す
リリーズ機構７，７′により、該スプリングを押圧して
開放される。従って基板ホルダ２５に基板４をロードま
たはアンロードする際はリリーズ機構７または７′を作
動させて、クランプを開放した状態で行なわれる。ロー
ドステーション１２とアンロードステーション１９は第
１図と第４図で説明するロードステーション１２とアン
ロードステーション１９は、ほゞ同じ構造で、移動ステ
ージ２２上の基板ホルダ２５に基板４を送り込む機能と
受取る機能の違いだけであり、各部を示す番号も同じ番
号とし、アンロードステーション用には番号にダッシュ
（′）をつけてある。ゲートバルブ８，８′は予備室５
とロードステーション１２、アンロードステーション１
９を接続し、基板４のやりとりの際のみ開放される。基
板カセット９，９′はそれぞれ未処理および処理済の基
板４を収納し、エレベータ１０，１０′に載置されて上
下する基板搬送板１１，１１′は基板４を基板カセット
９から受取りまたは基板カセット９′に受渡し、モータ
１４，１４′、ボールネジ１５，１５′によりガイドレ
ール１３，１３′に沿って移動する。３４，３４′はエ
レベータ１０，１０′の駆動用モータであり、２０，２
０′はボールネジである。
次に基板ホルダ交換装置について、第１図および第２図
により説明する。予備室５の中央前部に基板ホルダ交換
装置１６とホルダマガジン１７を設ける。基板ホルダ交
換装置１６は１８０゜旋回可能な２組のアーム１６ａを
持ち、このアーム１６ａはラジアル方向に伸縮自在で、
１組のアーム１６ａでホルダマガジン１７内の基板ホル
ダ２６の受取りと予備室５への送り渡しを行ない、他の
アーム１６ａで予備室５内の基板ホルダ２５の受取りと
ホルダマガジン１７への送り渡しを行なうようになって
いる。予備室５内の基板ホルダ２５は描画作業を休止し
た状態で予備室５のフタ３２を開放し、移動ステージ本
体内に組込まれている複数の押上ロッド３９を上昇させ
るとこれらの押上ロッド９が移動ステージ２２に設けら
れている穴を通って上昇するため予備室５の上部に持上
げられる。この状態で基板ホルダ交換装置１６を作動さ
せてアーム１６ａで基板ホルダ２５を受取り、既に他の
アーム１６ａで受取った次のロッド用の基板ホルダ２６
を保持した状態でアーム１６ａを１８０゜旋回させ、押
上ロッド３９上とホルダマガジン１７内にそれぞれのア
ーム１６ａを伸長して載置する。以上の動作を２回繰返
して予備室５内の２組の基板ホルダの交換を行なう。
により説明する。予備室５の中央前部に基板ホルダ交換
装置１６とホルダマガジン１７を設ける。基板ホルダ交
換装置１６は１８０゜旋回可能な２組のアーム１６ａを
持ち、このアーム１６ａはラジアル方向に伸縮自在で、
１組のアーム１６ａでホルダマガジン１７内の基板ホル
ダ２６の受取りと予備室５への送り渡しを行ない、他の
アーム１６ａで予備室５内の基板ホルダ２５の受取りと
ホルダマガジン１７への送り渡しを行なうようになって
いる。予備室５内の基板ホルダ２５は描画作業を休止し
た状態で予備室５のフタ３２を開放し、移動ステージ本
体内に組込まれている複数の押上ロッド３９を上昇させ
るとこれらの押上ロッド９が移動ステージ２２に設けら
れている穴を通って上昇するため予備室５の上部に持上
げられる。この状態で基板ホルダ交換装置１６を作動さ
せてアーム１６ａで基板ホルダ２５を受取り、既に他の
アーム１６ａで受取った次のロッド用の基板ホルダ２６
を保持した状態でアーム１６ａを１８０゜旋回させ、押
上ロッド３９上とホルダマガジン１７内にそれぞれのア
ーム１６ａを伸長して載置する。以上の動作を２回繰返
して予備室５内の２組の基板ホルダの交換を行なう。
次に本装置の作用について説明すると、先づ未処理の基
板４を収納した基板カセット９を、ロードステーション
１２に、「空」の基板カセット９′をアンロードステー
ション１９にセットする。ロードステーション１２のリ
フタ１０は上昇限を、アンロードステーション１９のリ
フタ１０′は下降限を原位置とし、基板４を１枚ずつ基
板搬送板１１，１１′を作動させて、移送または収納す
るごとに基板カセット９，９′を１ピッチずつ自動的に
下降または上昇する。基板４の予備室５の基板ホルダ２
５への移送は、移動ステージ２２がロードステーション
１２側に移動されている状態で、ゲートバルブ８を開放
し、リリース機構７を押圧して、基板ホルダ２５のスプ
リングクランプを開放した状態で、基板搬送板１１を前
進させて基板４を基板ホルダ保持部Ｂにある基板ホルダ
２５に移送し、リリーズ機構７を戻してスプリングクラ
ンプしたら、基板搬送板１１を後退させる。ゲートバル
ブ８を閉じて予備室５を密閉する。この時試料室１の正
面に位置する移動ステージ２２の基板保持部Ａは「空」
になっており、試料室１内で描画が終了するのを待期し
ている。描画が終了すると、ゲートバルブ３を開放し、
基板ホルダ２５の搬送機構１８を作動させて試料室１よ
り描画済の基板ホルダ２５を移動ステージ２２の基板ホ
ルダ保持部Ａに引取る。移動ステージ２２をアンロード
ステーション１９側に移動させ、試料室１の正面に移動
した基板ホルダ保持部Ｂにある未処理基板４を保持した
基板ホルダ２５を搬送機構１８を作動させて試料室１に
送り込み、搬送機構１８を後退させた後ゲートバルブ３
を閉じてから試料室１内では描画作業が開始される。ま
た基板保持部Ａにある描画された基板４をアンロードす
るため、リリース機構７′でスプリングクランプを開放
し、ゲートバルブ８′を開き、基板搬送板１１′を前進
・後退させて描画済みの基板４を基板カセット９′に収
納する。
板４を収納した基板カセット９を、ロードステーション
１２に、「空」の基板カセット９′をアンロードステー
ション１９にセットする。ロードステーション１２のリ
フタ１０は上昇限を、アンロードステーション１９のリ
フタ１０′は下降限を原位置とし、基板４を１枚ずつ基
板搬送板１１，１１′を作動させて、移送または収納す
るごとに基板カセット９，９′を１ピッチずつ自動的に
下降または上昇する。基板４の予備室５の基板ホルダ２
５への移送は、移動ステージ２２がロードステーション
１２側に移動されている状態で、ゲートバルブ８を開放
し、リリース機構７を押圧して、基板ホルダ２５のスプ
リングクランプを開放した状態で、基板搬送板１１を前
進させて基板４を基板ホルダ保持部Ｂにある基板ホルダ
２５に移送し、リリーズ機構７を戻してスプリングクラ
ンプしたら、基板搬送板１１を後退させる。ゲートバル
ブ８を閉じて予備室５を密閉する。この時試料室１の正
面に位置する移動ステージ２２の基板保持部Ａは「空」
になっており、試料室１内で描画が終了するのを待期し
ている。描画が終了すると、ゲートバルブ３を開放し、
基板ホルダ２５の搬送機構１８を作動させて試料室１よ
り描画済の基板ホルダ２５を移動ステージ２２の基板ホ
ルダ保持部Ａに引取る。移動ステージ２２をアンロード
ステーション１９側に移動させ、試料室１の正面に移動
した基板ホルダ保持部Ｂにある未処理基板４を保持した
基板ホルダ２５を搬送機構１８を作動させて試料室１に
送り込み、搬送機構１８を後退させた後ゲートバルブ３
を閉じてから試料室１内では描画作業が開始される。ま
た基板保持部Ａにある描画された基板４をアンロードす
るため、リリース機構７′でスプリングクランプを開放
し、ゲートバルブ８′を開き、基板搬送板１１′を前進
・後退させて描画済みの基板４を基板カセット９′に収
納する。
こうして、上記の動作を繰返し、ロードステーション１
２の未処理基板カセット９が「空」になり、アンロード
ステーション１９の処理済基板カセット９′が満杯にな
って１ロット完了すると装置全体がサイクル停止する。
基板カセット９，９′を交換セットして次のロットのた
めに再起動を指示する。
２の未処理基板カセット９が「空」になり、アンロード
ステーション１９の処理済基板カセット９′が満杯にな
って１ロット完了すると装置全体がサイクル停止する。
基板カセット９，９′を交換セットして次のロットのた
めに再起動を指示する。
上述の如きロット生産を繰返し、次に基板サイズの違っ
たロットのものを生産する場合には、基板ホルダ２５を
基板ホルダ２６に段取換えをするため基板ホルダ交換装
置１６を使用する。このとき、基板ホルダ２５は、２個
共基板４が「空」になっている状態で移動ステージ２２
の保持部Ａ，Ｂに置かれている、この状態で予備室５の
フタ３２を開き、押上ロッド３９を上昇させ、第３図に
おいて保持部Ｂ上にある基板ホルダ２５をリフトアップ
し、基板ホルダ２５と基板ホルダ２６に、アーム１６ａ
を同時に伸長させて係合させ、両アーム１６上を縮少さ
せ、基板ホルダ交換装置１６上に基板ホルダ２５と２６
を載置した状態で、アーム１６ａを１８０゜旋回させ、
伸長し、係合を離脱させ、縮少させると基板ホルダ２
５，２６はそれぞれ予備室５上の押上ロッド３９上と、
ホルダマガジン１７内に載置される。押上ロッド３９を
下降させて基板ホルダ２６を移動ステージ２２の基板ホ
ルダ保持部Ｂに載置する。次に移動ステージ２２をロー
ドステーション側にＰだけ移動させ、基板ホルダマガジ
ン１７を下降させた状態で前述の基板ホルダ交換動作を
再び繰返して基板ホルダ保持部Ａに基板ホルダ２６を載
置してホルダ交換動作を終える。フタ３２を閉じて交換
動作が完了する。
たロットのものを生産する場合には、基板ホルダ２５を
基板ホルダ２６に段取換えをするため基板ホルダ交換装
置１６を使用する。このとき、基板ホルダ２５は、２個
共基板４が「空」になっている状態で移動ステージ２２
の保持部Ａ，Ｂに置かれている、この状態で予備室５の
フタ３２を開き、押上ロッド３９を上昇させ、第３図に
おいて保持部Ｂ上にある基板ホルダ２５をリフトアップ
し、基板ホルダ２５と基板ホルダ２６に、アーム１６ａ
を同時に伸長させて係合させ、両アーム１６上を縮少さ
せ、基板ホルダ交換装置１６上に基板ホルダ２５と２６
を載置した状態で、アーム１６ａを１８０゜旋回させ、
伸長し、係合を離脱させ、縮少させると基板ホルダ２
５，２６はそれぞれ予備室５上の押上ロッド３９上と、
ホルダマガジン１７内に載置される。押上ロッド３９を
下降させて基板ホルダ２６を移動ステージ２２の基板ホ
ルダ保持部Ｂに載置する。次に移動ステージ２２をロー
ドステーション側にＰだけ移動させ、基板ホルダマガジ
ン１７を下降させた状態で前述の基板ホルダ交換動作を
再び繰返して基板ホルダ保持部Ａに基板ホルダ２６を載
置してホルダ交換動作を終える。フタ３２を閉じて交換
動作が完了する。
前述した実施例は、移動ステージ２２上に２個の基板ホ
ルダ２５を載置し、かつロードステーション１２とアン
ロードステーション１９を別々に設けた例を示したが、
これに限らず、移動ステージ２２に１個の基板ホルダの
みを載置したり、またロード・アンロードステーション
を１つのステーションで兼用してもよい、等種々の変更
が可能である。
ルダ２５を載置し、かつロードステーション１２とアン
ロードステーション１９を別々に設けた例を示したが、
これに限らず、移動ステージ２２に１個の基板ホルダの
みを載置したり、またロード・アンロードステーション
を１つのステーションで兼用してもよい、等種々の変更
が可能である。
1) 基板ホルダに基板を取付ける手作業を省いて自動化
することにより生産性を高めることができる。
することにより生産性を高めることができる。
2) 試料室に入る基板ホルダは該基板ホルダを交換しな
い限り、予備室より外へは出ず、人手にも触れず、外部
から試料室に入るものは基板のみであるため、試料室の
汚染をより確実に押えることができる。
い限り、予備室より外へは出ず、人手にも触れず、外部
から試料室に入るものは基板のみであるため、試料室の
汚染をより確実に押えることができる。
3)基板のサイズが変わる場合には、予備室内の基板ホル
ダが基板のサイズに応じた基板ホルダに自動的に交換さ
れるため、種々のサイズに対して能率的な運転が可能と
なり、この場合にも人手を介さないため、汚染をより少
なく押えることができる。
ダが基板のサイズに応じた基板ホルダに自動的に交換さ
れるため、種々のサイズに対して能率的な運転が可能と
なり、この場合にも人手を介さないため、汚染をより少
なく押えることができる。
第１図ないし第４図は本発明の実施例を示し、第１図は
平面図、第２図は第１図のＸ−Ｘ断面矢視図、第３図は
第２図のＹ−Ｙ断面矢視図、第４図は第１図のＺ−Ｚ断
面図、第５図は従来技術を示す平面図である。 １……試料室、２……描画ステージ、３，８，８′……
ゲートバルブ、４……基板、５……予備室、７，７′…
…リリース機構、９，９′……基板カセット、10，10′
……カセットエレベータ、11，11′……基板搬送板、12
……ロードステーション、13，13′……ガイド、14，1
4′，21，29，34……モータ、15，15′，20，20′，2
3，30……ボールネジ、16……基板ホルダ交換装置、16a
……アーム、17……ホルダマガジン、18……ホルダ搬送
装置、19……アンロードステーション、２２……移動ス
テージ、２４……ＥＯＳ、25，26……基板ホルダ、27，
33……真空排気装置、28……定盤、31……移動装置、32
……フタ、36，37，38……ガイド、39……押上ロッド、
50……真空チヤンバ、51……リフタ、52……ホルダ搬送
装置、53……基板ホルダマガジン、54……扉。
平面図、第２図は第１図のＸ−Ｘ断面矢視図、第３図は
第２図のＹ−Ｙ断面矢視図、第４図は第１図のＺ−Ｚ断
面図、第５図は従来技術を示す平面図である。 １……試料室、２……描画ステージ、３，８，８′……
ゲートバルブ、４……基板、５……予備室、７，７′…
…リリース機構、９，９′……基板カセット、10，10′
……カセットエレベータ、11，11′……基板搬送板、12
……ロードステーション、13，13′……ガイド、14，1
4′，21，29，34……モータ、15，15′，20，20′，2
3，30……ボールネジ、16……基板ホルダ交換装置、16a
……アーム、17……ホルダマガジン、18……ホルダ搬送
装置、19……アンロードステーション、２２……移動ス
テージ、２４……ＥＯＳ、25，26……基板ホルダ、27，
33……真空排気装置、28……定盤、31……移動装置、32
……フタ、36，37，38……ガイド、39……押上ロッド、
50……真空チヤンバ、51……リフタ、52……ホルダ搬送
装置、53……基板ホルダマガジン、54……扉。
Claims (2)
- 【請求項１】電子ビーム描画装置等における真空の試料
室と、同試料室にゲートバルブを介して接続されると共
に真空引き可能になされた予備室と、前記試料室内にお
いて処理すべき基板を着脱可能に保持する基板ホルダ
を、前記試料室と予備室との間で交互に移送する手段
と、予備室内にある基板ホルダに対し別のゲートバルブ
を介して前記基板をロード・アンロードする手段と、前
記予備室内にある「空」の基板ホルダと予備室外にある
別の「空」の基板ホルダとをさらに別のゲートバルブを
介して交換する手段とからなることを特徴とする基板交
換装置。 - 【請求項２】基板ホルダを移送する手段が、予備室内に
あって基板ホルダを１ないし複数載置する移動ステージ
を有し、前記基板ホルダを試料室，基板ホルダの交換手
段およびロード・アンロード部に通ずるそれぞれのゲー
トバルブに対向する位置に移送可能に構成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の基板交換装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61010684A JPH0624182B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 基板交換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61010684A JPH0624182B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 基板交換装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62169327A JPS62169327A (ja) | 1987-07-25 |
| JPH0624182B2 true JPH0624182B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=11757089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61010684A Expired - Lifetime JPH0624182B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 基板交換装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624182B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101690152B1 (ko) * | 2016-06-29 | 2016-12-27 | 에스에스오트론 주식회사 | 반도체 기판의 유동 방지 고정커버용 자동교체장치 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0731539Y2 (ja) * | 1989-02-15 | 1995-07-19 | 富士通株式会社 | 基板処理装置 |
| JP6207671B1 (ja) | 2016-06-01 | 2017-10-04 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置、基板配置方法及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5435114Y2 (ja) * | 1975-09-09 | 1979-10-25 | ||
| JPS5982724A (ja) * | 1982-11-04 | 1984-05-12 | Hitachi Ltd | 電子線描画装置の試料交換装置 |
-
1986
- 1986-01-21 JP JP61010684A patent/JPH0624182B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101690152B1 (ko) * | 2016-06-29 | 2016-12-27 | 에스에스오트론 주식회사 | 반도체 기판의 유동 방지 고정커버용 자동교체장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62169327A (ja) | 1987-07-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |